TH60288A - การฉาบโลหะแบบใช้อิเล็กโทรไลท์โดยตรงบนซับสเทรทที่ไม่นำไฟฟ้า - Google Patents
การฉาบโลหะแบบใช้อิเล็กโทรไลท์โดยตรงบนซับสเทรทที่ไม่นำไฟฟ้าInfo
- Publication number
- TH60288A TH60288A TH201001773A TH0201001773A TH60288A TH 60288 A TH60288 A TH 60288A TH 201001773 A TH201001773 A TH 201001773A TH 0201001773 A TH0201001773 A TH 0201001773A TH 60288 A TH60288 A TH 60288A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- acid
- solution
- emulsion
- sulfonic acid
- group
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract 7
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 title claims abstract 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 18
- 239000004530 micro-emulsion Substances 0.000 claims abstract 9
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Divinylene sulfide Natural products C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 7
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract 5
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims abstract 5
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 claims abstract 5
- AFAXGSQYZLGZPG-UHFFFAOYSA-N ethanedisulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCS(O)(=O)=O AFAXGSQYZLGZPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- NUIWRMGOBPOIOY-UHFFFAOYSA-N ethanesulfonic acid;methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O.CCS(O)(=O)=O NUIWRMGOBPOIOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract 3
- -1 thiophene compound Chemical class 0.000 claims abstract 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- RFSKGCVUDQRZSD-UHFFFAOYSA-N 3-methoxythiophene Chemical compound COC=1C=CSC=1 RFSKGCVUDQRZSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L Phosphate ion(2-) Chemical compound OP([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims 1
- QVLTXCYWHPZMCA-UHFFFAOYSA-N po4-po4 Chemical compound OP(O)(O)=O.OP(O)(O)=O QVLTXCYWHPZMCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 claims 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 abstract 2
Abstract
DC60 (19/07/45) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวิธีการสำหรับการฉาบโลหะแบบใช้อิเล็กโทรไลท์โดยตรงบน พื้นผิวซับสเทรทที่ไม่นำไฟฟ้าซึ่ง ประกอบรวมด้วยการนำพื้นผิวซับสเทรทนี้สัมผัสกับพอลิเมอร์ ที่ ละลายน้ำได้ การปฏิบัติกับพื้นผิวซับสเทรทนี้ด้วยสารละ ลายเปอร์แมงกาเนท การปฏิบัติกับพื้นผิว ซับสเทรทนี้ด้วยสารละลาย แอคเควียสชนิดกรดหรือไมโครอิมัลชันชนิดกรดของเบสที่เป็นแอค เควียส ซึ่งมีสารประกอบไธโอฟีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดและ กรดแอลเคนซัลโฟนิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดที่คัดเลือกจาก กลุ่มซึ่งประกอบรวมด้วยกรดมีเธนซัลโฟนิก กรดอีเธนซัลโฟนิก และกรดอีเธน ไดซัลโฟนิก การฉาบโลหะพื้นผิวซับสเทรทนี้ใน เชิงใช้อิเล็กโทรไลท์ การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวิธีการสำหรับการฉาบโลหะแบบใช้อิเล็กโทรไลท์โดยตรงบน พื้นผิวซับสเทรทที่ไม่นำไฟฟ้าซึ่ง ประกอบรวมด้วยการนำพื้นผิวซับสเทรทนี้สัมผัสกับพอลิเมอร์ ที่ ละลายน้ำได้ การปฏิบัติกับพื้นผิวซับสเทรทนี้ด้วยสารละ ลายเปอร์แมงกาเนท การปฏิบัติกับพื้นผิว ซับสเทรทนี้ด้วยสารละลาย แอคเควียสชนิดกรดหรือไมโครอิมัลชันชนิดกรดของเบสที่เป็นแอค เควียส ซึ่งมีสารประกอบไธโอฟีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดและ กรดแอลเคนซัลโฟนิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดที่คัดเลือกจาก กลุ่มซึ่งประกอบรวมด้วยกรดมีเธนซัลโฟนิก กรดอีเธนซัลโฟนิก และกรดอีเธน ไดซัลโฟนิก การฉาบโลหะพื้นผิวซับสเทรทนี้ใน เชิงใช้อิเล็กโทรไลท์
Claims (5)
1. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 10 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งจะคัดเลือกสารประกอบไธโอฟีน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ จากกลุ่มซึ่งประกอบรวมด้วย 3,4-เอธิลีนไดออก ซิไธโอฟิน 3-เมธอกซีไธโอฟีน 3-เมธิล-4-เมธอกซีไธโอฟีนและ อนุพันธ์ของสารนั้น 1
2. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 11 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งสารละลายดังกล่าวหรือไมโครอิมัลชัน ดังกล่าวมีเซอร์แฟก เทนท์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดต่อไปอีก 1
3. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 12 ที่ซึ่งจะคัดเลือกเซอร์แ ฟกเทนท์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้จาก กลุ่มซึ่งประกอบรวม ด้วยเซอร์แฟกเทนท์ชนิดอีธอกซีเลท 1
4. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 13 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งสารละลายดังกล่าวหรือไมโครอิมัลชัน ดังกล่าวจะมีมากกว่า นี้อีกด้วยเกลืออย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดของกรดแอลเคนซัลโฟ นิกอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดนี้ 1
5. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 14 ข้อใดข้อหนึ่งที่ ซึ่งพื้นผิวซับสเทรทนี้ได้รับการชุบด้วย ทองแดงในเชิงใช้อิ เล็กโทรไลท์ในวิธีการขั้นตอน d
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH60288A true TH60288A (th) | 2004-01-09 |
| TH25358B TH25358B (th) | 2009-01-28 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MY126221A (en) | Direct electrolytic metallization of non-conducting substrates. | |
| ES2421189T3 (es) | Proceso para galvanizado electrolítico de cobre. | |
| AU2003237637A1 (en) | Pyrophosphoric acid bath for use in copper-tin alloy plating | |
| WO2007118875A3 (de) | Vorrichtung und verfahren zur galvanischen beschichtung | |
| TW200502437A (en) | Solution for etching copper surfaces and method of depositing metal on copper surfaces | |
| DE59904390D1 (de) | Wässriges alkalisches cyanidfreies bad zur galvanischen abscheidung von zink- oder zinklegierungsüberzügen | |
| WO2000041518A3 (en) | Electrodeposition chemistry for filling of apertures with reflective metal | |
| JP5854727B2 (ja) | シアン化物を含まない銀電気めっき液 | |
| DE50013788D1 (de) | Verfahren zur elektrochemischen herstellung eines alkalimetalls aus wässriger lösung | |
| BR0007123A (pt) | Método para remoção de um revestimento aluminìdeo de um substrato | |
| WO2002006884A3 (en) | Fast-switching reversible electrochemical mirror (rem) | |
| WO2010001054A3 (fr) | Procede de preparation d'un film isolant electrique et application pour la metallisation de vias traversants | |
| WO2007034117A3 (fr) | Procede d'electrodeposition destine au revetement d'une surface d'un substrat par un metal | |
| BRPI0508287A (pt) | banho e método de eletrogalvanização de ferro-fosforoso | |
| TW200702498A (en) | Method for electrodeposition of bronzes | |
| JP4588185B2 (ja) | アルカンスルホン酸塩電解質から銅の電気めっき | |
| WO2007118810A3 (de) | Vorrichtung und verfahren zur galvanischen beschichtung | |
| DE50212422D1 (de) | Apatitbeschichteter metallischer Werkstoff, Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung | |
| AR027804A1 (es) | Procedimiento para la preparacion de peroxodisulfato de metal alcalino y de amonio | |
| TH60288A (th) | การฉาบโลหะแบบใช้อิเล็กโทรไลท์โดยตรงบนซับสเทรทที่ไม่นำไฟฟ้า | |
| TH25358B (th) | การฉาบโลหะแบบใช้อิเล็กโทรไลท์โดยตรงบนซับสเทรทที่ไม่นำไฟฟ้า | |
| WO2004072191A3 (en) | Electrodepositable coating compositions and processes related thereto | |
| WO2002029875A3 (en) | Plating system with remote secondary anode for semiconductor manufacturing | |
| BR9913848A (pt) | Método para aperfeiçoar a macroforça de arremesso para banhos de eletrogalvanização de nìquel e cloreto de zinco | |
| TW200501487A (en) | Methods for applying electrodes or electrolytes to a substrate |