TR201718310A2 - Isil i̇şlenebi̇li̇r bi̇r low-e kaplama ve üreti̇m yöntemi̇ - Google Patents
Isil i̇şlenebi̇li̇r bi̇r low-e kaplama ve üreti̇m yöntemi̇ Download PDFInfo
- Publication number
- TR201718310A2 TR201718310A2 TR2017/18310A TR201718310A TR201718310A2 TR 201718310 A2 TR201718310 A2 TR 201718310A2 TR 2017/18310 A TR2017/18310 A TR 2017/18310A TR 201718310 A TR201718310 A TR 201718310A TR 201718310 A2 TR201718310 A2 TR 201718310A2
- Authority
- TR
- Turkey
- Prior art keywords
- layer
- dielectric layer
- znaiox
- sixny
- thickness range
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 36
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 45
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 55
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 claims description 35
- -1 SiOxNy_ ZnSnOx Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910020776 SixNy Inorganic materials 0.000 claims description 11
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910010421 TiNx Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910007667 ZnOx Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910008328 ZrNx Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910003134 ZrOx Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 241000282320 Panthera leo Species 0.000 claims 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 285
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 10
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 9
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 8
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 235000008331 Pinus X rigitaeda Nutrition 0.000 description 1
- 235000011613 Pinus brutia Nutrition 0.000 description 1
- 241000018646 Pinus brutia Species 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 description 1
- 230000009191 jumping Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Buluş güneş enerjisi spektrumunun görünür bölgesini etkin bir şekilde geçirirken aynı zamanda yakın kızılötesi ve kızılötesi bölgesini etkin bir şekilde yansıtan bir low-e kaplamalı cam ve üretim yöntemi ilgilidir.
Description
TEKNIK ALAN
Bulus, gün isigi geçirgen ve isi yalitim cami olarak kullanilan, içeriginde kizilötesi
yansitici katmanlar olan günes kontrol özellikli bir düsük yayinimli (low-e) kaplama
ile ilgilidir.
ONCEKI TEKNIK
Camlarin optik özelliklerini farklilastiran etmenlerden biri cam yüzeyine yapilan
kaplama uygulamalaridir. Kaplama uygulamalarindan biri de vakum ortaminda
manyetik alan destekli siçratma yöntemidir. Ozellikle low-e özelligine sahip mimari
ve otomotiv kaplamalarin üretiminde sik basvurulan bir yöntemdir. Bahsedilen
yöntemle kaplanan camlarin görünür, yakin kizilötesi ve kizil ötesi bölgedeki
geçirgenlik ve yansitma degerleri hedeflenen seviyelerde elde edilebilmektedir.
Geçirgenlik ve yansitma degerleri disinda, kaplamali camlarda seçicilik degeri de
önemli bir parametredir. Seçicilik, ISO 9050 (2003) standardinda görünür bölge
geçirgenlik degerinin solar faktöre orani olarak tanimlanmaktadir. Kaplamalarin
seçicilik degerleri de içerdigi Ag katmani sayisi, kullanilan çekirdeklestirici katman
türü, katmanlarin parametrik optimizasyonlari ile hedeflenen seviyelerde
tutulabilmektedir.
US9499899 yayin numarali bulusta bir altlik ve altlik üzerinde olusturulan bir
yansitici katmani içerebilen düsük yayinma özelligine sahip panellerin
olusturulmasi için sistemler, yöntemler ve aparat ifsa edilmektedir. Düsük yayinma
özelligine sahip paneller, ilave olarak, yansitici katman üzerinde olusturulan bir üst
dielektrik katmani içerebilmekte ve böylece, üst dielektrik katman ve altlik arasinda
yansitici katman olusturulmaktadir. Ust dielektrik katman, çinko kalay alüminyum
oksit gibi bir üçlü metal oksidi içerebilmektedir. Ust dielektrik katman ayrica
alüminyum da içerebilmektedir. Alüminyumun konsantrasyonu, %1 atomik civari ila
olabilmektedir. Ust dielektrik katmandaki çinkonun kalaya atomik orani, 0,67 civari
ilâ 1,5 civari arasinda ve 0,9 civari ilâ 1,1 civari arasinda olabilmektedir.
BULUSUN KISA AÇIKLAMASI
Mevcut bulus ilgili teknik alana yeni avantajlar getirmek üzere, günes kontrol
özellikli bir low-e kaplamali cam ile ilgilidir.
Bulusun bir amaci, görünür isigi etkin bir sekilde geçirirken ayni zamanda günes
enerjisini etkin bir sekilde yansitan bir low-e kaplamali cam ortaya koymaktir.
Yukarida bahsedilen ve asagidaki detayli anlatimdan ortaya çikacak tüm amaçlari
gerçeklestirmek üzere mevcut bulus, bir low-e kaplamali camdir. Buna göre söz
konusu bulusun özelligi bahsedilen low-e kaplamanin camdan disari dogru
sirasiyla;
- SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNX, ZrNxi den seçilen bir birinci dielektrik
- NiCr, NiCrOX, TiOx, ZnAIOx, ZnOX'den seçilen bir birinci çekirdeklestirici
- bir birinci kizilötesi yansitici katman;
- NiCr, NiCrOx, TIOX, ZnAloxiden seçilen bir birinci bariyer katman;
- SiXNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOX, ZnAIOX, SiOxNy, TIOX, ZnOX' den seçilen bir
üçüncü dielektrik katman;
- SiXNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOX, ZnAIOX, SiOxNy, TiOX, ZnOx' den seçilen bir
dördüncü dielektrik katman;
- NiCr, NiCrOX, TiOX, ZnAIOX, Znoxtden seçilen bir ikinci çekirdeklestirici
- Bir ikinci kizilötesi yansitici katman;
- NiCr, NiCrOx, TiOX, ZnAIOX'den seçilen bir ikinci bariyer katman;
- ZnSnOX, ZnAlOX, SiOxNy, ZrOx, SIOX, SixNy, TiOX, ZnOX'den seçilen bir
besinci dielektrik katman;
- SiOxNy içeren bir üst dielektrik katmani içermesidir.
Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, bahsedilen low-e kaplamanin camdan
disari dogru sirasiyla;
SiXNy içeren birinci dielektrik katman
ZnAIOX içeren birinci çekirdeklestirici katman
Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katman
NiCrOX içeren birinci bariyer katman
ZnAIOX içeren bir üçüncü dielektrik katman
SIXNy içeren bir dördüncü dielektrik katman
ZnAlOX içeren ikinci çekirdeklestirici katman
Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katman
NiCrOX içeren ikinci bariyer katman
ZnAIOX içeren besinci dielektrik katman
SIOXNy içeren üst dielektrik katman içermesidir.
Bulusun tercih edilen bir yapilanmasi, bahsedilen low-e kaplamanin camdan disari
dogru sirasiyla;
SiXNy içeren birinci dielektrik katman
TiOx içeren ikinci dielektrik katman
ZnAIOX içeren birinci çekirdeklestirici katman
Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katman
NiCrOX içeren birinci bariyer katman
ZnAIOX içeren bir üçüncü dielektrik katman
SiXNy içeren bir dördüncü dielektrik katman
ZnAIOX içeren ikinci çekirdeklestirici katman
Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katman
NiCrOX içeren ikinci bariyer katman
ZnAIOX içeren besinci dielektrik katman;
SIOXNy içeren üst dielektrik katman içermesidir.
Bulusun tercih edilen bir yapilanmasinda, bahsedilen low-e kaplama camdan disari
dogru sirasiyla;
SIXNy içeren birinci dielektrik katmanin 10 nm - 20 nm kalinlik araliginda;
TiOXiçeren ikinci dielektrik katmanin 0 nm - 10 nm kalinlik araliginda;
ZnAIOX içeren birinci çekirdeklestirici katmanin 8 nm - 20 nm kalinlik
araliginda;
Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katmanin 8 nm - 20 nm kalinlik
araliginda;
NiCrOX içeren birinci bariyer katmanin 0,8 nm - 2,0 nm kalinlik
araliginda;
ZnAIOX içeren bir üçüncü dielektrik katmanin 15 nm - 30 nm kalinlik
araliginda;
SixNy, içeren bir dördüncü dielektrik katmanin 30 nm - 50 nm kalinlik
araliginda;
ZnAIOX içeren ikinci çekirdeklestirici katmanin 15 nm - 30 nm kalinlik
araliginda;
Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katmanin 8 nm - 20 nm kalinlik
araliginda;
NiCrOX içeren ikinci bariyer katmanin 0,8 nm - 2,0 nm kalinlik araliginda;
ZnAIOX içeren besinci dielektrik katmanin 10 nm - 20 nm kalinlik
araliginda;
SiOxNy içeren üst dielektrik katmanin 20 nm - 35 nm kalinlik araliginda
olacak sekilde katmanlar içermesidir.
Bulusun tercih edilen bir yapilanmasinda, bahsedilen low-e kaplama, camdan
disari dogru sirasiyla;
SiXNy içeren birinci dielektrik katmanin 10 nm - 20 nm kalinlik araliginda;
TiOX içeren ikinci dielektrik katmanin 2 nm - 8 nm kalinlik araliginda;
ZnAIOX içeren birinci çekirdeklestirici katmanin 8 nm - 20 nm kalinlik
araliginda;
Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katmanin 8 nm - 20 nm kalinlik
araliginda;
NiCrOX içeren birinci bariyer katmanin 0,8 nm - 2,0 nm kalinlik
araliginda;
ZnAIOX içeren bir üçüncü dielektrik katmanin 15 nm - 30 nm kalinlik
araliginda;
SixNy, içeren bir dördüncü dielektrik katmanin 30 nm - 50 nm kalinlik
araliginda;
- ZnAIOX içeren ikinci çekirdeklestirici katmanin 15 nm - 30 nm kalinlik
araliginda;
- Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katmanin 8 nm - 20 nm kalinlik
araliginda;
- NiCrOX içeren ikinci bariyer katmanin 0,8 nm - 2,0 nm kalinlik araliginda;
- ZnAIOX içeren besinci dielektrik katmanin 10 nm - 20 nm kalinlik
araliginda;
- SiOxNy içeren üst dielektrik katmanin 20 nm - 35 nm kalinlik araliginda
olacak sekilde katmanlar içermesidir.
Yukarida bahsedilen ve asagidaki detayli anlatimdan ortaya çikacak tüm amaçlari
gerçeklestirmek üzere mevcut bulus, yukaridaki dizilim alternatifleri ile sinirli
kalmamak kosuluyla low-e kaplamali cama ait üretim yöntemidir. Buna göre mevcut
bulusun özelligi; birinci bariyer katman ve ikinci bariyer katmaninin kaplanmasi
esnasinda 02 akis hizi / güç yogunlugu oraninin 8 sccm/(Watt*cm`2)'den küçük
olmasidir.
SEKILIN KISA AÇIKLAMASI
Sekil 1' de low-e katman diziliminin genel bir görünümü verilmistir.
SEKILDE VERILEN REFERANS NUMARALARI
Cam
Low-e kaplama
21 Alt dielektrik yapi
211 Birinci dielektrik katman
212 Ikinci dielektrik katman
213 Birinci çekirdeklestirici katman
22 Birinci kizilötesi yansitici katman
23 Birinci bariyer katman
24 Orta dielektrik yapi
241 Uçüncü dielektrik katman
243 Ikinci çekirdeklestirici katman
Ikinci kizilötesi yansitici katman
26 Ikinci bariyer katman
27 Ust dielektrik yapi
271 Besinci dielektrik katman
272 Ust dielektrik katman
BULUSUN DETAYLI AÇIKLAMASI
Bu detayli açiklamada bulus konusu low-e kaplamali (20) cam (10) sadece
konunun daha iyi anlasilmasina yönelik hiçbir sinirlayici etki olusturmayacak
örneklerle açiklanmaktadir.
