TH51277A - - Google Patents

Abstract

DC60 อุปกรณ์สร้างไอออนที่สร้าง O2-(H2O)n (ที่ซึ่ง n เป็นจำนวนเต็มบวก) ให้เป็นไอออนลบ และ H+(H2O)m (ที่ซึ่ง m เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออนบวก และปล่อยไอออนเหล่านี้เข้าไปในอากาศ เพื่อว่าเชื่อโรคที่ลอยในอากาศจะถูกฆ่าโดยการทำปฏิกิริยาออกซิเดชั่น โดยไฮโดรเจน เปอร์ออกไซด์ H2O2 หรืออนุมูลไฮดรอกซิล OH ที่สร้างขึ้นให้เป็นแอลทีฟสปีซีส์ผ่านการทำปฏิกิริยาทางเคมีระหว่าง ไอออนลบและบวก การฆ่าเชื้อที่น่าพอใจจะบรรลุผลเมื่อไอออนลบและบวกถูกสร้างขึ้นในลักษณะที่ ความเข้มของไอออนลบและบวกทั้งคู่อยู่ที่ 10,000 ไอออน/ซีซี ที่ระยะห่าง 10 ซม. จากจุดที่ซึ่งมันถูก สร้างขึ้น อุปกรณ์สร้างไอออนที่สร้าง O2-(H2O)n (ที่ซึ่ง n เป็นจำนวนธรรมชาติ) ให้เป็นไอออนลบ และ H+(H2O)m (ที่ซึ่ง m เป็นจำนวนธรรมชาติ) เป็นไอออนบวก และปล่อยไอออนเหล่านี้เข้าไปในอากาศ เพื่อว่าเชื่อโรคที่ลอยในอากาศจะถูกฆ่าโดยการทำปฏิกิริยาออกซิเคชั่น โดยไฮโดรเจน เปอร์ออกไซด์ H2O2 หรืออนุมูลไฮดรอกซิล OH ที่สร้างขึ้นให้เป็นแอลทีฟสปีซีส์ผ่านการทำปฏิกิริยาทางเคมีระหว่าง ไอออนลบและบวก การฆ่าเชื้อที่น่าพอใจจะบรรลุผลเมื่อไอออนลบและบวกถูกสร้างขึ้นในลักษณะที่ ความเข้มของไอออนลบและบวกทั้งคู่อยู่ที่ 10,000 ไอออน/ซีซี ที่ระยะห่าง 10 ซม. จากจุดที่ซึ่งมันถูก สร้างขึ้น

Claims (3)

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา : 1. วิธีการฆ่าเชื้อสำหรับฆ่าเชื้อโรคที่ลอยอากาศ โดยการปล่อย O2-(H2H)n (ที่ซึ่ง n เป็น จำนวนเต็มบวก) เป็นไอออนลบ และ H+(H2O)m (ที่ซึ่ง m เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออนบวกเข้าไป ในอากาศ และฆ่าเชื้อโรคโดยปฏิกิริยาของไอออน 2. วิธีการฆ่าเชื้อสำหรับเชื้อโรคที่ลอยในอากาศ โดยการสร้าง O2-(H2O)n (ที่ซึ่ง n เป็น จำนวนเต็มบวก) ให้เป็นไอออนลบ H+(H2O)m (ที่ซึ่ง m เป็นจำนวนเต็มบวก) ให้เป็นไอออนบวก ปละปล่อยไอออนเหล่านี้เข้าไปในอากาศ และฆ่าเชื้อผ่านการทำปฏิกิริยาออกซิเดชั่น โดย ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ H2O2 หรืออนุมูลไฮดรอกซิล OH ที่สร้างขึ้นให้เป็นแอคทีฟสปีซีส์ผ่านการ ทำปฏิกิริยาทางเคมีระหว่างไอออนลบและบวก 3. วิธีการฆ่าเชื้อตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือข้อ 2 ที่ซึ่ง ความเข้มของไอออนลบ และไอออนบวทั้งคู่จะอยู่ที่ 10,000 ไอออน/ซีซี หรือสูงกว่าที่ระยะห่าง 10 ซม. จากจุดที่ซึ่งไอออนถูกสร้าง ขึ้น 4. อุปกรณ์สร้างไอออนสำหรับสร้าง O2(H2O)n (ที่ซึ่ง n เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออน ลบ และ H+(H2O)m (ที่ซึ่ง m เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออนบวกที่ซึ่งอุปกรณ์สร้างไอออนจะฆ่าเชื้อ โรคที่ลอยในอากาศโดยปฏิกิริยาของไอออน 5. อุปกรณ์สร้างไอออนสำหรับสร้าง O2(H2O)n (ที่ซึ่ง n เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออน ลบ และ H+(H2O)m (ที่ซึ่ง n เป็นจำนวนเต็มบวก) ที่เป็นไอออนบวก ในลักษณะที่ความเข้มของไอออน