TR201908191T4 - Reakti̇f gaz üretme si̇stemi̇ ve reakti̇f gaz kullanilarak muamele yöntemi̇ - Google Patents

Reakti̇f gaz üretme si̇stemi̇ ve reakti̇f gaz kullanilarak muamele yöntemi̇ Download PDF

Info

Publication number
TR201908191T4
TR201908191T4 TR2019/08191T TR201908191T TR201908191T4 TR 201908191 T4 TR201908191 T4 TR 201908191T4 TR 2019/08191 T TR2019/08191 T TR 2019/08191T TR 201908191 T TR201908191 T TR 201908191T TR 201908191 T4 TR201908191 T4 TR 201908191T4
Authority
TR
Turkey
Prior art keywords
reactive gas
gas
treatment
product
hvcp
Prior art date
Application number
TR2019/08191T
Other languages
English (en)
Inventor
M Keener Kevin
A Hochwalt Mark
Original Assignee
Nanoguard Tech Llc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nanoguard Tech Llc filed Critical Nanoguard Tech Llc
Publication of TR201908191T4 publication Critical patent/TR201908191T4/tr

Links

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23B—PRESERVATION OF FOODS, FOODSTUFFS OR NON-ALCOHOLIC BEVERAGES; CHEMICAL RIPENING OF FRUIT OR VEGETABLES
    • A23B7/00—Preservation of fruit or vegetables; Chemical ripening of fruit or vegetables
    • A23B7/14—Preserving or ripening with chemicals not covered by group A23B7/08 or A23B7/10
    • A23B7/144—Preserving or ripening with chemicals not covered by group A23B7/08 or A23B7/10 in the form of gases, e.g. fumigation; Compositions or apparatus therefor
    • A23B7/152—Preserving or ripening with chemicals not covered by group A23B7/08 or A23B7/10 in the form of gases, e.g. fumigation; Compositions or apparatus therefor in a controlled atmosphere comprising other gases in addition to CO2, N2, O2 or H2O ; Elimination of such other gases
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23B—PRESERVATION OF FOODS, FOODSTUFFS OR NON-ALCOHOLIC BEVERAGES; CHEMICAL RIPENING OF FRUIT OR VEGETABLES
    • A23B9/00—Preservation of edible seeds, e.g. cereals
    • A23B9/16—Preserving with chemicals
    • A23B9/18—Preserving with chemicals in the form of gases, e.g. fumigation; Compositions or apparatus therefor
    • A23B9/22—Preserving with chemicals in the form of gases, e.g. fumigation; Compositions or apparatus therefor in a controlled atmosphere comprising other gases in addition to CO2, N2, O2 or H2O
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23K—FODDER
    • A23K40/00—Shaping or working-up of animal feeding-stuffs
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Disinfection or sterilisation of materials or objects, in general; Accessories therefor
    • A61L2/02—Disinfection or sterilisation of materials or objects, in general; Accessories therefor using physical processes
    • A61L2/14—Plasma, i.e. ionised gases
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Disinfection or sterilisation of materials or objects, in general; Accessories therefor
    • A61L2/16—Disinfection or sterilisation of materials or objects, in general; Accessories therefor using chemical substances
    • A61L2/20—Gaseous substances, e.g. vapours
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Disinfection or sterilisation of materials or objects, in general; Accessories therefor
    • A61L2/16—Disinfection or sterilisation of materials or objects, in general; Accessories therefor using chemical substances
    • A61L2/20—Gaseous substances, e.g. vapours
    • A61L2/202—Ozone
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23V—INDEXING SCHEME RELATING TO FOODS, FOODSTUFFS OR NON-ALCOHOLIC BEVERAGES AND LACTIC OR PROPIONIC ACID BACTERIA USED IN FOODSTUFFS OR FOOD PREPARATION
    • A23V2002/00—Food compositions, function of food ingredients or processes for food or foodstuffs
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2103/00—Materials or objects being the target of disinfection or sterilisation
    • A61L2103/15—Laboratory, medical or dentistry appliances, e.g. catheters or sharps
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2103/00—Materials or objects being the target of disinfection or sterilisation
    • A61L2103/23—Containers other than laboratory or medical, e.g. bottles or mail
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2103/00—Materials or objects being the target of disinfection or sterilisation
    • A61L2103/75—Room floors or walls
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L9/00—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air
    • A61L9/16—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air using physical phenomena
    • A61L9/22—Ionisation

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Zoology (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Food Preservation Except Freezing, Refrigeration, And Drying (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Storage Of Fruits Or Vegetables (AREA)
  • Treatment Of Fiber Materials (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

Bir ürünün veya yüzeyin bir reaktif gazla muamele edilmesine yönelik bir yöntem, reaktif gazın bir çalışan gazdan bir yüksek-voltajlı soğuk plazmanın (HVCP) oluşturulmasıyla üretilmesini; reaktif gazın HVCP'den en az 5 cm uzağa taşınmasını; ardından ürünün veya yüzeyin reaktif gazla temas ettirilmesini ihtiva eder. HVCP ürüne veya yüzeye temas etmez.

