TH91500A - วิธีการผลิตซับสเตรตแก้ว และตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก - Google Patents

Abstract

DC60 ในตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก, ความหยาบผิวหน้าของซับสเตรตแก้ว และการแปรเปลี่ยนของ ความหยาบผิวหน้าที่ได้รับการยับยั้ง โดยกล่าวคือ ความหยาบผิวหน้า (Rmax, Ra, Rq) และความสัมพันธ์ (Rmax/Ra) ระหว่าง Rmax และ Ra ที่ถูกจำกัดโดย Ra แสดงให้เห็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวตรงกลาง Rmax ที่ ได้รับการกำหนดตามความสูงสูงสุด ที่แสดงให้เห็นความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุด และจุดต่ำสุดและ Rq แสดง ให้เห็นความหยาบรากกำลังสองเฉลี่ย ด้วยเหตุนี้ เม็ดขนาดเล็กของผลึกของชิ้นวางที่อยู่ด้านล่าง และชั้นแม่เหล็ก ที่ถูกสร้างให้เท่ากันไว้บนนั้น ความหยาบผิวหน้าถูกกำหนดเฉพาะโดย Rmax น้อยกว่าหรือเท่ากับ 15 nm, Ra น้อยกว่าหรือเท่ากับ 1 nm และ Rq น้อยกว่าหรือเท่ากับ 1.5 nm และอัตราส่วนระหว่างความหยาบผิวหน้า Rmax และความหยาบผิวหน้า Ra อยู่ในช่วง 10 -30 ในตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก, ความหยาบผิวหน้าของซับสเตรตแก้ว และการแปรเปลี่ยนของ ความหยาบผิวหน้าที่ได้รับการยับยั้ง โดยกล่าวคือ ความหยาบผิวหน้า (Rmax, Ra, Rq) และความสัมพันธ์ (Rmax/Ra) ระหว่าง Rmax และ Ra ที่ถูกจำกัด โดย Ra แสดงให้เห็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวตรงกลาง Rmaxที่ ได้รับการกำหนดตามความสูงสูงสุด ที่แสดงให้เห็นความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุด และจุดต่ำสุดและ Rq แสดง ให้เห็นความหยาบรากกำลังสองเฉลี่ย ด้วยเหตุนี้ เม็ดขนาดเล็กของผลึกของชิ้นวางที่อยู่ด้านล่าง และชั้นแม่เหล็ก ที่ถูกสร้างให้เท่ากันไว้บนนั้น ความหยาบผิวหน้าถูกกำหนดเฉพาะโดย Rmax (สูตร)15 nm, Ra(สูตร)1 nm และ Rq(สูตร)1.5 nm และอัตราส่วนระหว่างความหยาบผิวหน้า Rmax และความหยาบผิวหน้า Ra อยู่ในช่วง 10-30

Claims (23)

