TARIFNAME LAMINASYONLU OTOMOTIV CAMLARINA UYGULANABILIR BIR LOW-E TEKNIK ALAN Bulus, Iaminasyon islemi yapilacak olan otomobil ön camlarinin ikinci veya üçüncü yüzeylerinde kullanilmak üzere gelistirilmis bir üç gümüslü low-e kaplama ile ONCEKI TEKNIK Camlarin optik özelliklerini farklilastiran etmenlerden biri cam yüzeyine yapilan kaplama uygulamalaridir. Kaplama uygulamalarindan biri de vakum ortaminda manyetik alan destekli siçratma yöntemidir. Bu yöntem low-e özelligine sahip mimari ve otomotiv sektöründe kullanilabilecek kaplamali camlarin üretiminde sik basvurulan bir yöntemdir. Bahsedilen yöntemle kaplanan camlarin görünür, yakin kizilötesi ve kizilötesi bölgedeki geçirgenlik ve yansitma degerleri hedeflenen seviyelerde elde edilebilmektedir. Görünür bölge geçirgenlik ve yansitma degerleri disinda, mimari ve otomotiv sektörlerinde kullanilabilecek kaplamali camlarda toplam günes enerjisi geçirgenligi (g) degeri de önemli bir parametredir. Kaplamalarin toplam günes enerjisi geçirgenligi (g) degerinin yüksek olmasi, soguk iklim cografyalarinda araç içi isinma yüklerinin azaltilmasi ve dolayisi ile yakit tasarrufu saglanmasi amaci ile tercih edilmektedir. Kaplamalarin toplam günes enerjisi geçirgenligi (g) degerleri, içerdigi Ag katmani sayisi, kullanilan çekirdeklestirici katman türü, katmanlarin parametrik optimizasyonlari ile hedeflenen seviyelerde tutulabilmektedir. CN102795793 yayin numarali patent bir lamine cam, özellikle tasit veya insaat alanina uygulanan yüksek isi yansiticiligi ve elektrikli isitma fonksiyonuna sahip bir lamine cam, daha özel olarak bir tasit üzerine monte edilen bir otomobil cami ile ilgilidir. Bulusta anlatilan elektrikle isitilabilen low-e kaplanmis lamine cam, iki cam altlik arasina sikistirilmis bir polimer ve bir low-e kaplama içermektedir. Bulus tarafindan saglanan elektrikle isitilan low-e kaplanmis lamine cami isitmak için, ACF (anizotropik iletken film) veya PSA (basinca duyarli yapiskan) kaplama ile birlikte veri yolu olarak kullanilir. Böylece donma ve eritme buzunun uzaklastirilmasi kolaylasmaktadir. BULUSUN KISA AÇIKLAMASI Mevcut bulus ilgili teknik alana yeni avantajlar getirmek üzere, cam yüzeyine uygulanan bir low-e kaplama ile ilgilidir. Bulusun bir amaci, isil islenebilen bir low-e kaplama ortaya koymaktir. Bulusun bir diger amaci, lamine otomotiv camlarinda kullanilabilen bir low-e kaplama ortaya koymaktir. Bulusun bir diger amaci, isitilabilir Özellikte bir low-e kaplama ortaya koymaktir. Bulusun bir diger amaci, iletkenligi arttirilmis bir low-e kaplama ortaya koymaktir. Bulusun bir diger amaci, otomotiv camlari göz hizasi göstergesi uygulamalarinda kullanilabilir bir low-e kaplama ortaya koymaktir. Yukarida bahsedilen ve asagidaki detayli anlatimdan ortaya çikacak tüm amaçlari gerçeklestirmek üzere mevcut bulus, Laminasyonlu otomobil camlarinin ikinci veya üçüncü yüzeylerinde kullanilmak üzere elektriksel olarak iletken ve isitilabilir özellikte gelistirilmis bir üç gümüslü low-e kaplamadir. Buna göre söz konusu bulusun özelligi; Tvis degerinin %64 ile %78 arasinda oldugu; camdan disari dogru sirasiyla; - SixNy, SiAle, SIAIOxNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOxi TiNx, ZrNx, NiCr, NiCrOx, TiOX, ZnSnOX, ZnAlOx, ZnOx* den en az birini içeren birinci dielektrik yapi; - Bahsedilen birinci dielektrik yapinin üzerinde konumlanan birinci fonksiyonel katman, - Bahsedilen birinci fonksiyonel katmanin üzerinde konumlanan NiCr, NiCrOX, TiOx, ZnAIOx' den