Description

Tarifname REAKTIF GAZ ÜRETME SISTEMI VE REAKTIF GAZ KULLANILARAK MUAMELE YÖNTEMI ARKA PLAN Biyolojik dekontaminasyon ve sterilizasyon tibbi ekipman ve cihaz sterilizasyonu, gida üretimi ve korunmasi ve tüketici mallarinin hazirlanmasi dahil olmak üzere çok çesitli uygulamalara sahiptir. Sterilizasyon için halen kimyasallar, isi, yüksek-enerjili elektron demetleri ve X-isini veya gamma-isini isinlama sistemleri kullanilmaktadir. Bu sistemlerin her biri maliyet, etkililik, hareketsizlik, elektrik enerjisi gereksinimleri, toksik atik, kisisel tehlike ve sterilizasyon veya dekontaminasyon için gereken süre nedeniyle ödünlesimlere sahiptir. Dekontaminasyon ve sterilizasyon Için plazmalar kullanilagelmektedir. Gaz, sivi ve katidan ayrilan dördüncü bir hal olan plazma elektrik bosalimi, örnegin bir gaz üzerinden elektrik bosalimi yoluyla üretilebilir. Her ne kadar tüm plazmalar elektronlar, iyonlar ve nötr türler ihtiva etse de, plazmanin hazirlanmasi için kullanilan gazin bilesiminin yani sira plazma üretmek için kullanilan Cihazin elektriksel ve yapisal yapilandirmasina bagli olarak farkli özelliklere sahip olacaktir. Plazmanin bir tipi, dielektrik bariyer bosalimi [DBD] sistemleri kullanilarak hazirlanabilen yüksek-voltajli soguk plazmadir (HVCP). HVCP, bir DBD sistemiyle tercihen 30 kV ila 500 kV arasindaki voltajlar kullanilarak, 50 veya 60 Hz'lik bir frekansta bir gazin dengeli- olmayan bozulmasi kullanilarak hazirlanabilir. Sonuç olarak, halihazirda ne bu plazmalarin özelliklerini ne de bu tip plazmada üretilen çesitli uyarilmis ve reaktif türleri açiklayan bir teori bulunmamaktadir. Son on yil boyunca HVCP'nin deneysel incelenmesi bu plazmanin çalisilmasi için gerçeklestirilmistir. Materyallerin HVCP'ye dogrudan maruz kalmasi çalisilmistir. Biyolojik ürünlerin ambalajlar içinde mühürlendigi ve HVCP'nin ambalaj içinde üretildigi, biyolojik ürünlerin ve kirleticilerin HVCP'ye maruz birakildigi çalismalar özellikle alakalidir. Bu çalismalarda, ürün ve diger materyaller gibi ambalajli gidalar kisa bir sürede sterilize edilmistir. Ambalajlarin içindeki ürünler plazmayla dogrudan temas eder. Ambalajlar mühürlenmis oldugundan, plazmada üretilen reaktif gaz ürünle süresiz olarak temasta kalir, seyreltilmez veya dagitilmaz ve ambalajli ürün, meyveler ve sebzeler gibi ürünlerin raf ömrünü uzatarak tekrar kontanimasyondan korunur. Bakiniz, örnegin, her ikisi de Keener tarif etmektedir. EP 2374753 A1, bir sividan, bir mikrodalga salinimli yapi uygulayarak kimyasal bir ürünün üretilmesi için bir cihazi tarif etmektedir. KISA AÇIKLAMA Bir birinci yönde, mevcut bulus, meyve veya tohumlar üzerindeki mikotoksinlerin indirgenmesi için asagidakileri ihtiva eden bir yöntemdir: çalisan bir gazdan bir yüksek-voltajli soguk plazma [HVCP] olusturarak bir reaktif gazin üretilmesi; reaktif gazin HVCP'den en az 3 metre uzaga tasinmasi, ardindan meyve veya tohumlarin reaktif gazla temas ettirilmesi olup; burada reaktif gaz, uyarilmis ve kimyasal olarak reaktif türler ihtiva eden, ancak 0,2 saniye veya altinda dagilan türler ihtiva etmeyen bir HVCP tarafindan üretilir. Bir ikinci yönde, mevcut bulus bir ürünün veya yüzeyin bir reaktif gazla muamele edilmesinin, asagidakileri ihtiva eden bir yöntemidir: çalisan bir gazdan bir yüksek-voltajli soguk plazma [HVCP] olusturarak bir reaktif gazin üretilmesi; reaktif gazin HVCP'den en az 3 metre uzaga tasinmasi, ardindan meyve veya tohumlarin reaktif gazla temas ettirilmesi olup; burada HVCP ürün veya yüzeyle temas etmez ve burada ürün veya yüzey, temas ettirilmeyle pastörize edilen Salmonella, Listeri'a ve/veya E. coli'dir ve burada reaktif gaz, uyarilmis ve kimyasal olarak reaktiftürler ihtiva eden, ancak 0,2 saniye veya altinda dagilan türler ihtiva etmeyen bir HVCP tarafindan üretilir. Bir yüzeyin tibbi olarak sterilize edilmesinin, çalisan bir gazdan bir yüksek-voltajli soguk plazma (HVCP) olusturarak bir reaktif gazin üretilmesini ve yüzeyin reaktif gazla temas ettirilmesini ihtiva eden bir yöntemi burada tarif edilmektedir. HVCP yüzeyle temas etmez ve yüzey, örtülü alanin en az 8 metreküplük bir hacme sahip oldugu bir Örtülü alanin veya örtülü bir alandaki ekipmanin yüzeyidir. Bir ürünün veya yüzeyin bir reaktif gazla muamele edilmesinin, çalisan bir gazdan bir yüksek-voltajli soguk plazmanin (HVCP) olusturulmasiyla üretilen depolanmis reaktif haza sahip bir konteynerin saglanmasini ve ürünün veya yüzeyin reaktif gazla temas ettirilmesini ihtiva eden bir yöntemi burada tarif edilmektedir. Reaktif gaz, ozondan farkli en az bir reaktif veya uyarilmis gaz ihtiva eder. Bir üçüncü yönde, mevcut bulus, bir ürünün veya yüzeyin bir reaktif gazla muamele edilmesinin, asagidakileri ihtiva eden bir sistemidir (200, 300, 400): 400) olup, mesafe en az 3 metredir ve burada reaktif gaz (210, 408), uyarilmis ve kimyasal olarak reaktif türleri ihtiva eden, ancak 0,2 saniyede veya altina dagilan türleri ihtiva etmeyen bir HVCP tarafindan üretilir. TANIMLAR Burada tarif edilen tüm akimlar ortalama karekök (RMS) volt (V) ve kilovolt (kV) olarak belirtilen dalgali akimdir. Gaz bilesimleri yüzdesi (%) yüzde hacimlerdir. Bir soguk plazma, plazmanin hazirlanmasi için kullanilan gazin (yan, çalisan gazin) sicakliginin en çok 40°C üzerinde, tercihen plazmanin hazirlanmasi için kullanilan gazin sicakliginin en çok 20°C üzerinde bir sicakliga sahip bir plazmayi ifade etmektedir. arasindaki bir basinca sahip bir gazdan hazirlanan, en çok 500 kV*lik voltajlar kullanilarak, en çok sistemi kullanilarak hazirlanan bir soguk plazmayi ifade etmektedir. HVCP isil bir plazma degildir, bir mikrodalga plazma degildir ve bir radyo frekansi (RF) plazma degildir. HVCP plazmalar denge-olmayan bozulma kosullari altinda hazirlanir. Reaktif gaz, uyarilmis ve kimyasal olarak reaktif türleri ihtiva eden, ancak 0,2 saniyede veya altina dagilan türleri ihtiva etmeyen bir HVCP tarafindan üretilen gaz anlamina gelmektedir. Bir reaktif gazin bilesimi, reaktif gaz içerisinde uyarilmis türler dagildikça ve kimyasal tepkimeler meydana geldikçe zaman içerisinde degisecektir. Reaktif gaz, bir HVCP üreten DBD sisteminden uzaklastirilabilen gazdir. Bir reaktif tür veya uyarilmis tür, spektroskopi kullanilarak saptanabilirse bir reaktif gazda mevcut olarak kabul edilir. Dielektrik bariyer bosalim (DBD) veya bir DBD sistemi, bir dielektrik bariyer tarafindan ayrilan en az iki elektroda sahip ve daha fazla elektroda sahip olabilen, bir dielektrik bariyerin, gazda bir bosalimla üretilen yükün bir elektroda ulasmasini engellemek için her bir elektrot arasinda mevcut oldugu bir sistem anlamina gelmektedir. Bir DBD sistemindeki komsu elektrotlar arasindaki en kisa mesafe en az 0,5 cm'dir [veya 0,25 inç). Tercihen, DBD sistemleri bir HVCP üretmek için kosullar altinda çalismak üzere yapilandirilir. DBD sistemlerinin örnekleri SEKIL 1A, 1B, 1C, 1D, 1E ve 1F'de resmedilmektedir; tercihen, elektrotlar SEKIL 1A, 1B, 1C ve 1F'de resmedildigi üzere elektrotlar arasindaki bir boslukla veya plenum ile mesafelidir. Çalisan gaz ve çalisan gaz karisimi, bir plazma olusturmak için kullanilan gazi ifade etmektedir. Ambalaj, en çok 6 galonluk (veya 22,7 litrelik) bir hacme sahip bir konteyner anlamina gelmektedir. Mühürlenmis veya büyük ölçüde mühürlenmîs, ambalajin veya konteynerin içindeki gazlarin içerde kaldigi ve dokunulmadan birakilirsa ambalajin veya konteynerin disina en az 24 saat akmadigi veya yayilmadigi anlamina gelmektedir. Sterilize etmek veya sterilize edilmis, bu sporlar mevcutsa, bir üründeki veya yüzeydeki canli Baci'llus atrophaeus Sporlarinin sayisinin, muamele öncesi mevcut miktarin en çok 1 x -6'sina indirgenmesi için yeterli bir muameleye tabi tutulma [veya tabi tutulmus olma) anlamina gelen tibbi sterilizasyon veya tibbi olarak sterilize edilmis anlamina gelmektedir. Konserveleme sterilize etme veya konserveleme sterilize edilmis, bu sporlar mevcutsa, bir üründeki veya yüzeydeki canli Clostridium botuli'num sporlarinin sayisinin, muamele öncesi mevcut miktarin en çok 1 X 10'12'sine indirgenmesi için yeterli bir muameleye tabi tutulma [veya tabi tutulmus olma) anlamina gelmektedir. E. coli' pastörize edilmis, bu bakteri mevcut olmussa, bir üründeki veya yüzeydeki canli Escherichia coli' 0157zl-l7'nin sayisinin, muamele öncesi mevcut miktarin en çok 1 X 10- 6'sina indirgenmesi için yeterli bir muameleye tabi tutulma [veya tabi