แก้ไข 13/03/2560 1. วิธีการของการผลิตซับสเตรตแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล ประกอบด้วยขั้นตอน ของ การขัดมันตามขั้นตอนการขัดมันที่หนึ่ง ซับสเตรตแก้วดังกล่าวโดยการใช้ของเหลว การขัดมันที่หนึ่งประกอบด้วย เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่หนึ่ง เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่ หนึ่งที่มีขนาดเม็ดขนาดเล็กที่หนึ่งอยู่ระหว่าง 1 และ 3 (สูตร)m การขัดมันตามขั้นตอนการขัดมันที่สอง ซับสเตรตแก้วดังกล่าวโดยการใช้ของเหลว การขัดมันที่สองประกอบด้วย เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่สอง เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่สอง ที่มีขนาดเม็ดขนาดเล็กที่สองอยู่ระหว่าง 0.5 และ 2 (สูตร)m และ การขัดมันตามขั้นตอนการขัดมันที่สาม ซับสเตรตดังกล่าวโดยการใช้ของเหลวการขัดมัน ที่สาม เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่สามประกอบด้วย เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่สาม ที่มี ขนาดเม็ดขนาดเล็กที่สามเป็น 0.5 (สูตร)m หรือน้อยกว่า ที่ซึ่ง หลังจากขั้นตอนการขัดมันที่สามซับสเตรตแก้วดังกล่าวมีความหยาบของผิวหน้า ซึ่งถูกกำหนดโดย Rmax และ Ra, และ Rmax/Ra มากกว่า 10 แต่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 30 โดยที่ซึ่ง Ra แสดงให้เห็นได้เป็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวเส้นตรงกลางและ Rmax ถูกกำหนดให้เป็นความสูงมาก ที่สุดแสดงให้เห็นได้ถึงความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุด และจุดต่ำสุด 2. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งเม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่สาม ประกอบด้วยเม็ดขนาดเล็กของซิลิกาคอลลอยด์ที่มีขนาดเม็ดขนาดเล็กเป็น 0.2 (สูตร)m หรือน้อยกว่า 3. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ประกอบต่อไปด้วยขั้นตอนของ การทำให้เกิดฟิล์มบางที่ประกอบด้วย ชั้นแม่เหล็กเป็นอย่างน้อยที่สุดอยู่บนซับสเตรต แก้วดังกล่าว ฟิล์มบางดังกล่าวถูกประกอบด้วยเม็ดขนาดเล็กของผลึกรูปแบบเดียวกันเป็นสำคัญขนาด เม็ดขนาดเล็กของผลึกเฉลี่ยของเม็ดขนาดเล็กของผลึกตกอยู่ภายในช่วงระหว่าง 5 และ 30 (สูตร)m 4. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ประกอบต่อไปด้วยการวางซ้อนซับสเตรตแก้ว ดังกล่าว 5. วิธีการของการผลิตตัวกลางบันทึกข้อมูล ประกอบด้วย การทำให้เกิดฟิล์มบางที่ประกอบดัวย ชั้นแม่เหล็กเป็นอย่างน้อยที่สุดอยู่บนซับสเตรต แก้วดังกล่าวถูกผลิตโดยวิธีการตามข้อถือสิทธิ 1 6. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งความหยาบของผิวหน้าถูกวัดโดยไมโคร สโคปชนิดแรงระหว่างอะตอม 7. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ซับสเตรตแก้วดังกล่าวมีความหยาบของผิวหน้า ซึ่งถูกกำหนดโดย Rmax (สูตร) 15 nm, Ra (สูตร) 1 nm และ Rq(สูตร) 1.5 nm โดยที่ซึ่ง Ra แสดงให้เห็นได้เป็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวเส้นตรงกลาง, Rmax ถูกกำหนดให้เป็นความสูงมากสุดที่แสดงให้เห็นได้ถึงความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุดและจุด ต่ำสุด และ Rq แสดงให้เห็นได้เป็นความหยาบแบบรากของกำลังสองเฉลี่ย 8. วิธีการของการผลิตตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็กที่มีซับสเตรตแก้วที่ประกอบด้วยขั้นตอน ของ การดำเนินกรรมวิธีต่อผิวหน้าหลักของซับสเตรตแก้วดังกล่าวจนกระทั่งความหยาบของ ผิวหน้าถูกกำหนดโดย Rmax (สูตร) 15 nm, Ra (สูตร) 1 nm และ Rq (สูตร) 1.5 nm โดยที่ซึ่ง Ra แสดงให้เห็นได้ เป็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวเส้นตรงกลาง, Rmax ถูกกำหนดให้เป็นความสูงมากสุดที่แสดงให้เห็น ได้ถึงความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุดและจุดต่ำสุด และ Rq แสดงให้เห็นได้เป็นความหยาบแบบราก ของกำลังสองเฉลี่ย และ การสะสมฟิล์มบางประกอบด้วยชั้นแม่เหล็กเป็นอย่างน้อยที่สุดอยู่บนผิวหน้าหลักของ ซับสเตรตแก้วดังกล่าวจนกระทั่งฟิล์มบางดังกล่าว ถูกประกอบด้วยเม็ดขนาดเล็กของผลึกรูปแบบ เดียวกันเป็นสำคัญและขนาดเม็ดขนาดเล็กของผลึกเฉลี่ยของเม็ดขนาดเล็กตกอยู่ภายในช่วงระหว่าง 5 และ 30 nm ที่ซึ่ง Rmax/Ra มากกว่า10 แต่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 30 9. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 8 ที่ซึ่งความหยาบของผิวหน้าถูกวัดโดยไมโคร สโคปชนิดแรงระหว่างอะตอม 10. วิธีการของการผลิตตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็กที่มีซับสเตรตแก้วประกอบด้วยขั้นตอน ของการดำเนินกรรมวิธีต่อผิวหน้าหลักของซับสเตรตแก้วดังกล่าวจนกระทั่งความหยาบของผิวหน้า ถูกกำหนดโดย Rmax (สูตร) 15 nm, Ra (สูตร) 1 nm และ Rmax/Ra (สูตร) 30 โดยที่ซึ่ง Ra แสดงให้เห็นได้เป็น ความหยาบเฉลี่ยแบบแนวเส้นตรงกลางและ Rmax ถูกกำหนดให้เป็นกวามสูงมากที่สุดที่แสดงให้เห็น ได้ถึงความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุดและจุดต่ำสุด และ การสะสมฟิล์มบางประกอบด้วยชั้นแม่เหล็กเป็นอย่างน้อยที่สุดอยู่บนผิวหน้าหลักของ ซับสเตรตแก้วดังกล่าวจนกระทั่งฟิล์มบางดังกล่าวถูกประกอบด้วยเม็ดขนาดเล็กของผลึกรูปแบบ เดียวกันเป็นสำคัญและขนาดเม็ดขนาดเล็กของผลึกเฉลี่ยของเม็ดขนาดเล็กตกอยู่ภายในช่วงระหว่าง 5 และ 30 nm ที่ซึ่ง Rmax/Ra มากกว่า 10 แต่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 30 11. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 10 ที่ซึ่งความหยาบของผิวหน้าถูกวัดโดยไมโคร สโคปชนิดแรงระหว่างอะตอม ----------------------------------------------------------- แก้ไข 17/10/2559 1. วิธีการของการผลิตซับสเตรตแก้วสำหรับดัวกลางบันทึกข้อมูล ประกอบด้วยขั้นตอน ของ การขัดมันตามขั้นตอนการขัดมันที่หนึ่ง ซับสเตรตเเก้วดังกล่าวโดยการใช้ของเหลว การขัดมันที่หนึ่งประกอบด้วย เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่หนึ่ง เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่ หนึ่งที่มีขนาดเม็ดขนาดเล็กที่หนึ่งอยู่ระหว่าง 1 เเละ 3 (สูตร)m การขัดมันตามขั้นตอนการขัดมันที่สอง ซับสเตรตเเก้วดังกล่าวโดยการใช้ของเหลว การขัดมันที่สองประกอบด้วย เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่สอง เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่สอง ที่มีขนาดเม็ดขนาดเล็กที่สองอยู่ระหว่าง 0.5 เเละ 2 (สูตร)m เเละ การขัดมันตามขั้นตอนการขัดมันที่สาม ซับสเตรตดังกล่าวโดยการใช้ของเหลวการขัดมัน ที่สาม เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่สามประกอบด้วย เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่สาม ที่มี ขนาดเม็ดขนาดเล็กที่สามเป็น 0.5 (สูตร)m หรือน้อยกว่า ที่ซึ่ง หลังจากขั้นตอนการขัดมันที่สามซับสเตรตเเก้วดังกล่าวมีความหยาบของผิวหน้า ซึ่งถูกกำหนดโดย Rmax เเละ Ra, เเละ Rmax/Ra มากกว่า 10 เเต่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 30 โดยที่ซึ่ง Ra เเสดงให้เห็นได้เป็นความหยาบเฉลี่ยเเบบเเนวเส้นตรงกลางเเละ Rmax ถูกกำหนดให้เป็นความสูงมาก ที่สุดเเสดงให้เห็นได้ถึงคสามเเตกต่างระหว่างจุดสูงสุด เเละจุดต่ำสุด 2. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งเม็ดขนาดของการขัดมันที่สาม ประกอบด้วยเม็ดขนาดเล็กของซิลิกาคอลลอยด์ที่มีขนาดเล็กเป็น 0.2 (สูตร)m หรือน้อยกว่า 3. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ประกอบต่อไปด้วยขั้นตอน การทำให้เกิดฟิล์มบางที่ประกอบด้วย ชั้นเเม่เหล็กเป็นอย่างน้อยที่สุดอยู่บนซับสเตรต เเก้วดังกล่าว ฟิล์มบางดังกล่าวประกอบด้วยเม็ดขนาดเล็กของผลึกรูปแบบเดียวกันเป็นสำคัญขนาด เม็ดขนาดเล็กของผลึกเฉลี่ยของเม็ดขนาดเล็กของผลึกตกอยู่ภายในช่วงระหว่าง 5 เเละ 30 (สูตร)m 4. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ประกอบต่อไปด้วยการวางซ้อนซับสเตรตเเก้ว ดังกล่าว 5. วิธีการของการผลิตตัวกลางบันทึกข้อมูล ประกอบด้วย การทำให้เกิดฟิล์มบางที่ประกอบด้วย ชั้นเเม่เหล็กเป็นอย่างน้อยที่สุดอยู่บนซับสเตรต เเก้วดังกล่าวถูกผลิตโดยวิธีการตามข้อถือสิทธิ 1 6. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งความหยาบของผิวหน้าถูกวัดโดยไมโคร สโคปชนิดเเรงระหว่างอะตอม 7. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ซับสเตรตเเก้วดังกล่าวมีความหยาบของผิวหน้า ซึ่งถูกกำหนดโดย Rmax (สูตร) 15 nm, Ra (สูตร) 1 nm เเละ Rq (สูตร) 1.5 nm โดยที่ซึ่ง Ra เเสดงให้เห็นได้เป็นความหยาบเฉลี่ยเเบบเเนวเส้นตรงกลาง, Rmax ถูกกำหนดให้เป็นความสูงมากสุดที่เเสดงให้เห็นได้ถึงความเเตกต่างระหว่างจุดสูงสุดเเละจุด ต่ำสุด เเละ Rq เเสดงให้เห็นได้เป็นความหยาบเเบบรากของกำลังสองเฉลี่ย 8. วิธีการของการผลิตตัวกลางบันทึกทางเเม่เหล็กที่มีซับสเตรตเเก้วที่ประกอบด้วยขั้นตอน ของ การดำเนินกรรมวิธีต่อผิวหน้าหลักของซับสเตรตเเก้วดังกล่าวจนกระทั่งความหยาบของ ผิวหน้าถูกกำหนดโดย Rmax (สูตร) 15 nm, Ra (สูตร) 1nm เเละ Rq (สูตร) 1.5 nm โดยที่ซึ่ง Ra เเสดงให้เห็นได้ เป็นความหยาบเฉลี่ยเเบบเเนวเส้นตรงกลาง, Rmax ถูกกำหนดให้เป็นความสูงมากสุดที่เเสดงให้เห็น ได้ถึงความเเตกต่างระหว่างจุดสูงสุดเเละจุดต่ำสุด เเละ Rq เเสดงให้เห็นได้เป็นความหยาบเเบบราก ของกำลังสองเฉลี่ย เเละ การสะสมฟิล์มบางประกอบด้วยชั้นเเม่เหล็กเป็นอย่างน้อยที่สุดอยู่บนผิวหน้าหลักของ ซับสเตรตเเก้วดังกล่าวจนกระทั่งฟิล์มบางดังกล่าว ถูกประกอบด้วยเม็ดขนาดเล็กของผลึกรูปแบบ เดียวกันเป็นสำคัญเเละขนาดเม็ดขนาดเล็กของผลึกเฉลี่ยของเม็ดขนาดเล็กตกอยู่ภายในช่วงระหว่าง 5 เเละ 30 nm ที่ซึ่ง Rmax/Ra มากกว่า 10 เเต่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 30 9. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 8 ที่ซึ่งความหยาบของผิวหน้าถูกวัดโดยไมโคร สโคปชนิดเเรงระหว่างอะตอม 10. วิธีการของการผลิตดังกล่าวบันทึกทางเเม่เหล็กที่มีซับสเตรตเเก้วประกอบด้วยขั้นตอน ของการดำเนินกรรมวิธีต่อผิวหน้าหลักของซับสเตรตเเก้วดังกล่าวจนกระทั่งความหยาบของผิวหน้า ถูกกำหนดโดย Rmax (สูตร) 15 nm, Ra (สูตร) 1 nm เเละ Rmax/Ra (สูตร) 30 โดยที่ซึ่ง Ra เเสดงให้เห็นได้เป็น ความหยาบเฉลี่ยเเบบเเนวเส้นตรงกลางเเละ Rmax ถูกกำหนดใหเป็นความสูงมากที่สุดที่เเสดงให้เห็น ได้ถึงความเเตกต่างระหว่างจุดสูงสุดเเละจุดต่ำสุด และ การสะสมฟิล์มบางประกอบด้วยชั้นแม่เหล็กเป็นอย่างน้อยที่สุดอยู่บนผิวหน้าหลักของ ซับสเตรตแก้วดังกล่าวจนกระทั่งฟิล์มบางดังกล่าวถูกประกอบด้วยเม็ดขนาดเล็กของผลึกรูปแบบ เดียวกันเป็นสำคัญและขนาดเม็ดขนาดเล็กของผลึกเฉลี่ยของเม็ดขนาดเล็กตกอยู่ภายในช่วงระหว่าง 5 และ 30 nm ที่ซึ่ง Rmax/Ra มากกว่า 10 แต่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 30 11. วิธีการดังที่ข้อถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 10 ที่ซึ่งความหยาบของผิวหน้าถูกวัดไมโคร สโคปชนิดแรงระหว่างอะตอม --------------------------

