TH83149A - กระบวนการสำหรับการผลิต Si โดยการรีดักชัน SiCl4 ด้วยของเหลว Zn - Google Patents
กระบวนการสำหรับการผลิต Si โดยการรีดักชัน SiCl4 ด้วยของเหลว ZnInfo
- Publication number
- TH83149A TH83149A TH601001271A TH0601001271A TH83149A TH 83149 A TH83149 A TH 83149A TH 601001271 A TH601001271 A TH 601001271A TH 0601001271 A TH0601001271 A TH 0601001271A TH 83149 A TH83149 A TH 83149A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- sicl4
- under
- chloride
- contact
- metal
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (19/06/49) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับการผลิตซิลิคอนที่มีความบริสุทธิ์เป็นวัสดุพื้นฐานสำหรับการผลิต ตัวอย่างเช่น เซลล์แสงอาทิตย์ซิลิคอนที่เป็นผลึก SiCl4 ถูกเปลี่ยนให้เป็นโลหะ Si โดยการสัมผัสกับแก๊ส SiCl4 กับของเหลว Zn, จากนั้น ได้ อัลลอยด์ที่มี Si และ Zn-คลอไรด์, ซึ่งถูกแยก จากนั้น อัลลอยด์ที่มี Si ถูกทำให้บริสุทธิ์ที่อุณหภูมิสูง กว่าจุดเดือดของ Zn กระบวนการนี้ไม่ต้องการเทคโนโลยีที่ซับซ้อนและให้ SiCl4 ที่มีความบริสุทธิ์สูงเมื่อถึง ผลิตภัณฑ์สุดท้าย, เนื่องจาก Zn เป็นสารทำปฏิกิริยาเคมีเพียงชนิดเดียว, ซึ่งสามารถได้ในคุณภาพที่ บริสุทธิ์สูงมาก ๆ และนำกลับไปทำกระบวนการใหม่อย่างต่อเนื่อง การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับการผลิตซิลิคอนที่มีความบริสุทธิ์เป็นวัสดุพื้นฐานสำหรับการผลิต ตัวอย่างเช่น เซลล์แสงอาทิตย์ซิลิคอนที่เป็นผลึก SiCl4 ถูกเปลี่ยนให้เป็นโลหะ Si โดยการสัมผัสกับแก๊ส SiCl4 กับของเหลว Zn จากนั้น ได้ อัลลอยด์ที่มี Si และ Zn-คลอไรด์, ซึ่งถูกแยก จากนั้น อัลลอยด์ที่มี Si ถูกทำให้บริสุทธิ์ที่อุณหภูมิสูง กว่าจุดเดือดของ Zn กระบวนการนี้ไม่ต้องการเทคโนโลยีที่ซับซ้อนและให้ SiCl4 ที่มีความบริสุทธิ์สูงเมื่อถึง ผลิตภัณฑ์สุดท้าย, เนื่องจาก Zn เป็นสารทำปฏิกิริยาเคมีเพียงชนิดเดียว, ซึ่งสามารถได้ในคุณภาพที่ บริสุทธิ์สูงมาก ๆ และนำกลับไปทำกระบวนการใหม่อย่างต่อเนื่อง
Claims (16)
1. กระบวนการสำหรับการเปลี่ยน SiCl4 ให้เป็นโลหะ Si, ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอน ของ: - การสัมผัสแก๊ส SiCl4 กับวัฏภาคโลหะของเหลวที่มี Zn, ดังนั้น จึงได้วัฏภาคโลหะที่มี Si และ Zn-คลอไรด์; - การแยก Zn-คลอไรด์ที่ได้จากวัฏภาคโลหะที่มี Si; และ - การทำให้วัฏภาคโลหะที่มี Si บริสุทธิ์ที่อุณหภูมิสูงกว่าจุดเดือดของ Zn, ดังนั้นจึงได้ Zn ที่เป็นไอและได้โลหะ Si, ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือว่าทำขั้นตอนการสัมผัส และการแยกในเครื่องปฏิกิริยาเดี่ยว
2. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งทำการสัมผัส และขั้นตอนการแยกในเวลาเดียว กัน โดยการทำที่อุณหภูมิสูงกว่าจุดเดือดของ Zn-คลอไรด์, ซึ่งระเหย
3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2, ที่ซึ่งวัฏภาคโลหะที่มี Si ที่ได้ในขั้นตอนการ สัมผัส, มีอย่างน้อยบางส่วนของ Si อยู่ในสถานะของแข็ง
4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 3 ข้อใดข้อหนึ่ง, ที่ซึ่งขั้นตอนการทำให้เย็นของ วัฏภาคโลหะที่มี Si, ที่ควรใช้ คือ อุณหภูมิระหว่าง 420 และ 600 ํC, ถูกแทรกก่อนขั้นตอนการทำให้ บริสุทธิ์, โดยที่จะเปลี่ยนบางส่วนของ Si ที่มีอยู่เป็นตัวถูกละลายในวัฏภาคโลหะที่มี Si ซึ่งได้ใน ขั้นตอนการสัมผัส, ให้อยู่ในสถานะของแข็ง
5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 3 หรือ 4, โดยที่ Si ที่มีอยู่ในสถานะของแข็งถูกแยก ออก เกิดเป็นวัฏภาคโลหะที่มี Si ซึ่งนำไปทำขบวนการต่อไปในขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์
6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 5 ข้อใดข้อหนึ่ง, ที่ซึ่งขั้นตอนการสัมผัสทำได้ โดยการเป่า SiCl4 ลงในอ่างซึ่งประกอบรวมด้วย Zn ที่หลอมเหลว, ที่อัตราการไหลที่ดัดแปรให้จำกัด การสูญเสียของ Si โดยการชักนำด้วย Zn-คลอไรด์ที่ระเหยให้น้อยกว่า 15%
7. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 6, โดยที่อัตราการไหลของ SiCl4 ต่ำกว่า 0.8 kg/min ต่อ m2 ของพื้นผิวอ่าง
8. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่ง, โดยที่ขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์ ทำที่อุณหภูมิสูงกว่าจุดหลอมเหลวของ Si, โดยทำให้เกิดเป็นของเหลว Si ที่บริสุทธิ์