tutulmus olma) anlamina gelmektedir. Listeria pastörize edilmis, bu bakteri mevcut olmussa, bir üründeki veya yüzeydeki canli Listeri'a monocytogenes sayisinin, muamele öncesi mevcut miktarin en çok 1 X 10'5'ine indirgenmesi için yeterli bir muameleye tabi tutulma [veya tabi tutulmus olma) anlamina gelmektedir. Salmonella pastörize edilmis, bu bakteri mevcut olmussa, bir üründeki veya yüzeydeki canli Salmonella enterica subsp. enteri'ca serovar enteriti'di's sayisinin, muamele öncesi mevcut miktarin en çok 1 x 10-5'ine indirgenmesi için yeterli bir muameleye tabi tutulma eden" ifadesi, anilan ürünün milyarda 20 parçadan (ppb) fazla aflatoksin, 1000 ppb'den fazla deoksinivalenol ve/veya 200 ppb'den fazla fumonisin ihtiva ettigi anlamina gelirken, en çok 20 ppb aflatoksin, en çok 1000 ppb deoksinivalenol ve en çok 200 ppb fumonisin ihtiva ettigi anlamina gelmektedir. ifadesi, anilan ürünün 2 ppb'den fazla aflatoksin 81, 4 ppb'den fazla toplam aflatoksin, 750 ppb'den fazla deoksinivalenol, 1000 ppb'den fazla fumonisin ve/veya 75 ppb'den fazla zearalenon ihtiva ettigi anlamina gelirken, "AB standartlarina göre insan gidasi olarak kullanim için uygun" ifadesi, anilan ürünün en çok 2 ppb aflatoksin B1, en çok 4 ppb toplam aflatoksin, en çok 750 ppb deoksinivalenol, en çok 1000 ppb fumonisin ve/veya en çok 75 ppb zearalenon ihtiva ettigi anlamina gelmektedir. eden" ifadesi, anilan ürünün 20 ppb'den fazla aflatoksin, 5000 ppb'den fazla deoksinivalenol, 5000 ppb'den fazla fumonisin ve/veya 1000 ppb'den fazla zearalenon ihtiva ettigi anlamina gelirken, "ABD standartlarina göre hayvan yemi olarak kullanim için uygun" ifadesi, anilan ürünün en çok 20 ppb aflatoksin, en çok 5000 ppb deoksinivalenol, en çok 5000 ppb fumonisin ve en çok 1000 ppb zearalenon ihtiva ettigi anlamina gelmektedir. eden" ifadesi, anilan ürünün 10 ppb'den fazla aflatoksin, 1750 ppb'den fazla deoksinivalenol, 4000 ppb'den fazla fumonisin ve/veya 100 ppb'den fazla zearalenon ihtiva ettigi anlamina gelirken, "AB standartlarina göre hayvan yemi olarak kullanim için uygun" ifadesi, anilan ürünün en çok 10 ppb aflatoksin, en çok 1750 ppb deoksinivalenol, en çok 4000 ppb fumonisin ve en çok 100 ppb zearalenon ihtiva ettigi anlamina gelmektedir. SEKILLERIN KISA AÇIKLAMASI Asagidaki sekiller basvurunun ürünlerinin, cihazlarinin ve yöntemlerinin resmedilmesine yardimci olmak için saglanmaktadir, ancak diger varyasyonlar ve yapilandirmalar mümkündür. Sekiller, bazi parçalarin boyutunun netlik açisindan arttirildigi veya azaltildigi sekilde ölçekli olarak çizilmemistir. SEKIL 1A, 1B, 1C, 1D, 113 ve IE çesitli DBD sistemlerinin sematik çizimleridir. SEKIL 2, bir ürünün veya bir yüzeyin reaktif bir gazla süresiz muamelesi için bir reaktif gaz muamele sisteminin sematik bir çizimidir. SEKIL 3, bir ürünün veya bir yüzeyin bir reaktif gazla kesikli muamelesi için bir reaktif gaz muamele sisteminin sematik bir çizimidir. SEKIL 4, kapali bir alana sahip ekipmanin ve/veya yüzeylerin muamelesi için bir reaktif gaz muamele sisteminin sematik bir çizimidir. DETAYLI AÇIKLAMA Mevcut bulus, HVCP tarafindan üretilen reaktif gazdan faydalanmaktadir. Reaktif gaz, plazmanin üretildigi DBD sisteminden kayda deger bir mesafede, örnegin 3 ila 30 metre [ veya 10 ila 100 fit] mesafede tasindiginda bile yüzeyleri sterilize veya pastörize edebilir. Ayrica, reaktif gaz, Mikotoksinler gibi bazi organik ve biyolojik materyalleri parçalayabilir. Bu oldukça sasirticidir, çünkü bir ambalaj içerisinde üretilen HVCP'nin aksine, ürünün HVCP'ye dogrudan maruz birakilmasi yoktur, reaktif gazin ürünle temas süresi sinirli, örnegin 1 saniye, 1 dakika, 30 dakika veya bir saat boyuncadir. Ayrica, reaktif gaz HVCP'nin üretildigi DBD sisteminden uzaga tasindigi için, hem çevreleyen gazin içine difüzyonla hem çevreleyen gazla ve/veya çalisan gazla karistirilarak seyreltilir. Reaktif gaz DBD sisteminden uzaga tasindigindan, çok daha büyük hacimlerde ürün, kesikli islemlerde veya süresiz islemlerde reaktif gaza maruz birakilabilir. Ek olarak, bir ameliyathanenin dezenfeksiyonu gibi büyük ölçekli dezenfeksiyon da gerçeklestirilebilir. SEKIL 1A, 18, 1C, 1D, 1E ve IE bir reaktif gaz üreten HVCP üretmek için kullanilabilen çesitli DBD sistemlerinin sematik çizimleridir. Bir DBD sistemi, bir dalgali akim üreten bir topraklamaya sahip bir yüksek voltaj kaynagi (10), bir birinci elektrot [20), bir ikinci elektrot [30) ve aradan geçen bir dielektrik (40] ihtiva eder. Birinciyle ikinci elektrot arasinda bir veya daha fazla ilave aradan geçen dielektrik de (60] mevcut olabilir. Bazi yapilandirmalarda, dielektrik birinci ve/veya ikinci elektrotu çevreleyebilir. Bazi yapilandirmalarda, voltaj dalga formuyla baglantili olarak kullanilan elektrotlarin yük toplanimi, DBD sisteminin güç tüketiminin hesaplanmasi için kullanilabilir ve konvansiyonel bir kapasitör veya diger sensör [70) boyunca gelisen voltajin belirlenmesi için ölçülebilir. Tercihen, SEKIL 1A, IB, 1C ve 1F'de gösterildigi üzere, elektrotlar arasinda HVCP ve reaktif gazin üretildigi bir alani tanimlayan bir plenum (50] mevcuttur. Ancak, HVCP ve reaktif gaz ayrica, SEKIL 1D ve 1E'de resmedildigi gibi, DBD sisteminde net bir plenum mevcut olmadiginda dahi dielektriklerin yakininda da üretilebilir. Bazi yapilandirmalarda, SEKIL 1F'de resmedildigi gibi [burada her bir plenumun (50] tanimlanmasi için her bir elektrot-dielektrik tertibatini (örnegin [40, 20 ve 40] tasimak için bir çerçeve (80) kullanilmaktadir) bitisik elektrotlarin her bir çiftinin arasinda ve opsiyonel olarak birden fazla plenum olusturan bir veya daha fazla aradan geçen dielektrikle, 3 ila 10 elektrot, 4 ila 8 elektrot veya 5 ila 7 elektrot gibi birden fazla elektrot da kullanilabilir; bu tip bir düzenleme daha yüksek bir miktarda HVCP'nin üretilmesine ve bu nedenle reaktif gazin üretilmesine olanak saglarken, elektrotlar arasinda uygun mesafeyi muhafaza eder ve sistemi kompakt halde tutar. DBD sisteminin yapilandirmasi, yüksek akimli bir kavisin olusumunu engellemek amaciyla elektrotlar arasinda olusturulan herhangi bir ipliksi bosalimin akiminin sinirlanmasiyla sonuçlanir. Tercih edilen bir düzenlemede, bir birinci elektrot bir dielektrik içinde tamamen örtülüdür ve bir ikinci elektrot topraklidir. Elektrotlar, bir metal gibi herhangi bir iletken malzemeden yapilabilir. Dielektrikler, çesitli bilesimlerin çoklu katmanlari dahil olmak üzere seramik, cam organik materyaller veya plastik gibi herhangi bir yalitkan malzemeden (dielektrik malzeme] yapilabilir. Dielektrigin kalinligi veya dielektrigin farkli katmanlari, elektrotlar arasinda olusabilecek herhangi bir ipliksi bosalimin akimini sinirlamak için seçilmelidir. Dielektrik katmanlari için malzemelerin seçimi, reaktif gaz bilesimi üzerinde bir etkiye sahip olabilir. Elektrotlar paralel oldugunda komsu elektrotlar arasindaki mesafe veya elektrotlar paralel olmadiginda komsu elektrotlar arasindaki en kisa mesafe tercihen en çok 30 cm olmak üzere 1 ila 10 cm veya 2,5 ila 6 cm'dir (veya 1 ila 2 inç). Yüksek voltaj kaynagi, en olmak üzere 30 kV ila DC gücü de kullanilabilir. Her ne kadar frekans birincil olarak kolaylik için seçilse de (örnegin, sehir elektrik sebekesinden 50 veya 60 Hz AC enerjisi mevcuttur), voltaj HVCP üretiminin temin edilmesi için seçilir. Çalisan gazlarin ve çalisan gaz karisimlarinin farkli seçimi, HVCP tarafindan üretilen reaktif gazda mevcut türü etkileyecektir. HVCP hazirlamak için kullanilabilen gazlarin örneklerine oksijen (02); nitrojen (N2); su buhari (H20); etkisiz ve soy gazlar, örnegin helyum (He), neon (Ne), argon (Ar), kripton (Kr), ksenon (Xe) ve sülfür heksaflorür (SF6); hidrojen (H2); karbon dioksit (C02) ve karbon monoksit (CO); halojenler ve psödohalojenler, örnegin florür (F2), klorür (Clz), bromür (Brz) ve siyanojen ((CN)2); asidik gazlar, örnegin hidrojen sülfit (HzS), hidrojen florür (HF), hidrojen klorür (HCl) ve karbonil sülfit (COS); amonyak (NH3); hidrazin (H4N2); nitrojen triflorür (NF3), klorür dioksit (C102); hidrokarbonlar, örnegin metan (CH4), etan (C2H6) ve asetilen (H2C2); alkoller, örnegin metanol (CHsOH) ve etanol (C2H50H) ve bunlarin karisimlari dahildir. Tercih buharinin miktarinin arttirilmasi reaktif gazda mevcut ozonun indirgenmesi için kullanilabilir. Helyum gibi soy gaz miktarinin arttirilmasi, HVCP üretmek için gereken voltaji indirgemek için kullanilabilir. HVCP hazirlamak