1. วิธีการของการผลิตซับสเตรตแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล ประกอบด้วยขั้นตอน ของ การขัดมันตามขั้นตอนการขัดมันที่หนึ่ง ซับสเตรตแก้วดังกล่าวโดยการใช้ของเหลว การขัดมันที่หนึ่งประกอบด้วย เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่หนึ่ง เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่ หนึ่งที่มีขนาดเต็มขนาดเล็กที่หนึ่งอยู่ระหว่าง 1 และ 3 (สูตร)m การขัดมันตามขั้นตอนการขัดมันที่สอง ซับสเตรตแก้วดังกล่าวโดยการใช้ของเหลว การขัดมันที่หนึ่งประกอบด้วย เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่สอง เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่สอง ที่มีขนาดเต็มขนาดเล็กที่หนึ่งอยู่ระหว่าง 0.5 และ 2 (สูตร)m และ การขัดมันตามขั้นตอนการขัดมันที่สาม ซับสเตรตดังกล่าวโดยการใช้ของเหลวการขัดมัน ที่สาม เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่สามประกอบด้วย เม็ดขนาดเล็กของการขัดมันที่สาม ที่มี ขนาดเม็ดขนาดเล็กที่สามเป็น 0.5 (สูตร)m หรือน้อยกว่า ที่ซึ่ง หลังจากขั้นตอนการขัดมันที่สามซับสเตรตแก้วดังกล่าวมีความหยาบของผิวหน้า ซึ่งถูกกำหนด โดย Rmax และ Ra, และ Rmax/Ra มากกว่า 10 แต่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 30 โดยที่ซึ่ง Ra แสดงให้เห็นได้เป็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวเส้นตรงกลางและ Rmax ถูกกำหนดให้เป็นความสูงมาก ที่สุดแสดงให้เห็นได้ถึงความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุดและจุดต่ำสุด

2. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งเม็กขนาดเล็กของการขัดมันที่สาม ประกอบด้วยเม็ขนาดเล็กของซิลิการคอลลอยด์ที่มีขนาดเล็กเป็น 0.2 (สูตร)m หรือน้อยกว่า

3. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ประกอบต่อไปด้วยขั้นตอนของ การทำให้เกิดฟิล์มบางที่ประกอบด้วยชั้นแม่เหล็กเป็นอย่างน้อยที่สุดอยู่บนซับสเตรต แก้วดังกล่าว ฟิล์มบางดังกล่าวถูกประกอบด้วยเม็ดขนาดเล็กของผลึกรูปแบบเดียวกันเป็นสำคัญขนาด เม็ดขนาดเล็กของผลึกเฉลี่ยของเม็ดขนาดเล็กของผลึกตกอยู่ภายในระหว่าง 5 และ 30 (สูตร)m

4. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ประกอบต่อไปด้วยการวางซับสเตรตแก้ว ดังกล่าว

5. วิธีการผลิตตัวกลางบันทึกข้อมูล ประกอบด้วย การทำให้เกิดฟิล์มบางที่ประกอบด้วย ชั้นแม่เหล็กเป็นอย่างน้อยที่สุดอยู่บนซับสเตรต แก้ดังกล่าวถูกผลิต โดยวิธีการตามข้อถือสิทธิ 1

6. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งความหมายของผิวหน้าถูกวัดโดยไมโคร สโคปชนิดแรงระหว่างอะตอม

7. วิธีดังที่ขอถือสิทธิอในข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ซับสเตรตแก้วดังกล่าวมีความหยาบของผิวหน้า ซึ่งถูกกำหนดโดย Rmax (สูตร)15 nm, Ra (สูตร)1nm และ Rq(สูตร)1.5 nm โดยที่ซึ่ง Ra แสดงให้เห็นได้เป็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวเส้นตรงกลาง, Rmax ถูกกำหนดให้เป็นความสูงมากสุดที่แสดงให้เห็นได้ถึงความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุดและจุด ต่ำสุด และ Rq แสดงให้เห็น ได้เป็นความหยาบแบบรากของกำลังสองเฉลี่ย

8. วิธีการของการผลิตตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็กที่มีซับสเตรตแก้วที่ประกอบด้วยขั้นตอน ของ การดำเนินกรรมวิธีต่อผิวหน้าหลักของซับสเตรตแก้วดังกล่าวจนกระทั่งความหยาบของ ผิวหน้าถูกกำหนดโดย Rmax(สูตร)15 nm, Ra(สูตร)1 nm และ Rq(สูตร)1.5 nm โดยที่ซึ่ง Ra แสดงให้เห็นได้ เป็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวเส้นกลาง, Rmax ถูกกำหนดให้เป็นความสูงมากสุดที่แสดงให้เห็น ได้ถึงความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุดและจุดต่ำสุด และ Rq แสดงให้เห็นได้เป็นความหยาบแบบราก ของกำลังสองเฉลี่ย และ การสะสมฟิล์มบางประกอบด้วยชั้นแม่เหล็กเป็นอย่างน้อยที่สุดอยู่บนผิวหน้าหลังของ ซับสเตรตแก้วดังกล่าวจนกระทั้งฟิล์มบางดังกล่าว ถูกประกอบด้วยเม็กขนาดเล็กของผลึกรูปแบบ เดียวกันเป็นสำคัญและขนาดเม็ดขนาดเล็กของผลึกเฉลี่ยของเม็ดขนาดเล็กตกอยู่ภายในช่วงระหว่าง 5 และ 30 nm ที่ซึ่ง Rmax/Ra มากกว่า 10 แต่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 30

9. วิธีการดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 8 ที่ซึ่งความหยาบของผิวหน้าถูกวัดโดยไม่โคร สโคปชนิดแรงระหว่างอะตอม

10. วิธีการของการผลิตดังกล่าวบันทึกทางแม่เหล็กที่มีซับสเตรตแก้วประกอบด้วยขั้นตอน ของการดำเนินกรรมวิธีต่อผิวหน้าหลักของซับสเตรตแก้วดังกล่าวจนกระทั่งความหยาบของผิวหน้า ถูกกำหนดโดย Rmax(สูตร)15 nm, Ra(สูตร)1 nm และ Rmax/Ra(สูตร)30 โดยที่ซึ่ง Ra แสดงให้เห็นได้เป็น ความหมายหยาบเฉลี่ยแบบแนวเส้นตรงกลางและ Rmax ถูกกำหนดให้เป็นความสูงมากที่สุดที่แสดงให้เห็น ได้ถึงความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุดและจุดต่ำสุด และ การสะสมฟิล์มบางประกอบด้วยชั้นแม่เหล็กเป็นอย่างน้อยที่สุดอยู่บนผิวหน้าหลักของ ซับสเตรตแก้วดังกล่าวจนกระทั่งฟิล์มบางดังกล่าวถูกประกอบด้วยเม็กขนาดเล็กของผลึกรูปแบบ เดียวกันเป็นสำคัญและขนาดเม็ดขนาดเล็กของผลึกเฉลี่ยของเม็ดขนาดเล็กตกอยู่ภายในช่วงระหว่าง 5 และ 30 nm ที่ซึ่ง Rmax/Ra มากกว่า 10 แต่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 30