ลบและบวกทั้งคู่จะอยู่ที่ 10,000 ไอออน/ซีซี หรือสูงกว่าที่ระยะห่าง 10 ซม. จากจุดที่ซึ่งไอออนถูก สร้างขึ้น ที่ซึ่งอุปกรณ์สร้างไอออนจะฆ่าเชื้อโรคที่ลอยในอากาศโดยปฏิกิริยาของไอออน 6. อุปกรณ์สร้างไอออนสำหรับสร้าง O2(H2O)n(ที่ซึ่ง n เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออน ลบ และ H+ (H2O)n(ที่ซึ่ง n เป็นจำนวนเต็มบวก) ที่เป็นไอออนบวก โดยอุปกรณ์สร้างไอออนจะ ประกอบรวมด้วย ไดอิเล็กทริก, อิเล็กโทรดที่หนึ่ง และอิเล็กโทรดที่สอง โดยอิเล็กโทรดที่หนึ่งและที่ สองจะถูกจัดเรียงในลักษณะหันหน้าเข้าหากัน โดยมีไดอิเล็กทริกอยู่ระหว่างกลาง และอุปกรณ์สร้าง ไอออนจะสร้างไอออนโดยการใช้แรงดันกระแสสลับระหว่างอิเล็กโทรดที่หนึ่งและที่สอง 7. อุปกรณ์สร้างไอออนสำหรับสร้าง O2(H2O)n(ที่ซึ่ง n เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออน ลบ และ H-(H2O)m (ที่ซึ่ง m เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออนบวก ในลักษณะที่ความเข้มของไอออน ลบและบวกทั้งคู่อยู่ที่ 10,000 ไอออน/ซีซี หรือสูงกว่าที่ระยะห่าง 10 ซม. จากจุดที่ซึ่งไอออนถูกสร้างขึ้น โดยอุปกรณ์สร้างไอออนประกอบรวมด้วยไดอิเล็กทริก อิเล็กโทรตที่หนึ่งและอิเล็กโทรตที่สอง โดย อิเล็กโทรดที่หนึ่งและอิเล็กโทรดที่สองจะถูกจัดวางหันหน้าเข้าหากัน โดยมีไดอิเล็กทริกอยู่ ระหว่างกลาง และอุปกรณ์สร้างไอออนจะสร้างไอออนขึ้นโดยการใช้แรงดันกระแสสลับระหว่าง อิเล็กโทรดที่หนึ่งและที่สอง 8. อุปกรณ์สร้างไอออนสำหรับสร้าง O2-(H2O)n (ที่ซึ่ง n เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออน ลบ และ H+(H2O)m (ที่ซึ่ง m เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออนบวก โดยอุปกรณ์สร้างไอออนจะ ประกอบด้วยไดอิเล็กทริก อิเล็กโทรดที่หนึ่งและอิเล็กโทรดที่สอง โดยอิเล็กโทรตที่หนึ่งและที่ สองจะถูกจัดวางในลักษณะหันหน้าเข้าหากัน โดยมีไดอิเล็กทริกอยู่ระหว่างกลาง และอุปกรณ์สร้าง ไอออนจะสร้างไอออนขึ้นโดยการใช้แรงดันกระแสสลับ 2.0 kV rms หรือต่ำกว่า ระหว่างอิเล็กโทรด ที่หนึ่งและที่สอง 9. อุปกรณ์สร้างไอออนสำหรับสร้าง O2-(H2O)n (ที่ซึ่ง n เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออน ลบ และ H+(H2O)m (ที่ซึ่ง m เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออนบวก ในลักษณะที่ความเข้มของไอออน ลบและบวกทั้งคู่อยู่ที่ 10,000 ไอออน/ซีซี หรือสูงกว่าที่ระยะห่าง 10 ซม. จากจุดที่ซึ่งไอออนถูกสร้างขึ้น โดยอุปกรณ์สร้างไอออนประกอบรวมด้วยไดอิเล็กทริก อิเล็กโทรดที่หนึ่ง และอิเล็กโทรตที่สอง โดยอิเล็กโทรดที่หนึ่งและอิเล็กโทรดที่สองจะถูกจัดวางในลักษณะหันหน้าเข้าหากัน โดยมีไดอิเล็ก ทริกอยู่ระหว่างกลาง และอุปกรณ์สร้างไอออนจะสร้างไอออนขึ้นโดยการใช้แรงดันกระแสสลับ 2.0 kV rms หรือต่ำกว่าระหว่างอิเล็กโทรดที่หนึ่งและที่สอง 1 0. อุปกรณ์สร้างไอออนสำหรับสร้าง O2-(H2O)n (ที่ซึ่ง n เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออน ลบ และ H+(H2O)m (ที่ซึ่ง m เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออนบวก อุปกรณ์สร้างไอออนจะประกอบ รวมด้วยไดอิเล็กทริกที่มีรูปทรงกระบอก อิเล็กโทรดด้านในจะถูกขึ้นรูปเป็นตะแกรง และอิเล็กโทรด ด้านนอกจะถูกขึ้นรูปเป็นตะแกรง โดยอิเล็กโทรดด้านในและด้านนอกจะถูกจัดวางในลักษณะหัน หน้าเข้าหากัน โดยมีไดอิเล็กทริกอยู่ระหว่างกลาง โดยอุปกรณ์สร้างไอออนจะสร้างไอออนโดยการใช้ แรงดันกระแสสัลบระหว่างอิเล็กโทรดด้านในและด้านนอก 1 1. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 10 ที่ซึ่ง แรงดันกระแสสลับจะเท่ากับ 2.0 kV rms หรือต่ำกว่า 1 2. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 10 ที่ซึ่ง ความเข้มของไอออนลบและ บวกทั้งคู่อยู่ที่ 10,000 ไอออน/ซีซี หรือสูงกว่าที่ระยะกว่า 10 ซม. จากจุดซึ่งไอออนถูกสร้างขึ้น 1 3. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 10 ที่ซึ่ง อิเล็กโทรดด้านในถูกขึ้นรูป เป็นทรงกระบอก โดนการม้วนวัสดุของมันในลักษณะที่เมื่ออิเล็กโทรดด้านในถ฿กติดตลอดผิวหน้า ด้านในของไดอิเล็กทริกรูปทรงกระบอกแล้ว ขอบด้านตรงข้ามของวัสดุที่ม้วนจะซ้อนทับกัน 1 4. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 10 ที่ซึ่ง อิเล็กโทรดด้านในจะมีความ ละเอียดกว่าอิเล็กโทรดด้านนอก 1 5. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 10 ที่ซึ่ง ไดอิเล็กทริกจะหยุดที่ปลาย ทั้งสองด้าน ที่มีชิ้นส่วนที่เป็นยางอิลาสติก เพื่อว่าอิเล็กโทรดด้านในและด้านนอกจะไม่เคลื่อนตัว สัมพันธ์กันตลอดแกนของไดอิเล็กทริก 1 6. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 15 ที่ซึ่ง ชิ้นส่วนที่เป็นยางอิลาสติก จำทำด้วยยางเอทิลีน - โพรพิลีน 1 7. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 10 ที่ซึ่งเมื่อสายเชื่อมต่อที่ต่อกับ อิเล็กโทรดด้านในและด้านนอกใช้ลวดเหล็กไร้สนิมที่เคลือบด้วยโพลิเอทิลีน ฟลูออไรด์เรซิน 1 8. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 10 ที่ซึ่งอิเล็กโทรดด้านในหรือด้าน นอกจะมีวิถีทางสำหรับปรับปรุงการสัมผัสของมันกับไดอิเล็กทริก 1 9. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 10 ที่ซึ่ง พื้นผิวของไดอิเล็กทริกจะ ถูกแทรกซึมด้วยตัวเร่งปฏิกิริยาเพื่อส่งเสริมการแตกตัวของโอโซน 2 0. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 10 ที่ซึ่ง อิเล็กโทรดด้านในหรือด้าน นอกจะถูกแทรกซึมด้วยตัวเร่งปฏิกิริยาเพื่อส่งเสริมการแตกตัวของโอโซน 2 1. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 10 ที่ซึ่งชิ้นส่วนที่ถูกแทรกซึมด้วย ตัวเร่งปฏิกิริยาการแตกตัวของโอโซน ซึ่งถูกแทรกซึมด้วยตัวเร่งปฏิกิริยาเพื่อส่งเสริมการแตกตัวของ โอโซน จะมีอยู่ที่ระยะห่างจากไดอิเล็กทริก 2 2. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 21 ที่ซึ่ง แรงดันกระแสสลับจะเท่ากับ 2.5 kV rms หรือต่ำกว่า 2 3. อุปกรณ์สร้างไอออนสำหรับสร้าง O2 (H2O)n (ที่ซึ่ง n เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออน ลบ และ H+ (H2O)m (ที่ซึ่ง m เป็นจำนวนเต็มบวก) เป็นไอออนบวก ซึ่งอุปกรณ์สร้างไอออนจะ ประกอบรวมด้วยไดอิเล็กทริกที่เป็นรูปทรงกระบอก อิเล็กโทรดด้านในจะถูกขึ้นรูปเป็นแผ่น และ อิเล็กโทรดด้านนอกจะถูกขึ้นรูปเป็นตะแกรง โดยอิเล็กโทรดด้านในและด้านนอกจะถูกจัดวางใน ลักษณะหันหน้าเข้าหากัน โดยมีไดอิเล็กทริกอยู่ระหว่างกลาง โดยอุปกรณ์สร้างไอออนจะสร้าง ไอออนขึ้นโดยการใช้แรงดันกระแสสลับระหว่างอิเล็กโทรดด้านในและด้านนอก 2 4. