TH88220A - อุปกรณ์และกระบวนการสำหรับการปฏิบัติพื้นผิวของซับสเทรตโดยใช้ก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้น - Google Patents
อุปกรณ์และกระบวนการสำหรับการปฏิบัติพื้นผิวของซับสเทรตโดยใช้ก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นInfo
- Publication number
- TH88220A TH88220A TH601004510A TH0601004510A TH88220A TH 88220 A TH88220 A TH 88220A TH 601004510 A TH601004510 A TH 601004510A TH 0601004510 A TH0601004510 A TH 0601004510A TH 88220 A TH88220 A TH 88220A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- reactive gas
- internal volume
- activated
- activated reactive
- equipment
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (12/12/49) อุปกรณ์และกระบวนการสำหรับการปฏิบัติพื้นผิวซับสเทรตอย่างน้อยส่วนหนึ่งถูกอธิบายใน ที่นี้ ในลักษณะหนึ่ง อุปกรณ์ ห้องแปรรูปซึ่งประกอบด้วยปริมาณภายใน, ซับสเทรต, และท่อแยกไอ เสีย; แหล่งจ่ายก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นที่ซึ่งก๊าซกระบวนการซึ่งประกอบด้วยก๊าซไวปฏิกิริยาหนึ่ง ชนิดหรือมากกว่าและอาจเลือก๊าซเติมแต่งถูกกระตุ้นโดยแหล่งพลังงานหนึ่งแหล่งหรือมากกว่าเพื่อให้ ก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้น; และท่อจ่าย ซึ่งอยู่ในการติดต่อของไหลกับปริมาตรภายในและแหล่งจ่าย ซึ่งประกอบด้วย ช่องเปิดจำนวนหนึ่งซึ่งนำก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นเข้าไปในปริมาตรภายใน ที่ซึ่ง ก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นสัมผัสพื้นผิวและให้ก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นที่ใช้และ/หรือผลิตภัณฑ์ที่ กลายเป็นไอซึ่งถูกนำออกจากปริมาตรภายในผ่านท่อแยกไอเสีย อุปกรณ์และกระบวนการสำหรับปฏิบัติพื้นผิวซับสเทรตอย่างน้อยส่วนหนึ่งถูกอธิบายใน ที่นี้ ในลักษณะหนึ่ง อุปกรณ์ ห้องแปรรูปซึ่งประกอบด้วยปริมาณภายใน, ซับสเทรต, และท่อแยกไอ เสีย; แหล่งจ่ายก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นซึ่งก๊าซกระบวนการซึ่งประกอบด้วยก๊าซไวปฏิกิริยาหนึ่ง ชนิดหรือมากกว่าและอาจเลือก๊าซเติมแต่งถูกกระตุ้น โดยแหล่งพลังงานหนึ่งแหล่งหรือมากกว่าเพื่อให้ ก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้น; และท่อจ่าย ซึ่งอยู่ในการติดต่อของไหลกับปริมาตรภายในและแหล่งจ่าย ซึ่งประกอบด้วย: ช่องเปิดจำนวนหนึ่งซึ่งนำก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นเข้าไปในปริมาตรภายใน ที่ซึ่ง ก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นสัมผัสพื้นผิวและให้ก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นที่ใช้และ/หรือผลิตภัณฑ์ที่ กลายเป็นไอซึ่งถูกนำออกจากปริมาตรภายในผ่านท่อแยกไอเสีย:
Claims (1)
1. อุปกรณ์สำหรับการปฏิบัติพื้นผิวของซับสเทรตที่มีอย่างน้อยหนึ่งขนาดมากกว่า 1 ฟุต (30.48 ซม) และ/หรือพื้นที่ผิว 2 ตารางฟุต (0.185 ม2) หรือมากกว่าด้วยก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้น อุปกรณ์ ซึ่งประกอบกด้วย: (a) ห้องแปรรูปซึ่งประกอบด้วยปริมาตรภายในที่ปรับเพื่อยึดพื้นผิวของซับสเทรตอย่างน้อย ส่วนหนึ่ง ที่ซึ่งส่วนดังกล่าวของพื้นผิวมีอย่างน้อยหนึ่งขนาดมากกว่า 1 ฟุต, และท่อแยก ไอเสีย; (b) แหล่งจ่ายก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุแท็ก :
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH88220A true TH88220A (th) | 2008-01-21 |
| TH159545A TH159545A (th) | 2017-01-23 |
| TH88220B TH88220B (th) | 2022-05-26 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2006034130A3 (en) | Apparatus and process for surface treatment of substrate using an activated reactive gas | |
| TW200504861A (en) | Uniform etch system | |
| TW200739714A (en) | Substrate processing device, substrate processing method and storage medium | |
| JP2010153680A5 (th) | ||
| TW200608489A (en) | Plasma treatment method and plasma etching method | |
| AR106421A1 (es) | Gas reactivo, sistema de generación de gas reactivo y tratamiento de productos mediante el uso de gas reactivo | |
| WO2009057395A1 (ja) | 酸化膜除去のための基板洗浄処理方法 | |
| TW200719412A (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
| WO2013016191A3 (en) | Methods and apparatus for the deposition of materials on a substrate | |
| HRP20090139T3 (hr) | Postupak za obradu otpada i postrojenja | |
| TW200739727A (en) | Semiconductor processing system and vaporizer | |
| MY139113A (en) | Methods of etching photoresist on substrates | |
| TW200614365A (en) | Method for providing uniform removal of organic material | |
| TW200625387A (en) | System for cleaning a surface using cryogenic aerosol and fluid reactant | |
| TW200802571A (en) | Substrate processing apparatus | |
| SG152206A1 (en) | In-situ chamber cleaning method | |
| ATE509694T1 (de) | Plasmaminderungsvorrichtung | |
| ATE425548T1 (de) | Zerstäubungsvorrichtung mit einer rohrkathode und verfahren zum betreiben dieser zerstäubungsvorrichtung | |
| DE502007003675D1 (de) | Vorrichtung zum schnellen frosten von stoffen | |
| EA201100141A1 (ru) | Устройство для снижения уровня диоксида углерода в дымовых газах сгорания | |
| TH88220A (th) | อุปกรณ์และกระบวนการสำหรับการปฏิบัติพื้นผิวของซับสเทรตโดยใช้ก๊าซไวปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้น | |
| ATE479494T1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur behandlung von schüttgut mit einem physikalischen plasma bei atmosphärendruck | |
| TW200729285A (en) | Gas-removal processing device | |
| ATE423758T1 (de) | Anordnung zur behandlung eines polymerisationsfähigen stoffes | |
| DE502006001507D1 (de) | Vorrichtung zum Verdampfen von Materialien mit einem Verdampferrohr |