için kullanilan gazin basinci 101325 Pa (760 Torr, atmosfer basinci) gibi diger basinçlar da kullanilabilir. Reaktifgaz çesitli reaktif ve uyarilmis türler ihtiva eder ve reaktif gaz her zaman en az bir adet (ve tipik olarak birden fazla), çalisan gazda mevcut olmayan reaktif ve/veya uyarilmis tür ihtiva eder. Çalisan gaz oksijen (örnegin 02, COz ve/veya HzO) ihtiva ettiginde ozon olusabilir; ancak, reaktif gazin özellikleri ve tepkileri yalnizca ozonun varligiyla açiklanamaz ve reaktif gaz her zaman (reaktif gazda mevcut olabilen veya olmayabilen) herhangi bir ozona ek olarak diger reaktif ve uyarilmis türleri ihtiva eder. Ozona ek olarak, reaktif gazda mevcut olabilen diger reaktif ve uyarilmis türlere sunlar dahildir: tekli oksijen (102] ve diger uyarilmis moleküler türler (hem titresimsel olarak uyarilmis moleküller hem elektronik olarak uyarilmis atomlar ve/veya moleküller, örnegin 02, Hz, Nz, CO, (302, HzO, He, Ne, Ar, Kr ve Xe], hidroksil radikali (H00), nitrojen oksitler (örnegin HNOX türleri (örnegin HNO4, HN03 ve HNO), atomik radikaller [örnegin 0, F, Cl, N ve H] ve moleküler radikaller (örnegin, oksijen, nitrojen, florür ve klorür birinin veya daha fazlasini ihtiva edebilen hidrokarbon radikalleri). Tercihen, reaktif gaz ozona ve (mevcut olabilen veya olmayabilen) N02'ye ek olarak en az bir adet ilave reaktif ve/veya uyarilmis türe sahiptir. HVCP'nin aksine, reaktif gaz bir plazma degildir ve serbest elektronlar ihtiva etmez. Tercihen, reaktif gaz, yukarida listelenen 2-10 veya 3-8 veya 4-6 farkli reaktif ve/veya uyarilmis tür dahil olmak üzere yukarida listelenen en az 2 farkli reaktif ve/veya uyarilmis tür, daha tercihen yukarida listelenen en az 3 farkli reaktif ve/veya uyarilmis tür, daha da tercihen yukarida listelenen en az 4 farkli reaktif ve/veya uyarilmis tür ve en tercihen yukarida listelenen en az 5 farkli reaktif ve/ veya uyarilmis tür ihtiva eder. Ayrica reaktif gazi ileride kullanim için yakalamak ve bir konteynerde depolamak da mümkündür. Tercihen, depolanan reaktif gaz, üretilmesinden sonraki 24 saat içinde, daha tercihen 12 saat içinde, en tercihen 6 saat içinde, daha da tercihen 3 saat içinde bir ürünün veya yüzeyin muamele edilmesi için kullanilir. Reaktif gaz ayrica, örnegin bir sogutucu olarak sivi nitrojen kullanilarak veya bir sogutucu olarak sivi helyum kullanilarak asiri derecede düsük sicakliklara sogutularak da yakalanabilir ve depolanabilir. Bu tip düsük sicakliklarda yakalandiginda ve depolandiginda, reaktif gaz uzun, örnegin 1 günle 6 hafta arasinda ve muhtemelen daha uzun süreler boyunca depolanabilir. Diger sivilastirilmis veya katilastirilmis gazlarin depolanmasi için kullanilan cam veya metal konteynerler gibi konteynerler kullanilabilir. Bir reaktif gaz muamele sistemi ya bir DBD sistemi veya depolanmis reaktif gaz ve bir muamele haznesi ihtiva eder. Reaktif gaz muamele sistemi ayrica, reaktif gazin (karsilik olarak reaktif gazi üreten bir HVCP üreten] DBD sisteminden veya depolanmis reaktifgaza sahip bir konteynerden muamele haznesinin içine veya hazne boyunca hareket ettirilmesi için bir cihaz, mekanizma veya bir yapilandirma da ihtiva eder; bu, DBD sistemiyle muamele haznesi arasinda bir sivi baglanti olabilir. Tercihen, muamele haznesi sizdirmaz degildir; bu tip bir mühürlenmemis hazne bir gaz çikisina sahip bir muamele haznesi ihtiva edebilir. Tercihen, muamele haznesi en az 28 litrelik [veya 1 fut küplük] bir hacme, daha tercihen en az bir metreküplük bir hacme ve en tercihen en az 8 metreküplük bir hacme sahiptir. Muamele haznelerinin örneklerine odalar, bidonlar, tahil kurutucular, silolar, tanklar ve nakliye konteynerleri dahildir. Reaktif gaz sistemi bir ürünün ve/veya bir yüzeyin, (ya depolanmis reaktif gazdan veya bir DBD sistemi kullanilarak bir HVCP üreterek) reaktif gazin tedarik edilmesiyle ve reaktif gazin muamele haznesinin içine veya boyunca dagitilmasiyla muamele edilmesinin bir yöntemini gerçeklestirmek için kullanilabilir. Reaktif gazin hareket ettirilmesi için bir cihazin, mekanizmanin veya yapilandirmanin örneklerine konveksiyon, bir gaz yolaki ve gaz hatti, bir pervane ve akan veya sikistirilmis çalisma gazinin DBD sistemine tedarik edilmesini ihtiva eder. Tercihen, reaktif gazla muamele edilen ürün veya yüzey, muamele yöntemiyle 40°C'den fazla, daha tercihen 20°C'den fazla, daha tercihen 10°C'den fazla ve en tercihen 5°C'den fazla isitilmaz (yan, sicakligi arttirilmaz) örnegin ürün veya yüzey hiç isitilmaz. Reaktif gazla muamele bir isil-olmayan yöntemdir. Tercihen, ürünler veya yüzeyler yöntem esnasinda bir HVCP tarafindan üretilen (UV isigi gibi] radyasyona maruz birakilmaz. Opsiyonel olarak, reaktif gazin muamele haznesinden disari temizlenmesi için hava, bir çalisan gaz veya bir baska gaz [örnegin bir soy gaz veya nitrojen] kullanilabilir veya muamele haznesi tahliye edilebilir. Yöntem opsiyonel olarak, ürünlere veya yüzeylere birden fazla muamele saglamak için 1, 2, 3 veya daha fazla kez tekrarlanabilir. Opsiyonel olarak, ürün bir konteyner içine mühürlenebilir ve/veya bir reaktif gazla muameleden sonra sogutulabilir. Tercihen, muamele edilecek ürün, muamele esnasinda, en çok 10 galonluk veya en çok 6 galonluk bir hacme sahip bir konteyner gibi bir mühürlenmis veya büyük ölçüde mühürlenmis bir konteynerde kapatilmaz. Tercihen, HVCP, en çok 37,9 litrelik (10 galon) veya en çok 22,7 litrelik (6 galon) bir hacme sahip bir konteyner gibi mühürlü bir konteyner içinde üretilmez. HVCP tarafindan üretilen reaktif gaz [ürünün veya yüzeyin HVCP'ye dogrudan maruz birakilmasini önlemek için) difüzyon veya gaz aktarimiyla HVCP üretim alanindan uzaga tasinir. Plazmayla muamele edilecek ürün veya yüzey arasindaki mesafe 5, 10, 20, 30, 40 ve 50 metre dahil olmak üzere en az 3 metrelik, örnegin 3 ila 300 metrelik bir mesafedir. Çogu yapilandirmada, her e kadar reaktif gazi üretmek ve bunun ürünün veya yüzeyin muamele edilmesi için bir alana tasimak ve gazi belirli bir süre için muamele yerinde sinirlamak mümkün olsa da, reaktif gazin, muamele edilecek bir ürün veya yüzeyle temas halindeyken akmasina olanak saglanir. Reaktif gazin bir ürün veya yüzeyle temas için bir yere aktarilmasi için akis hizlarinin örneklerine 10 ila 3000 metre/dakika, dakikada 30 ila 1500 metre/dakika dahildir. Reaktif gazin ürün veya yüzeyle en az 1 saniye, örnegin en az en az 35 dakika, en az 1 saat, en az 6 saat ve en az 12 saat temas etmesi saglanir. Tema ve 5 saat dahildir. SEKIL 2, bir ürün veya bir yüzeyin bir reaktif gazla süresiz muamelesi için bir reaktif gaz muamele sisteminin (200) sematik bir çizimidir. Sistem, bir reaktif gaz (210) üretmek için bir HVCP üretmek için bir DBD sistemi (206) ihtiva eder. Reaktif bir gaz yolaki (208) boyunca bir muamele haznesinin (216) içine ve daha sonra bir gaz çikisindan (222) disari akar. Muamele edilecek veya muamele edilecek bir yüzeye sahip ürün (214), muamele haznesinin içine ve ürünün reaktif gazla temas etmesinden sonra tasinmasi için ürünü muamele haznesi boyunca ve bir alim bidonunun (220) içine tasiyan bir konveyör (218) üzerine beslendikçe bir besleme hunisi (212) içinde depolanabilir. Ayrica, HVCP'nin olusturuldugu bir çalisma gazi saglayan bir gaz tanki gibi bir gaz kaynagi (202) ve DBD sistemini çalisan gazla tedarik eden bir gaz hatti da (204) resmedilmektedir. Reaktif gaz, sistem üzerinden aktikça ilave çalisan gazla seyreltilebilir. Reaktif gazin DBD sisteminden muamele haznesine tasinmasi, (çalisan gazin eklenmesinden daha yüksek basinçta olan) DBD sistemiyle (gaz çikisi nedeniyle daha düsük basinçta olan) muamele haznesi arasindaki bir basinç farkliligi yoluyladir. Opsiyonel olarak, gaz çikisi DBD sistemine bir ikinci gaz hattiyla, çalisan gazin ve kalan herhangi bir reaktif gazin devridaim yapmasina olanak saglayarak geri baglanabilir. Opsiyonel olarak, DBD sistemi, bir gaz yolaki ihtiyacini önleyerek muamele haznesinin içinde yer alabilir. Bir varyasyonda, çalisan gaz hava olabilir ve reaktif gazin tasinmasina gaz yolaginda (reaktif gazi muamele haznesinin içine üfleyecek sekilde) veya DBD sisteminin arkasinda (havayi DBD sisteminin üzerinden üfleyecek sekilde) yer alan bir pervane neden olabilir. Opsiyonel olarak, konveyör ürünü, reaktif gazin ürünün tüm yüzeyleriyle temas etmesini temin etmek için bir perde üzerinde tasinabilir. Ayrica, ürün muamele haznesi boyunca, ürünün bir birinci konveyörden bir ikinci