en az birini içeren bir birinci bariyer katman, - Bahsedilen birinci bariyer katman üzerinde konumlanan SIXNyi SiAINx, SiAlOxNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNxi ZrNx, NiCr, NiCrOx. Ti0x, ZnSnOx, ZnAIOx, ZnOx' den en az birini içeren ikinci dielektrik yapi, - Bahsedilen ikinci dielektrik yapinin üzerinde konumlanan ikinci fonksiyonel katman, - Bahsedilen ikinci fonksiyonel katmanin üzerinde konumlanan ve NiCr, NiCrOX, TiOx, ZnAIOX' den en az birini içeren ikinci bariyer katman, - Bahsedilen ikinci bariyer katman üzerinde konumlanan SixNy, SiAINx, SiAIOXNy, SiOxNy, ZnSnOx, TIOX, TiNx, ZrNX, NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnSnOx, ZnAlOx, ZnOx' den en az birini içeren Üçüncü dielektrik yapi, - Bahsedilen üçüncü dielektrik yapinin üzerinde konumlanan üçüncü fonksiyonel katman, - Bahsedilen üçüncü fonksiyonel katmanin üzerinde konumlanan ve NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx' den en az birini içeren üçüncü bariyer katman, - Bahsedilen üçüncü bariyer katmanin üzerinde konumlanan ve SixNy, SIAINX, SiAIOXNy, SiOx, SiOxNy, ZnSnOx, ZnAIOx, TiOx, TiNx, ZrNX katmanlarindan en az birini veya birkaçini içeren üst dielektrik yapi içermesidir. Bulusun tercih edilen bir yapilanmasi, birinci dielektrik yapinin; cam ile temas eden ve SixNy, SIAINX, SiAlOxNy, SiOxNy, ZnSnOx, TIOX, TiNx, ZrNx'den en az birini içeren bir birinci dielektrik katman içermesidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, birinci dielektrik yapinin; SixNy, SiAINx, SiAIOxNy, SiOxNy_ ZnSnOx, TIOX, TiNx, ZrNx"den en az birini içeren bir ikinci Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, birinci dielektirik yapi. ikinci dielektirik yapi ve üçüncü dielektrik yapindan en az birinin NiCr, NiCrOX, TIOX, ZnSnOx, ZnAIOx, ZnOx' den en az birini içeren bir çekirdeklestirici katman içermesidir. Bulusun tercih edilen bir yapilanmasi, bahsedilen çekirdeklestirici katmanin birinci fonksiyonel katman, ikinci fonksiyonel katman ve üçüncü fonksiyonel katmandan en az birine temas ediyor olmasidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, bahsedilen çekirdeklestirici katmanin çoklu sayida olup, birinci fonksiyonel katman, ikinci fonksiyonel katman ve üçüncü fonksiyonel katmandan her birine temas ediyor olmasidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, birinci fonksiyonel katman, ikinci fonksiyonel katman ve üçüncü fonksiyonel katmana temas eden çekirdeklestirici katmanlarin her birinin ayni malzemeleri içeriyor olmasidir. Bulusun tercih edilen bir yapilanmasi, birinci bariyer katmanin, ikinci bariyer katmanin ve üçüncü bariyer katmanin her birinin alt oksit formda ve ayni malzemeden imal olmasidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, ikinci dielektrik yapi, üçüncü dielektrik yapi ve üst dielektrik yapinin oksit formda en az bir dielektrik katman içeriyor olmasidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, üst dielektrik yapinin oksit formda en az üç dielektrik katman içeriyor olmasidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, camdan disari dogru sirasiyla; - birinci dielektrik katman kalinliginin 8 nm ile 23 nm arasinda olmasi; -ikinci dielektrik katman kalinliginin 2 nm ile 11 nm arasinda olmasi; - birinci çekirdeklestirici katman kalinliginin 11 nm ile 29 nm arasinda olmasi; - birinci fonksiyonel katman kalinliginin 5 nm ile 22 nm arasinda olmasi; - birinci bariyer katman kalinliginin 0,8 nm ile 2,2 nm arasinda