SU680351A1 - Устройство дл дифференцированного гальванопокрыти оснований микросхем - Google Patents
Устройство дл дифференцированного гальванопокрыти оснований микросхем Download PDFInfo
- Publication number
- SU680351A1 SU680351A1 SU772558987A SU2558987A SU680351A1 SU 680351 A1 SU680351 A1 SU 680351A1 SU 772558987 A SU772558987 A SU 772558987A SU 2558987 A SU2558987 A SU 2558987A SU 680351 A1 SU680351 A1 SU 680351A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- bases
- microcircuits
- holes
- coating
- cylinder
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
1
Изобретеиие касаетс нанесени гальванических нокрытнй на издели электронной техники и может быть иснользовано дл нанесени золота на основани интегральных микросхем.
При изготовлении микросхем монтаж ведетс золотой проволокой методом термокомнрессии , дл чего контактные нлощадки ВЫ1ЮДОВ оснований микросхем покрываютс слое.м полота. Така же иокрыти требуетс и на внутренней стороне донышка дл носадки кристалла на эвтетику.
Известно устройство дл локального нокрыти металлами, в котором участки оснований микросхем, не нодлел ащие покрытию (технологическа рамка), зажаты (закрыты ) между двум прокладками (тина резины), а на остальную часть золото осаждаетс одинаковой толщины.
С обеих сторон детали укладываютс перфорированные аноды из листового золота .
Отдельные чейки собираютс в пакеты, уплотн емые с торцов жесткими подушками 1.
Основными недостатками этого устройства вл ютс сложность конструкции дл большого количества оснований, низка нроизводительность нрн загрузке-выгрузке
и оольшие потери золота нрн изготовлении перфорированных анодов.
По сравнению с гальванонокрытием осиований в барабанах устройство дает небольшую экономию золота, так как на участки , не зажатые прокладками, золото наноситс одинаковой толщины. Однако дл создани надежных контактных соединении достаточно имет;, требуемую дл этого тол1Ц1111У покрыти только на контактных плоН1адках , а на остальных част х в 4--6 раз меньше, т. е. 1 -1,5 мкм.
Известно устройство лТ,л днфференциронанного гальванопокрыти оснований микросхем , которое состоит из погружаемой в электролит металлической кассеты с гнездами дл укладки основаннй микросхем и металлической крышки с угольнымн электродами , количество которых соответетвует количеству обрабатываемых деталей и которые нрн закрытии кассеты наход тс против детали на определенном рассто нии 2.
В процессе электролиза против электродов на детал х покрытие получаетс толще, чем на остальных част х детали (дифференцированное покрытие).
Это устройство в массовом производстве также не применимо, так как имеет незначительную емкость кассет, следовательно.
низкую производительность покрыти , и кроме того, незначительную разницу в толщине нокрытн «видимых и «невидимых угольными электродами новерхностей, тем более определенного учаетка «видимой стороны ввиду большого рассеиваии электрического пол от большого количества анодов, что может дать также незначительную экономию золота, а также «засорение электролита угольными электродами (науглероживание ), что вли ет на качество нокрыти .
Цель изобретени - повышение ироизводительности и качества покрыти - достигаетс тем, что в устройстве дл дифференцированного гальванопокрыти осиований микросхем корнус выполнен в виде полого цилиндра из изол ционного материала , в основани х которого выполнены отверсти дл электролита, гнезда выполнены в виде отверстий, размеры и форма которых соответствуют размерам оснований микросхем с максимальной толщиной нокрыти , а анод выполнен в виде стержн , размещенного в полости цилиндра и установленного по оси цилиндра, причем контактные и креиежные элементы выполпеиы в виде проволочных колец, охватывающих корпус и поджатых цилиндрическими пружинами , а отверсти в основани х цилиндра выполнены регулируемыми ио величине их сечени .
На чертеже изображено устройство дли дифференцированного гальванопокрыти оснований микросхем.