Mimari ve otomotive yönelik low-e kaplamali (20) camlarin (10) üretimi “sputtering”
(bundan sonra metinde siçratma yöntemi olarak anilacaktir) yöntemi ile
gerçeklestirilmektedir. Bu bulus genel olarak; gün isigi geçirgen ve isi yalitim cami
(10) olarak kullanilan, isil islem dayanimi yüksek olan çift gümüslü low-e kaplamali
(20) camlar (10), bahsedilen low-e kaplamanin (20) içerigi ve uygulamasi ile ilgilidir.
Bulus konusu low-e kaplamali (20) cam (10), mimari ve otomotiv sektörleri için isi
cam ünitesi ve Iaminasyonlu yapilarda kullanilabilmektedir.
Bu bulusta, bir camin (10) yüzeyine uygulanmak üzere yüksek seviyede görünür
isik geçirgenligine sahip, isil islenebilir bir sekilde tasarlanmis olan ve günes
kontrol özelligine de sahip bir low-e kaplamali (20) cam (10) elde edebilmek amaci
ile siçratma yöntemi kullanilarak cam (10) yüzeyinde konumlanan çoklu sayida
metal, metal oksit ve/veya metal nitrür/oksinitrür katmanlarindan olusan bir low-e
kaplama (20) gelistirilmistir. Söz konusu katmanlar sirasi ile birbiri üzerine vakum
ortaminda biriktirilmektedir. Isil islem olarak temperleme, kismi temperleme,
tavlama, bükme ve Iaminasyon islemlerinden en az biri ve/veya birkaçi birlikte
kullanilabilmektedir. Bulus konusu günes kontrol özellikli low-e kaplamali (20) cam
(10) mimari ve otomotiv cami (10) olarak kullanilabilmektedir.
Gerek üretim kolayligi açisindan, gerekse optik özellikleri açisindan isil islenebilir,
günes kontrol özellikli bir low-e kaplama (20) dizilimini gelistirmek üzere deneysel
çalismalar neticesinde asagidaki veriler tespit edilmistir.
Bulus konusu low-e kaplamada (20); günes enerjisi spektrumu görünür bölgeyi
(bundan sonra % Tvis olarak adlandirilacaktir) hedeflenen düzeyde geçirmeyi ve
kizilötesi bölgede olan isil radyasyonu yansitmayi (daha az geçirerek) saglayan bir
birinci kizilötesi yansitici katman (22) ve bir ikinci kizilötesi yansitici katmandir (25).
Birinci kizilötesi yansitici katman (22) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (25)
olarak Ag katmani kullanilmaktadir ve isi yayinimi düsüktür.
Bulus konusu low-e kaplamali (20) camda (10); tüm katmanlarin kirma indisleri
alinan tek katman ölçümlerinden elde edilen optik sabitler üzerinden hesaplamali
yöntemler kullanilarak belirlenmistir. Söz konusu kirma indisleri 550 nm'deki kirma
indisi verileridir.
Bulus konusu low-e kaplamada (20); cama (10) temas edecek sekilde bir alt
dielektrik yapi (21) mevcuttur. Bahsedilen alt dielektrik yapida (21) en alt katman
olarak bir birinci dielektrik katman (211) kullanilmaktadir. Bahsedilen birinci
dielektrik katman (211) SixNy, SiAINX, SiAIOXNy, SiOxNy_ ZnSnOX, TiOx, TiNx, ZrNX
malzemelerinden en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada birinci
dielektrik katman (211) SIXNy içermektedir. SiXNy içeren birinci dielektrik katman
(211), difüzyon bariyeri olarak davranarak, yüksek sicaklikta kolaylasan alkali iyon
göçünü engelleme amacina hizmet etmektedir. Böylece SiXNy içeren birinci
dielektrik katman (211), low-e kaplamanin (20) isil islem süreçlerine dayanimina
destek vermektedir. SiXNy içeren birinci dielektrik katmaninin (211) kirma indisi için
degisim araligi 2,00 ile 2,10 arasindadir. Tercih edilen yapida SiXNy içeren birinci
dielektrik katmaninin (211) kirma indisi için degisim araligi 2,02 ile 2,07, dir.
SiXNy içeren birinci dielektrik katmani (211) kalinligi 10 nm - 20 nm arasindadir.
Tercih edilen uygulamada SiXNy içeren birinci dielektrik katmani (211) kalinligi 12
nm - 18 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada SiXNy içeren birinci
dielektrik katmani (211) kalinligi 13 nm - 17 nm arasindadir.
SiXNy içeren birinci dielektrik katmani (211) ile birinci kizilötesi yansitici katman (22)
olan Ag katmani arasinda en az bir birinci çekirdeklestirici katman (213)
konumlanmaktadir. Bulusun bir uygulamasinda birinci çekirdeklestirici katman
(213), SIXNy içeren birinci dielektrik katmani (211) ile dogrudan temas etmektedir.
Birinci çekirdeklestirici katman (213) NiCr, NiCrOX, TiOX, ZnSnOx, ZnAIOX, ZnOx'
den en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada birinci çekirdeklestirici
katman ( kalinligi 8
nm - 20 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada birinci çekirdeklestirici katman
(213) kalinligi 9 nm - 16 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada birinci
çekirdeklestirici katman (213) kalinligi 10 nm - 15 nm arasindadir.
