TH81359A - กระบวนการเตรียมไซโคลเฮกซาโนนและไซโคลเฮกซานอล - Google Patents

กระบวนการเตรียมไซโคลเฮกซาโนนและไซโคลเฮกซานอล

Info

Publication number
TH81359A
TH81359A TH601000258A TH0601000258A TH81359A TH 81359 A TH81359 A TH 81359A TH 601000258 A TH601000258 A TH 601000258A TH 0601000258 A TH0601000258 A TH 0601000258A TH 81359 A TH81359 A TH 81359A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
liquid
layer
organic
organic layer
cyclohexanol
Prior art date
Application number
TH601000258A
Other languages
English (en)
Other versions
TH81359B (th
Inventor
วอลเคอร์ วีทท์ ลาร์รี่
Original Assignee
ดีเอสเอ็ม ไอพี แอสเซทส์ บีวี
นายมนูญ ช่างชำนิ
นายอัครวิทย์ กาญจนโอภาษ
Filing date
Publication date
Application filed by ดีเอสเอ็ม ไอพี แอสเซทส์ บีวี, นายมนูญ ช่างชำนิ, นายอัครวิทย์ กาญจนโอภาษ filed Critical ดีเอสเอ็ม ไอพี แอสเซทส์ บีวี
Publication of TH81359B publication Critical patent/TH81359B/th
Publication of TH81359A publication Critical patent/TH81359A/th

Links

Abstract

DC60 (31/03/49) การประดิษฐ์ปัจจุบันเกี่ยวข้องกับกระบวนการเตรียมไซโคลเฮกซาโนน และไซโคลเฮกซานอล กระบวนการดังกล่าว ประกอบด้วย a) การทำกรด และ/หรือ คาร์บอนไดออกไซด์ให้เป็นกลาง ที่ปรากฏในสารละลายอินทรีย์ที่ ประกอบเพิ่มเติมด้วยไซโครเฮกซิลไฮโดรเปอร์ออกไซด์ ด้วยการผสมสารละลายอินทรีย์ด้วย สารละลายด่างของเหลวตัวแรก ที่อุณหภูมิตั้งแต่ 50 ถึง 80 องศาเซลเซียส เพื่อให้เกิดการ สร้าง ส่วนผสมตัวแรกที่ประกอบด้วยชั้นของเหลวที่มีค่าพีเอช ตั้งแต่ 8.5 ถึง 13 และชั้นสารอินทรีย์ ตัวแรก b) การแยกชั้นของเหลวตัวแรกออกจากส่วนผสมตัวแรกที่ก่อให้เกิดส่วนผสมที่หลงเหลืออยู่ ที่ ประกอบด้วยชั้นสารอินทรีย์ตัวแรก c) การย่อยสลายไซโคลเฮกซิลไฮโดรเปอร์ออกไซด์ ที่ปรากฏในส่วนผสมที่เหลืออยู่ดังกล่าวด้วย การผสมส่วนผสมที่เหลืออยู่ด้วยสารละลายด่างของเหลวตัวที่สอง ที่อุณหภูมิตั้งแต่ 60 ถึง 100องศาเซลเซียส เพื่อให้เกิดการสร้างส่วนผสมตัวที่สอง ที่ประกอบด้วยชั้นของเหลวตัวที่ สอง และชั้นสารอินทรีย์ตัวที่สอง ที่ประกอบด้วยไซโคลเฮกซาโนน และ ไซโคลเฮกซานอล d) การแยกชั้นของเหลวตัวที่สองออกจากชั้นสารอินทรีย์ตัวที่สอง ที่อุณหภูมิที่สูงกว่า 80 องศา เซลเซียส การประดิษฐ์ปัจจุบันเกี่ยวข้องกับกระบวนการเตรียมไซโคลเฮกซาโนน และไซโคลเฮกซานอล กระบวนการดังกล่าว ประกอบด้วย a) การทำกรด และ/หรือ คาร์บอนไดออกไซด์ให้เป็นกลาง ที่ปรากฏในสารระลายอินทรีย์ที่ ประกอบเพิ่มเติมด้วยไซโครเฮกซิลไฮโดรเปอร์ออกไซด์ ด้วยการผสมสารละลายอินทรีย์ด้วย สารละลายด่างของเหลวตัวแรก ที่อุณหภูมิตั้งแต่ 50 ถึง 80 องศาเซลเซียส เพื่อให้เกิดการ สร้าง ส่วนผสมตัวแรกที่ประกอบด้วยชั้นของเหลวที่มีค่าพีเอช ตั้งแต่ 8.5 ถึง 13 และชั้นสารอินทรีย์ ตัวแรก b) การแยกชั้นของเหลวตัวแรกออกจากส่วนผสมตัวแรกที่ก่อให้เกิดส่วนผสมที่หลงเหลืออยู่ ที่ ประกอบด้วยชั้นสารอินทรีย์ตัวแรก c) การย่อยสลายไซโครลเฮกซิลไฮโดรเปอร์ออกไซด์ ที่ปรากฏในส่วนผสมที่เหลืออยู่ดังกล่าวด้วย การผสมส่วนผสมที่เหลืออยู่ด้วยสารละลายด่างของเหลวตัวที่สอง ที่อุณหภูมิตั้งแต่ 60 ถึง 100องศาเซลเซียส เพื่อให้เกิดการสร้างส่วนผสมตัวที่สอง ที่ประกอบด้วยชั้นของเหลวตัวที่ สอง และชั้นสารอินทรีย์ตัวที่สอง ที่ประกอบด้วยไซโคลเฮกซาโนน และ ไซโคลเฮกซานอล d) การแยกชั้นของเหลวตัวที่สองออกจากชั้นสารอินทรีย์ตัวที่สอง ที่อุณหภูมิที่สูงกว่า 80 องศา เซลเซียส