konveyöre hareket ettikçe etrafta tasindigi birden fazla konveyör üzerinde, reaktif gazin ürünün tüm yüzeyleriyle temas etmesini temin ederek tasinabilir. Bir baska varyasyonda, DBD sistemi, gaz kaynagi olarak bir depolanmis reaktif gaz kullanilarak ve reaktif gazi dogrudan muamele haznesine tasiyarak elimine edilebilir. Geçirimli bantli konveyör, bir vida, bir tünel kurutucu, bir tahil kurutucu veya bir silindirik kurutucu gibi çesitli farkli konveyörler kullanilabilir. SEKIL 3, bir ürünün veya bir yüzeyin bir reaktif gazla kesikli muamelesi için bir reaktif gaz muamele sisteminin (300) sematik bir çizimidir. Sistem, bir reaktif gaz üretmek için bir HVCP üretmek için bir DBD sistemi (306) ihtiva eder. Reaktif gaz yolaklari (308 ve 312) boyunca bir muamele haznesinin (302) içine ve daha sonra bir gaz yolaki (316) üzerinden, opsiyonel bir ürün geri kazanim tuzagi (318) üzerinden, bir gaz yolaki (320) boyunca ve bir gaz çikisi (324) üzerinden akar. Reaktif gazin ve çalisan gazi bir miktari veya tamami, opsiyonel bir gaz yolaki (304) üzerinden DBD sistemine devridaim edilebilir. Reaktif gaz ve çalisan gaz sistem üzerinde pervaneler (310 ve 322) tarafindan itilir. Muamele edilecek veya muamele edilecek bir yüzeye sahip ürün (314), muamele haznesinde mevcuttur; resmedildigi üzere, reaktif gaz, reaktif gazdan ve üründen bir akiskan yatak yaratmak ve ürünün tüm yüzeylerinin muamelesini temin etmek için muamele haznesinin alti boyunca beslenir. Ürün geri kazanim tuzagi, muamele haznesinden çikan ve gaz yolagina giren herhangi bir ürünü yakalamak ve bunu muamele haznesine geri göndermek için kullanilabilir. Muamele haznesi resmedilen sistemdeki bir silo olabilir; diger muamele haznelerine bir akiskan yatak, bir mekanik sivi yatagi ve bir bidon dahildir. Reaktif gaz, sistem üzerinde aktikça ilave çalisan gazla seyreltilebilir. Resmedildigi üzere, çalisan gaz hava olabilir, ancak opsiyonel olarak gaz yolaki (304), DBD sistemine bir çalisan gaz tedarik edilmesi için bir gaz kaynagina baglanabilir. Bir baska varyasyonda, DBD sistemi elimine edilebilir ve depolanmis reaktifgazla degistirilebilir. Ürünün veya yüzeyinin sterilize edilmesi [tibbi sterilizasyon veya konservelenmis sterilizasyon) pastörize edilmesi (Salmonella pastörize, Listeria pastörize veya E. coli' pastörize) için ve/veya toksinler gibi kirleticilerin yok edilmesi için herhangi bir ürün veya yüzey reaktif gazla muamele edilebilir. Ürünlerin örneklerine taze gidalar (örnegin meyveler, sebzeler, tahillar, fasulyeler, tohumlar, et, süt ürünleri, yumurtalar ve baharatlar veya aroma vericiler), deniz ürünleri (balik ve kabuklu balik ve bunlarin parçalari), hazir gidalar, donmus gidalar, ambalajlama öncesi islenmis gidalar [su, içecekler, bebek mamasi, sivi yumurtalar, meyve suyu, un, yag, besleyici ürün, vitaminler, nutrasötikler ve firinlanmis gidalar), (ambalajlarin disinin muamele edilmesi için) ambalajli ürünler, hayvan yemi, konserveler, siseler, plastik konteynerler, yemek kaplari, pisirme aletleri ve çatal biçaklar; haplar, kapsüller, birim dozaj formlari ve tozlar; hem kullanimdan önce hem sonra tibbi cihazlar ve tibbi ekipman; laboratuvar cam ve plastik aletler; seramik ürünler; metal ürünler ve deri ve ahsap ürünler dahildir. Canli mikroorganizmalarda (veya mikroorganizma sporlarinda) yeterli bir indirgeme reaktif gazla muameleyle basarilmazsa, istenen indirgeme elde edilene kadar, örnegin tibbi sterilizasyon veya konservelenmis sterilizasyon elde etmek için yeteri kadar sirali muamele gerçeklestirilebilir. Örnegin, 3, 4, 5, 6, 7 veya 8 muamele dahil olmak üzere 1 ila veya 2 ila 9 arasinda muamele gerçeklestirilebilir. Benzer sekilde, muamele süresi de uzatilabilir. Tercihen, reaktif gazla muamele, istemler geregince tibbi sterilizasyon veya konservelenmis sterilizasyon elde edilene kadar veya Salmonella pastörizasyon, Listeria pastörizasyon veya E. coli pastörizasyon elde edilene kadar tekrarlanir. Sterilizasyon veya pastörizasyonla oldugu gibi, [mikotoksin veya aflatoksin gibi) toksinde yeterli bir indirgeme reaktif gazla muameleyle basarilmazsa, istenen indirgeme elde edilene kadar sirali muameleler gerçeklestirilebilir. Örnegin, muamele en az %50'lik bir indirgeme veya en az %90'lik bir indirgeme elde edilene kadar tekrarlanabilir. Ürünlerin, odalarin ve konteynerin yüzeyleri, koku gidermek, hasaratlari ve böcekleri yok etmek, küfü yok etmek veya öldürmek, sterilize etmek, pastörize etmek, agartmak ve biyolojik toksinler ve pestisitler gibi toksinleri yok etmek için reaktif gazla muamele edilebilir. Reaktif gaz ayrica atik sularin, (otomobil egzozu gibi) egzoz gazlarinin aritilmasi, yaglarin kimyasal olarak modifiye edilmesi ve enzimlerin densirilmesi için de kullanilabilir. Meyveler (örnegin meyve parçalari ve kurutulmus meyve) ve tohumlar [örnegin tohum parçalari; bugday, pirinç ve misir gibi tahillar; nohutlar, fasulyeler, mercimekler, soya fasulyeleri ve yer fistiklari gibi baklagiller ve kaju, makadama cevizi, findik, kestane, palamut, badem, pekan, Antep fistigi, ceviz ve Brezilya fistigi gibi cevizler), özellikle aflatoksinler gibi mikotoksinlerle kontamine olmus olanlar tercih edilen ürünlerdir, çünkü reaktif gaz bu tip toksinleri yok edebilir ve önceden insan veya hayvan tüketimi için uygun olmayan bu tip ürünleri bu amaçlar için uygun hale getirebilir. Reaktif gazla temasla yok edilebilen veya indirgenebilen toksinlerin örneklerine sunlar dahildir: aflatoksin (örnegin aflatoksin B1, B2, G1 ve G2), deoksinivalenol [örnegin 15-asetil deoksinivalenol ve 3-asetil deoksinivalenol), okratoksin A, T2 toksin, HT-Z toksin, zearalenon ve fumonisin (örnegin fumonisin B1, B2 ve B3). Asagidaki tablo, yukaridaki çesitli mikotoksinlerin, bir ürünün hem ABD'de hem Avrupa'da [AB] insan gidasi veya hayvan yemi olarak kullanim için uygun olmadigi miktarlarini göstermektedir. Tekrarlanan reaktif gaz muamelesi dahil olmak üzere reaktif gaz muamelesi, insan gidasi veya hayvan yemi olarak kullanim için uygun olmayan bir ürünün, insan gidasi veya hayvan yemi olarak kullanim için uygun olan bir ürüne dönüstürülmesi için yeterince mikotoksinin yok edilmesi için kullanilabilir. Tablo 1. 2008 itibariyle, Birlesik Devletler'de ve Avrupa Birligi'nde tahildaki mikotoksin konsantrasyonlari hakkinda tavsiyeler ve emniyet sinirlari için düzenlemeler. Mikotoksin Insan gidasi için tahil Hayvan yemi için tahil Mikotoksin Insan gidasi için tahil Hayvan yemi için tahil ABDa ABb ABDa ABh iiMunkvold, 2003a bKomisyon Mevzuati (EC) No 1126/2007 CÇesitli spesifik gida ürünleri arasinda degisir dÇesitli canli hayvan türleri arasinda degisir SEKIL 4, bir oda, bir nakliye konteyneri, bir kamyon veya bir sogutuculu kamyon gibi örtülü bir alana sahip ekipmanin ve/veya yüzeylerin muamelesi için bir reaktif gaz muamele sisteminin sematik bir çizimidir. Burada örtülü alan olan muamele haznesi (400) içinde, bir reaktif gaz ( vardir. Reaktif gazin örtülü alan boyunca dagitilmasi için bir pervane (410) kullanilir. Ayrica, örtülü alanin duvarlari veya iç yüzeylerini, tibbi ekipman [örnegin cerrahi aletleri, maskeler, destekli soluma ekipmani ve Vital belirti monitörleri] gibi opsiyonel ekipman gazla muamele edilecek ürünler veya yüzeyler de resmedilmektedir. Opsiyonel olarak, DBD sisteminin örtülü alanin tepesine veya yanlarina monte edilmesi için destekler [402] kullanilabilir veya DBD sistemi örtülü alanin zeminine yerlestirilebilir. Opsiyonel olarak, bir çalisan gaz tedarigi, bir gaz tedarikine (resmedilmemistir) bagli bir gaz hattiyla [404-] tedarik edilebilir. Alternatif olarak, örtülü alan bir çalisan gazla doldurulabilir. Baska bir yapilandirmada, DBD sistemi depolanmis reaktifgazla degistirilebilir. ÖRNEKLER Asagidaki örnekler, reaktifgazin üretilmesi için bir HVCP'nin kullanilmis oldugu durumda, reaktif gazin etkilerinin ve özelliklerinin gösterilmesi için test sistemleridir. Tipik bir sistemde, ürünün ticari olarak kayda deger miktarlarinin muamelesinin elde edilmesi için ölçek arttirilabilir. Tüm HVCP 60 Hz'de güç kullanilarak üretilmistir. Örnek 1: kisa süreli reaktif gaz maruziyetini simüle ederek mikrobiyal yükün indirgenmesi için tam misirin muamele edilmesi 100 g tam misir, bir ArtBin® Polipropilen (PP) Konteynere (model 9100AB) - boyutlar bariyerli filmden olusan bir ikinci torbanin - boyutlar 40,0 cm X 47,0 (3 (B X E) yerlestirildi. HVCP üretmek için iki-4 elektrot grubu (her bir elektrot: alüminyum, 15,24 cm çapinda, toplamda 8 elektrot - 4 üst, 4 alt) arasinda bir DBD sisteminin içine yerlestirildi ancak AirBin®'deki tam misirla temas ettirilmedi. Muamele süreleri tam misir numuneleri için 280-290 vat enerji tüketimiyle 5 dakika ve 15 dakikaydi. Elektrotlar arasinda yükseklik içindeki plazma alani karakteristiklerinin düzenlenmesi için dielektrik bariyerler kullanildi: (1) kesme tahtalari (IKEA® marka, 37 cm x 29 cm x 2 cm): (2) elektrot grubunun üzerine yerlestirilen pleksiglas bariyer ve (3) bariyer kapasitesinin ilave yüzey alani genisletilmesi için 114 L ve/Veya 151 L sepetlerden sepet kapaklari (BellaTM marka) her bir torbanin üzerinde iki adet ve altinda bir adet). Bu dielektrik bariyerleri HVCP'den optimal reaktif gaz üretimine olanak sagladi. Ozon ve nitrojen oksitler Draeger® Kisa-Süreli Detektör tüpleri (Draeger Safety AG & C0. KGaA, Luebeck, Almanya) araciligiyla Ölçüldü. Muamelenin tamamlanmasinin hemen sonrasinda, torbalar açildi ve 5 dakika süreyle muamele edilen ve reaktif gazin mühürlü torba için açilmadan önce 24 saat süreyle kalmasinin saglandigi bir numune haricinde numuneler, kalan herhangi bir reaktif gazin yok edilmesi için temizlendi. Total aerobik bakteri kolonisi olusturan üniteler (CFU/g), aerobik bakteriler için triptik soya agar (TSA, Difco marka, Becton, Dickinson and Company (BD), Sparks, MD) kullanilarak standart yayma plak metodolojisiyle belirlendi. Aerobik geri kazanimlar için standart TSA plaklari 37°C'de 24 saat süreyle inkübe edildi. 24 saatlik reaktif gaz muamelesi sonrasi ve oda sicakliginda (22°C) depolamadan sonra mikrobiyal popülasyonlar ilgili gida ürününden (ürünlerinden), mikroorganizmalarin ürün yüzeylerinden yok edilmesi için steril bir durulama (%0,1 pepton) kullanilarak 1 dakika süreyle steril filtre korsa torbalarda çalkalamayla geri kazanildi. Çalkalamayla (elle sallama ve vorteksleme) durulama, sindirmenin bir sonucu olarak iç etli kisimdan eklenebilen ilave bakteri öldürücü müdahale potansiyel olmadan harici gezi kazanimlara olanak sagladi. Seyrelticilerden geri kazanimlar, seri seyreltmeler ve plak sayimi gerçeklestirilerek elde edildi. Mikrobiyal koloniler, plakalar 37°C'de 24 saat süreyle inkübe edildikten sonra sayildi. Tüm mikrobiyolojik yöntemler ABD Gida ve Ilaç Kurumu, Bakteriyolojik Analitik Kilavuzuna (BAM: Bacteriological Analytical Manual, 8th Edition, Final Revision: Ocak 25, 2001) göre gerçeklestirildi. Tam misir numuneleri ayni tam misirdan, numunenin yeniden bölünmesiyle ve numunelerin, misir üzerindeki mikrobiyal yükün diferansiyel indirgenmesinin elde edilmesi için muameleden önce ve sonra analiz edilmesiyle alindi. Asagidaki tablo bu deneyin sonuçlarini özetlemektedir. Tablodaki "SiC.", elektrotlarin sicakligini ifade etmektedir. Sirali muameleler kullanilarak ilave indirgeme, istendigi kadar büyük bir indirgeme elde etmek için kullanilabilir. Ortalama Ortalama Ortalama Depolama Deney Sic. indirgeme/ g 0.35±0.0 1.69±0.26 2.25±0.34 numune miktari tam misir taneleri Ozon (ppm) NOX (ppm) 15000 1000 15000 2000 15000 1000 17500 1500 8000? 1600 15000 2000 15000 1000 10000 2000 8000 1200 Örnek 2: Kisa reaktif gaz maruziyetini simüle ederek mikrobiyal yükün indirgenmesi için tam bugdayin muamele edilmesi Tam misir yerine 100 g tam bugday ve Örnek 1'de gerçeklestirilen deneyler ve ölçümler gerçeklestirildi. Asagidaki tablo bu deneyin sonuçlarini özetlemektedir. Tablodaki "Sic.", elektrotlarin sicakligini ifade etmektedir. Sirali muameleler kullanilarak ilave indirgeme, istendigi kadar büyük bir indirgeme elde etmek için kullanilabilir. Tablo 2: HVCP Islem Parametreleri: 95 kV multi-elektrot kurulumu, MA65 gaz tipi, 100 g numune miktari tam bugday taneleri Süre Depolama Deney Sic. Log10 Ozon (ppm) NOX (ppm) Örnek 3: Bir indirgemenin gösterilmesi için Mikotoksinler Ihtiva Eden Bilinen bir Referans Numunesinin Muamele Edilmesi Trilogy Analytical Laboratory, Washington, M0 tarafindan tedarik edilen, bilinen mikotoksin konsantrasyonlarina sahip (Trilogy® Referans Materyali, Ürün #: TR-MTSOO, Parti #: MTC-9999E) 50 gram dogal kontamine çoklu-toksin misir ürünü, bir ArtBin® E X Y] yerlestirildi. ArtBin®, Cryovac® B263O yüksek bariyerli filmden olusan bir ikinci torbanin - boyutlar 40,0 cm X 47,0 c [B x E] yerlestirildi. Her bir torba 3 dakika süreyle (37 N2) ile temizlendi ve daha sonra mühürlendi. Deneylerin bazilarinda kullanilan gazin nemlendirilmesi (yaklasik %60 nemle sonuçlanarak) bir baloncuk kullanilarak gerçeklestirildi. Torba daha sonra, torba içerisinde bir HVCP üretmek için iki-4 elektrot grubu (her bir elektrot: alüminyum, 15,24 cm çapinda, t0plamda 8 elektrot - 4 üst, 4 alt) arasinda bir DBD sisteminin içine yerlestirildi ancak AirBin®'deki ürünler temas ettirilmedi. HVCP 100 kV'de 0,6-1,8 mA'lik bir amperde olusturuldu. Torbalarin içindeki plazma alani karakteristiklerinin düzenlenmesi için dielektrik bariyerler kullanildi: (1) kesme tahtalari (lKEA® marka, 37 cm x 29 cm X 2 cm); [2] elektrot grubunun üzerine yerlestirilen pleksiglas bariyer ve [3] bariyer kapasitesinin ilave yüzey alani genisletilmesi için 114 L ve/Veya 151 L sepetlerden sepet kapaklari [BellaTM marka] her bir torbanin üzerinde iki adet ve altinda bir adet). Tüm ürün numuneleri 30 dakikalik muamele süreleri boyunca muamele edildi ve daha sonra oda sicakligi (22°C) kosullari altinda muamele sonrasi 24 saat süreyle depolandi. 24 saatlik depolamadan sonra, tüm test numuneleri ve kontroller tam bir mikotoksin paneli (#6) için Trilogy Analytical Laboratory, Washington, MO'ya gönderildi. Asagidaki iki tablo, bu deneylerden alinan sonuçlari göstermektedir. Tabloda, "ND" iken, muameleden sonra toplam, toplamda %68'lik bir indirgemeyle sonuçlanarak yalnizca 13,00 ppm idi. Tablo 4'te, referanstaki toplam toksin 45,97 ppm iken, muameleden sonra toplam, toplamda %48'lik bir indirgemeyle sonuçlanarak yalnizca 23,75 ppm idi. Sirali muameleler kullanilarak ilave indirgeme, istendigi kadar büyük bir indirgeme elde etmek için kullanilabilir. Tablo 3: MA65 çalisan gaz ve 30 dakika süreyle 100 kV kullanilarak mikotoksin indirgeme sonuçlari Nemlendirilmi _ Taksin Referans Kuru MA65 MA65 s :Zfiiirgeme A-1 A-2 A-3 A-4 Aflatoksin B2 0.9 ppb ND ND ND ND %100 Aflatoksin 01 2.4 ppb ND ND ND ND %100 Aflatoksin G2 ND ND ND ND ND Nemlendirilmis Toksin Referans MA65 :yilirgeme A-1 A-2 A-3 A-4 - Asetil 0.2 0.1 Deoksinivalenol ppm ppm 0-2 ppm ND 3-Asetil Deoksinivalenol ND ND ND ND HT-2 Toksin 530 h 525 b 0/ 0 Zearalenon gggo ND ND ND ND %100 Tablo 4: Hava çalisan gaz kullanilarak 30 dakika süreyle 100 kV'de mikotoksin indirgeme sonuçlari Kuru Hava . Aflatoksin B2 ND ND ND Aflatoksin G1 ND ND ND Aflatoksin GZ ND ND ND Deoksinivalenol 2.3 ppm 2.4 ppm 2.2ppm %0 - Asetil Deoksinivalenol 0.3 ppm 0.2 ppm 0.2ppm Kuru Hava _ 3- Asetil Deoksinivalenol ND ND ND Okratoksin A 3.4 ppb 4 ppb 3.6ppb %-12 Örnek 4: reaktif gazin üretilmesi ve tasinmasi 1/8" bir iç çapa sahip 1/4" çapinda bir polipropilen tüp, birbirinden 180 derece ayri iki adet 20 ölçü yalitilmis kabloyla yerlestirildi. Kablolar genel olarak 5 fit uzunlugundaydi. Her bir kablonun bir füru bir polivinilklorür daralma boru kullanilarak polipropilen tüpe takildi. Teçhizat, zeminden yukarida tutmak için iki dikey destege sahip bir standa yerlestirildi. Boru, tüp içerisinden geçmekte olan gazin akisinin ölçülmesi için bir rotometreye sahip bir sikistirilmis gaz tankina baglandi. Ozona ek olarak üretilmekte olan diger reaktif ve uyarilmis tür için bir yardimci olarak üretilmekte olan ozonun miktarinin ölçülmesi için bu DBD sisteminin tahliyesine bir valf ve bir numune valfi takildi. Üretilen ozonun miktari Draeger® Kisa-Süreli Detektör tüpleri (Draeger Safety AG & C0. KGaA, Luebeck, Almanya) araciligiyla ölçüldü. Bu deneyde kullanilan çalisan gaz sikistirilmis havaydi. Akis hizinin reaktif ve uyarilmis tür üretme hizini etkileyip etkilemedigini belirlemek için iki farkli akis hizi kullanildi. Gaz akis hizlari rotometre kullanilarak ölçüldü ve ayrica numune valfine takili 100 m1 bir siringanin doldurulmasi için gereken süreyle de ölçüldü. Ortalama ozon üretim hizinin belirlenmesi için 30 dakikalik bir süre boyunca üç farkli ölçüm yapildi. HVCP üretmek için kosullar 7 vat enerji kullanilarak her iki deney için de ayniydi (30 kV). Asagidaki tablo bu deneyin sonuçlarini özetlemektedir. TR TR TR TR TR TR TR TR TR TR TR