Bulusun bir diger uygulamasinda birinci çekirdeklestirici katman (213) ile SIXNy
içeren birinci dielektrik katmani (211) arasinda bir ikinci dielektrik katman (212)
konumlanmaktadir. Bahsedilen ikinci dielektrik katman (212) TiOX, ZrOx, NbOX
katmanlarindan en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada ikinci dielektrik
katman (212) olarak TiOX kullanilmaktadir. TiOx, kirilma indisi yüksek bir malzeme
oldugu için, daha az toplam fiziksel kalinlik ile ayni optik performansin elde
edilmesini saglamakta, low-e kaplamanin (20) %Tvis degerini artirici rol
oynamaktadir. TiOX katmaninin kirilma indisi 2,40 ile 2,60 arasindadir. Tercih
edilen uygulamada 2,45 - 2,55 olarak belirlenmistir. Ikinci dielektrik katman (212)
olan TiOX katmani kalinligi O nm - 10 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada
TiOX katmani kalinligi 2 nm - 8 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada
TiOX katmani kalinligi 2 nm - 7 nm arasindadir.
Camdan sonraki birinci ve ikinci katmanlar olan SIXNy içeren birinci dielektrik
katmani (211) ve ikinci dielektrik katman (212) olan TiOX katmani birlikte
kullanildiginda, ikinci dielektrik katman (212) olan TiOX katmaninin yüksek kirilma
indisi sayesinde, daha ince SIXNy içeren birinci dielektrik katman (211) kullanimi ile
optik performansin optimize edilmesi mümkün olmaktadir. Belirtilen kalinlik
degerinin altinda her ne kadar low-e kaplamali (20) camin (10) %TviS degerleri
degismese de renk ve optik performansinda ciddi degismeler görülmektedir.
Üzerinde olmasi durumunda ise low-e kaplamali (20) camin (10) renk
degerlerinden CIELAB uzayindaki geçirgenlik renk b* degeri ya da bir diger ifade ile
taraf yansima (bundan sonra %Rgvis) artmaktadir.
Görünür bölge isik geçirgenligi ya da bir diger ifade ile %Tvis azalmakta, ve bu da
hedeflenen performanstan uzaklasmaya neden olmaktadir.
Birinci kizilötesi yansitici katman (22) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (25)
arasinda konumlanarak birinci kizilötesi yansitici katman (22) ve ikinci kizilötesi
yansitici katmani (25) birbirinden ayiran ve low-e katman (20) diziliminin
hedeflenen performansa ulasmasini saglayan bir orta dielektrik yapisi (24)
mevcuttur. Bahsedilen orta dielektrik yapisi (24) en az bir dielektrik katman
içermektedir. Bulusun bir uygulamasinda orta dielektrik yapisi (24) en az bir
dielektrik katman ile birlikte dielektrik katman komsulugunda konumlanan en az bir
ikinci çekirdeklestirici katman (243) içermektedir. Ikinci çekirdeklestirici katman
(243) NiCr, NiCrOX, TiOx, ZnAIOX, ZnOX'den en az birini içermektedir. Tercihen
ikinci çekirdeklestirici katman (243) ZnAIOX içermektedir.
Bulusun tercih edilen uygulamasinda orta dielektrik katman yapisi (24) SixNy, TiNX,
ZrNX, ZnSnOX, ZnAIOx, SiAINx, SiAIOXNy, SiOXNy, TiOx, ZnOX' den seçilen en az iki
dielektrik katman içermektedir. Seçilen iki dielektrik katman birbirleri ile temas
etmektedir. Orta dielektrik yapisi (24) bir üçüncü dielektrik katman (241), bir
dördüncü dielektrik katman (242) ve ikinci çekirdeklestirici katmani (243) birlikte
içermektedir. Orta dielektrik yapisi (24) ikinci kizilötesi yansitici katmani (25) olan
Ag katmanina dogrudan temas edecek sekilde konumlanmaktadir. Bulusun tercih
edilen yapilanmasinda üçüncü dielektirik katman (241) olarak ZnAIOX, dördüncü
dielektrik katman (242) SiXNy içermektedir. Uçüncü dielektrik katman (241) olan
ZnAIOX katmani kalinligi 15 nm - 30 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada
üçüncü dielektrik katman (241) olan ZnAIOX katmani kalinligi 17 nm - 27 nm
arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada üçüncü dielektrik katman (241) olan
ZnAIOX katmani kalinligi 19 nm - 26 nm araligindadir. SiXNy içeren dördüncü
dielektrik katman (242) kalinligi 30 nm - 50 nm arasindadir. Tercih edilen
uygulamada SIXNy içeren dördüncü dielektrik katman (242) kalinligi 35 nm - 46 nm
arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada SIXNy içeren dördüncü dielektrik
katman (242) kalinligi 39 nm - 43 nm arasindadir.
Ikinci çekirdeklestirici katman (243) olan ZnAIOX katmani kalinligi 15 nm - 30 nm
arasindadir. Tercih edilen uygulamada ikinci çekirdeklestirici katman (243) olan
ZnAIOX katmani kalinligi 17 nm - 27 nm arasindadir. Daha da tercih edilen
uygulamada ikinci çekirdeklestirici katman (243) olan ZnAIOX katmani kalinligi 19
nm - 26 nm arasindadir.
Bahsedilen orta dielektrik yapisinin (24) içermis oldugu dielektrik katmanlarin
kalinliklari ve yapilari ayri ayri optimize edilerek cam (10) tarafi ve kaplama tarafi
yansima ve renk degerleri hedeflenen degerlerin elde edilmesi konusunda daha
fazla seçenek olusturmaktadir. Orta dielektrik yapinin (24) sandviç formunda
olmasi hedeflenen yansima ve renk degerlerinin optimize edilebilmesi
saglamasinin yaninda ikinci kizilötesi yansitici katman (25) olan Ag katmaninin
optoelektronik özelliklerinin iyilestirilmesi için gereklidir.