olmasi; - üçüncü dielektrik katman kalinliginin 40 nm ile 70 nm arasinda olmasi; - ikinci çekirdeklestirici katman kalinliginin 8 nm ile 24 nm arasinda olmasi; - ikinci fonksiyonel katman kalinliginin 5 nm ile 22 nm arasinda olmasi; -ikinci bariyer katman kalinliginin 0,8 nm ile 2,2 nm arasinda olmasi; - dördüncü dielektrik katman kalinliginin 35 nm ile 65 nm arasinda olmasi; - üçüncü çekirdeklestirici katman kalinliginin 10 nm ile 35 nm arasinda olmasi; - üçüncü fonksiyonel katman kalinliginin 5 nm ile 22 nm arasinda olmasi; - üçüncü bariyer katman kalinliginin 0,8 nm ile 2,2 nm arasinda olmasi; - besinci dielektrik katman kalinliginin 10 nm ile 35 nm arasinda olmasi; - altinci dielektrik katman kalinliginin 10 nm ile 35 nm arasinda olmasi; - üst dielektirik katman kalinliginin 5 nm ile 35 nm arasinda olmasidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, camdan disari dogru SixNy/TiOx/ZnAIOx/Ag/NiCrOx/ZnSnOlenAlOx/Ag/NiCrOx/ZnSnOx/ZnAlOx/Ag/NiCr Ox/ZnSnOx/ SiOxNy/SIOX katmanlarini içermesidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, low-e kaplamali camin üçüncü yüzde kullanilmasi durumunda dis yansima a* degerinin -10 ile -4; dis yansima b* degerinin -6 ile -1 arasinda olmasidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi. ikinci ve üçüncü yüzde kullanildiginda, dis yansima a* degerinin O" - 75" lik gelis açilarinda negatif bölgede kalmasidir. SEKILIN KISA AÇIKLAMASI Sekil 1' de low-e kaplamali camin temsili bir görünümü verilmistir. SEKILDE VERILEN REFERANS NUMARALARI Cam Low-e kaplama 21 Birinci dielektirik yapi 211 Birinci dielektrik katman 212 Ikinci dielektrik katman 213 Çekirdeklestirici katman 22 Birinci fonksiyonel katman 23 Birinci bariyer katman 24 Ikinci dielektrik yapi 241 Üçüncü dielektrik katman 242 Ikinci çekirdeklestirici katman Ikinci fonksiyonel katman 26 Ikinci bariyer katman 27 Uçüncü dielektrik yapi 272 Uçüncü çekirdeklestirici katman 28 Üçüncü fonksiyonel katman 29 Uçüncü bariyer katman Ust dielektrik yapi 301 Besinci dielektrik katman 302 Altinci dielektrik katman 303 Ust dielektirik katman BULUSUN DETAYLI AÇIKLAMASI Bu detayli açiklamada bulus konusu low-e kaplamali (20) cam (10) sadece konunun daha iyi anlasilmasina yönelik hiçbir sinirlayici etki olusturmayacak örneklerle açiklanmaktadir. Mimari ve otomotiv sektörüne yönelik low-e kaplamali (20) camlarin (10) üretimi vakum ortaminda siçratma yöntemi ile gerçeklestirilebilmektedir. Bu bulus genel olarak; gün isigi geçirgen ve isi yalitim cami (10) olarak kullanilan, lamine edilebilir, isitilabilir ve isil islem dayanimi yüksek olan üç gümüslü low-e kaplamali (20) camlar (10), bahsedilen low-e kaplamanin (20) içerigi ve uygulamasi ile ilgilidir. Bu bulusta; bir camin (10) yüzeyine uygulanmak üzere yüksek seviyede görünür bölge isik geçirgenligine sahip, lamine edilebilir, isil islenebilir ve açisal renk degisimi kabul edilebilir seviyede olacak sekilde tasarlanmis olan bir low-e kaplamali (20) cam (10) elde edebilmek amaci ile manyetik alan destekli siçratma yöntemi kullanilarak, cam (10) yüzeyinde konumlanan çoklu sayida metal, metal oksit ve metal nitrür/ oksinitrür katmanlarindan olusan bir low-e kaplama (20) gelistirilmistir. Söz konusu katmanlar sirasi ile birbirleri üzerine vakum ortaminda biriktirilmektedir. Isil islem olarak temperleme, kismi temperleme, tavlama ve bükme islemlerinden en az biri vei'veya birkaçi birlikte kullanilabilmektedir. Bulus konusu low-e kaplamali (20) cam (10) mimari ve otomotiv