Claims (27)
1. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรฟิลิคชนิดมีประจุลบ ซึ่งคุณลักษณะนั้นมันคือ โคโพลิเมอร์โพลิซัคคาไรด์ จัดเรียงตัวแบบกราฟต์ ที่มีหมู่แทนที่ชนิดมีประจุลบ กับโมโนเมอร์ไม่อิ่มตัวเอทธิ ลีน, โคโพลี- เมอร์ที่มีโพลิซัคคาไรต์แบ็คโบน นำพาหมู่โพลิเ มอร์ไวนิลไฮโดรโฟบิค ที่ถูกกราฟต์ที่ได้รับจาก โมโนเมอร์ไม่ อิ่มตัวเอทธิลีน, และหมู่แทนที่ชนิดมีประจุลบ1. Anionic hydrophilic polysaccharide, characterized as a grafted polysaccharide copolymer with anionic substituents and an unsaturated ethylene monomer; a copolymer with a polysaccharide backbone carrying a grafted vinyl hydrophobic polymer group derived from the unsaturated ethylene monomer, and anionic substituents.
2. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมีประจุลบ ตามข้อถือสิทธิ 1, ซึ่งในลักษณะดังกล่าว หมู่แทนที่ ชนิดมีประจุลบคือ ถูก คัดเลือกจากหมู่ ซึ่งครอบคลุมหมู่หัวซัลโฟเนต หรือคาร์บอก ซิเลต2. Anionic hydrophobic polysaccharides, according to claim 1, in which the anionic substituents are selected from groups encompassing sulfonate or carboxylate heads.
3. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมีประจุลบ, ซึ่งอยู่ใน ลักษณะ โดยสูตรทั่วไป I (สูตรเคมี) ในที่นี้ R คือ โพลิเมอร์ไวนิลไฮโดรโฟบิค, R' และ R'', ซึ่ง อาจจะเหมือนกัน หรือไม่เหมือน กัน, แทนหมู่ซึ่งครอบคลุมกรด คาร์บอกซีลิค หรือหมู่หัวกรดซัลโฟนิค หรือเกลือของมัน และ G คือ โมโนซัคคาไรด์ หรือโมโนซัคคาไรด์ถูกแทนที่3. Anionic hydrophobic polysaccharides, which are of the nature of having the general formula I (chemical formula), where R is the hydrophobic vinyl polymer, R' and R'', which may be the same or different, represent the carboxylic acid group or the sulfonic acid group or its salt, and G is the monosaccharide or the substituted monosaccharide.
4. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิค, ชนิดมีประจุลบ ตามข้อถือสิทธิ 3, ในลักษณะนั้น R1' และ R", ซึ่งอาจจะเหมือนกัน หรือไม่ เหมือนกัน, คือ โพลิเมอร์อิคไวนิลซัลโฟเนต ที่ถูกคัดเลือก จาก -(CH2-CHSO3H)n และ -(CH2-CHSO3M+)n ในที่นี้ M คือ โลหะอัลคาไล หรือโลหะอัล- คาลีนเอิร์ธ และ n มีค่าจาก 5 ถึง 1004. Hydrophobic, anionic polysaccharides, according to claim 3, in that manner R1' and R", which may or may not be the same, are selectively chosen ykyvinylsulfonated polymers from -(CH2-CHSO3H)n and -(CH2-CHSO3M+)n, where M is an alkali metal or alkali earth metal and n has a value from 5 to 100.
5. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมี่ประจุลบ ตามข้อถือสิทธิ 3, ซึ่งในลักษณะนั้น R' และ R'', ซึ่งอาจจะเหมือนกัน หรือไม่เหมือนกัน, คือ ถูกคัดเลือกจาก -R3-COOH และ -R3-COOM+, ใน ที่นี้ R3 คือ หมู่อัลคีลีน C1 ถึง C4 และ M คือ โลหะอัคลาไล หรือโลหะอัลคา ลีนเอิร์ธ5. Anionic hydrophobic polysaccharides according to claim 3, in which manner R' and R'', which may or may not be the same, are selected from -R3-COOH and -R3-COOM+, where R3 is an alkylene group C1 to C4 and M is an alkali metal or alkaline earth metal.
6. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมี่ประจุลบ ตามข้อถือสิทธิ 3, ซึ่งในลักษณะนั้น R' = R " = -CH2-COOH หรือเกลือโลหะของ มัน6. Anionic hydrophobic polysaccharides according to claim 3, in which case R' = R" = -CH2-COOH or their metal salts.
7. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมีประจุลบตามข้อถือสิทธิข้อ ใดข้อหนึ่งก่อนหน้านี้, ในลักษณะ นั้น ปริมาณของโพลิเมอร์ไว นิลไฮโดรโฟบิคคือ 0.1-10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักของโพลิซัค คา- ไรด์7. Anionic hydrophobic polysaccharides pursuant to one of the preceding claims, in which case the amount of hydrophobic vinyl polymer is 0.1-10 percent by weight of the polysaccharide.
8. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมีประจุลบ ตามข้อถือสิทธิ ข้อ 7, ซึ่งในลักษณะนั้น ปริมาณของ โพลิเมอร์ไวนิลไฮโดรโฟบิคคือ 1-15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักของโพลิซัคคาไรด์8. Anionic hydrophobic polysaccharides, pursuant to claim clause 7, in which case the amount of hydrophobic vinyl polymer is 1-15 percent by weight of the polysaccharide.
9. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมีประจุลบ ตามข้อถือสิทธิ ข้อใดข้อหนึ่งก่อนหน้านี้, ซึ่งใน ลักษณะนั้น ปริมาณของหมู่แทน ที่ชนิดมีประจุลบคือ โพลิซัคคาไรด์จาก 0.1-10 เปอร์เซ็นต์ โดย น้ำหนักของโพลิซัคคาไรด์9. Anionic hydrophobic polysaccharides, according to one of the preceding claims, in which case the amount of anionic substituent group is 0.1-10 percent by weight of the polysaccharide.
10. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมีประจุลบ ตามข้อถือสิทธิ ข้อ 9, ซึ่งในลักษณะดังกล่าว ปริมาณ ของหมู่แทนที่ชนิดมี ประจุลบคือ 0.1-5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักของโพลิซัคคาไรด์10. Anionic hydrophobic polysaccharides, as per claim 9, in which the amount of anionic substituents is 0.1-5 percent by weight of the polysaccharide.
11. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมีประจุลบ ตามข้อถือสิทธิ ข้อใดข้อหนึ่งก่อนหน้านี้, ซึ่งใน ลักษณะดังกล่าว โพลิเมอร์ ไวนิลไฮโดรโฟบิคมีน้ำหนักโมเลกุลจาก 500 ถึง 5,000,00011. Anionic hydrophobic polysaccharides, according to one of the preceding claims, in which such characteristics the vinyl hydrophobic polymer has a molecular weight from 500 to 5,000,000.
12. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมีประจุลบ ตามข้อถือสิทธิ 11, ซึ่งในลักษณะนั้น, โพลิเมอร์ ไวนิลไฮโดรโฟบิค มีน้ำหนัก โมเลกุลจาก 2000 ถึง 500,00012. Anionic hydrophobic polysaccharides, according to claim 11, in which case, hydrophobic vinyl polymers have molecular weights from 2000 to 500,000.
13. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมีประจุลบ ตามข้อถือสิทธิ 12, ซึ่งในลักษณะนั้น, โพลิเมอร์ ไวนิลไฮโดรโฟบิค มีน้ำหนัก โมเลกุลจาก 5000 ถึง 100,00013. Anionic hydrophobic polysaccharides, according to claim 12, in which case, hydrophobic vinyl polymers have molecular weights from 5000 to 100,000.
14. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมีประจุลบ ตามข้อถือสิทธิ ข้อ 3 ถึงข้อ 13 ข้อใดข้อหนึ่ง, ซึ่ง ในลักษณะนั้น R คือ อะครัยลิคโพลิเมอร์, ที่มีสูตร II (สูตรเคมี) ในที่นี้ R1 และ R1' อาจจะเหมือนกัน หรือไม่เหมือนกัน และแทน -H, -CH3, -C2H5, และในที่นี้ R2 และ R2 อาจจะเหมือนกัน หรือไม่เหมือนกัน และแทน -COOCH3,-COOC2H5,-COOC3H714. Anionic hydrophobic polysaccharide, according to any one of claims 3 through 13, in which R is an acrylic polymer, having formula II (chemical formula), here R1 and R1' may be the same or different and represent -H, -CH3, -C2H5, and here R2 and R2 may be the same or different and represent -COOCH3,-COOC2H5,-COOC3H7.
15. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมีประจุลบ ตามข้อถือสิทธิ 14 , ซึ่งในลักษณะดังกล่าวนั้น R1 = R1' = H และ R2 = R2' = -COOCH315. Anionic hydrophobic polysaccharide, according to claim 14, in which case R1 = R1' = H and R2 = R2' = -COOCH3.
16. โพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมีประจุลบ ตามข้อถือสิทธิ ข้อใดข้อหนึ่งก่อนหน้านี้, ซึ่งใน ลักษณะนั้น โพลิซัคคา ไรด์คือ ถูกคัดเลือกจาก สทาร์ช, สทาร์ชผ่านการดัดแปลง, เซลลูโลส, กัวร์ กัม, และทามารินด์กัม16. Anionic hydrophobic polysaccharides, according to one of the preceding claims, in which manner the polysaccharide is selected from starch, modified starch, cellulose, guar gum, and tamarind gum.
17. โพลิซัคคาไรด์ไฮไดรโฟบิคชนิดมีประจุลบ ตามข้อถือสิทธิ 16, ซึ่งในลักษณะดังกล่าวนั้น โพลิซัคคาไรด์คือ สทาร์ช17. Anionically charged hydrophobic polysaccharide, according to claim 16, in which such polysaccharide is starch.
18. กรรมวิธีสำหรับการเตรียมโพลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมี ประจุลบ ตามข้อถือสิทธิ 1 ถึง 17 ข้อใดข้อหนึ่ง, ซึ่งใน ลักษณะดังกล่าวนั้น มันประกอบด้วยโคโพลิเมอไรเซชั่นแบบจัด เรียงตัว แบบกราฟต์ และการดัดแปลงแก้ไขประจุลบของโพลิซัคคา ไรด์18. A procedure for the preparation of any one of the following anionic hydrophobic polysaccharides under Reservations 1 through 17, in which it involves arranging copolymerization, grafting, and anionic modification of the polysaccharide.
19. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 18, ซึ่งในคุณลักษณะนั้น มัน ประกอบด้วย โคโพลิเมอไรเซชั่นจัดเรียง ตัวแบบกราฟต์ของโพ ลิซัคคาไรด์ หรือโพลิซัคคาไรด์ที่ผ่านการดัดแปลงด้วยการใช้ สารตั้งต้น ปฏิกิริยารีดอกช์ (redox)19. The procedure under claim 18, which in that characteristic consists of the arrangement copolymerization of a grafted polysaccharide or a polysaccharide modified by the use of a redox reactant.
20. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 19, ซึ่งในลักษณะนั้น มัน ประกอบด้วย โคโพลิเมอไรเซชั่นจัดเรียงตัว แบบกราฟต์ของโพ ลิซัคคาไรด์ หรือโพลิซัคคาไรด์ ผ่านการดัดแปลงประจุลบ ด้วย การใช้ แอมโมเนียมซัลเฟตธาตุเหล็ก และไฮโดรเจนเพอร์ออกไซด์ เป็นสารตั้งต้นปฏิกิริยารีดอกซ์20. The procedure under claim 19, which in that manner consists of graft copolymerization of polysaccharides or anionically modified polysaccharides using iron ammonium sulfate and hydrogen peroxide as redox reactants.
21. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 18 ถึง 20 ข้อใดข้อหนึ่ง, ซึ่งในคุณลักษณะนั้น มันประกอบด้วย การ ดัดแปลงแก้ไขประจุลบ ของโพลิซัคคาไรด์ หรือโพลิซัคคาไรด์ ที่ผ่านการโคโพลิเมอร์ จัดเรียง ตัวแบบกราฟต์ ด้วยการใช้กรดฮาโลคาร์บอกซีลิค หรือ เกลือของมัน หรือของผสมของมัน21. Any of the processes under claims 18 through 20, in which such characteristic involves the modification of the anionic charge of a polysaccharide or a grafted copolymerized polysaccharide using a halocarboxylic acid or its salts or a mixture thereof.
22. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 21, ในลักษณะนั้น กรดฮาโลคาร์ บอกซีลิคคือ กรดคลอโรอะซีติค22. The procedure under claim 21, in that manner, halocarboxylic acid is chloroacetic acid.
23. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 18 ถึง 20 ข้อใดข้อหนึ่ง, ในลักษณะนั้น มันประกอบด้วย รูปแบบ การดัดแปลงแก้ไขโพลิซัค คาไรด์ชนิดมีประจุลบ หรือโพลิซัคคาไรด์ผ่านปฏิกิริยาโคโพ ลิเมอ- ไรเซชั่นจัดเรียงตัวแบบกราฟต์ ด้วยการใช้กรดไว นิลซัลโฟนิค หรือเกลือของมัน หรือของผสม ของมัน23. Any of the processes under claims 18 through 20, in that manner, involve the formulation or modification of anionic polysaccharides or graft copolymerization polysaccharides using vinylsulfonic acid or its salts or a mixture thereof.
24. องค์ประกอบของผลิตภัณฑ์ดูแลรักษาสิ่งทอประกอบด้วย สาร ดูแลรักษาสิ่งทอ, ในลักษณะนั้น มันเพิ่มเติมประกอบด้วย โพ ลิซัคคาไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมีประจุลบ ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 17 ข้อใดข้อหนึ่ง จาก 0.01 ถึง 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำ หนัก24. The composition of the textile care product includes textile care agents, in such a way it is further composed of anionic hydrophobic polysaccharides, in accordance with one of the claims 1 through 17, from 0.01 to 10 percent by weight.
25. องค์ประกอบของผลิตภัณฑ์สารซักฟอกประกอบด้วย สารลดแรง ตึงผิวออกฤทธิ์เป็นสารซัก ฟอก จาก 5 ถึง 60 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนัก, ในลักษณะนั้น มันเพิ่มเติมประกอบด้วย โพลิซัคคา- ไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมีประจุลบ ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่ง จาก 0.01 ถึง 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก25. The composition of detergent products contains active surfactants as detergents from 5 to 60 percent by weight; in that respect, it is additionally composed of anionic hydrophobic polysaccharides, in accordance with any one of claims 1 to 7, from 0.01 to 10 percent by weight.
26. องค์ประกอบของผลิตภัณฑ์สารซักฟอกตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ในลักษณะนั้น มันสร้าง องค์ประกอบของผลิตภัณฑ์สารซักฟอก ประกอบด้วย สารลดแรงตึงผิวออกฤทธิ์เป็นสารซัก ฟอก จาก 5 ถึง 40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, และสารซักฟอกบิลเตอร์จาก 5 ถึง 80 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก26. The composition of the detergent product according to claim 25 in such a manner constitutes a detergent product containing active surfactants from 5 to 40 percent by weight, and detergent builders from 5 to 80 percent by weight.
27. องค์ประกอบของผลิตภัณฑ์สารซักฟอก ตามข้อถือสิทธิ 25 หรือข้อถือสิทธิ 26, ในลักษณะนั้น มันประกอบด้วย โพลิซัคคา ไรด์ไฮโดรโฟบิคชนิดมีประจุลบ จาก 0.5 ถึง 5 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนักสอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 17 ข้อใดข้อหนึ่ง27. The composition of the detergent product, according to claim 25 or claim 26, shall consist of 0.5 to 5 percent by weight of anionic hydrophobic polysaccharides in accordance with one of claims 1 to 17.