Söyle ki;
Orta dielektrik yapinin (24) tek ve kalin bir katmandan olusmasi halinde, amorf
olmasi hedeflenen orta dielektrik yapinin (24) kismen ve/veya tamamen kristalin bir
yapi gösterme olasiligi artmaktadir. Ikinci kizilötesi yansitici katman (25) olan Ag
ile dogrudan temasta olan çekirdeklestirici olarak kullanilan katman, kendisinin
diger yüzeyine temas eden katman üzerinde büyürken, büyüdügü katmanin
kristalizasyonundan olumsuz etkilenmemesi için büyüdügü bu katmanin amorf
yapida olmasi tercih edilmektedir. Bulusta ikinci kizilötesi yansitici katman (25)
olan Ag katmani ile ikinci çekirdeklestirici katman (243) olan ZnAIOX dogrudan
temastadir. Ikinci çekirdeklestirici katman (243) olan ZnAIOx”in diger yüzeyine
amorf yapidaki SiXNy içeren dördüncü dielektrik katmani (242) temas etmektedir.
Böylece kristalin uyumsuzluk gibi bir problem ve dolayisi ile ikinci çekirdeklestirici
katman (243) yapisinin kristalizasyonunun etkilenmesi ve istenmeyen kalinti
gerilimin olusmasi ihtimali azaltilmaktadir. Ikinci çekirdeklestirici katman (243)
özelindeki hassasiyet, ikinci kizilötesi katmanin (25) olmasi gereken kristalografik
oryantasyonda büyümesini saglamaktadir. Orta dielektrik yapi (24) toplamda 75
nm- 105 nm araliginda bir kalinliga sahiptir. Tercih edilen uygulamada orta
dielektrik yapi (24) toplamda 80 nm- 100 nm araliginda bir kalinliga sahiptir. Daha
da tercihen orta dielektrik yapi (24) toplamda 85 nm - 95 nm araliginda bir kalinliga
sahiptir.
Birinci kizilötesi yansitici katmanin (22) 'üzerinde bir birinci bariyer katman (23) ve
ikinci kizilötesi yansitici katmanin (25) üzerinde bir ikinci bariyer katman (26)
konumlanmaktadir. Birinci bariyer katman (23) ve ikinci bariyer katman (26) NiCr,
NiCrOx, TiOX, ZnAIOX malzemelerinden en az birini içermektedir. Tercih edilen
uygulamada birinci bariyer katman (23) ve ikinci bariyer katman (26) olarak NiCrOX
kullanilmaktadir. Birinci bariyer katman (23) ve ikinci bariyer katman (26) olan
NiCrOX katmanlari kalinliklari 0,8 nm - 2,0 nm araligindadir. Tercih edilen
uygulamada birinci bariyer katman (23) ve ikinci bariyer katman (26) olan NiCrOX
katmanlari kalinliklari 0,9 nm - 1,9 nm araligindadir. Tercih edilen uygulamada
birinci bariyer katman (23) ve ikinci bariyer katman (26) olan NiCrOX katmanlari
Birinci bariyer katman (23) ve ikinci bariyer katman (26) olarak kullanilan NiCrOX
katmanlari; birinci kizilötesi yansitici katman (22) ve ikinci kizilötesi yansitici
katman (25) olan Ag katmanlarindan sonra gelen katmanlarin 'üretimi için kullanilan
proses gazlarindan Ag katmanlarinin etkilenmemesi için kullanilmaktadir. Ayni
zamanda NiCrOX katmanlari, Ag katmanlarindan sonra gelecek dielektrik katmanlar
arasindaki metalik ve dielektrik geçisinde yapisal uyumu saglayarak isil islem
öncesi olasi yapisma zayifligini bertaraf etmektedir. Ayrica NiCrOX katmanlari,
temper, bükme vb. gibi isil islem süreçlerinde kendisi öncelikli oksitlenmekte ve
böylece Ag katmanlarinin oksitlenerek yapisal bozulmaya ugramasini
engellemektedir.
Ikinci bariyer katman (26) 'üzerinde bir 'üst dielektrik yapi (27) konumlanmaktadir.
Bahsedilen üst dielektrik yapi (27) bir besinci dielektrik katman (271) ve bir üst
dielektrik katman (272) içermektedir. Besinci dielektrik katman (271) ZnSnOx,
ZnAIOX, SiOXNy, ZrOx, SiOx, SixNy, TiOX, ZnOxlden en az birini içermektedir.
Ust dielektrik katman (272) olarak SIOXNy içeren katmanin tercih edildigi ve bir
ikinci bariyer katman (26) olan NiCrOX ile dogrudan temas halinde olacak sekilde
kullanildigi durumda, NiCrOX katmani ile SIOXNy içeren katman birbirleriyle
uyumsuz davranis göstermekte, zayif mekanik ve isil islem dayanimi
sergilemektedir. Bu amaçla patente konu olan low-e kaplamada (20) bulunan ikinci
bariyer katman (26) olan NiCrOX katmani ile SIOXNy içeren üst dielektrik katman
(272) arasina besinci dielektrik katman (271) eklenerek low-e kaplamanin (20)
kararli isil islem davranisi göstermesi saglanmaktadir. Besinci dielektrik katman
ZnAlOX katmani kalinligi 10 nm - 20 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada
besinci dielektrik katman (271) olan ZnAIOX katmani kalinligi 11 nm - 19 nm
arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada besinci dielektrik katman (271) olan
ZnAIOX katmani kalinligi 12 nm - 18 nm arasindadir.
Ust dielektrik katman (272) olarak SIXNy içeren katman yerine, SIOXNy içeren
katman kullanildigi durumda, SIOXNy içeren katmanin kirma indisi SIXNy içeren
katmandan daha düsük oldugu için ayni optik davranis daha kalin bir SiOXNy içeren
katman ile elde edilebilmektedir. Böylece daha kalin bir üst dielektrik katman (272)
kullanilarak kaplamanin mekanik dayanimi artirilmaktadir. SiOXNy içeren üst
dielektrik katman (272) kalinligi 20 nm - 35 nm arasindadir. Tercih edilen
uygulamada SIOXNy içeren üst dielektrik katman (272) kalinligi 20 nm - 32 nm
arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada SiOXNy içeren üst dielektrik katman
(272) kalinligi 22 nm - 30 nm arasindadir.