cami (10) olarak kullanilabilmektedir. Gerek üretim kolayligi açisindan, gerekse optik özellikleri açisindan tercih edilen bir low-e kaplama (20) dizilimini gelistirmek üzere deneysel çalismalar sonucunda asagidaki veriler tespit edilmistir. Bulus konusu low-e kaplamali (20) camda (10) tüm katmanlarin kirma indisleri alinan tek katman ölçümlerinden elde edilen optik sabitler üzerinden hesaplamali yöntemler kullanilarak belirlenmistir. Söz konusu kirma indisleri 550 nm" deki kirma indisi verileridir. Bulus konusu low-e kaplamada (20) görünür bölgeyi hedeflenen düzeyde geçirip, kizilötesi spektrumda isil radyasyonu yansitmayi (daha az geçirerek) saglayan, bir birinci fonksiyonel katman (22), bir ikinci fonksiyonel katman (25) ve bir üçüncü fonksiyonel katmandir (28). Birinci fonksiyonel katman (22), ikinci fonksiyonel katman (25) ve üçüncü fonksiyonel katman (28) Ag içermektedir ve isi yayinimi düsüktür. Hedeflenen performans degerine ulasabilmek için birinci fonksiyonel katman (22), ikinci fonksiyonel katman (25) ve üçüncü fonksiyonel katman (28) kalinligi oldukça önemlidir. Ag içeren birinci fonksiyonel katman (22), ikinci fonksiyonel katman (25) ve üçüncü fonksiyonel katman (28) kalinligi tercih edilen uygulamada 5 nm - 22 nm araligindadir. Daha tercih edilen uygulamada Ag içeren birinci fonksiyonel katman (22), ikinci fonksiyonel katman (25) ve üçüncü fonksiyonel katman (28) kalinligi kalinligi 8 nm - 19 nm araligindadir. En tercihen Ag içeren birinci fonksiyonel katman (22), ikinci fonksiyonel katman (25) ve üçüncü fonksiyonel katman (28) kalinligi 11 nm - 17 nm araligindadir. Bulus konusu kaplamali camda, cam (10) ile birinci fonksiyonel katman (22) arasinda, birinci fonksiyonel katmana (22) temas edecek sekilde konumlanan bir birinci dielektrik yapi (21) mevcuttur. Bahsedilen birinci dielektrik yapi (21) en az bir adet dielektrik katman ve en az bir adet çekirdeklestirci katman (213) içermektedir. Tercihen birinci dielektrik yapi (21); bir birinci dielektrik katman (211), bir ikinci dielektrik katman (212) ve bir birinci çekirdeklestirici katman (213) içermektedir. Bahsedilen birinci dielektrik katman (211) ve ikinci dielektrik katman (212) SixNy, SiAINx, SiAIOXNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx katmanlarindan en az birini veya birkaçini içermektedir. Tercih edilen uygulamada birinci dielektrik katman (211) olarak SIXNy içeren bir katman kullanilmaktadir. SiXNy içeren birinci dielektrik katman (211) difüzyon bariyeri olarak davranarak, yüksek sicaklikta cam yapisindaki kolaylasan alkali iyon göçünü engelleme amacina hizmet etmektedir. Böylece SixNy içeren birinci dielektrik katman (211) low-e kaplamanin (20) isil islem süreçlerine dayanimina destek vermektedir. SIXNy içeren birinci dielektrik katmaninin (211) kirma indisi için degisim araligi 2,00 ile 2,10 arasindadir. Tercih edilen yapida SixNy içeren birinci dielektrik katmaninin (211) kirma indisi için degisim araligi 2,02 ile 2,07' dir. SixNy içeren birinci dielektrik katman (211) kalinligi 8 nm - 23 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada SixNy içeren birinci dielektrik katman (211) kalinligi 10 nm - 21 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada SiXNy içeren birinci dielektrik katmani (211) kalinligi 12 nm - 19 nm arasindadir. SixNy içeren birinci dielektrik katman (211) ile birinci kizilötesi yansitici katman (22) olan Ag katmani arasinda en az bir birinci çekirdeklestirici katman (213) konumlanmaktadir. Bulusun bir uygulamasinda birinci çekirdeklestirici katman (213), SixNy içeren birinci dielektrik katman (211) ile dogrudan temas etmektedir. Birinci çekirdeklestirici katman (213) NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnSnOx, ZnAlOx, ZnOX' den en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada birinci çekirdeklestirici katman ( kalinligi 11 nm - 29 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada birinci çekirdeklestirici katman (213) kalinligi 14 nm - 26 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada birinci çekirdeklestirici katman (213) kalinligi 17 nm - 23 nm arasindadir. Bulusun bir diger uygulamasinda birinci çekirdeklestirici katman (213) ile SIXNy içeren birinci dielektrik katman (211) arasinda bir ikinci dielektrik katman (212) konumlanmaktadir. Bahsedilen ikinci dielektrik katman (212) TiOx, ZrOx, NbOX katmanlarindan en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada ikinci dielektrik katman (212) olarak TiOX kullanilmaktadir. TiOX katmaninin kirilma indisi 2,40 ile 2,60 arasindadir. Tercih edilen uygulamada bu aralik 2,40 - 2,55 olarak belirlenmistir. Ikinci dielektrik katman (212) olan TiOx katmani kalinligi 2 nm - 11 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada TiOX katmani kalinligi 3 nm - 10 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada TiOX katmani kalinligi 5 nm - 8 nm arasindadir. Ag içeren birinci fonksiyonel katmana (22) temas edecek sekilde üzerinde konumlanan bir birinci bariyer katman (23); ikinci fonksiyonel katmana (25) temas edecek sekilde üzerinde konumlanan bir ikinci bariyer katman (26) ve üçüncü fonksiyonel katmana (28) temas edecek sekilde üzerinde konumlanan bir üçüncü bariyer katman (29) bulunmaktadir. Birinci bariyer katman (23), ikinci bariyer katman (26) ve üçüncü bariyer katman (29) NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx malzemelerinden en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada birinci bariyer katman (23), ikinci bariyer katman (26) ve üçüncü bariyer katman (28) olarak NiCrOx kullanilmaktadir. NiCrOx içeren birinci bariyer katman (23), ikinci bariyer katman (26) ve üçüncü bariyer katman (28) kalinliklari 0,8 nm - 2,2 nm araligindadir. Tercih edilen uygulamada NiCrOx içeren birinci bariyer katman (23), ikinci bariyer katman (26) ve üçüncü bariyer katman (28) kalinliklari 0,8 nm - 2,0 nm araligindadir. Tercih edilen uygulamada NiCrOx içeren birinci bariyer katman (23), ikinci bariyer katman (26) ve üçüncü bariyer katman (28) kalinliklari 1,0 nm - 1,8 nm arasindadir. Bulusun bir uygulamasinda ikinci bariyer katman (23) ve üçüncü bariyer katman (28) kalinliklari birbirleri ile esittir. Birinci fonksiyonel katman (22) ile ikinci fonksiyonel katman (25) arasinda ikinci dielektrik yapi (24); ikinci fonksiyonel katman (25) ile üçüncü fonksiyonel katman (28) arasinda üçüncü dielektrik yapi (27) konumlanmaktadir. Ikinci dielektrik yapi (24) ve üçüncü dielektrik yapinin (27) her biri; SixNy, SiAINX, SiAIOXNy, SiOxNy, ZnSnOx, TIOX, TiNx, ZrNX katmanlarindan en az birini içeren en az bir dielektrik özellikte ve NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnSnOx, ZnAIOx, ZnOX' den en az birini içeren en az bir çekirdeklestirici özellikte katman içermektedir. Ikinci dielektik yapi (24) bir üçüncü dielektrik katman (241) ve bir ikinci çekirdeklestirici katman (242) içermektedir. Üçüncü dielektrik katman (241) tercihen ZnSnOx içermektedir. ZnSnOxiçeren üçüncü