TH30163A - วิธีการผ่านกระบวนการของซับสเตรท - Google Patents
วิธีการผ่านกระบวนการของซับสเตรทInfo
- Publication number
- TH30163A TH30163A TH9701001300A TH9701001300A TH30163A TH 30163 A TH30163 A TH 30163A TH 9701001300 A TH9701001300 A TH 9701001300A TH 9701001300 A TH9701001300 A TH 9701001300A TH 30163 A TH30163 A TH 30163A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- liquid
- substrate
- during
- unique
- processing method
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (02/07/40) ในระหว่างวิธีการแบบหนึ่งสำหรับการผ่านกระบวนการของซับสเตรท (1) ในของเหลว (2) ชนิดหนึ่ง ได้ผลของการทำให้ซับสเตรท (1) แห้งโดยจำเพาะอย่างยิ่งปราศจากส่วนที่เหลือ โดยได้ให้ ความร้อนแก่ผิวโค้งของเหลว (5) ของของเหลว (2) ที่เกิดขึ้นที่รอยต่อระหว่างพื้นผิวของซับสเตรทและ พื้นผิวของเหลวในระหว่างการดึงซับสเตรท (1) ออกจากของเหลว (2) ในระหว่างวิธีการแบบหนึ่งสำหรับการผ่านกระบวนการของซับสเตรท (1) ในของเหลว (2) ชนิดหนึ่ง ได้ผลของการทำให้ ซับสเตรท (1) แฟ้งโดยจำเพาะอย่างยิ่งปราศจากส่วนที่เหลือ โดยได้ให้ความร้อนแก่ผิวโค้งของเหลว (5) ของของเหลว (2) ที่เกิดขึ้นที่รอยต่อระหว่างพื้นผิวของซับสเตรทและพื้นผิว ของเหลวในระหว่างการดึงซับสเตรท (1) ออกจากของเหลว (2)
Claims (4)
1. วิธีการของการผ่านกระบวนการของซับสเตรท (1) ในของเหลวชนิดหนึ่ง (2) มีลักษณะเฉพาะตรงที่ในระหว่างการดึงซับสเตรท (1) ออกจากของเหลว (2) ได้ให้ความร้อนแก่ผิวโค้งของเหลว (meniscus) ซึ่งเกิดขึ้นที่รอยต่อระหว่างพื้นผิวของ ซับสเตรทและพื้นผิวของเหลว (4)
2. วิธีการตามข้อถือสิทธิ 1 มีลักษณะเฉพาะตรงที่ได้ฉาย รังสีแก่ผิวโค้งของเหลว (5)
3. วิธีการตามข้อถือสิทธิ 1 หรือ 2 มีลักษณะเฉพาะตรงที่ ได้โฟกัสการแผ่รังสีบนผิวโค้งของเหลว (5)
4. วิธีการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิที่มาก่อน มี ลักษณะเฉพาะตรงที่ได้กระทำการแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH30163A true TH30163A (th) | 1998-09-30 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| BR9710764A (pt) | Remo-Æo de material por radia-Æo aplicada a um ngulo obliquo | |
| DE59104977D1 (de) | Verfahren zum Biegen von plattenförmigen Werkstücken sowie Biegemaschine zur Durchführung des Verfahrens. | |
| KR100281027B1 (ko) | 기판 건조 방법 및 장치 | |
| TW357414B (en) | Method and apparatus for heat-treating substrates | |
| MY126419A (en) | Vapor drying system and method | |
| MY121934A (en) | Removal of material by polarized radiation and backside application of radiation | |
| DE59711766D1 (de) | Temperierblock mit temperiereinrichtungen | |
| EP0656082A1 (en) | METHOD FOR MICROSTRUCTURING SURFACES OR POLYMERIC SUBSTRATES BY LASER RADIATION. | |
| KR890008953A (ko) | 반도체 기판의 표면처리방법 | |
| DE69021658D1 (de) | Verfahren zum Wärmebehandeln von Metallen. | |
| TW368699B (en) | Manufacturing method for semiconductor device and manufacturing device for semiconductor | |
| DE69114877D1 (de) | Verfahren zum Entfernen einer Flüssigkeit von der Oberfläche eines Substrats in einer Schleuder. | |
| EP0641742A4 (en) | Method of producing pure water, system therefor and cleaning method. | |
| EP0728850A3 (en) | Reaction chamber with a quasi hot wall | |
| TH30163A (th) | วิธีการผ่านกระบวนการของซับสเตรท | |
| DE69940168D1 (de) | Verfahren zum Entschichten von Resistmaterial | |
| DK0398699T3 (da) | Fremgangsmåde til behandling af flydende materialer | |
| CA2219588A1 (en) | Method and apparatus for applying a decoration to an article using heat | |
| PL312222A1 (en) | Coating for perforated walls and coolant carrying pipes of heat exchangers | |
| GB2395771A (en) | Liquid heating apparatus | |
| EP0628994A3 (en) | Heat treatment method for semiconductor wafers. | |
| DE59705559D1 (de) | Vorrichtung zum behandeln von substraten in einem fluid-behälter | |
| DE59807266D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum trocknen von substraten | |
| JPH1131639A5 (th) | ||
| DE59306652D1 (de) | Verfahren zum Verlöten eines Halbleiterkörpers mit einem Trägerelement |