Birinci çekirdeklestirici katman (213), üçüncü dielektrik katman (241), ikinci
çekirdeklestirici katman (243) ve besinci dielektrik katman (271) olarak kullanilan
ZnAIOX için kirma indisi araligi 1,90 - 2,10 'dur. Tercih edilen yapilanmada birinci
çekirdeklestirici katman (213), üçüncü dielektrik katman (241), ikinci
çekirdeklestirici katman (243) ve besinci dielektrik katman (271) olarak kullanilan
ZnAIOX için kirma indisi araligi 1,95- 2,05”dir.
Bulus konusu mimari ve otomotiv kullanima yönelik olan low-e kaplamali (20)
ürünler için hedeflenen geçirgenlik ve yansima degerlerini elde edebilmek birinci
kizilötesi yansitici katman (22) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (25) kalinliklari 8
nm - 20 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada birinci kizilötesi yansitici
katman (22) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (25) kalinliklari 9 nm - 18 nm
arasindadir. Daha spesifik olarak hem hedeflenen performans degerine ulasilmasi
hem de istenilen renk özellikleri ve görünür bölgede düsük içe ve disa yansima
degerleri elde edilebilmesi için birinci kizilötesi yansitici katman (22) ve ikinci
kizilötesi yansitici katman (25) kalinliklari 10 nm - 17 nm arasindadir. Hedeflenen
seçicilik ve optik performansin yakalanmasi için ürünün birbirinden bagimsiz
gümüs içeren iki ayri kizilötesi yansitici katmana sahip olmasi gerekmektedir.
Birinci kizilötesi yansitici katman (22) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (25)
kalinliginin bir birine orani 0,7 ile 1,4 arasindadir. Tercihen birinci kizilötesi
yansitici katman (22) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (25) kalinliginin bir birine
Yukarida anlatilan katman dizilimi ile hedeflenen performans degeri tek cam (10)
olarak 6 mm alt cam (10) kullanimi için isil islem öncesi görünür bölge geçirgenlik
degeri %63 ile %75 arasinda olmasi tercih edilmektedir. Daha tercih edilen
uygulamada, %65 ile %71 arasinda olmalidir. Tek cam (10) olarak 6 mm alt cam
(10) kullanimi için isil islem öncesi direkt günes enerjisi geçirgenligi degeri % 30 ile
°/o 41 arasinda olmasi tercih edilmektedir. Daha tercih edilen uygulamada, %33 ile
de bu performansin elde edilmesi desteklenmelidir.
Low-e kaplamanin (20) en üst dielektrik katmaninin (272) özellikleri, kaplamali
camin (10) isil islem esnasindaki karakterini belirlemesinden dolayi low-e kaplamali
(20) camin (10) depolama ömrü, isil islenebilirligi, dayanimi ve görsel estetigi
açisindan oldukça önemlidir.
Birinci bariyer katman (23) ve ikinci bariyer katmanin (26) bir diger rolü; low-e
kaplamanin (20) birinci kizilötesi yansitici katman (22) ve ikinci kizilötesi yansitici
katmaninin (25) opto-elektronik özelliklerinin ikincil islemler ve kullanim ömrü
boyunca kararli sekilde korunmasidir. Low-e kaplamanin (20) birinci bariyer katman
(23) ve ikinci bariyer katmaninin (26) kaplama sartlari, kaplamali camin (10) isil
islem esnasindaki karakterini belirleyen ve low-e kaplamali (20) camin (10), opto-
elektronik özelliklerine etki eden bir diger kritik parametredir. Hedeflenen %Tvis
degeri için low-e kaplamadaki (20) birinci bariyer katmanin (23) ve ikinci bariyer
katmanin (26) absorblama davranisinin, malzeme özelligi gelistirilerek minimize
edilmesi gerekmektedir. %Tvis degerinin yükseltilebilmesi ve seçiciliginin
arttirilabilmesi için birinci bariyer katman (23) ve ikinci bariyer katmandan (26)
gelen absorbsiyon etkisi optimize edilirken low-e kaplamanin (20) kizilötesi
yansitma özelliginden ödün vermeden ve ayni zamanda birinci kizilötesi yansitici
katman (22) ve ikinci kizilötesi yansitici katmaninin (25) kalinlik homojenitesinin isil
islem esnasinda sabit kalabilmesi için birinci bariyer katman (23) ve ikinci bariyer
katmaninin (26) kaplanmasi esnasinda 02 akis hizi / güç yogunlugu oraninin
düsürülmesi gerekmektedir.
Birinci bariyer katman (23) ve ikinci bariyer katmanin (26) oksijen miktari arttikça
katmanlarin absorbsiyon özellikleri low-e kaplamanin (20) görünür bölge
geçirgenligi için gerek yeter seviyelere çekilebilmekte ancak belirli bir degerin
üzerinde bir kirinim göstermekte ve isil islem esnasinda gümüs aglomerasyonuna
neden olmaktadir. Tablo 1'de farkli örnekler üzerinden gösterildigi gibi 2,5 E'3mbar
- 4,5 E'3mbar basinç araliginda 02 akis hizi / güç yogunlugu orani, low-e
kaplamanin (20) geçirgenligi, seçiciligi ve görsel estetik dengesi açilarindan 9'dan
küçük olmalidir. Tercih edilen uygulamada 02 akis hizi / güç yogunlugu orani
8'den küçük olmalidir.
Tablo 1: Bariyer katmanlarin siçratma ile kaplanmasi esnasindaki
parametrelerinin, kizilötesi yansitici katmanlarin isil islemler sirasi ve
sonrasindaki kalinlik homojenitelerine etkisi.
yogunlugu Hata Tipi
sccml(Watt*cm )
Oksijensiz ortam Gümüs aglomerasyonu O
3 Gümüs aglomerasyonu 3
4 Gümüs aglomerasyonu 4
7 Gümüs aglomerasyonu 5
8 Gümüs aglomerasyonu 20
9 Gümüs aglomerasyonu >230
Gümüs aglomerasyonu >230
Bulusun koruma kapsami ekte verilen istemlerde belirtilmis olup kesinlikle bu
detayli anlatimda örnekleme amaciyla anlatilanlarla sinirli tutulamaz. Zira teknikte
uzman bir kisinin, bulusun ana temasindan ayrilmadan yukarida anlatilanlar
isiginda benzer yapilanmalar ortaya koyabilecegi açiktir.
