TH137362A - องค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิดโพลิกลีเซอริล - Google Patents

องค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิดโพลิกลีเซอริล

Info

Publication number
TH137362A
TH137362A TH1101003106A TH1101003106A TH137362A TH 137362 A TH137362 A TH 137362A TH 1101003106 A TH1101003106 A TH 1101003106A TH 1101003106 A TH1101003106 A TH 1101003106A TH 137362 A TH137362 A TH 137362A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
surfactant
free
composition
ion
surfactants
Prior art date
Application number
TH1101003106A
Other languages
English (en)
Inventor
เจ. เฟโวล่า นายไมเคิล
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายบุญมา เตชะวณิช
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายบุญมา เตชะวณิช, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH137362A publication Critical patent/TH137362A/th

Links

Abstract

DC60 (12/04/59) การประดิษฐ์นี้จัดให้มีองค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิด โพลิกลีเซอริล, สารลดแรงตึงผิวแบบไอออนขั้วคู่, สารถนอมรักษาชนิดกรดอินทรีย์, สารลดแรงตึงผิวแบบ ไอออนลบชนิดปราศจากซัลเฟต และน้ำ, โดยที่องค์ประกอบจะปราศจากสารที่มีการเติมเอธอกซิลอย่างมี นัยสำคัญ และมีค่า pH ประมาณ 5.4 หรือน้อยกว่า และการใช้งานองค์ประกอบดังกล่าว นอกจากนี้ ยังจัดให้ มีองค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิดโพลิกลีเซอริล, สารลดแรงตึงผิว แบบไอออนขั้วคู่, สารถนอมรักษาชนิดกรดอินทรีย์ และน้ำ, โดยที่องค์ประกอบปราศจากสารที่มีการเติม เอธอกซิลอย่างมีนัยสำคัญ, ปราศจากสารลดแรงตึงผิวแบบไอออนลบชนิดซัลเฟตอย่างมีนัยสำคัญ และมีค่า pH ประมาณ 5.4 หรือน้อยกว่า และการใช้งานองค์ประกอบดังกล่าว บทสรุปการประดิษฐ์12/04/2559 การประดิษฐ์นี้จัดให้มีองค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิด โพลิกลีเซอริล, สารลดแรงตึงผิวแบบไอออนขั้วคู่, สารถนอมรักษาชนิดกรดอินทรีย์, สารลดแรงตึงผิวแบบ ไอออนลบชนิดปราศจากซัลเฟต และน้ำ, โดยที่องค์ประกอบจะปราศจากสารที่มีการเติมเอธอกซิลอย่างมี นัยสำคัญ และมีค่า pH ประมาณ 5.4 หรือน้อยกว่า และการใช้งานองค์ประกอบดังกล่าว นอกจากนี้ ยังจัดให้ มีองค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิดโพลิกลีเซอริล, สารลดแรงตึงผิว แบบไอออนขั้วคู่, สารถนอมรักษาชนิดกรดอินทรีย์ และน้ำ, โดยที่องค์ประกอบปราศจากสารที่มีการเติม เอธอกซิลอย่างมีนัยสำคัญ, ปราศจากสารลดแรงตึงแบบผิวแบบไอออนลบชนิดซัลเฟตอย่างมีนัยสำคัญ และมีค่า pH ประมาณ 5.4 หรือน้อยกว่า และการใช้งานองค์ประกอบดังกล่าว ------------------------------------------------------------------ การประดิษฐ์นี้จัดให้มีองค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิด โพลิ กลีเซอริล สารลดแรงตึงผิวแบบไอออนขั้วคู่ สารถนอมรักษาชนิดกรดอินทรีย์ สารลดแรงตึงผิว แบบไอออน ลบชนิดปราศจากซัลเฟต และน้ำ โดยที่องค์ประกอบจะปราศจากสารที่มีการเติมเอธอกซิล อย่างมากพอและ มีค่า pH ประมาณ 5.4 หรือน้อยกว่า และการใช้งานองค์ประกอบดังกล่าว นอกจากนี้ ยังจัดให้มีองค์ประกอบ ที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิดโพลิกลีเซอริล สารลดแรงตึงผิวแบบไอออนขั้วคู่ สารถนอมรักษาชนิดกรดอินทรีย์ และน้ำ โดยที่องค์ประกอบ ปราศจากสารที่มีการเติมเอธอกซิลอย่างมาก พอ ปราศจากสารลดแรงตึงผิวแบบไอออนลบ ชนิดซัลเฟตอย่างมากพอ และมีค่า pH ประมาณ 5.4 หรือน้อย กว่า และการใช้งานองค์ประกอบดังกล่าว