11. วิธีการดังที่ข้อถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 10 ที่ซึ่งความหยาบของผิวหน้าถูกวัดไมโคร สโคปชนิดแรงระหว่างอะตอม

12. ซับสเตรตแก้วสำหรับจานแม่เหล็ก โดยที่ซับสเตรตแก้วมีผิวหน้าหลักซึ่งมีความหยาบ ของผิวหน้าที่ถูกกำหนดโดย Rmax(สูตร)15 nm, Ra(สูตร)1.3 nm Rmax/Ra(สูตร)10(โดยที่ความหยาบของ ผิวหน้าถูกวัดโดยไมโครสโคปชนิดแรงระหว่างอะตอม)

13. ซับสเตรตแก้วสำหรับจานแม่เหล็ก โดยที่ซับสเตรตแก้วมีผิวหน้าหลักซึ่งมีความหยาบ ของผิวหน้าที่ถูกกำหนดโดย Rmax(สูตร)10 nm, Ra(สูตร)0.8 nm Rmax/Ra(สูตร)10.5(โดยที่ความหยาบของ ผิวหน้าถูกวัดโดยไมโครสโคปชนิดแรงระหว่างอะตอม)

14. ซับสเตรตแก้วสำหรับจานแม่เหล็กตามข้อถือสิทธิ 12 หรือ 13 โดยที่ซับสเตรตแก้วมี ผิวหน้าซึ่งฟิล์มบางซึ่งอย่างน้อยรวมถึงชั้นแม่เหล็กจะถูกก่อรูปบนนั้นเพื่อให้ได้จานแม่เหล็ก ซึ่งฟิล์ม บางถูกสะสมโดยการฉีดออกเป็นเส้นตรงต่อเนื่องกัน

15. จานแม่เหล็กที่ประกอบด้วยซับสเตรตข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิ 12 ถึง 14 และฟิล์มบางอย่างน้อยรวมถึงแม่เหล็ก และถูกก่อรูปบนซับสเตรตแก้ว

16. วิธีการของการผลิตจาแม่เหล็ก ซึ่งวิธีการนี้ประกอบด้วยขั้นตอนของการเตรียมซับส เตรตแก้วสำหรับจานแม่เหล็กตมข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิ 12 ถึง 15 และการสะสมฟิล์มบางบน ซับสเตรตแก้วซึ่งฟิล์มบางอย่างน้อยรวมถึงชขั้นแม่เหล็ก

17. วิธีตามข้อถือสิทธิ 16 ที่ซึ่งฟิล์มบางถูกสะสมโดยการฉีดออกเป็นเส้นตรงต่อเนื่องกัน

18. ซับสเตรตแก้วสำหรับจานแม่เหล็ก ซึ่งจานแม่เหล็กประกอบด้วยซับสเตรตแก้วและ ฟิล์มบางที่ถูกก่อรูปบนซับสเตรตแก้ว ซึ่งฟลิ์มบางรวมถึงชั้นแม่เหล็กซึ่งมีขนาดของเม็ดขนาดเล็ก ที่เป็นผลึกเฉลี่ยระหว่าง 5 และ 30 nm โดยมีครึ่งหนึ่งของความกว้างแถบเป็น 20 nm หรือน้อยกว่า ที่จุดขนาดของเม็ดขนาดเล็กที่เป็นผลึกถูกทำให้กระจายเกือบทั้งหมด ที่ซึ่งเม็ดขนาดเล็กที่เป็น ผลึกของฟิล์มบางถูกวัดตามการกระจายของขนาดของเม็ดเล็กที่เป็นผลึกใน 1 ตาราง (สูตร)m ซึ่งจายแม่เหล็กถูกปรับสำหรับปฏิบัติการบันทึก/การผลิตขึ้นใหม่โดยใช้ชนิดต้านทานแมกนีโต โดย ซับสเตรตแก้วมีผิวหน้าหลักซึ่งมีความหยาบของผิวหน้าที่ถูกกำหนดโดย Rmax(สูตร)2.55 nm, Ra(สูตร)0.25 nm,Rq(สูตร)0.31 nm, Rmax/Ra(สูตร)10.2และ Rmax/Ra(สูตร)30(ที่ซึ่งความหยาบของ ผิวหน้าถูกวัดโดยไม่โครสโคปชนิดแรงระหว่างอะตอม)