Оно содержит корпус 1, изготовленный из изол ционного материала, нанример термостойкого оргстекла или нолистнрола ПСМ, в виде полого цилиндра. Перемычками 2 и штырьками 3 по периметр} корпуса образованы р ды гнезд дл оснований микросхем . В середине каждого гнезда имеютс отверсти 4, размеры н форма которых соответствует размерам оенований микросхем с максимальной толщиной нокрыти .
На наружной поверхностн корпуса 1 ио р дам отверстий размещены контактные и крепежные э зементы в виде проволочных колец 5. Сверху кольца 5 поджаты цилиндрическими пружинами 6. Кольца 5 и пружины 6 соединены с катодом 7. Основани 8 устройства выполнены с двойным дном с отверсти ми 9. Поворотом подвижной части дна можно регулировать сечение отверстий 9. Внутри корпуса по оси цилнидра установлен анод 10, соединенный с контактом И.
Устройство работает следующим образом . Основани микросхем 12 ободком внутрь вставл ютс в гнезда, образованные перемычками 2 и штырьками 3 против отверстий 4 под пружины 6. При этом основани прижимаютс ободком к нроволочному кольцу 5, Б результате осуществл етс контакт ободка с катодом 7, а посредством пружин 6 катод 7 соедин етс с дном
и контактными рамка.ми основаннй 8. Устройство подключаетс к источнику тока и погружаетс в ванну с электролитом. По окончании гальванопокрыти пружинки «расстегиваютс и основани высыпаютс
в корзинку дл дальнейшей обработки.
Описываемое устройство обеспечивает значительиую экономию золота за счет того , что на «невидимых анодом участках оснований толщина покрыти в 4-6 раз
меньще, чем на «видимых, илощадь которых в 4 раза меньше чем «невндимых, качество покрыти за счет чистоты электролита и надежности контактов улучшаетс , а также из-за размешени всех оснований
на одинаковом рассто ннн от анода, что обеспечивает стабильную толщину покрыти .
Возможность одновре.меиной обработки большого числа оснований (1500-2000
штук) повышает производительность работы устройства.
Ф о р м } л а изобретен и
1. Устройство дл дифференцированного гальванопокрыти оснований микросхем, содержащее корпус с гнездами дл размещени оснований микросхе.м, анод, катод, контактные и кренежные эле.менты, отличающеес тем, что, с целью иовышени нронзводителыюсти и качества покрыти , корпус выполнен в виде rio.ior-o цилиндра из изол ционного .материала, в основани х которого вынолиены отверсти дл электролита , гнезда выполнены в виде отверстий, размеры и форма которых соответствуют раз.мерам оснований микросхе.м с максимальной толщиной нокрити , а анод выполнен Б виде стерж1 , размещенного в
полости Ц11.1индра и устаиовле1нюго по оси цилиндра, причем контактные и крепежные элементы выполнены в виде проволочных колец, охватывающих корпус и иоджатых цилиндрическими пружинами.
2. Устройство ио н. 1, о т л н ч а ю ш е е с тем, что, с целью регулировани толщины нокрыти , отверсти в основашг х цилиндра вьнюлиены регулируемыми но величине их сечени .
Источник и и и ф ор м а ц и и, нрин тые во внимание при экспертизе
. Авторское свидетельство СССР 487164, кл. С 25D 17/00, 1972.
2. Патент Японии № 27268, кл. 99(5) C2I, 1964.