Claims (1)

: DC60 (12/04/59) การประดิษฐ์นี้จัดให้มีองค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิด โพลิกลีเซอริล, สารลดแรงตึงผิวแบบไอออนขั้วคู่, สารถนอมรักษาชนิดกรดอินทรีย์, สารลดแรงตึงผิวแบบ ไอออนลบชนิดปราศจากซัลเฟต และน้ำ, โดยที่องค์ประกอบจะปราศจากสารที่มีการเติมเอธอกซิลอย่างมี นัยสำคัญ และมีค่า pH ประมาณ 5.4 หรือน้อยกว่า และการใช้งานองค์ประกอบดังกล่าว นอกจากนี้ ยังจัดให้ มีองค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิดโพลิกลีเซอริล, สารลดแรงตึงผิว แบบไอออนขั้วคู่, สารถนอมรักษาชนิดกรดอินทรีย์ และน้ำ, โดยที่องค์ประกอบปราศจากสารที่มีการเติม เอธอกซิลอย่างมีนัยสำคัญ, ปราศจากสารลดแรงตึงผิวแบบไอออนลบชนิดซัลเฟตอย่างมีนัยสำคัญ และมีค่า pH ประมาณ 5.4 หรือน้อยกว่า และการใช้งานองค์ประกอบดังกล่าว บทสรุปการประดิษฐ์12/04/2559 การประดิษฐ์นี้จัดให้มีองค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิด โพลิกลีเซอริล, สารลดแรงตึงผิวแบบไอออนขั้วคู่, สารถนอมรักษาชนิดกรดอินทรีย์, สารลดแรงตึงผิวแบบ ไอออนลบชนิดปราศจากซัลเฟต และน้ำ, โดยที่องค์ประกอบจะปราศจากสารที่มีการเติมเอธอกซิลอย่างมี นัยสำคัญ และมีค่า pH ประมาณ 5.4 หรือน้อยกว่า และการใช้งานองค์ประกอบดังกล่าว นอกจากนี้ ยังจัดให้ มีองค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิดโพลิกลีเซอริล, สารลดแรงตึงผิว แบบไอออนขั้วคู่, สารถนอมรักษาชนิดกรดอินทรีย์ และน้ำ, โดยที่องค์ประกอบปราศจากสารที่มีการเติม เอธอกซิลอย่างมีนัยสำคัญ, ปราศจากสารลดแรงตึงแบบผิวแบบไอออนลบชนิดซัลเฟตอย่างมีนัยสำคัญ และมีค่า pH ประมาณ 5.4 หรือน้อยกว่า และการใช้งานองค์ประกอบดังกล่าว ------------------------------------------------------------------ การประดิษฐ์นี้จัดให้มีองค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิด โพลิ กลีเซอริล สารลดแรงตึงผิวแบบไอออนขั้วคู่ สารถนอมรักษาชนิดกรดอินทรีย์ สารลดแรงตึงผิว แบบไอออน ลบชนิดปราศจากซัลเฟต และน้ำ โดยที่องค์ประกอบจะปราศจากสารที่มีการเติมเอธอกซิล อย่างมากพอและ มีค่า pH ประมาณ 5.4 หรือน้อยกว่า และการใช้งานองค์ประกอบดังกล่าว นอกจากนี้ ยังจัดให้มีองค์ประกอบ ที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิดโพลิกลีเซอริล สารลดแรงตึงผิวแบบไอออนขั้วคู่ สารถนอมรักษาชนิดกรดอินทรีย์ และน้ำ โดยที่องค์ประกอบ ปราศจากสารที่มีการเติมเอธอกซิลอย่างมาก พอ ปราศจากสารลดแรงตึงผิวแบบไอออนลบ ชนิดซัลเฟตอย่างมากพอ และมีค่า pH ประมาณ 5.4 หรือน้อย กว่า และการใช้งานองค์ประกอบดังกล่าวข้อถือสิทธิ์ (ข้อที่หนึ่ง) ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา : แก้ไข 12/04/2559
1. องค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิดโพลิกลีเซอริล, สารลดแรง ตึงผิว แบบไอออนขั้วคู่, สารถนอมรักษาชนิดกรดอินทรีย์, น้ำ และสารลดแรงตึงผิวแบบไอออนลบชนิด ปราศจากซัลเฟตซึ่งเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยเอซิลแอสปาร์เตต, เอซิลกลูตาเมต, เอซิลไอเซไธโอเนต, เอซิล เทาเรต, แอลฟา-ซัลโฟแฟตตีแอซิดเอสเตอร์, เกลือของแอลฟา-ซัลโฟแฟตตีแอซิด, แอลฟา-โอเลฟินซัลโฟเนต, อัตคิลซัลโฟเนต, อัลคิลฟอสเฟต, อนุพันธ์แบบไอออนลบของอัลคิลโพลิกลูโคไซด์ และสารรวมของสาร ดังกล่าวสองชนิด&nbแท็ก :
TH1101003106A 2011-11-14 องค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วยสารลดแรงตึงผิวแบบไม่มีไอออนชนิดโพลิกลีเซอริล TH137362A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH137362A true TH137362A (th) 2014-10-17

