SU680351A1 - Устройство дл дифференцированного гальванопокрыти оснований микросхем - Google Patents

Устройство дл дифференцированного гальванопокрыти оснований микросхем Download PDF

Info

Publication number
SU680351A1
SU680351A1 SU772558987A SU2558987A SU680351A1 SU 680351 A1 SU680351 A1 SU 680351A1 SU 772558987 A SU772558987 A SU 772558987A SU 2558987 A SU2558987 A SU 2558987A SU 680351 A1 SU680351 A1 SU 680351A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
bases
microcircuits
holes
coating
cylinder
Prior art date
Application number
SU772558987A
Other languages
English (en)
Inventor
Н.А. Бондюров
Original Assignee
Предприятие П/Я Г-4374
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я Г-4374 filed Critical Предприятие П/Я Г-4374
Priority to SU772558987A priority Critical patent/SU680351A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU680351A1 publication Critical patent/SU680351A1/ru

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Description

1
Изобретеиие касаетс  нанесени  гальванических нокрытнй на издели  электронной техники и может быть иснользовано дл  нанесени  золота на основани  интегральных микросхем.
При изготовлении микросхем монтаж ведетс  золотой проволокой методом термокомнрессии , дл  чего контактные нлощадки ВЫ1ЮДОВ оснований микросхем покрываютс  слое.м полота. Така  же иокрыти  требуетс  и на внутренней стороне донышка дл  носадки кристалла на эвтетику.
Известно устройство дл  локального нокрыти  металлами, в котором участки оснований микросхем, не нодлел ащие покрытию (технологическа  рамка), зажаты (закрыты ) между двум  прокладками (тина резины), а на остальную часть золото осаждаетс  одинаковой толщины.
С обеих сторон детали укладываютс  перфорированные аноды из листового золота .
Отдельные  чейки собираютс  в пакеты, уплотн емые с торцов жесткими подушками 1.
Основными недостатками этого устройства  вл ютс  сложность конструкции дл  большого количества оснований, низка  нроизводительность нрн загрузке-выгрузке
и оольшие потери золота нрн изготовлении перфорированных анодов.
По сравнению с гальванонокрытием осиований в барабанах устройство дает небольшую экономию золота, так как на участки , не зажатые прокладками, золото наноситс  одинаковой толщины. Однако дл  создани  надежных контактных соединении достаточно имет;, требуемую дл  этого тол1Ц1111У покрыти  только на контактных плоН1адках , а на остальных част х в 4--6 раз меньше, т. е. 1 -1,5 мкм.
Известно устройство лТ,л  днфференциронанного гальванопокрыти  оснований микросхем , которое состоит из погружаемой в электролит металлической кассеты с гнездами дл  укладки основаннй микросхем и металлической крышки с угольнымн электродами , количество которых соответетвует количеству обрабатываемых деталей и которые нрн закрытии кассеты наход тс  против детали на определенном рассто нии 2.
В процессе электролиза против электродов на детал х покрытие получаетс  толще, чем на остальных част х детали (дифференцированное покрытие).
Это устройство в массовом производстве также не применимо, так как имеет незначительную емкость кассет, следовательно.
низкую производительность покрыти , и кроме того, незначительную разницу в толщине нокрытн  «видимых и «невидимых угольными электродами новерхностей, тем более определенного учаетка «видимой стороны ввиду большого рассеиваии  электрического пол  от большого количества анодов, что может дать также незначительную экономию золота, а также «засорение электролита угольными электродами (науглероживание ), что вли ет на качество нокрыти .