dielektrik katman (241) kalinligi 40 nm - 70 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada ZnSnOX içeren üçüncü dielektrik katman (241) kalinligi 45 nm - 65 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada ZnSnOX içeren üçüncü dielektrik katman (241) kalinligi 50 nm - 60 nm arasindadir. ZnSnOX içeren üçüncü dielektrik katmaninin (241) kirma indisi için degisim araligi 2,00 ile 2,12 arasindadir. Tercih edilen yapida ZnSnOx içeren üçüncü dielektrik katmaninin (241) kirma indisi için degisim araligi 2,03 ile 2,09' dir. Ikinci çekirdeklestirici katman (242) tercihen ZnAIOX içermektedir. ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (242) kalinligi 8 nm - 23 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada ZnAlOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (242) kalinligi 10 nm - 21 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (242) kalinligi 13 nm - 19 nm arasindadir. Üçüncü dielektik yapi (27) bir dördüncü dielektrik katman (271) ve bir üçüncü çekirdeklestirici katman (272) içermektedir. Dördüncü dielektrik katman (271) tercihen ZnSnOX içermektedir. ZnSnOx içeren dördüncü dielektrik katman (271) kalinligi 45 nm - 75 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada ZnSnOx içeren dördüncü dielektrik katman (271) kalinligi 50 nm - 70 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada ZnSnOx içeren dördüncü dielektrik katman (271) kalinligi 55 nm - 65 nm arasindadir. ZnSnOX içeren dördüncü dielektrik katmaninin (271) kirma indisi için degisim araligi 2,00 ile 2,12 arasindadir. Tercih edilen yapida ZnSnOx içeren dördüncü dielektrik katmaninin (271) kirma indisi için degisim araligi 2,03 ile 2,09' dur. Üçüncü çekirdeklestirici katman (272) tercihen ZnAIOX içermektedir. ZnAlOX içeren üçüncü çekirdeklestirici katman (272) kalinligi 10 nm - nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada ZnAIOx içeren üçüncü çekirdeklestirici katman (272) kalinligi 15 nm - 30 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada ZnAIOX içeren üçüncü çekirdeklestirici katman (272) kalinligi 18 nm - 25 nm arasindadir. Üçüncü bariyer katman (29) üzerinde bir üst dielektrik yapi (30) vardir. Bahsedilen dielektrik yapi (30) SixNy, SiAINx, SiAIOxNy, SiOx, SiOxNy, ZnSnOx, ZnAlOx, TiOx, TiNx, ZrNx katmanlarindan en az birini veya birkaçini içeren en az bir dielektrik katman içermektedir. Ust dielektrik yapi (30) tercihen bir besinci dielektrik katman (301); bahsedilen besinci dielektrik katman 'üzerinde (301) biriktirilen, bir altinci dielektrik katman (302) ve opsiyonel olarak dis ortama temas eden bir üst dielektirik katman (303) içermektedir. Besinci dielektrik katman (301) tercihen ZnSnC)X içermektedir. ZnSnOX içeren besinci dielektrik katman (301) kalinligi 10 nm - 35 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada ZnSnOx içeren besinci dielektrik katman (301) kalinligi 15 nm - 30 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada ZnSnOx içeren besinci dielektrik katman (301) kalinligi 18 nm - 26 nm arasindadir. Altinci dielektrik katman (302) tercihen SIOXNy veya SiN*den en az birini içermektedir. Tercihen SIOXNy içeren altinci dielektrik katman (302) kalinligi 10 nm - 35 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada SIO,.Ny içeren altinci dielektrik katman (302) kalinligi 14 nm - 28 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada SIOXNy içeren altinci dielektrik katman (302) kalinligi 16 nm - 23 nm arasindadir. Ust dielektrik