TH83149A - กระบวนการสำหรับการผลิต Si โดยการรีดักชัน SiCl4 ด้วยของเหลว Zn - Google Patents

กระบวนการสำหรับการผลิต Si โดยการรีดักชัน SiCl4 ด้วยของเหลว Zn

Info

Publication number
TH83149A
TH83149A TH601001271A TH0601001271A TH83149A TH 83149 A TH83149 A TH 83149A TH 601001271 A TH601001271 A TH 601001271A TH 0601001271 A TH0601001271 A TH 0601001271A TH 83149 A TH83149 A TH 83149A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
sicl4
under
chloride
contact
metal
Prior art date
Application number
TH601001271A
Other languages
English (en)
Inventor
ซิจเลม่า นายจาคโค
โรเบิร์ต นายเอริค
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายบุญมา เตชะวณิช
ยูมิคอร์
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายบุญมา เตชะวณิช, ยูมิคอร์ filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH83149A publication Critical patent/TH83149A/th

Links

Abstract

DC60 (19/06/49) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับการผลิตซิลิคอนที่มีความบริสุทธิ์เป็นวัสดุพื้นฐานสำหรับการผลิต ตัวอย่างเช่น เซลล์แสงอาทิตย์ซิลิคอนที่เป็นผลึก SiCl4 ถูกเปลี่ยนให้เป็นโลหะ Si โดยการสัมผัสกับแก๊ส SiCl4 กับของเหลว Zn, จากนั้น ได้ อัลลอยด์ที่มี Si และ Zn-คลอไรด์, ซึ่งถูกแยก จากนั้น อัลลอยด์ที่มี Si ถูกทำให้บริสุทธิ์ที่อุณหภูมิสูง กว่าจุดเดือดของ Zn กระบวนการนี้ไม่ต้องการเทคโนโลยีที่ซับซ้อนและให้ SiCl4 ที่มีความบริสุทธิ์สูงเมื่อถึง ผลิตภัณฑ์สุดท้าย, เนื่องจาก Zn เป็นสารทำปฏิกิริยาเคมีเพียงชนิดเดียว, ซึ่งสามารถได้ในคุณภาพที่ บริสุทธิ์สูงมาก ๆ และนำกลับไปทำกระบวนการใหม่อย่างต่อเนื่อง การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับการผลิตซิลิคอนที่มีความบริสุทธิ์เป็นวัสดุพื้นฐานสำหรับการผลิต ตัวอย่างเช่น เซลล์แสงอาทิตย์ซิลิคอนที่เป็นผลึก SiCl4 ถูกเปลี่ยนให้เป็นโลหะ Si โดยการสัมผัสกับแก๊ส SiCl4 กับของเหลว Zn จากนั้น ได้ อัลลอยด์ที่มี Si และ Zn-คลอไรด์, ซึ่งถูกแยก จากนั้น อัลลอยด์ที่มี Si ถูกทำให้บริสุทธิ์ที่อุณหภูมิสูง กว่าจุดเดือดของ Zn กระบวนการนี้ไม่ต้องการเทคโนโลยีที่ซับซ้อนและให้ SiCl4 ที่มีความบริสุทธิ์สูงเมื่อถึง ผลิตภัณฑ์สุดท้าย, เนื่องจาก Zn เป็นสารทำปฏิกิริยาเคมีเพียงชนิดเดียว, ซึ่งสามารถได้ในคุณภาพที่ บริสุทธิ์สูงมาก ๆ และนำกลับไปทำกระบวนการใหม่อย่างต่อเนื่อง

Claims (16)

