TH37429A3 - สารผสมขัดเงา - Google Patents
สารผสมขัดเงาInfo
- Publication number
- TH37429A3 TH37429A3 TH9901002049A TH9901002049A TH37429A3 TH 37429 A3 TH37429 A3 TH 37429A3 TH 9901002049 A TH9901002049 A TH 9901002049A TH 9901002049 A TH9901002049 A TH 9901002049A TH 37429 A3 TH37429 A3 TH 37429A3
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- oxide
- succinic
- abrasive
- dissolved
- hard disk
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 claims abstract 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims 1
Abstract
DC60 (22/10/42) สารผสมขัดเงาสำหรับฮาร์ดดิสก์ ที่เป็นหน่วยความจำ ซึ่ง ประกอบด้วย น้ำ และ สาร ขัดจำนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด ซึ่งถูกเลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วย อะลูมินัม ออกไซด์, ซิลิคอน ไดออกไซด์, ซีเรียม ออกไซด์, เซอร์โคเนียม ออกไซด์, ไทเทเนียม ออกไซด์, ซิลิคอน ไนไตรด์ และแมงกานีส ไดออกไซด์ และส่วนประกอบอื่นเพิ่มเติม คือ กรดซัคซินิก หรือเกลือของ ซัคซินิกที่ละลายในสารผสม สารผสมขัดเงาสำหรับฮาร์ดดิสก์ ที่เป็นหน่วยความจำ ซึ่ง ประกอบด้วย น้ำ และ สาร ขัดจำนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด ซึ่งถูกเลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วย อะลูมินัม ออกไซด์, ซิลิคอน ไดออกไซด์, ซีเรียม ออกไซด์, เซอร์โคเนียม ออกไซด์, ไทเทเนียม ออกไซด์, ซิลิคอน ไนไตรด์ และแมงกานีส ไดออกไซด์ และส่วนประกอบอื่นเพิ่มเติม คือ กรดซัคซินิก หรือเกลือของ ซัคซินิกที่ละลายในสารผสม
Claims (3)
1. สารผสมขัดเงาสำหรับฮาร์ดดิสก์ที่เป็นหน่วยความจำ ซึ่งประกอบด้วย น้ำ และ สารขัดจำนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด ซึ่งถูกเลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วย อะลูมินัม ออกไซด์, ซิลิคอน ไดออกไซด์, ซีเรียม ออกไซด์, เซอร์โคเนียม ออกไซด์, ไทเทเนียม ออกไซด์, ซิลิคอน ไน- ไตรด์ และแมงกานีส ไดออกไซด์ และส่วนประกอบอื่นเพิ่มเติม คือ กรดซัคซินิก หรือเกลือของซัค- ซินิกที่ละลายในสารผสม
2. สารผสมขัดเงาตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ซึ่งมีส่วนประกอบ อื่นเพิ่มติม คือ อะลูมินัม ไฮดรอกไซด์
3. สารผสมขแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH37429A3 true TH37429A3 (th) | 2000-02-28 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MY116322A (en) | Polishing composition | |
| MY116444A (en) | Polishing composition and method for producing a memory hard disk | |
| MY118462A (en) | Polishing composition | |
| MY124027A (en) | Polishing composition. | |
| CA2531372A1 (en) | Enhanced efficacy antiperspirant compositions containing strontium | |
| CA2210258A1 (en) | Substituted oxazolidine calpain and/or cathepsin b inhibitors | |
| CA2402431A1 (en) | 1,2,3,4-tetrahydroisoquinoline derivatives | |
| CA2698384A1 (en) | 3-pyridyl enantiomers and their use as analgesics | |
| CA2414018A1 (en) | 2-aminocarbonyl-9h-purine derivatives | |
| MY125962A (en) | Polishing composition and polishing method for polishing a substrate to be used for a memory hard disk employing it. | |
| CA2387956A1 (en) | Improved dual phase stannous oral compositions | |
| MY121483A (en) | Polishing composition and method for producing a memory hard disk. | |
| PT1166762E (pt) | Composicoes contendo agua mineral | |
| CA2361402A1 (en) | Bis-sulfonamides | |
| DE60233530D1 (de) | Verbindungen zur behandlung von haar-talgdrüsenentzündungen enthaltend aluminiumfluorid | |
| BR9808570A (pt) | Misturas sinérgicas de amino ácidos selecionados | |
| TH37429A3 (th) | สารผสมขัดเงา | |
| WO2003075834A3 (en) | Activated protein c formulations | |
| MY115934A (en) | Polishing composition and rinsing composition | |
| TH45459A3 (th) | สารผสมสำหรับการขัดเรียบและสารผสมสำหรับการชะล้าง | |
| RU97113614A (ru) | Состав для предотвращения карбонатных отложений | |
| WO1998031633A3 (de) | VERWENDUNG EINER CaCO3-HALTIGEN ZUSAMMENSETZUNG ALS ADDITIV FÜR MEERWASSER, WORIN MEERESTIERE AUFGEZOGEN ODER GEHALTEN WERDEN | |
| TH54015A (th) | สารผสมสำหรับขัดมันและวิธีการเพื่อการผลิตหน่วยความจำชนิดจานบันทึกแบบแข็ง | |
| JP2000327540A (ja) | キューティクルリフトアップ抑制剤 | |
| TH49253A (th) | สารผสมสำหรับการขัด |