SU1589901A2 - Устройство для ионной обработки проволочных материалов - Google Patents
Устройство для ионной обработки проволочных материаловInfo
- Publication number
- SU1589901A2 SU1589901A2 SU4640020/25A SU4640020A SU1589901A2 SU 1589901 A2 SU1589901 A2 SU 1589901A2 SU 4640020/25 A SU4640020/25 A SU 4640020/25A SU 4640020 A SU4640020 A SU 4640020A SU 1589901 A2 SU1589901 A2 SU 1589901A2
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- wire
- additional chamber
- separately evacuated
- quality
- inlet hole
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title abstract 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 abstract 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 abstract 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
Изобретение относится к электронно-ионно-лучевой технологии, к устройству для ионной обработки проволочных материалов. Цель изобретения - повышение производительности и качества обработки проволочных материалов ионным пучком. Устройство состоит из цилиндрического корпуса с размещенным в нем катодом, цилиндрической газоразрядной камеры анода с расположенным внутри нее сетчатым цилиндром. По оси устройства через изоляторы протаскивают обрабатываемую проволоку. В устройство введена автономно откачиваемая дополнительная камера. Со стороны проволоки в дополнительной камере выполнено входное отверстие и соосно ему укреплен автономно откачиваемый полый конус с соосным детектором типа вещества. Газы, выделяющиеся с проволоки, через входное отверстие попадают в автономно откачиваемую дополнительную камеру. Под действием перепада давления происходит газодинамическая сепарация потока, при которой тяжелый компонент (очищенный материал) контактируется у оси, а легкий компонент (продукты удаляемого вещества) уносятся на периферию. Приемный конус выделяет поток молекул основного компонента, который регистрируется датчиком. Настройка качества и производительности производится по интенсивности сигнала с датчика. 1 ил.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU4640020/25A SU1589901A2 (ru) | 1989-01-20 | 1989-01-20 | Устройство для ионной обработки проволочных материалов |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU4640020/25A SU1589901A2 (ru) | 1989-01-20 | 1989-01-20 | Устройство для ионной обработки проволочных материалов |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SU1589901A2 true SU1589901A2 (ru) | 1998-12-20 |
Family
ID=60521392
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU4640020/25A SU1589901A2 (ru) | 1989-01-20 | 1989-01-20 | Устройство для ионной обработки проволочных материалов |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| SU (1) | SU1589901A2 (ru) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2187168C1 (ru) * | 2000-12-18 | 2002-08-10 | Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники | Устройство для ионной обработки материалов |
| RU2215820C2 (ru) * | 2001-12-27 | 2003-11-10 | Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН | Способ свч-плазменного осаждения диэлектрических пленок на металлические поверхности с малым радиусом кривизны |
-
1989
- 1989-01-20 SU SU4640020/25A patent/SU1589901A2/ru active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2187168C1 (ru) * | 2000-12-18 | 2002-08-10 | Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники | Устройство для ионной обработки материалов |
| RU2215820C2 (ru) * | 2001-12-27 | 2003-11-10 | Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН | Способ свч-плазменного осаждения диэлектрических пленок на металлические поверхности с малым радиусом кривизны |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4897545A (en) | Electron detector for use in a gaseous environment | |
| US4398152A (en) | Photoionization detector | |
| US5391855A (en) | Apparatus for atmospheric plasma treatment of a sheet-like structure | |
| MX170740B (es) | Aparato y metodo para tratamiento con plasma de tubos de diametro pequeño | |
| US4823006A (en) | Integrated electron optical/differential pumping/imaging signal detection system for an environmental scanning electron microscope | |
| DE3878828T2 (de) | Sekundaerelektronen-detektor zur anwendung in einer gasumgebung. | |
| US6023169A (en) | Electron capture detector | |
| AU7034391A (en) | Methods and apparatus for dispersing a fluent material utilizing an electron beam | |
| GB2064210A (en) | Apparatus for monitoring and/or controlling plasma processes | |
| CA2112103A1 (en) | Methods and Apparatus for Externally Treating a Container with Application of Internal Bias Gas | |
| JPH11133000A (ja) | 放電イオン化検出器 | |
| JPS57201527A (en) | Ion implantation method | |
| US3967931A (en) | Flame aerosol detector for liquid chromatography | |
| AU3201289A (en) | Microwave spectrometer | |
| US3400514A (en) | Carrier gas separating device | |
| GB2058447A (en) | Photoionization Detector | |
| EP0633602A3 (de) | Flugzeit-Massenspektrometer mit Gasphasen-Ionenquelle, mit hoher Empfindlichkeit und grossem dynamischem Bereich. | |
| FR2358744A1 (fr) | Spectrometre electronique | |
| GB1279146A (en) | Plasma generating apparatus | |
| SU1547678A2 (ru) | Устройство вывода частиц | |
| RU2029302C1 (ru) | Фотоионизационный детектор для газовой хроматографии (его варианты) | |
| JPS57155384A (en) | High frequency spatter etching apparatus | |
| US3439162A (en) | Pivotable mount for electric field electrodes of a cycloidal mass spectrometer | |
| GB1576585A (en) | Chromatographic analysis of a liquid sample | |
| Evans et al. | Some remarks on the origin and elimination of background cloud in expansion cloud chambers |