TH25254B - อุปกรณ์ตะกร้าแม่เหล็กสำหรับกักกันพลาสมาจากเครื่องระเหยไอสสารแบบอาร์คไอออน - Google Patents
อุปกรณ์ตะกร้าแม่เหล็กสำหรับกักกันพลาสมาจากเครื่องระเหยไอสสารแบบอาร์คไอออนInfo
- Publication number
- TH25254B TH25254B TH101004656A TH0101004656A TH25254B TH 25254 B TH25254 B TH 25254B TH 101004656 A TH101004656 A TH 101004656A TH 0101004656 A TH0101004656 A TH 0101004656A TH 25254 B TH25254 B TH 25254B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- magnetic
- plasma
- quarantine
- arc ion
- evaporators
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 อาร์คไอออนอิแวพอเรเตอร์ที่ติดตั้งอุปกรณ์ตระกร้าแม่เหล็ก ( Magnetic Bucket ) เพื่อ ใช้ในการกักกันและควบคุมพลาสมาที่ได้จากการอาร์คไอออนอิแวพอเรเตอร์นั้น อาร์คไอออนอิแวพอเรเตอร์ที่ติดตั้งอุปกรณ์ตระกร้าแม่เหล็ก ( Magnetic Bucket ) เพื่อ ใช้ในการกักกันและควบคุมพลาสมาที่ได้จากการอาร์คไอออนอิแวพอเรเตอร์นั้น
Claims (1)
1. อุปกรณ์ตะกร้าแม่เหล็กสำหรับกักกันพลาสมาจากครื่องระเหยไอสสารแบบอาร์ค ไอออน สำหรับการเครือบฟิล์มบางหรือสังเคราะห์สารโดยวิธีไอระเหยของสสาร ประกอบด้วย อุปกรณ์ที่เป็นแม่เหล็กถาวรหรือชุดสนามแม่เหล็กมาวางในลักษณะที่มีขั้ว ตรงข้ามกับขั้วของแม่เหล็กอ้างอิงที่ถูกสร้างขึ้นเพื่อนำไปใช้ติดตั้งกับเครื่องระเหยไอสสาร แบบอาร์คไอออนอิแวพอเรเตอร์นั้น มีลักษณะพิเศษเฉพาะคือ อุปกรณ์ที่เป็นแม่เหล็ก ถาวรหรือชุดสนามแม่เหล็กอย่างน้อยหนึ่งชิ้นขึ้นไปจะถูกติดตั้งอยู่ที่ในระนาบเดียวกันกับ ด้านข้างหรือด้านหน้าหรือด้านหลังของคาโธด โดยที่แรงจากสนามแม่เหล็กจากตระกร้า แม่เหล็กยังมีผลต่อคาโธด
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH77113A TH77113A (th) | 2006-04-20 |
| TH25254B true TH25254B (th) | 2009-01-09 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ATE277204T1 (de) | Lichtbogenverdampfer mit kraftvoller magnetführung für targets mit grosser oberfläche | |
| WO2007131944A3 (de) | Arcquelle und magnetanordnung | |
| WO2001040532A3 (en) | Gas cluster ion beam low mass ion filter | |
| DE69531240D1 (de) | Rechteckige vakuumlichtbogenplasmaquelle | |
| US9761423B2 (en) | Sputtering apparatus and magnet unit | |
| ATE408890T1 (de) | Gerät zur verdampfung von werkstoffen zur beschichtung von gegenständen | |
| EP1576641B8 (de) | Vacuumarcquelle mit magnetfelderzeugungseinrichtung | |
| DE60334935D1 (de) | Vorrichtung zur vorbehandlung von verbrennungsluft | |
| WO2005095666A3 (en) | Magnetically enhanced capacitive plasma source for ionized physical vapour deposition-ipvd | |
| TH25254B (th) | อุปกรณ์ตะกร้าแม่เหล็กสำหรับกักกันพลาสมาจากเครื่องระเหยไอสสารแบบอาร์คไอออน | |
| TH77113A (th) | อุปกรณ์ตะกร้าแม่เหล็กสำหรับกักกันพลาสมาจากเครื่องระเหยไอสสารแบบอาร์คไอออน | |
| WO2004067786A3 (en) | Methods, systems, and devices for evaluation of thermal treatment | |
| SG133405A1 (en) | Vacuum arc evaporation apparatus | |
| CN207047313U (zh) | 磁控溅射装置 | |
| WO2005091329A3 (en) | Sputtering device for manufacturing thin films | |
| JPS5780713A (en) | Manufacture of magnetic thin film by sputtering | |
| JPS6217175A (ja) | スパツタリング装置 | |
| JP2003213410A5 (th) | ||
| JP2019104970A (ja) | 成膜装置、および、磁気回路 | |
| WO2009066633A1 (ja) | アークイオンプレーティング装置用の蒸発源及びアークイオンプレーティング装置 | |
| JPH0680187B2 (ja) | マグネトロンスパツタ装置の磁場調節方法 | |
| JPH02163372A (ja) | マグネトロンスパッタ装置 | |
| JP2002256431A (ja) | マグネトロンスパッタ装置 | |
| ATE475271T1 (de) | Koaxiallautsprecher mit wellenförmiger membran | |
| JP2007231401A (ja) | 対向ターゲット式スパッタリング装置 |