katman (303) tercihen SiOx içermektedir. SiOx içeren `üst dielektrik katman (303) kalinligi 5 nm - 35 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada SiOX içeren `üst dielektrik katman (303) kalinligi 10 nm - 30 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada SiOX içeren üst dielektrik katman (303) kalinligi 13 nm - nm arasindadir. Low-e kaplamanin (20) en 'üst dielektrik katmaninin (303) özellikleri, kaplamali camin (10) isil islem esnasindaki karakterini belirlemesinden dolayi low-e kaplamali (20) camin (10) depolanma ömrü, isil islenebilirligi, dayanimi ve görsel estetigi açisindan oldukça önemlidir. Bilhassa otomotiv sektöründe çizilmeye karsi direnç 'önemli oldugu için son katman/larin hangi malzeme oldugu ve nitelikleri önem kazanmaktadir. Kendisinden önce yer alan katmanlara uyum saglayan ve camin optik özelliklerini bozmadan ideal çizilme dayanima sahip olacak L'ist dielektrik yapiyi (30) belirlemek üzere asagidaki çalismalar gerçeklestirilmistir. Cam /.../üst dielektrik yapi (30) Cam/...lbesinci dielektrik katman (301)/altinci dielektrik katman(302) bir basinçta 25 nm kalinlikta ZnSnOx ve üzerine altinci dielektrik katman (302) olarak 3,25 x 10'3 mbar"lik basinçta 31 nm kalinlikta SixNy kaplanmasi sonucu isil islem öncesi blçülen kalinti gerilim degerinin -1040 MPa ve isil islem sonrasi ölçülen kalinti gerilim degerinin -1065 MPa oldugu gözlemlenmistir. Verilen gerilme degerlerinde elde edilen kaplamanin çizilme direncini belirlemek üzere, artan miktarlarda uygulanan yük sonucunda, testin baslangiç asamalarinda kaplamada pullanma/atma görülmüstür. Bunun yaninda kaplamaya uygulanan artan yük sonucu kaplamanin delamine oldugu kritik yük degeri 13,42 mN olarak ölçülmüstür. Cam /.../`ust dielektrik yapi(30) Cam/...lbesinci dielektrik katman (301)/altinci dielektrik katman (302) bir basinçta 25 nm kalinlikta ZnSnOx ve üzerine altinci dielektrik katman (302) olarak 4,60 x 10'3 mbar"lik basinçta 31 nm kalinlikta SixNy kaplanmasi sonucu isil islem öncesi ölçülen kalinti gerilme degerinin -1032 MPa ve isil islem sonrasi ölçülen kalinti gerilme degerinin -1021 MPa oldugu gözlemlenmistir. SixNy kaplama basincinin arttirilmasi ile birlikte kalinti gerilme degerlerinde kayda deger bir düsüs gözlenmemistir. Dolayisi ile artan yük sonucu olusan pullanma/atmanin kaplamanin delamine oldugu kritik yük degeri 12,45mN olarak blcülmüstür. Cam i'.../üst dielektrik yapi(30) Cam/...lbesinci dielektrik katman (301)/altinci dielektrik katman (302)/üst dielektrik Ornek Side cam üzerine besinci dielektrik katman (301) olarak 2,20 x 10'3 mbar'lik bir basinçta 25 nm kalinlikta ZnSnOx ve üzerine altinci dielektrik katman (302) olarak 4,58 x10'3 mbar"lik basinçta 21 nm kalinlikta SiOxNy ve üzerine opsiyonel SiOx kaplanmasi sonucu isil islem öncesi ölçülen kalinti gerilme degerinin -669 MP3 ve isil islem sonrasi ölçülen kalinti gerilme degerinin -580 MP3 oldugu gözlemlenmistir. Bunun yaninda kaplamaya uygulanan artan yük sonucu kaplamanin delamine oldugu kritik yük degeri 21,76 mN olarak ölçümlenmistir. Ornek 3 ile elde edilen yapi, artan yükler karsisinda pullanma/atma Ornek 1 ve Ornek 2'ye göre daha yüksek yüklerde ve nadiren görülmüstür. Dolayisi ile Ornek 3 ile elde edilen yapinin digerlerine göre çizilme dayanimi daha yüksek ölçümlenmistir. Elde edilen ölçüm sonuçlarina göre Ornek 3"de verilen Cam/...I ZnSnOx/SiOxNy/Sioz yapisinin, Cam/...I ZnSnOxi'SixNy yapisindan kalinti gerilme degeri düsük olmakta ve çizilme