SU387542A1 - Грабитель для избирательного травления пленок олова - Google Patents
Грабитель для избирательного травления пленок оловаInfo
- Publication number
- SU387542A1 SU387542A1 SU1759277A SU1759277A SU387542A1 SU 387542 A1 SU387542 A1 SU 387542A1 SU 1759277 A SU1759277 A SU 1759277A SU 1759277 A SU1759277 A SU 1759277A SU 387542 A1 SU387542 A1 SU 387542A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- etching
- tin films
- electoral
- eliminator
- photoresist
- Prior art date
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 title description 14
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 9
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 235000011167 hydrochloric acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 3
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001243 acetic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
- C23F1/16—Acidic compositions
- C23F1/30—Acidic compositions for etching other metallic material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
1
Изобретение относитс к технологии производства -радиодеталей и может быть -использовано при изготовлении гибридных пленочных микросхем.
Известен травитель дл избирательного травлени пленок олова, нанесенных на полимерный материал и защищенных слоем фоторезиста в соответствии с получаемым рисунком , содержащий смесь азотной, сол ной и уксусной кислот с .водой.
Однако травление пленок -олова в -концентрированных кислотах приводит к интенсивному разрушению как полимерного материала, так и фоторезиста, защищающего пленки олова в процессе травлени .
Целью изобретени вл етс сохранение полимерного материала и фоторезиста -в процессе травлени .
Дл этого в тра-витель Дополнительно введен азотнокислый натрий и глицерин при следующем соотнощении компонентов, в вес. 7о: Азотна кислота (уд. вес 1,41) 3-6 Сол на кислота (уд. вес 1,18) 5-9 Уксусна кислота (лед на ) 20-31 Вода (дистиллированна )10-19
Азотнокислый натрий3-6
ГлицеринОстальное
Наличие глицерина в предложенном травителе исключает смачивание травителем полимерного материала в процессе избирательного травлени элементов м-икросхем, выполненных из пленок олова, например верхних обкладо:К пленочных конденсаторов, что позвол ет .изготавливать их методом фотолитографии без нарушени сло полимера.
Азотнокислый натрий, вход щий Е состав травител , увеличивает устойчивость фоторезиста в процессе травлени пленки олова без предварительной термической обработки (дублени ) фоторезиста при высоких температурах . Соотношение кислот подобрано таким образом, чтобы получить высокие скороО
сти травлени (6000 А/мин при температуре 20°С) с минимальным боковым подтравливанием .
Изобретение по сн етс следующим примером .
На ситалловую подложку напыл ют слои
о
никел толщиной 4000-6000 А. Затем методом фотолитографии изготавливают нижние обкладки кислотных конденсаторов. На нижние обкладки из никел напыл ют полимер на основе силикона в тлеющем -разр де при полимеризации мономера гекта.метилдисилоксао
:на толщиной 5000 А. Затем на пленку полимера напыл ют олово толщиной 6000 А и нанос т фоторезист ФП-334 на центрифуге при скорости вращени 1200-1400 об/мин. Высушивают при температуре 95-ЮО С в течение 15-20 мин, экспонируют и про вл ют.
Подготовленную таким образом подложку
помещают в травитель следующего состава:
Азотна кислота 1,41 уд. вес 4 мл
Сол на кислота 1,48 уд. вес 7 мл
Уксусна кислота (лед на ) 23 мл
Азотнокислый натрий5 гр
Глицерин47 мл
Вода (дистиллирован-на )14 мл
и вытравливают рисунок верхних обкладок
пленочных конденсаторов.
Окончание процесса травлени фиксируют визуально. .Скорость травлени пленок олова в травителе приведенного состава составл ет
о
6000 А/мин при температуре-20°С. После отмывки -подложки в дистиллированаой воде производ т удаление фоторезиста в ацетоне, диоксане или других органических растворител х .
Предмет изобретени
Травитель дл -избирательного травлени пленок олова, нанесенных .на полимерный материал и защищенных слоем фоторезиста в соответствии с получаемым р-ису-нком, содержащий смесь азотной, сол ной и уксусной кислот с водой, отличающийс тем, что, с целью сохранени полимерного материала фоторезиста в процессе травлени , травитель дополнительно содержит азотнокислый натрий и глицерин пр-и следующем соотношении компонентов , в вес. %
Азотна кислота (уд. вес 1,41) 3-6 . Сол на кислота (уд. вес 1,18) 5-9 Уксусна кислота (лед иа ) 20-31 Вода (дистиллированна )10-19
Азотнокислый натрий3-6
Глицерин
Остальное
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU1759277A SU387542A1 (ru) | 1972-03-16 | 1972-03-16 | Грабитель для избирательного травления пленок олова |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU1759277A SU387542A1 (ru) | 1972-03-16 | 1972-03-16 | Грабитель для избирательного травления пленок олова |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SU387542A1 true SU387542A1 (ru) | 1973-06-21 |
Family
ID=20506524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU1759277A SU387542A1 (ru) | 1972-03-16 | 1972-03-16 | Грабитель для избирательного травления пленок олова |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| SU (1) | SU387542A1 (ru) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU169866U1 (ru) * | 2016-02-10 | 2017-04-04 | Акционерное общество "Российская корпорация ракетно-космического приборостроения и информационных систем" (АО "Российские космические системы") | Установка для вскрытия пластиковых корпусов электро-радиоэлементов |
-
1972
- 1972-03-16 SU SU1759277A patent/SU387542A1/ru active
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU169866U1 (ru) * | 2016-02-10 | 2017-04-04 | Акционерное общество "Российская корпорация ракетно-космического приборостроения и информационных систем" (АО "Российские космические системы") | Установка для вскрытия пластиковых корпусов электро-радиоэлементов |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5355986A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| SU387542A1 (ru) | Грабитель для избирательного травления пленок олова | |
| JPS5669837A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| JPS5267969A (en) | Manufacture of semiconductor unit | |
| DE2211875C3 (ru) | ||
| US3861031A (en) | Method of making a moisture-sensitive element | |
| US3592691A (en) | Photoresist removal method | |
| JPS5467766A (en) | Semiconductor device | |
| JPS5823735B2 (ja) | 薄膜コンデンサ−ないし薄膜抵抗用のタンタルから成る層の製法 | |
| JPS56116634A (en) | Semiconductor device | |
| JPS5524923A (en) | Manufacture of transparent titanium oxide film | |
| JPS5566113A (en) | Manufacture of elastic surface wave device | |
| JPS5232671A (en) | Manufacturing process of semiconductor device | |
| SU503686A1 (ru) | Способ сушки покрытых электродов | |
| JPS62239108A (ja) | 導電性偏光フイルム及びその製造方法 | |
| JPS5474677A (en) | Surface stabilizing method of semiconcuctor element using polyimide silicone | |
| JPS53120684A (en) | Manufacture of filter membrane | |
| JPS5817935B2 (ja) | 液晶表示素子の電極形成方法 | |
| JPS54122193A (en) | Production of humidity detecting element | |
| SU960981A1 (ru) | Способ изготовлени тонкопленочных конденсаторов | |
| SU62132A1 (ru) | Способ восстановлени светочувствительности селеновых фотоэлементов | |
| JPS5585066A (en) | Preparation of semiconductor device | |
| SU577507A1 (ru) | Способ получени электрофотографических слоев | |
| JPS52113162A (en) | Preparation of semiconductor device | |
| SU435141A1 (ru) | Способ получения слоистого пластика |