Claims (1)

1. กระบวนการเตรียมไซโคลเฮกซาโนน และไซโคลเฮกซานอล กระบวนการดังกล่าว ประกอบ ด้วย a) การทำกรด และ/หรือคาร์บอนไดออกไซด์ให้เป็นกลาง ที่ปรากฏในสารระลายอินทรีย์ที่ ประกอบเพิ่มเติมด้วยไซโครเฮกซิลไฮโดรเปอร์ออกไซด์ ด้วยการผสมสารละลายอินทรีย์ กับสารละลายด่างตัวแรก ที่อุณหภูมิตั้งแต่ 50 ถึง 80 องศาเซลเซียส เพื่อให้เกิดการ สร้างส่วนผสมตัวแรก ที่ประกอบด้วยขั้นของเหลวตัวแรกด้วยค่าพีเอชตั้งแต่ 8.5 ถึง 13 และชั้นสารอินทรีย์ตัวแรก b) การแยกชั้นของเหลวตัวแท็ก :
TH601000258A 2006-01-23 กระบวนการเตรียมไซโคลเฮกซาโนนและไซโคลเฮกซานอล TH81359A (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH81359B TH81359B (th) 2006-11-23
TH81359A true TH81359A (th) 2006-11-23

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BRPI0813576A2 (pt) Método para a produção de óxido de propileno
NO20080974L (no) Fremgangsmate for fremstilling av peroksidsyrer
TW200616721A (en) Semiconductor substrate cleaning liquid and semiconductor substrate cleaning process
GB2437006A (en) Salts assisted selective extraction of 6-acetyl-4.1',6'trichlorogalactosucrose and 4,1',6'trichlorogalactosucrose from aqueous reaction mixture
TWI365867B (en) Process for preparing cyclohexanone and cyclohexanol
NO20080812L (no) Fremgangsmate for fremstilling av 4 β-amino-4'demetyl-4-4-desoksy podofyllotoksin
DE50104094D1 (de) Verfahren zur Herstellung von reinem Triethylendiamin (TEDA)
EP1894973A4 (en) METHOD FOR PRODUCING A PVP-FULLER COMPLEX AND AQUEOUS SOLUTION THEREOF
TH81359A (th) กระบวนการเตรียมไซโคลเฮกซาโนนและไซโคลเฮกซานอล
AR068801A1 (es) Proceso para la produccion de un compuesto de toluidina como ingrediente activo de plaguicidas
DE602007002530D1 (de) Eiskonfekt
TH81359B (th) กระบวนการเตรียมไซโคลเฮกซาโนนและไซโคลเฮกซานอล
WO2010061403A3 (en) Process to prepare highly pure (s)-pregabalin
TH80998B (th) กระบวนการเตรียมไซโคลเฮกซาโนนและไซโคลเฮกซานอล
AR071540A1 (es) Proceso para la produccion de un compuesto de toluidina
TH80998A (th) กระบวนการเตรียมไซโคลเฮกซาโนนและไซโคลเฮกซานอล
WO2008105142A1 (ja) マトリックス溶液
RU2007143875A (ru) Способ получения адипиновой кислоты из отходов производства капролактама окислением циклогексана
MA32698B1 (fr) Procede de preparation du 1,6:2,3-dianhydro-beta-d-mannopyranose
WO2018124475A3 (ko) 외부 유전자가 도입된 재조합 미생물 및 상기 미생물을 이용하여 개미산과 이산화탄소로부터 유용물질을 제조하는 방법
UA96731C2 (en) Process for preparing cyclohexanone and cyclohexanol
DK1957463T3 (da) Fremgangsmåde til fremstilling af 5-fluor-1,3-dialkyl-1H-pyrazol-4-carboxylsyrechlorider
WO2005113485A3 (en) Stable nateglinide form b compositions
TH64301A (th) กรรมวิธีสำหรับการออกซิไดซ์ไซโคลเฮกเซน
TH86786B (th) กระบวนการสำหรับการสังเคราะห์สารปรับตัวรับโปรเจสเตอโรน