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2009024747A3 (en) Environmentally acceptable hard surface treatment compositions
DE602007014105D1 (de) Wässrige hochsaure reinigungsmittel für feste oberflächen
WO2013178697A3 (de) Verwendung von n-methyl-n-acylglucaminen als verdicker in tensidlösungen
EA032175B9 (ru) КОМПОЗИЦИЯ С НИЗКИМ pH, СОДЕРЖАЩАЯ КОНКРЕТНЫЕ КОНСЕРВАЦИОННЫЕ СИСТЕМЫ
BR112012027444A2 (pt) bloco cáustico altamente concentrado para lavagem de louças
WO2013178670A3 (de) Verwendung von n-methyl-n-acylglucaminen als kältestabilisatoren in tensidlösungen
MX2013011487A (es) Preparaciones para composiciones de limpieza multiuso.
MX2010010246A (es) Composicion desengrasante liquida ultraconcentrada.
PH12013501046A1 (en) Dilutable concentrated cleaning composition
GB2446992A (en) Pathogen-controlling products
CN103740489A (zh) 一种管道清洗剂
WO2014206554A3 (de) Verwendung von speziellen n-methyl-n-acylglucaminen in hautreinigungsmitteln und handgeschirrspülmitteln
EP1842572A3 (en) Hair cleansing composition
WO2011007174A3 (en) Composition and method
NZ611022A (en) Mold and mildew stain removing solution
WO2007076337A3 (en) Surfactants systems for surface cleaning
MX2013010149A (es) Desinfectante de amplio espectro.
AU2012264485A8 (en) Sprayable, aqueous alcoholic microbicidal compositions comprising copper ions
CO6241164A2 (es) Composiciones de limpieza que comprenden peroxido de hidrogeno
WO2012021164A3 (en) Agricultural pesticide compositions
AU2012264489A8 (en) Sprayable aqueous microbicidal compositions comprising copper ions
MX2017009300A (es) Espuma de limpieza de larga duracion.
WO2017100051A3 (en) Cold-water cleaning compositions and methods
HRP20201354T1 (hr) Tekuće formulacije levotiroksina
JP2014520137A5 (th)