Claims (1)
- ISTEMLER . Bulus isil islenebilir bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; bahsedilen low-e kaplamanin (20) camdan (10) disari dogru sirasiyla; SixNy, SiOxNy_ ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNxi den seçilen bir birinci dielektrik NiCr, NiCrOX, TiOX, ZnAIOX, ZnOx”den seçilen bir birinci çekirdeklestirici Bir birinci kizilötesi yansitici katman (22); NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx'den seçilen bir birinci bariyer katman (23); SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOX, ZnAIOX, SiOXNy, TiOx, ZnOx' den seçilen bir üçüncü dielektrik katman (241); SiXNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOX, ZnAIOX, SiOxNy, TiOX, ZnOx' den seçilen bir dördüncü dielektrik katman (242); NiCr, NiCrOX, TiOX, ZnAIOX, Znoxiden seçilen bir ikinci çekirdeklestirici Bir ikinci kizilötesi yansitici katman (25); NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOX”den seçilen bir ikinci bariyer katman (26); ZnSnOx, ZnAIOX, SiOxNy, ZrOx, SiOX, SixNy, TiOx, ZnOX'den seçilen bir besinci dielektrik katman (271); SiOXNy içeren bir üst dielektrik katman (272) içermesidir. . Istem 1'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; bahsedilen low-e kaplamanin (20) camdan (10) disari dogru sirasiyla; SiXNy içeren birinci dielektrik katman (211); ZnAIOX içeren birinci çekirdeklestirici katman (213); Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katman (22); NiCrOX içeren birinci bariyer katman (23); ZnAIOX içeren bir üçüncü dielektrik katman (241); SiXNy içeren bir dördüncü dielektrik katman (242); ZnAIOX içeren ikinci çekirdeklestirici katman (243); Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katman (25); NiCrOX içeren ikinci bariyer katman (26); ZnAIOX içeren besinci dielektrik katman (271 ); SiOXNy içeren üst dielektrik katman (272) içermesidir. . Istem 1”e göre bir lowe kaplamali cam olup 'özelligi, SIXNy içeren birinci dielektrik katman (211); TiOX içeren ikinci dielektrik katman (212); ZnAIOX içeren birinci çekirdeklestirici katman (213); Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katman (22); NiCrOX içeren birinci bariyer katman (23); ZnAlOX içeren bir üçüncü dielektrik katman (241); SIXNy içeren bir dördüncü dielektrik katman (242); ZnAIOX içeren ikinci çekirdeklestirici katman (243); Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katman (25); NiCrOX içeren ikinci bariyer katman (26); ZnAIOX içeren besinci dielektrik katman (271); SIOXNy içeren üst dielektrik katman (272) içermesidir. . Onceki istemlerden herhangi birine göre bir Iowe kaplamali cam olup sirasiyla; SiXNy içeren birinci dielektrik katmanin (211) 10 nm - 20 nm kalinlik araliginda; TiOX içeren ikinci dielektrik katmanin (212) 0 nm - 10 nm kalinlik araliginda; ZnAIOX içeren birinci çekirdeklestirici katmanin (213) 8 nm - 20 nm kalinlik araliginda; Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katmanin (22) 8 nm - 20 nm kalinlik araliginda; NiCrOX içeren birinci bariyer katmanin (23) 0,8 nm - 2,0 nm kalinlik araliginda; ZnAIOX içeren bir üçüncü dielektrik katmanin (241) 15 nm - 30 nm kalinlik araliginda; SIXNy içeren bir dördüncü dielektrik katmanin (242) 30 nm - 50 nm kalinlik araliginda; ZnAIOX içeren ikinci çekirdeklestirici katmanin (243) 15 nm - 30 nm kalinlik araliginda; Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katmanin (25) 8 nm - 20 nm kalinlik araliginda; NiCrOX içeren ikinci bariyer katmanin (26) 0,8 nm - 2,0 nm kalinlik araliginda; ZnAIOX içeren besinci dielektrik katmanin (271) 10 nm - 20 nm kalinlik araliginda; SiOXNy içeren üst dielektrik katmanin (272) 20 nm - 35 nm kalinlik araliginda olmasidir. . Onceki istemlerden herhangi birine göre bir Iowe kaplamali cam olup özelligi, bahsedilen low-e kaplamanin (20) camdan (10) disari dogru sirasiyla; SiXNy içeren birinci dielektrik katmanin (211) 10 nm - 20 nm kalinlik araliginda; TiOX içeren ikinci dielektrik katmanin (212) 2 nm - 8 nm kalinlik araliginda; ZnAIOX içeren birinci çekirdeklestirici katmanin (213) 8 nm - 20 nm kalinlik araliginda; Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katmanin (22) 8 nm - 20 nm kalinlik araliginda; NiCrOX içeren birinci bariyer katmanin (23) 0,8 nm - 2,0 nm kalinlik araliginda; ZnAIOX içeren bir üçüncü dielektrik katmanin (241) 15 nm - 30 nm kalinlik araliginda; SixNy, içeren bir dördüncü dielektrik katmanin (242) 30 nm - 50 nm kalinlik araliginda; ZnAIOX içeren ikinci çekirdeklestirici katmanin (243) 15 nm - 30 nm kalinlik araliginda; Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katmanin (25) 8 nm - 20 nm kalinlik araliginda; NiCrOX içeren ikinci bariyer katmanin (26) 0,8 nm - 2,0 nm kalinlik araliginda; - ZnAIOX içeren besinci dielektrik katmanin (271) 10 nm - 20 nm kalinlik araliginda; - SiOXNy içeren 'üst dielektrik katmanin (272) 20 nm - 35 nm kalinlik araliginda olmasidir. 6. Istem 1'de verilen bir low-e kaplamali (20) cama (10) ait 'üretim yöntemi olup kaplanmasi esnasinda 02 akis hizi / güç yogunlugu oraninin 8 sccm/(Watt*cm'2)”den küçük olmasidir.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TR2017/18310A TR201718310A2 (tr) | 2017-11-20 | 2017-11-20 | Isil i̇şlenebi̇li̇r bi̇r low-e kaplama ve üreti̇m yöntemi̇ |