dayanimi açisindan daha yüksek performans göstermektedir. Çizilme dayanimi açisindan yüksek performans, özellikle kaplamali otomotiv camlarinda hassas geometrik toleranslarla üretilmesi söz konusu olan basüstü/göz hizasi gösterge (teknikte head up display olarak bilinmektedir) uygulamalarinin üretim süreçlerinde çizilme kaynakli sorunlarin önüne geçilmesi için önemlidir. Bulus konusu low-e kaplama, bahsedilen basüstü/göz hizasi göstergesine uyumlu camlarin üretimi esnasinda farkli pres ve pres destekli Çöktürme bükme gibi proseslerle islenebilir. Yukarida anlatilan dizilimdeki low-e kaplamanin (20) isil islem sonrasi yüzey direnci 0,7 Q/kare ile 1,0 Q/kare arasindadir. Tercih edilen uygulamada low-e kaplamanin (20) isil islem sonrasi yüzey direnci 0,8 Q/kare ile 0,9 Qi'kare arasindadir. Bahsedilen yüzey direnç seviyeleri sahip olan bulus konusu low-e kaplamanin (20) uygulandigi lamine cam (10), günümüz binek otomobillerinde kullanilan 12 V - 14 V akü çikis voltajlari ile herhangi bir baska voltaj düzenleyici cihaza gerek kalmadan, buz ve bugu çözmek amaçli isitilabilir. Bulus konusu low-e kaplamanin (20) uygulandigi lamine cam (10) yapilanmalarinda da kullanilabilmektedir. Laminasyon uygulamalarinda yüzey numaralandirmalari disaridan içeriye dogru siralanmaktadir. Ornegin ikinci yüz dis ortama bakan camin (10) lamine yüzeyine bakan kismini ifade etmektedir. Üçüncü yüz ise bina veya araç iç kismina bakan camin (10) lamine yüzeyine bakan kismini ifade etmektedir. Lamine uygulamasinda bahsedilen low-e kaplama (20) tercihen ikinci veya üçüncü yüzeyde kullanilabilmektedir. Kullanilan cam kalinliklari 0,1 mm ile 12 mm arasinda degisebilmektedir. Motorlu araç camlarinda (10) kullanilmasi durumunda cam kalinligi 1 mm ile 4 mm arasindadir. Mimari uygulamada kullanilan cam kalinliklari 4 mm ile 12 mm arasindadir. Bulus konusu low-e kaplamanin (20), lamine camin (10) motorlu araç uygulamalarinda üçüncü yüzde kullanilmasi durumunda optik performans degerlerinden Tvis degeri %64 ile %78 arasindadir. Tercihen low-e kaplamanin (20), lamine camin (10) motorlu araç uygulamalarinda üçüncü yüzde kullanilmasi durumunda Tvis degeri %66 ile %76 arasindadir. En tercihen low-e kaplamanin (20), lamine camin (10) motorlu araç uygulamalarinda üçüncü yüzde kullanilmasi durumunda Tvis degeri %68 ile %74 arasindadir. Bahsedilen low-e kaplamanin (20) motorlu araç uygulamalarinda üçüncü yüzde kullanilmasi durumunda dis yansima a* degeri -10 ile -4 arasinda, disa yansima b* degeri ise -6 ile -1 arasindadir. Low-e kaplama (20) motorlu araç uygulamalarinda lamine edilmis camin (10) ister ikinci yüzünde ister üçüncü yüzünde kullanilsin, dis yansima a* degeri 0" - 75" lik gelis açilarinda negatif bölgede kalmaktadir. Low-e kaplama (20) yapisinda dielektrikler arasinda konumlanan tüm fonksiyonel katmanlarin birbirleri ile olan oranlari renk degerleri, bilhassa dis yansima a* degerinin negatif bölgede tutulmasi açisindan son derece önemlidir. Birinci fonksiyonel katman (22) I ikinci fonksiyonel katman (25) / üçüncü fonksiyonel katman (28) kalinligi orani için belirlenen degerler belirtilen açisal davranisi saglanmaktadir. Bulusun koruma kapsami ekte verilen istemlerde belirtilmis olup kesinlikle bu detayli anlatimda örnekleme amaciyla anlatilanlarla sinirli tutulamaz. Zira teknikte uzman bir kisinin, bulusun ana temasindan ayrilmadan yukarida anlatilanlar isiginda benzer yapilanmalar ortaya koyabilecegi açiktir. TR TR TR TR TR TR TR TR TR TR