Цель изобретени  - повышение ироизводительности и качества покрыти  - достигаетс  тем, что в устройстве дл  дифференцированного гальванопокрыти  осиований микросхем корнус выполнен в виде полого цилиндра из изол ционного материала , в основани х которого выполнены отверсти  дл  электролита, гнезда выполнены в виде отверстий, размеры и форма которых соответствуют размерам оснований микросхем с максимальной толщиной нокрыти , а анод выполнен в виде стержн , размещенного в полости цилиндра и установленного по оси цилиндра, причем контактные и креиежные элементы выполпеиы в виде проволочных колец, охватывающих корпус и поджатых цилиндрическими пружинами , а отверсти  в основани х цилиндра выполнены регулируемыми ио величине их сечени .
На чертеже изображено устройство дли дифференцированного гальванопокрыти  оснований микросхем.
Оно содержит корпус 1, изготовленный из изол ционного материала, нанример термостойкого оргстекла или нолистнрола ПСМ, в виде полого цилиндра. Перемычками 2 и штырьками 3 по периметр} корпуса образованы р ды гнезд дл  оснований микросхем . В середине каждого гнезда имеютс  отверсти  4, размеры н форма которых соответствует размерам оенований микросхем с максимальной толщиной нокрыти .
На наружной поверхностн корпуса 1 ио р дам отверстий размещены контактные и крепежные э зементы в виде проволочных колец 5. Сверху кольца 5 поджаты цилиндрическими пружинами 6. Кольца 5 и пружины 6 соединены с катодом 7. Основани  8 устройства выполнены с двойным дном с отверсти ми 9. Поворотом подвижной части дна можно регулировать сечение отверстий 9. Внутри корпуса по оси цилнидра установлен анод 10, соединенный с контактом И.
Устройство работает следующим образом . Основани  микросхем 12 ободком внутрь вставл ютс  в гнезда, образованные перемычками 2 и штырьками 3 против отверстий 4 под пружины 6. При этом основани  прижимаютс  ободком к нроволочному кольцу 5, Б результате осуществл етс  контакт ободка с катодом 7, а посредством пружин 6 катод 7 соедин етс  с дном
и контактными рамка.ми основаннй 8. Устройство подключаетс  к источнику тока и погружаетс  в ванну с электролитом. По окончании гальванопокрыти  пружинки «расстегиваютс  и основани  высыпаютс 
в корзинку дл  дальнейшей обработки.
Описываемое устройство обеспечивает значительиую экономию золота за счет того , что на «невидимых анодом участках оснований толщина покрыти  в 4-6 раз
меньще, чем на «видимых, илощадь которых в 4 раза меньше чем «невндимых, качество покрыти  за счет чистоты электролита и надежности контактов улучшаетс , а также из-за размешени  всех оснований
на одинаковом рассто ннн от анода, что обеспечивает стабильную толщину покрыти .
Возможность одновре.меиной обработки большого числа оснований (1500-2000
штук) повышает производительность работы устройства.
Ф о р м } л а изобретен и  
1. Устройство дл  дифференцированного гальванопокрыти  оснований микросхем, содержащее корпус с гнездами дл  размещени  оснований микросхе.м, анод, катод, контактные и кренежные эле.менты, отличающеес  тем, что, с целью иовышени  нронзводителыюсти и качества покрыти , корпус выполнен в виде rio.ior-o цилиндра из изол ционного .материала, в основани х которого вынолиены отверсти  дл  электролита , гнезда выполнены в виде отверстий, размеры и форма которых соответствуют раз.мерам оснований микросхе.м с максимальной толщиной нокрити , а анод выполнен Б виде стерж1  , размещенного в
полости Ц11.1индра и устаиовле1нюго по оси цилиндра, причем контактные и крепежные элементы выполнены в виде проволочных колец, охватывающих корпус и иоджатых цилиндрическими пружинами.
2. Устройство ио н. 1, о т л н ч а ю ш е е с   тем, что, с целью регулировани  толщины нокрыти , отверсти  в основашг х цилиндра вьнюлиены регулируемыми но величине их сечени .
Источник и и и ф ор м а ц и и, нрин тые во внимание при экспертизе
. Авторское свидетельство СССР 487164, кл. С 25D 17/00, 1972.
2. Патент Японии № 27268, кл. 99(5) C2I, 1964.