9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 8, โดยที่ขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์ทำที่บรรยากาศ ลดความดัน หรือ ภายใต้สุญญากาศ
10. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 9 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วย ขั้นตอนของ: - การนำ Zn-คลอไรด์ที่แยกได้ไปทำการอิเลกโตรไลซิสด้วยเกลือที่หลอมเหลว, จากนั้นนำ Zn และ คลอรีนกลับคืนมา; - การนำ Zn กลับไปทำขั้นตอนรีดักชัน SiCl4 ใหม่; และ - การนำคลอรีนกลับไปทำกระบวนการคลอริเนชัน Si สำหรับการผลิต SiCl4
11. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 10 ข้อใดข้อหนึ่ง, ที่ซึ่ง Zn ซึ่งถูกทำให้เป็นไอใน ขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์, ถูกควบแน่น และนำกลับไปทำกระบวนการเปลี่ยน SiCl4 ใหม่
12. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 11 ข้อใดข้อหนึ่ง, ที่ซึ่งแฟรกชันของ SiCl4 ซึ่ง ปรากฏอยู่ในขั้นตอนการสัมผัสที่ไม่ทำปฏิกิริยา, ถูกนำกลับมาทำกระบวนการเปลี่ยน SiCl4 ใหม่
13. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 8 หรือ 9, ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนการทำให้เป็น ของแข็งขั้นตอนเดียวของของเหลว Si ที่บริสุทธิ์, โดยใช้วิธีที่เลือกจากกลุ่มของการดึงผลึก การทำให้ เป็นของแข็งโดยตรง และการเลี้ยงให้เป็นสาย
14. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 8 หรือ 9, ซึ่งประกอบรวมด้วยการทำให้ของเหลว Si ที่บริสุทธิ์เป็นเม็ดแกรนูล
15. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 14, ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ: - การป้องแกรนูลลงในเตาเผาหลอมเหลว; และ - การใช้ขั้นตอนการทำให้เป็นของแข็งขั้นตอนเดียว , โดยใช้วิธีที่เลือกจากกลุ่มของการดึง ผลึก การทำให้เป็นของแข็งโดยตรง และการเลี้ยงให้เป็นสาย
16. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 13 หรือ 15, โดยที่วัสดุที่เป็นของแข็งถูกทำให้เป็น เวเฟอร์ และนำไปทำกระบวนการต่อไปเพื่อเป็นเซลล์แสงอาทิตย์
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH83149A true TH83149A (th) | 2007-02-22 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1866248B1 (en) | Process for the production of si by reduction of sicl4 with liquid zn | |
| CN101263235B (zh) | 通过用液体金属还原GeCl4生产Ge的方法 | |
| JP2010100508A (ja) | 高純度シリコンの製造方法 | |
| CN101698481A (zh) | 太阳能级多晶硅提纯装置与提纯方法 | |
| CN102107874B (zh) | 一种低温去除硅中硼磷的方法 | |
| JPH05262512A (ja) | シリコンの精製方法 | |
| WO2008034578A1 (en) | Process for the production of germanium-bearing silicon alloys | |
| US11807538B1 (en) | Method for removing phosphorus and boron impurity from industrial silicon melt by secondary refining | |
| JP5277654B2 (ja) | ホウ素添加シリコンの製造方法 | |
| CN109628995B (zh) | 利用梯度保温提高合金法提纯多晶硅收率的方法 | |
| WO2008145236A1 (en) | Economical process for the production of si by reduction of sicl4 with liquid zn | |
| CN101863476B (zh) | 一种去除硅中硼元素的方法 | |
| JP2000327488A (ja) | 太陽電池用シリコン基板の製造方法 | |
| US2928731A (en) | Continuous process for purifying gallium | |
| US20140072498A1 (en) | Manufacturing and Applications of Silicon Metal | |
| KR20110004129A (ko) | 실리콘의 제조방법 | |
| EP1903005A1 (en) | Production of Si by reduction of SiCI4 with liquid Zn, and purification process | |
| CN101547859A (zh) | 用液态Zn还原SiHCl3生产Si的方法 | |
| WO2008034576A1 (en) | PRODUCTION OF Si BY REDUCTION OF SiCL4 WITH LIQUID Zn, AND PURIFICATION PROCESS | |
| JPH10324515A (ja) | 太陽電池用シリコンの製造方法 | |
| US20100024882A1 (en) | Process for the Production of Si by Reduction of SiHCl3 with Liquid Zn | |
| HK1115368A (en) | Process for the production of si by reduction of sicl4 with liquid zn | |
| CN101146743A (zh) | 通过用液态Zn还原SiCl4制备Si的方法 | |
| EP1903007A1 (en) | Process for the production of germanium-bearing silicon alloys | |
| JP2014198636A (ja) | ケイ素の精製方法 |