Claims (2)
- Формула изобретен и я30 1. Устройство для дифференцированного гальванопокрытия оснований микросхем, содержащее корпус с гнездами для размещения оснований микросхем, анод, катод, контактные и крепежные элементы, отли35 чающееся тем, что, с целью повышения производительности и качества покрытия, корпус выполнен в виде полого цилиндра из изоляционного материала, в основаниях которого выполнены отверстия для электро-10 лита, гнезда выполнены в виде отверстий, размеры и форма которых соответствуют размерам оснований микросхем с максимальной толщиной покрытия, а анод выполнен в виде стержня, размещенного в 45 полости цилиндра и установленного по оси цилиндра, причем контактные и крепежные элементы выполнены в виде проволочных колец, охватывающих корпус и поджатых цил и ι щр и ч ес к и м и пружинами.50 2. Устройство по π. 1, отличающееся тем, что, с целью регулирования толщины покрытия, отверстия в основаниях цилиндра выполнены регулируемыми по величине их сечения.Источник и и н ф ор м а ц и и, принятые во внимание при экспертизе1. Авторское свидетельство СССР G0 № 487164, кл. С 25D 17/00, 1972.
- 2. Патент Японии Ар 27268, кл. 99(5) С21, 1964.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU772558987A SU680351A1 (ru) | 1977-12-20 | 1977-12-20 | Устройство дл дифференцированного гальванопокрыти оснований микросхем |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU772558987A SU680351A1 (ru) | 1977-12-20 | 1977-12-20 | Устройство дл дифференцированного гальванопокрыти оснований микросхем |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SU680351A1 true SU680351A1 (ru) | 1982-05-07 |
Family
ID=20739730
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU772558987A SU680351A1 (ru) | 1977-12-20 | 1977-12-20 | Устройство дл дифференцированного гальванопокрыти оснований микросхем |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| SU (1) | SU680351A1 (ru) |
-
1977
- 1977-12-20 SU SU772558987A patent/SU680351A1/ru active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100577662B1 (ko) | 균일한 전기도금 두께를 달성하기 위하여 국부 전류를 제어하는 장치 및 방법 | |
| US6193860B1 (en) | Method and apparatus for improved copper plating uniformity on a semiconductor wafer using optimized electrical currents | |
| JPS58182823A (ja) | 半導体ウエハ−のメツキ装置 | |
| ES527169A0 (es) | Procedimiento de electroformar objetos metalicos y perfeccionamientos en los objetos metalicos electroformados | |
| KR101871956B1 (ko) | 모판, 모판의 제조 방법, 및 마스크의 제조 방법 | |
| US3658663A (en) | Method for effecting partial metal plating | |
| KR20020027523A (ko) | 압전 세라믹 액츄에이터용 전극 접속부 및 그의 제조 방법 | |
| TW202328505A (zh) | 電鍍系統及電鍍一基板的方法 | |
| KR101843035B1 (ko) | 모판 및 마스크의 제조 방법 | |
| US6077405A (en) | Method and apparatus for making electrical contact to a substrate during electroplating | |
| JPH1192993A (ja) | 電極組立体、カソード装置及びメッキ装置 | |
| US2766194A (en) | Method of plating | |
| KR101832988B1 (ko) | 모판, 모판의 제조 방법, 및 마스크의 제조 방법 | |
| CN107604423A (zh) | 一种适于多基片高精度电镀的夹持装置 | |
| TWI225111B (en) | An electroplating device | |
| JP2633606B2 (ja) | アルミ又はアルミ合金部材の導電被膜形成方法 | |
| JPS62188798A (ja) | メツキ用コンタクトピン | |
| KR19990001959A (ko) | 전착(electrodeposition)을 이용한 연삭 및 연마공구의 제조방법 | |
| KR101710279B1 (ko) | 도금 기법을 이용한 미세패턴 연속 제조장치 및 그 제조방법 | |
| KR101350413B1 (ko) | 도전성 파우더의 제조방법 | |
| JPS58207387A (ja) | ベロ−の製造方法 | |
| US20190189875A1 (en) | Led frame and manufacturing method thereof | |
| RU2402644C1 (ru) | Устройство для локального нанесения металлических покрытий электролитическим методом | |
| KR101419365B1 (ko) | 도전성 파우더의 제조방법 | |
| SU378551A1 (ru) | УСТРОЙСТВО дл ГАЛЬВАНИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ |