TH26380A - On-site manufacture of ultra- high-purity hydrofluoric acid for semiconductor processing - Google Patents

On-site manufacture of ultra- high-purity hydrofluoric acid for semiconductor processing

Info

Publication number
TH26380A
TH26380A TH9601001839A TH9601001839A TH26380A TH 26380 A TH26380 A TH 26380A TH 9601001839 A TH9601001839 A TH 9601001839A TH 9601001839 A TH9601001839 A TH 9601001839A TH 26380 A TH26380 A TH 26380A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
hydrofluoric acid
ultra
semiconductor processing
site manufacture
purity hydrofluoric
Prior art date
Application number
TH9601001839A
Other languages
English (en)
Inventor
อาร์.สก็อต คลาร์ค นาย
โจจี. ฮอฟฟ์แมน นาย
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นาย ต่อพงศ์โทณะวณิก
นาย ดำเนินการเด่น
นาย วิรัชศรีเอนกราธา
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นาย ต่อพงศ์โทณะวณิก, นาย ดำเนินการเด่น, นาย วิรัชศรีเอนกราธา, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH26380A publication Critical patent/TH26380A/th

Links

Abstract

ระบบสำหรับการทำให้บริสุทธิ์และการผลิตของกรดไฮโดรฟลูออริค ณ.ตำแหน่งที่ใช้ในการผลิตอุปกรณ์สารกึ่ง ตัวนำ ขั้นตอนการระเหย (อาจจะเลือกให้มีการออกซิไดซ์สาร หนู) ตามด้วยคอลัมน์การกลั่นเพื่อขจัดสิ่งเจือปนอื่น ๆเกือบ ทั้งหมดคอลัมน์เครื่องทำให้บริสุทธิ์จากสารไอออนิคเพื่อขจัด สิ่งเจือปนที่ไม่ถูกออกโดยคอลัมน์ลำดับส่วน และสุดท้าย ตัวจ่าย HF (HFS)

Claims (1)

1. ระบบย่อย ณ. ที่ใช้ ในโรงงานผลิตอุปรณ์สารกึ่งตัวนำ เพื่อการให้รีเอเจนต์ที่มีความบริสุทธิ์ระดับอัลตราที่ประกอบ ด้วย HF ต่อการดำเนินการการผลิตสารกึ่งตัวนำ ที่ประกอบ ด้วย: แหล่งการระเหยที่ต่ออยู่เพื่อรองรับแหล่งของ Hf และ เพื่อให้กระแสไอ HF จากที่นั้น; กระแสไอ HF ที่กล่าวแล้วต่ออยู่เพื่อผ่านไปยังหน่วยเครื่อง ทำความสะอาดต่อไอออนิคซึ่งให้ปริมาตรการหมุนเวียนกลับของ น้ำที่มีความบริสุทธิ์สูง ที่มีความเข้มข้นสูงของ HF ที่สัมผัส กับกระแสไอ HF ที่กล่าวแล้ว ซึ่งเครื่องทำให้บริสุทธิ์ที่กล่าว แล้วแท็ก :
TH9601001839A 1996-06-05 On-site manufacture of ultra- high-purity hydrofluoric acid for semiconductor processing TH26380A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH26380A true TH26380A (th) 1997-08-28

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4341640A (en) Urea hydrolysis
JP2005506694A (ja) 中央二酸化炭素精製器
NO20050520L (no) Rensingav N,N-dimetylacetamdi
RU2001111007A (ru) Способ получения моноэтиленгликоля высокой чистоты
BR9913453A (pt) Purificação de 1,1,1,3,3-pentafluorbutano
SE503351C2 (sv) Förfarande för rening av sekundära kondensat vid indunstning av avlutar
JP3378578B2 (ja) 主に硝酸およびフッ化水素酸を含有する水溶液の処理方法
KR20010049629A (ko) 응축을 이용하는 pfc 회수 방법
TH26380A (th) On-site manufacture of ultra- high-purity hydrofluoric acid for semiconductor processing
MY132240A (en) On-site manufacture of ultra-high-purity hydrofluoric acid for semiconductor processing
JPH11506411A (ja) 電子部品製造の場合の使用現場でのアンモニアの精製
US6372022B1 (en) Ionic purifier
JPS6441784A (en) Method and device for manufacturing ultra-high purity oxygen from gaseous feed
US6395142B1 (en) Method and apparatus for purifying low grade acetonitrile and other constituents from hazardous waste
CN1014072B (zh) 再生含二氧化碳和氧硫化碳的吸收剂溶液流的方法
CN101070144B (zh) 一种去除三氟化氮气体中四氟化碳杂质的方法
DE59301088D1 (de) Verfahren zur Gewinnung von reiner, konzentrierter Salzsäure aus Abwasser.
JP2003146619A (ja) フッ化水素の回収方法
CN113603112B (zh) 电子级氨水制备用装置及其制备工艺
FR2835831B1 (fr) Procede de purification de l'acroleine
JPH06345410A (ja) 高純度塩酸の製造方法
JPH02160020A (ja) 高温ガスから二酸化硫黄および塩化水素を除去する方法
JP2955864B2 (ja) 高純度酸素の製造方法
SU763657A1 (ru) Способ очистки воздуха от примесей в воздухоразделительных установках
SU905191A1 (ru) Способ очистки окиси азота, используемой дл разделени изотопов кислорода ее ректификацией