1. กระบวนการสำหรับการเปลี่ยน SiCl4 ให้เป็นโลหะ Si, ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอน ของ: - การสัมผัสแก๊ส SiCl4 กับวัฏภาคโลหะของเหลวที่มี Zn, ดังนั้น จึงได้วัฏภาคโลหะที่มี Si และ Zn-คลอไรด์; - การแยก Zn-คลอไรด์ที่ได้จากวัฏภาคโลหะที่มี Si; และ - การทำให้วัฏภาคโลหะที่มี Si บริสุทธิ์ที่อุณหภูมิสูงกว่าจุดเดือดของ Zn, ดังนั้นจึงได้ Zn ที่เป็นไอและได้โลหะ Si, ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือว่าทำขั้นตอนการสัมผัส และการแยกในเครื่องปฏิกิริยาเดี่ยว
2. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งทำการสัมผัส และขั้นตอนการแยกในเวลาเดียว กัน โดยการทำที่อุณหภูมิสูงกว่าจุดเดือดของ Zn-คลอไรด์, ซึ่งระเหย
3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2, ที่ซึ่งวัฏภาคโลหะที่มี Si ที่ได้ในขั้นตอนการ สัมผัส, มีอย่างน้อยบางส่วนของ Si อยู่ในสถานะของแข็ง
4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 3 ข้อใดข้อหนึ่ง, ที่ซึ่งขั้นตอนการทำให้เย็นของ วัฏภาคโลหะที่มี Si, ที่ควรใช้ คือ อุณหภูมิระหว่าง 420 และ 600 ํC, ถูกแทรกก่อนขั้นตอนการทำให้ บริสุทธิ์, โดยที่จะเปลี่ยนบางส่วนของ Si ที่มีอยู่เป็นตัวถูกละลายในวัฏภาคโลหะที่มี Si ซึ่งได้ใน ขั้นตอนการสัมผัส, ให้อยู่ในสถานะของแข็ง
5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 3 หรือ 4, โดยที่ Si ที่มีอยู่ในสถานะของแข็งถูกแยก ออก เกิดเป็นวัฏภาคโลหะที่มี Si ซึ่งนำไปทำขบวนการต่อไปในขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์
6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 5 ข้อใดข้อหนึ่ง, ที่ซึ่งขั้นตอนการสัมผัสทำได้ โดยการเป่า SiCl4 ลงในอ่างซึ่งประกอบรวมด้วย Zn ที่หลอมเหลว, ที่อัตราการไหลที่ดัดแปรให้จำกัด การสูญเสียของ Si โดยการชักนำด้วย Zn-คลอไรด์ที่ระเหยให้น้อยกว่า 15%
7. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 6, โดยที่อัตราการไหลของ SiCl4 ต่ำกว่า 0.8 kg/min ต่อ m2 ของพื้นผิวอ่าง
8. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่ง, โดยที่ขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์ ทำที่อุณหภูมิสูงกว่าจุดหลอมเหลวของ Si, โดยทำให้เกิดเป็นของเหลว Si ที่บริสุทธิ์
9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 8, โดยที่ขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์ทำที่บรรยากาศ ลดความดัน หรือ ภายใต้สุญญากาศ
10. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 9 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วย ขั้นตอนของ: - การนำ Zn-คลอไรด์ที่แยกได้ไปทำการอิเลกโตรไลซิสด้วยเกลือที่หลอมเหลว, จากนั้นนำ Zn และ คลอรีนกลับคืนมา; - การนำ Zn กลับไปทำขั้นตอนรีดักชัน SiCl4 ใหม่; และ - การนำคลอรีนกลับไปทำกระบวนการคลอริเนชัน Si สำหรับการผลิต SiCl4
11. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 10 ข้อใดข้อหนึ่ง, ที่ซึ่ง Zn ซึ่งถูกทำให้เป็นไอใน ขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์, ถูกควบแน่น และนำกลับไปทำกระบวนการเปลี่ยน SiCl4 ใหม่
12. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 11 ข้อใดข้อหนึ่ง, ที่ซึ่งแฟรกชันของ SiCl4 ซึ่ง ปรากฏอยู่ในขั้นตอนการสัมผัสที่ไม่ทำปฏิกิริยา, ถูกนำกลับมาทำกระบวนการเปลี่ยน SiCl4 ใหม่
13. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 8 หรือ 9, ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนการทำให้เป็น ของแข็งขั้นตอนเดียวของของเหลว Si ที่บริสุทธิ์, โดยใช้วิธีที่เลือกจากกลุ่มของการดึงผลึก การทำให้ เป็นของแข็งโดยตรง และการเลี้ยงให้เป็นสาย
14. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 8 หรือ 9, ซึ่งประกอบรวมด้วยการทำให้ของเหลว Si ที่บริสุทธิ์เป็นเม็ดแกรนูล
15. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 14, ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ: - การป้องแกรนูลลงในเตาเผาหลอมเหลว; และ - การใช้ขั้นตอนการทำให้เป็นของแข็งขั้นตอนเดียว , โดยใช้วิธีที่เลือกจากกลุ่มของการดึง ผลึก การทำให้เป็นของแข็งโดยตรง และการเลี้ยงให้เป็นสาย
16. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 13 หรือ 15, โดยที่วัสดุที่เป็นของแข็งถูกทำให้เป็น เวเฟอร์ และนำไปทำกระบวนการต่อไปเพื่อเป็นเซลล์แสงอาทิตย์
TH601001271A 2006-03-22 กระบวนการสำหรับการผลิต Si โดยการรีดักชัน SiCl4 ด้วยของเหลว Zn TH83149A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH83149A true TH83149A (th) 2007-02-22

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1866248B1 (en) Process for the production of si by reduction of sicl4 with liquid zn
CN101263235B (zh) 通过用液体金属还原GeCl4生产Ge的方法
JP2010100508A (ja) 高純度シリコンの製造方法
CN101698481A (zh) 太阳能级多晶硅提纯装置与提纯方法
CN102107874B (zh) 一种低温去除硅中硼磷的方法
JPH05262512A (ja) シリコンの精製方法
WO2008034578A1 (en) Process for the production of germanium-bearing silicon alloys
US11807538B1 (en) Method for removing phosphorus and boron impurity from industrial silicon melt by secondary refining
JP5277654B2 (ja) ホウ素添加シリコンの製造方法
CN109628995B (zh) 利用梯度保温提高合金法提纯多晶硅收率的方法
WO2008145236A1 (en) Economical process for the production of si by reduction of sicl4 with liquid zn
CN101863476B (zh) 一种去除硅中硼元素的方法
JP2000327488A (ja) 太陽電池用シリコン基板の製造方法
US2928731A (en) Continuous process for purifying gallium
US20140072498A1 (en) Manufacturing and Applications of Silicon Metal
KR20110004129A (ko) 실리콘의 제조방법
EP1903005A1 (en) Production of Si by reduction of SiCI4 with liquid Zn, and purification process
CN101547859A (zh) 用液态Zn还原SiHCl3生产Si的方法
WO2008034576A1 (en) PRODUCTION OF Si BY REDUCTION OF SiCL4 WITH LIQUID Zn, AND PURIFICATION PROCESS
JPH10324515A (ja) 太陽電池用シリコンの製造方法
US20100024882A1 (en) Process for the Production of Si by Reduction of SiHCl3 with Liquid Zn
HK1115368A (en) Process for the production of si by reduction of sicl4 with liquid zn
CN101146743A (zh) 通过用液态Zn还原SiCl4制备Si的方法
EP1903007A1 (en) Process for the production of germanium-bearing silicon alloys
JP2014198636A (ja) ケイ素の精製方法