Claims (2)

  1. Формула изобретен и я
    30 1. Устройство для дифференцированного гальванопокрытия оснований микросхем, содержащее корпус с гнездами для размещения оснований микросхем, анод, катод, контактные и крепежные элементы, отли35 чающееся тем, что, с целью повышения производительности и качества покрытия, корпус выполнен в виде полого цилиндра из изоляционного материала, в основаниях которого выполнены отверстия для электро-10 лита, гнезда выполнены в виде отверстий, размеры и форма которых соответствуют размерам оснований микросхем с максимальной толщиной покрытия, а анод выполнен в виде стержня, размещенного в 45 полости цилиндра и установленного по оси цилиндра, причем контактные и крепежные элементы выполнены в виде проволочных колец, охватывающих корпус и поджатых цил и ι щр и ч ес к и м и пружинами.
    50 2. Устройство по π. 1, отличающееся тем, что, с целью регулирования толщины покрытия, отверстия в основаниях цилиндра выполнены регулируемыми по величине их сечения.
    Источник и и н ф ор м а ц и и, принятые во внимание при экспертизе
    1. Авторское свидетельство СССР G0 № 487164, кл. С 25D 17/00, 1972.
  2. 2. Патент Японии Ар 27268, кл. 99(5) С21, 1964.
SU772558987A 1977-12-20 1977-12-20 Устройство дл дифференцированного гальванопокрыти оснований микросхем SU680351A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU772558987A SU680351A1 (ru) 1977-12-20 1977-12-20 Устройство дл дифференцированного гальванопокрыти оснований микросхем

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU772558987A SU680351A1 (ru) 1977-12-20 1977-12-20 Устройство дл дифференцированного гальванопокрыти оснований микросхем

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU680351A1 true SU680351A1 (ru) 1982-05-07

Family

ID=20739730

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU772558987A SU680351A1 (ru) 1977-12-20 1977-12-20 Устройство дл дифференцированного гальванопокрыти оснований микросхем

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU680351A1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100577662B1 (ko) 균일한 전기도금 두께를 달성하기 위하여 국부 전류를 제어하는 장치 및 방법
US6193860B1 (en) Method and apparatus for improved copper plating uniformity on a semiconductor wafer using optimized electrical currents
JPS58182823A (ja) 半導体ウエハ−のメツキ装置
ES527169A0 (es) Procedimiento de electroformar objetos metalicos y perfeccionamientos en los objetos metalicos electroformados
KR101871956B1 (ko) 모판, 모판의 제조 방법, 및 마스크의 제조 방법
US3658663A (en) Method for effecting partial metal plating
KR20020027523A (ko) 압전 세라믹 액츄에이터용 전극 접속부 및 그의 제조 방법
TW202328505A (zh) 電鍍系統及電鍍一基板的方法
KR101843035B1 (ko) 모판 및 마스크의 제조 방법
US6077405A (en) Method and apparatus for making electrical contact to a substrate during electroplating
JPH1192993A (ja) 電極組立体、カソード装置及びメッキ装置
US2766194A (en) Method of plating
KR101832988B1 (ko) 모판, 모판의 제조 방법, 및 마스크의 제조 방법
CN107604423A (zh) 一种适于多基片高精度电镀的夹持装置
TWI225111B (en) An electroplating device
JP2633606B2 (ja) アルミ又はアルミ合金部材の導電被膜形成方法
JPS62188798A (ja) メツキ用コンタクトピン
KR19990001959A (ko) 전착(electrodeposition)을 이용한 연삭 및 연마공구의 제조방법
KR101710279B1 (ko) 도금 기법을 이용한 미세패턴 연속 제조장치 및 그 제조방법
KR101350413B1 (ko) 도전성 파우더의 제조방법
JPS58207387A (ja) ベロ−の製造方法
US20190189875A1 (en) Led frame and manufacturing method thereof
RU2402644C1 (ru) Устройство для локального нанесения металлических покрытий электролитическим методом
KR101419365B1 (ko) 도전성 파우더의 제조방법
SU378551A1 (ru) УСТРОЙСТВО дл ГАЛЬВАНИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