| PCT/TR2018/050661 WO2019098980A2 (en) | 2017-11-20 | 2018-11-06 | A thermally processable low-e coating and production method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TR2017/18310A TR201718310A2 (tr) | 2017-11-20 | 2017-11-20 | Isil i̇şlenebi̇li̇r bi̇r low-e kaplama ve üreti̇m yöntemi̇ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TR201718310A2 true TR201718310A2 (tr) | 2017-12-21 |
Family
ID=66540349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TR2017/18310A TR201718310A2 (tr) | 2017-11-20 | 2017-11-20 | Isil i̇şlenebi̇li̇r bi̇r low-e kaplama ve üreti̇m yöntemi̇ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| TR (1) | TR201718310A2 (tr) |
| WO (1) | WO2019098980A2 (tr) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TR202101230A2 (tr) * | 2021-01-27 | 2022-08-22 | Tuerkiye Sise Ve Cam Fabrikalari Anonim Sirketi | Yüksek geçi̇rgen özelli̇kte, isil yansitma özelli̇ği̇ arttirilmiş çi̇ft gümüş i̇çeren bi̇r low-e kaplama |
| TR202101223A2 (tr) | 2021-01-27 | 2022-08-22 | Tuerkiye Sise Ve Cam Fabrikalari Anonim Sirketi | Yüksek geçi̇rgen özelli̇kte, mekani̇k dayanimi arttirilmiş çi̇ft gümüş i̇çeren bi̇r low-e kaplama |
| TR2022014362A2 (tr) * | 2022-09-16 | 2022-10-21 | Tuerkiye Sise Ve Cam Fabrikalari Anonim Sirketi | Açisal renk deği̇şi̇mi̇ azaltilmiş bi̇r low-e kaplamali cam |
| TR2024005465A1 (tr) * | 2024-05-06 | 2024-08-21 | Tuerkiye Sise Ve Cam Fabrikalari Anonim Sirketi | Yüksek görünür geçi̇rgenli̇ğe sahi̇p low-e kaplamali cam |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2556730C (en) * | 2004-02-25 | 2013-12-24 | Afg Industries, Inc. | Heat stabilized sub-stoichiometric dielectrics |
| US8281617B2 (en) * | 2009-05-22 | 2012-10-09 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating having zinc stannate based layer between IR reflecting layers for reduced mottling and corresponding method |
| US8834976B2 (en) * | 2010-02-26 | 2014-09-16 | Guardian Industries Corp. | Articles including anticondensation and/or low-E coatings and/or methods of making the same |
-
2017
- 2017-11-20 TR TR2017/18310A patent/TR201718310A2/tr unknown
-
2018
- 2018-11-06 WO PCT/TR2018/050661 patent/WO2019098980A2/en not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2019098980A2 (en) | 2019-05-23 |
| WO2019098980A3 (en) | 2019-06-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2329979C1 (ru) | Гибридное многослойное покрытие | |
| KR101677572B1 (ko) | 열 특성을 갖는 스택을 구비하고 고 굴절률의 층을 포함하는 기재 | |
| US11214514B2 (en) | Optical film exhibiting improved light to solar gain heat ratio | |
| EP3661885B1 (en) | Protective layer over a functional coating | |
| US20230204834A1 (en) | Articles Coated With Coatings Containing Light Absorption Materials | |
| KR101499288B1 (ko) | 저방사 코팅막 및 이를 포함하는 건축 자재 | |
| KR101873103B1 (ko) | 창호용 기능성 건축 자재 | |
| US10132964B2 (en) | Low-emissivity coating film, method for manufacturing same, and functional construction material for window and doors including same | |
| JP2014524405A (ja) | 熱処理が可能な低放射ガラス及びその製造方法 | |
| US9903154B2 (en) | Low-emissivity coating film, method for manufacturing same, and functional construction material for window and doors including same | |
| TR201718310A2 (tr) | Isil i̇şlenebi̇li̇r bi̇r low-e kaplama ve üreti̇m yöntemi̇ | |
| RU2578071C1 (ru) | Ir-отражающая и прозрачная система слоев, имеющая стабильную окраску, и способ ее изготовления, стеклоблок | |
| US11161780B2 (en) | Functional building material for windows and doors | |
| JP2023075124A (ja) | 埋め込みフィルムを有する透明導電性酸化物 | |
| JP2020529385A (ja) | 透明導電性酸化物で被覆された物品のシート抵抗を低下させる方法 | |
| EP4284763A1 (en) | A low-e coating including double silver and with high transmittance and with increased thermal reflection | |
| TR201722929A2 (tr) | Low-e kaplamali cam | |
| EP4288394A2 (en) | A low-e coating including double silver and with high transmittance and with increased mechanical resistance | |
| TR201801333A2 (tr) | Yüksek isi kontrollü bi̇r low-e kaplamali cam | |
| RU2715000C1 (ru) | Подложка, покрытая термически обрабатываемым низкоэмиссионным слоем | |
| US20180105459A1 (en) | A multilayer coating | |
| WO2026035212A1 (en) | Silver-free solar control coated glass | |
| CN105366959A (zh) | 低辐射镀膜玻璃 | |
| TR2024002875A1 (tr) | Yüksek geçi̇rgen özelli̇kli̇, nötral i̇ç ve diş yansimaya sahi̇p bi̇r low-e kaplamali cam | |
| TW202535797A (zh) | 具有改良熱應力性質的功能塗層 |