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่ง แรงดันกระแสสลับจะเท่ากับ 2.0 kV rms หรือต่ำกว่า 2 5. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่ง ความเข้มของไอออนลบและ บวดทั้งคู่อยู่ที่ 10.000 ไอออน/ซีซี หรือสูงกว่าที่ระยะห่าง 10 ซม. จากจุดซึ่งไอออนถูกสร้างซึ่ง 2 6. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่ง อิเล็กโทรดด้านในจะถูกขึ้น รูปเป็นทรงกระบอก โดยม้วนวัสดุของมันในลักษณะที่เมื่ออิเล็กโทรดด้านในถูกติดตลอดผิวหน้าด้าน ในของไออิเล็กทริกรูปทรงกระบอกแล้ว ขอบด้านตรงกันข้ามของวัสดุที่ถูกม้วนจะซ้อนทับกัน 2 7. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่ง ไดอิเล็กทริกจะหยุดอยู่ที่ ปลายทั้งสองด้านที่มีชิ้นส่วนที่เป็นยางอิลาสติก เพื่อว่าอิเล็กโทรดด้านในและด้านนอกไม่เคลื่อนตัว สัมพันธ์กันตลอดแกนของไดอิเล็กทริก 2 8. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 27 ที่ซึ่ง ชิ้นส่วนที่เป็นยางอิลาสติก จะทำด้วยยางเอทิลีน-โพรพิลีน 2 9. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่ง เมื่อสายเชื่อมต่อที่ถูกต่อกับ อิเล็กโทรดด้านในและด้านนอก จะใช้ลวดเหล็กไร้สนิมที่เคลือบด้วยโพลิเอทิลีน ฟลูออโรด์เรซิน 3 0. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 29 ที่ซึ่ง อิเล็กโทรดด้านในจะมีความ หนาที่อย่างน้อยเพียงพอต่อการให้สายเชื่อมต่อสายหนึ่งถูกเชื่อมยึดได้ 3 1. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่ง อิเล็กโทรดด้านในหรือด้าน นอกจะมีวิถีทางสำหรับปรับปรุงการสัมผัสของมันกับไดอิเล็กทริก 3 2. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่ง ผิวหน้าของไดอิเล็กทริกจะ ถูกแทรกซึมด้วยตัวเร่งปฏิกิริยาสำหรับส่งเสริมการแตกตัวของโอโซน 3 3. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่ง อิเล็กโทรดด้านในหรือด้าน นอกจะถูกแทรกซึมด้วยตัวเร่งปฏิกิริยา เพื่อส่งเสริมการแตกตัวของโอโซน 3 4. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่ง ชิ้นส่วนที่ถูกแทรกซึมด้วย ตัวเร่งปฏิกิริยาการแตกตัวของโอโซน จะมีระยะห่างจากไดอิเล็กทริก 3 5. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 34 ที่ซึ่ง แรงดันกระแสสลับจะเท่ากับ 2.5 kV rms หรือต่ำกว่า 3 6. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่ง อิเล็กโทรดด้านนอกจะมี ความยาวในแนวแกนมากกว่าอิเล็กโทรดด้านใน 3 7. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่ง อิเล็กโทรดด้านในจะถูกขึ้น รูปเป็นแผ่นที่มีหลายเหลี่ยม ที่มีมุมจำนวนหนึ่ง 3 8. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่ง อิเล็กโทรดด้านในจะถูกขึ้น รูปเป็นทรงกระบอก โดยการม้วนแผ่นที่มีหลายเหลี่ยมในลักษณะที่มุมหนึ่งเป็นอย่างน้อยที่สุดจะยื่น ออกมาจากปลายหนึ่งของรูปทรงกระบอกนั้น 3 9. อุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 23 ที่ซึ่ง อิเล็กโทรดด้านในจะมีรู จำนวนหนึ่งที่ถูกขึ้นรูปในนั้น และมีส่วนยื่นออกมาที่อยู่รอบรูดังกล่าว เพื่อที่จะยื่นไปทางไดอิเล็กทริก 4 0. อุปกรณ์สร้างไอออน ซึ่งประกอบรวมด้วยอุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือ สิทธิข้อ 4 ถึงข้อ 39 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งประกอบรวมต่อไปด้วย แหล่งแรงดันกระแสสลับสูง เพื่อป้อนแรงดันกระแสสลับไปยังอุปกรณ์สร้างไอออน ซึ่ง อุปกรณ์สร้างไอออนจะสร้างไอออนลบและบวก และ ตัวเป่าลมเพื่อบังคับการไหลของไอออนลบและบวกที่สร้างขึ้นโดยอุปกรณ์สร้างไอออน 4

1. เครื่องปรับอากาศ ซึ่งประกอบรวมด้วยอุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิ ข้อ 4 ถึงข้อ 39 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งประกอบรวมต่อไปด้วย แหล่งแรงดันกระแสสลับสูงสำหรับป้อนแรงดันกระแสสลับไปยังอุปกรณ์สร้างไอออน ซึ่งอุปกรณ์สร้างไอออนจะสร้างไอออนลบและบวก ตัวเป่าลมเพื่อให้บังคับการไหลของไอออนลบและบวก ที่สร้างขึ้นโดยอุปกรณ์สร้าง ไอออน ทางเข้า ซึ่งอากาศจะถูกดูดเข้าไป และ ทางออก ซึ่งโดยการทำงานของตัวเป่าลม ไอออนลบและบวกที่สร้างขึ้นโดยอุปกรณ์ สร้างไอออนจะถูกเป่าออกไปพร้อมกับอากาศที่ดูดเข้ามาผ่านทางเข้า 4

2. เครื่องปรับอากาศ ซึ่งประกอบรวมด้วยอุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิ ข้อ 4 ถึงข้อ 39 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งประกอบรวมต่อไปด้วย แหล่งแรงดันกระแสสลับสูงสำหรับป้อนแรงดันกระแสสลับไปยังอุปกรณ์สร้างไอออน ซึ่งอุปกรณ์สร้างไอออนจะสร้างไอออนลบและบวก ตัวเป่าลมเพื่อให้บังคับการไหลของไอออนลบและบวกที่สร้างขึ้นโดยอุปกรณ์สร้าง ไอออน ทางเข้า ซึ่งอากาศจะถูกดูดเข้าไป ทางออก ซึ่งโดยการทำงานของตัวเป่าลม ไอออลบและบวกที่สร้างขึ้นโดยอุปกรณ์ สร้างไอออนจะถูกเป่าออกไปพร้อมกับอากาศที่ดูดเข้าผ่านทางเข้า และ ตัวกรองที่ติดตั้งอยู่ในทางไหลของลมที่ต่อจากทางเข้าไปยังทางออก เพื่อขจัดอนุภาค แปลกปลอมออกจากอากาศ 4

3. เครื่องปรับอากาศ ซึ่งประกอบรวมด้วยอุปกรณ์สร้างไอออนตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิ ข้อ 4 ถึงข้อ 39 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งประกอบรวมต่อไปด้วย แหล่งแรงดันกระแสสลับสูงสำหรับป้อนแรงดันกระแสสลับไปยังอุปกรณ์สร้างไอออน ซึ่งอุปกรณ์สร้างไอออนจะสร้างไอออนลบและบวก ตัวเป่าลมเพื่อให้บังคับการไหลของไอออนลบและบวกที่สร้างขึ้นโดยอุปกรณ์สร้าง ไอออน ทางเข้า ซึ่งอากาศจะถูกดูดเข้าไป ทางออก ซึ่งโดยการทำงานของตัวเป่าลม ไอออนลบและบวกที่สร้างขึ้นโดยอุปกรณ์ สร้างไอออนจะถูกเป่าออกไปพร้อมกับอากาศที่ดูดเข้าผ่านทางเข้า ตัวกรองที่ติดตั้งอยู่ในทางไหลของลมที่ต่อจากทางเข้าไปสู่ทางออก เพื่อขจัดอนุภาค แปลงปลอมออกจากอากาศ และ เครื่องแลกเปลี่ยนความร้อนที่ติดตั้งอยู่ในทางผ่านของลม