19. ซับสเตรตแก้วสำหรับจานแม่เหล็ก ซึ่งจานแม่เหล็กประกอบด้วยซับสเตรตแก้วแลัฟิล์ม บางที่ถูกก่อรูปบนซับสเตรตแก้วซึ่งบางรวมถึงชั้นแม่เหล็กซึ่งมีขนาดของเล็กที่เป็น ผลึกเฉลี่ยระหว่าง 5 และ 30 nm และซึ่งประกอบด้วยเม็ดขนาดเล็กที่เป็นผลึกซึ่งเป็นรูปแบบเดียวกัน อย่างเด่นชัด ซึ่งจานแม่เหล็กถูกปรับสำหรับปฏิบัติการบันทึก/การผลิตขึ้นใหม่โดยใช้หัวชนิด ต้านทานแมกนีโต โดยที่ ซับสเตรตแก้วมีผิวหน้าหลักซึ่งมีความหยาบของผิวหน้าที่ถูกกำหนดโดย Rmax(สูตร)2.55 nm, Ra(สูตร)0.25 nm,Rq(สูตร)0.31 nm, Rmax/Ra(สูตร)10.2และ Rmax/Ra(สูตร)30(ที่ซึ่งความหยาบของ ผิวหน้าถูกวัดโดยไม่โครสโคปชนิดแรงระหว่างอะตอม)

20. ซับสเตรตแก้วสำหรับจานแม่เหล็กตามข้อถือสิทธิ 18 หรือ 19 โดยที่ซับสเตรตแก้วมี ผิวหน้าซึ่งฟิล์มบางซึ่งอย่างน้อยรวมถึงชั้นแม่เหล็กจะถูกก่อรูปบนนั้นเพื่อให้ได้จานแม่เหล็ก ซึ่งฟิล์ม บางถูกสะสมโดยการฉีดออกเป็นเส้นตรงต่อเนื่องกัน

21. จานแม่เหล็กที่ประกอบด้วยซับสเตรตแก้วตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิ 18 ถึง 20 และฟิล์มบางซึ่งถูกก่อรูปบนซับสเตรตแก้ว ซึ่งฟิล์มบางอย่างน้อยรวมถึงชั้นแม่เหล็กซึ่งมีขนาด ของเม็ดขนาดเล็กที่เป็นผลึกเฉลี่ยระหว่าง 5 และ 30 nm โดยมีครึ่งของความกว้างแถบเป็น 20 nm หรือน้อยกว่าที่จุดที่ขนาดของเม็ดขนาดเล็กที่เป็นผลึกถูกทไให้กระจายเก็บทั้งหมด ที่ซึ่ง เม็ดขนาดเล็กที่เป็นผลึกของฟิล์มบางถูกวัดตามการกระจายของขนาดของเม็ดขนาดเล็กที่เป็น ผลึกใน 1 ตาราง (สูตร)m ซึ่งจานแม่เหล็กถูกปรับปฏิบัติการบันทึก/การผลิตขึ้นใหม่โดยใช้หัวชนิด ต้านทานแมกนีโต

22. วิธีการของการผลิตจานแม่เหล็ก ซึ่งวิธีการนี้ประกอบด้วยขั้นตอนของการการเตรียม ซับสเตรตแก้วสำหรับจานแม่เหล็กตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิ 18 ถึง 21 และการสะสมฟิล์มบาง บนซับสเตรตแก้ว ซึ่งฟิล์มบางอย่างน้อยรวมถึงชั้นแม่เหล็ก

23. วิธีการตามข้อถือสิทธิ 22 ที่ซึ่งฟิล์มบางถูกสะสมโดยการฉีดออกเป็นเส้นตรงต่อเนื่องกัน