Claims (1)

1.
TR2019/08191T 2015-10-23 2016-10-19 Reakti̇f gaz üretme si̇stemi̇ ve reakti̇f gaz kullanilarak muamele yöntemi̇ TR201908191T4 (tr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/921,910 US10194672B2 (en) 2015-10-23 2015-10-23 Reactive gas, reactive gas generation system and product treatment using reactive gas

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TR201908191T4 true TR201908191T4 (tr) 2019-06-21

Family

ID=57211590

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TR2019/08191T TR201908191T4 (tr) 2015-10-23 2016-10-19 Reakti̇f gaz üretme si̇stemi̇ ve reakti̇f gaz kullanilarak muamele yöntemi̇

Country Status (17)

Country Link
US (4) US10194672B2 (tr)
EP (3) EP3247412B1 (tr)
JP (1) JP6654238B2 (tr)
KR (2) KR102113202B1 (tr)
CN (3) CN207253505U (tr)
AR (1) AR106421A1 (tr)
BR (1) BR112018007350B1 (tr)
CA (1) CA3039902C (tr)
ES (2) ES2730803T3 (tr)
HU (1) HUE043743T2 (tr)
MX (2) MX369186B (tr)
PL (1) PL3247412T3 (tr)
PT (1) PT3247412T (tr)
RU (1) RU2724046C2 (tr)
TR (1) TR201908191T4 (tr)
WO (1) WO2017070240A1 (tr)
ZA (1) ZA201803358B (tr)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10194672B2 (en) 2015-10-23 2019-02-05 NanoGuard Technologies, LLC Reactive gas, reactive gas generation system and product treatment using reactive gas
DE102018115300A1 (de) 2018-06-26 2020-01-02 Relyon Plasma Gmbh Anordnung und Verfahren zur Dekontamination von Objekten
DE102018120269A1 (de) * 2018-08-21 2020-02-27 Relyon Plasma Gmbh Anordnung und Verfahren zur Behandlung von Objekten
KR102345998B1 (ko) * 2018-10-24 2022-01-04 가천대학교 산학협력단 저온 플라즈마를 이용한 농산물 가공품의 벤조피렌을 포함한 유해생성물질 저감화 방법 및 시스템
CN109089372A (zh) * 2018-11-12 2018-12-25 北京赛特超润界面科技有限公司 一种使等离子体发生器的电晕区降温和增能的装置
KR20200076811A (ko) 2018-12-19 2020-06-30 가천대학교 산학협력단 플라즈마를 이용한 가공식품의 아크릴아마이드 저감 방법
CN111374257A (zh) * 2018-12-28 2020-07-07 南京苏曼等离子科技有限公司 一种大气压差分低温等离子体冷杀菌保鲜设备及操作方法
IL264463A (en) * 2019-01-24 2020-07-30 Nova Plasma Ltd Device and method for disinfecting herbs using plasma
DE102019106767A1 (de) 2019-03-18 2020-09-24 Relyon Plasma Gmbh Anordnung zur Dekontamination einer Oberfläche von Objekten und Verfahren zur Dekontamination einer Oberfläche von Objekten
US10925144B2 (en) * 2019-06-14 2021-02-16 NanoGuard Technologies, LLC Electrode assembly, dielectric barrier discharge system and use thereof
AU2020372887A1 (en) 2019-10-28 2022-04-21 Clean Crop Technologies, Inc. Systems and methods for reactive gas-based product treatment
CN110897077A (zh) 2019-11-14 2020-03-24 华南理工大学 一种等离子体活性水真空包装红肉保鲜系统及方法
CN111543479B (zh) * 2020-03-20 2021-10-22 国家食品安全风险评估中心 脱氧雪腐镰刀菌烯醇及其衍生物的消减方法
US11896731B2 (en) * 2020-04-03 2024-02-13 NanoGuard Technologies, LLC Methods of disarming viruses using reactive gas
WO2021221675A1 (en) * 2020-04-30 2021-11-04 Hzo, Inc. Atmospheric plasma systems, apparatuses and processes
IT202000009868A1 (it) * 2020-05-05 2021-11-05 Gilardoni Spa Metodo ed apparato di sanificazione per l’abbattimento della carica virale e batterica presente su oggetti.
WO2021252403A1 (en) 2020-06-07 2021-12-16 Comestaag Llc Barrier coating compositions for perishables and methods, kits and coated items relating thereto
WO2021252369A1 (en) 2020-06-07 2021-12-16 Comestaag Llc Selectively treating plant items
PL243915B1 (pl) * 2021-01-14 2023-10-30 Siec Badawcza Lukasiewicz Inst Mikroelektroniki I Fotoniki Układ elektryczny samodezynfekującej klawiatury dotykowej
DE102021106664A1 (de) * 2021-03-18 2022-09-22 Plasmatreat Gmbh Verfahren und vorrichtung zum desinfizieren, insbesondere sterilisieren, verpackter güter
MX2021004306A (es) * 2021-04-14 2022-10-17 Agroetika S De R L De C V Metodo para reducir la contaminacion de productos deshidratados.
US12274281B2 (en) 2021-06-01 2025-04-15 Clean Crop Technologies, Inc. System and method for treatment of food with a gas
JP7788704B2 (ja) * 2021-12-28 2025-12-19 国立大学法人大阪大学 殺菌方法及び殺菌装置
CN115177776A (zh) * 2022-07-12 2022-10-14 浙江大维高新技术股份有限公司 一种延长粮食与种子存储时间的装置
US12052812B2 (en) * 2022-08-23 2024-07-30 Chung-Tai Chang Capacitor capable of releasing reactive oxygen species and reactive nitrogen species after powering
CN116235917A (zh) * 2023-05-11 2023-06-09 江苏品脱高新技术有限公司 一种新型的高压脉冲电场杀菌处理腔
CN116873317A (zh) * 2023-07-14 2023-10-13 广东省科学院江门产业技术研究院有限公司 一种预制菜的智能保鲜封装系统及其封装方法和包装袋
CN116948744B (zh) * 2023-09-20 2023-12-08 曲阜良友食品有限公司 一种玉米油适度加工工艺

