TH81753A - กรรมวิธีสำหรับการผลิตชั้นบางๆ ของซิลิโคน ซิลิโคนบาง และการใช้ - Google Patents

กรรมวิธีสำหรับการผลิตชั้นบางๆ ของซิลิโคน ซิลิโคนบาง และการใช้

Info

Publication number
TH81753A
TH81753A TH501005273A TH0501005273A TH81753A TH 81753 A TH81753 A TH 81753A TH 501005273 A TH501005273 A TH 501005273A TH 0501005273 A TH0501005273 A TH 0501005273A TH 81753 A TH81753 A TH 81753A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
layer
extruded
silicones
silicone
processes
Prior art date
Application number
TH501005273A
Other languages
English (en)
Other versions
TH81753B (th
Inventor
มิวเลอร์ โจเซฟ
บาวเออร์ ไมเคิล
กุนเทอร์ วอลเตอร์
เคิร์ก สตาร์ค
Original Assignee
นางมธุรส ปิยโชติสุกิจ
นางสาวชาลินี ศรีประศาสน์
อินฟิอาน่า เยอรมนี จีเอ็มบีเอช แอนด์ โค เคจี
Filing date
Publication date
Application filed by นางมธุรส ปิยโชติสุกิจ, นางสาวชาลินี ศรีประศาสน์, อินฟิอาน่า เยอรมนี จีเอ็มบีเอช แอนด์ โค เคจี filed Critical นางมธุรส ปิยโชติสุกิจ
Publication of TH81753A publication Critical patent/TH81753A/th
Publication of TH81753B publication Critical patent/TH81753B/th

Links

Abstract

DC60 (24/11/48) กรรมวิธีสำหรับการผลิตชั้นบางของชิลิโคนที่อัดรีดได้ ซึ่งอัดรีดชั้นซิลิโคน ในคำ อรรถาธิบายนี้ สามารถอัดรีดชั้นซิลิโคนลงบนชั้นซับสเทรท หรือชั้นซิลิโคน และสามารถอัดรีดชั้น ซับสเทรทจากแม่พิมพ์อัดรีดด้วยกัน กรรมวิธีสำหรับการผลิตชั้นบางของชิลิโคนที่อัดรีดได้ ซึ่งอัดรีดชั้นซิลิโคน ในคำ อรรถาธิบายนี้ สามารถอัดรีดชั้นซิลิโคนลงบนชั้นซับสเทรท หรือชั้นซิลิโคน และสามารถอัดรีดชั้น ซับสเทรทจากแม่พิมพ์อัดรีดด้วยกัน

Claims (6)

1. กรรมวิธีสำหรับการผลิตชั้นบางของซิลิโคนที่อัดรีดได้ ซึ่งชั้นซิลิโคนถูกอัดรีด
2. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งอัดรีดชั้นซิลิโคนบนชั้นซับสเทรท
3. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือข้อ 2 ซึ่งอัดรีดชั้นซิลิโคน และชั้นซับสเทรทร่วมกันจาก แม่พิมพ์อัดรีด
4. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1, 2 หรือข้อ 3 ซึ่งเติมชั้นซับสเทรทลงไปหลังจากอัดรีดชั้นซิลิโคน แล้ว
5. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1, 2, 3 หรือข้อ 4 ซึ่งปกคลุมชั้นซิลิโคนไว้ได้ด้วยชั้นบนสุด
6. กรรมวิธีตามข้อแท็ก :
TH501005273A 2005-11-09 กรรมวิธีสำหรับการผลิตชั้นบางๆ ของซิลิโคน ซิลิโคนบาง และการใช้ TH81753B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH81753A true TH81753A (th) 2006-12-14
TH81753B TH81753B (th) 2006-12-14

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ATE476290T1 (de) Transferfolie, ihre verwendung und verfahren für die herstellung von verzierten kunststoffartikeln
EP1635396A4 (en) LAMINATED SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND PROCESS FOR ITS MANUFACTURE
JP2010505661A5 (th)
TW200729343A (en) Method for fabricating controlled stress silicon nitride films
TW200724479A (en) Nano-array and fabrication method thereof
JP2009545878A5 (th)
RU2007118697A (ru) Способ изготовления сверхпроводящего ленточного провода, сверхпроводящий ленточный провод и сверхпрводящее устройство
ATE516154T1 (de) Sicherheitselement und verfahren zu seiner herstellung
ATE484398T1 (de) Sicherheitselement und verfahren zu seiner herstellung
JP2011506916A5 (th)
WO2008108255A1 (ja) 粘着剤層付き透明導電性フィルムおよびその製造方法
ATE504543T1 (de) Verbund aus mindestens zwei halbleitersubstraten sowie herstellungsverfahren
EP1930373A3 (de) Transparenter Formkörper aus einer Polyamidformmasse
TWI319591B (en) Method to produce semiconductor components and thin-film semiconductor components
BRPI0505168A (pt) processo para a produção de camadas finas de um silicone, silicone fino e sua utilização
ATE479847T1 (de) Geformte verbundstoffe und herstellungsverfahren dafür
CN107342305B (zh) 一种柔性基板结构及其制备方法
TW200746262A (en) Method of manufacturing nitride semiconductor substrate and composite material substrate
WO2008126661A1 (ja) 多層セラミック基板およびその製造方法
WO2007147811A8 (de) Verfahren zur herstellung dünner schichten eines silikons und dünnes silikon
JP2007026951A5 (th)
DE50213415D1 (de) Transistoranordnung und verfahren zu deren herstellung
TH81753A (th) กรรมวิธีสำหรับการผลิตชั้นบางๆ ของซิลิโคน ซิลิโคนบาง และการใช้
WO2009014337A3 (en) Method of manufacturing crystalline semiconductor thin film
TH81753B (th) กรรมวิธีสำหรับการผลิตชั้นบางๆ ของซิลิโคน ซิลิโคนบาง และการใช้