Family Cites Families (182)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2837666A (en) 1953-07-24 1958-06-03 Ernest G Linder Radioactive voltage source employing a gaseous dielectric medium
US3891561A (en) 1967-01-04 1975-06-24 Purification Sciences Inc Corona generator apparatus
JPS58220659A (ja) 1982-06-16 1983-12-22 House Food Ind Co Ltd 小麦粉の品質改良法
US4643876A (en) 1985-06-21 1987-02-17 Surgikos, Inc. Hydrogen peroxide plasma sterilization system
US5184046A (en) 1990-09-28 1993-02-02 Abtox, Inc. Circular waveguide plasma microwave sterilizer apparatus
RU2102084C1 (ru) * 1993-04-06 1998-01-20 Евгений Петрович Бельков Способ стерилизации объектов
US5482684A (en) 1994-05-03 1996-01-09 Abtox, Inc. Vessel useful for monitoring plasma sterilizing processes
US5656238A (en) 1994-10-11 1997-08-12 Johnson & Johnson Medical, Inc. Plasma-enhanced vacuum drying
IL115130A (en) 1995-09-01 1999-09-22 Israel State Method and device for ozone sterilization of objects
WO1997018343A1 (fr) 1995-11-13 1997-05-22 Ist Instant Surface Technology S.A. Procede et dispositif de sterilisation, de desodorisation et de protection de la surface interne de recipients et tubes
RU2067003C1 (ru) 1995-12-15 1996-09-27 Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственная фирма "Плайн" Способ обработки поверхностей тел и устройство для его осуществления
US5896587A (en) 1996-01-11 1999-04-27 Gentry; Debra Sun shield helmet assembly for bicyclist
US6331514B1 (en) 1996-08-26 2001-12-18 Stephen R. Wurzburger Sterilizing and disinfecting compound
US5895587A (en) 1997-01-21 1999-04-20 Cryovac, Inc. Cook-in package and method of making same
AU7027098A (en) 1997-05-12 1998-12-08 Ist Instant Surface Technology S.A. Method and device for surface treatment
DE19719911A1 (de) 1997-05-13 1998-11-19 Max Kettner Gmbh & Co Kg I K Vorrichtung zur Behandlung von Getränkebehältern
US6406759B1 (en) * 1998-01-08 2002-06-18 The University Of Tennessee Research Corporation Remote exposure of workpieces using a recirculated plasma
DE19814865C2 (de) 1998-04-02 2000-09-07 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Plasmabehandlung in Hohlkörpern
US6093432A (en) 1998-08-13 2000-07-25 University Of Guelph Method and apparatus for electrically treating foodstuffs for preservation
FR2790962B1 (fr) 1999-03-16 2003-10-10 Absys Procede et dispositifs de sterilisation par plasma
US6455014B1 (en) 1999-05-14 2002-09-24 Mesosystems Technology, Inc. Decontamination of fluids or objects contaminated with chemical or biological agents using a distributed plasma reactor
WO2000070117A1 (en) 1999-05-14 2000-11-23 The Regents Of The University Of California Low-temperature compatible wide-pressure-range plasma flow device
US6096564A (en) 1999-05-25 2000-08-01 Wisconsin Alumni Research Foundation Plasma-aided treatment of surfaces against bacterial attachment and biofilm deposition
CA2377268A1 (en) 1999-06-24 2000-12-28 Wisconsin Alumni Research Foundation Cold-plasma treatment of seeds to remove surface materials
US6403029B1 (en) 2000-01-12 2002-06-11 The Trustees Of Princeton University System and method of applying energetic ions for sterilization
KR20000053747A (ko) 2000-03-23 2000-09-05 고중석 기화기부착 미량 정량 액체자동공급장치
FR2814079B1 (fr) 2000-09-15 2005-05-13 Absys Systeme de sterilisation par plasma
DE10045585A1 (de) 2000-09-15 2002-03-28 Ruediger Haaga Gmbh Verfahren zum Sterilisieren und Depyrogenisieren gewaschener Behälter
US6638475B1 (en) 2000-11-08 2003-10-28 The Regents Of The University Of California Method for inhibiting pathogenic and spoilage activity in products
KR100430345B1 (ko) * 2000-11-28 2004-05-04 (주)에스이 플라즈마 대기압에서 저온 플라즈마를 발생시키는 장치
KR100434940B1 (ko) 2000-12-12 2004-06-10 한국기계연구원 저온 플라즈마 및 유전열을 이용하여 유해가스를 처리하기위한 촉매 반응기 및 그 처리방법
US7163664B2 (en) 2000-12-27 2007-01-16 Hydro Enterprises, Inc. Methods and devices for dispensing a potable product liquid
US20040050682A1 (en) 2000-12-27 2004-03-18 George Paskalov Activated water apparatus and methods and products
DE10108717C1 (de) 2001-02-23 2002-07-11 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung und Verfahren zur Entladung von dielektrischen Oberflächen
US20020182101A1 (en) 2001-03-27 2002-12-05 Pavel Koulik Process and device for plasma surface treatment
WO2002078749A2 (en) 2001-03-28 2002-10-10 The Regents Of The University Of California Atmospheric pressure rf plasma source using ambient air and complex molecular gases
US6811757B2 (en) 2001-04-04 2004-11-02 Ecozone Technologies Ltd. Dielectric barrier discharge fluid purification system
RU2199349C2 (ru) * 2001-04-12 2003-02-27 ГП "Красная Звезда" НПЦ "ИНТЕКО" Способ сухой стерилизации медицинских изделий и устройство для его реализации
US6562386B2 (en) 2001-05-07 2003-05-13 Regents Of The University Of Minnesota Method and apparatus for non-thermal pasteurization
US20030030374A1 (en) 2001-08-03 2003-02-13 Deepak Pai Dielectric barrier discharge plasma reactor cell
DE10138938A1 (de) 2001-08-08 2003-02-20 Bosch Gmbh Robert Verfahren und Vorrichtung zur Sterilisation von Behältnissen
KR100437095B1 (ko) * 2001-08-14 2004-06-23 (주)네오포텍 광촉매 및 저온 플라즈마를 이용한 폐수 정화 장치
US20030039726A1 (en) 2001-08-24 2003-02-27 American Air Liquide Inc. Method of treating food products using irradiation and a modified atmoshpere
WO2003018176A1 (en) 2001-08-25 2003-03-06 Accentus Plc Non-thermal plasma reactor
US6822250B2 (en) 2002-03-04 2004-11-23 Steris Inc. Mobile radiant energy sterilizer
FR2836772B1 (fr) 2002-03-04 2004-07-09 Absys Generateur de gaz pour un systeme de sterilisation
US20030168009A1 (en) 2002-03-08 2003-09-11 Denes Ferencz S. Plasma processing within low-dimension cavities
US20040076543A1 (en) 2002-03-18 2004-04-22 Sokolowski Asaf Zeev System and method for decontamination and sterilization of harmful chemical and biological materials
DE10211976A1 (de) 2002-03-19 2003-10-02 Bosch Gmbh Robert Verfahren und Vorrichtung zumindest zur Sterilisation von Behältnissen und/oder deren Verschließelementen
AU2003219434A1 (en) 2002-04-24 2003-11-10 Apit Corp. S.A. Device for treating surfaces of containers with plasma
AU2003234295A1 (en) * 2002-04-30 2004-02-02 Regents Of The University Of Minnesota Non-thermal disinfection of biological fluids using non-thermal plasma
AUPS220302A0 (en) 2002-05-08 2002-06-06 Chang, Chak Man Thomas A plasma formed within bubbles in an aqueous medium and uses therefore
JP4599023B2 (ja) 2002-06-21 2010-12-15 大日本印刷株式会社 高電圧パルス電源を用いた包装材料の殺菌方法およびその装置
US20040216845A1 (en) 2003-05-02 2004-11-04 Czeslaw Golkowski Non-thermal plasma generator device
US20060027539A1 (en) 2003-05-02 2006-02-09 Czeslaw Golkowski Non-thermal plasma generator device
US7307243B2 (en) 2003-05-09 2007-12-11 North Carolina State University Dynamic radiant food preparation methods and systems
US8475723B2 (en) 2003-07-28 2013-07-02 Iono2X Engineering, L.L.C. Dielectric barrier discharge cell with hermetically sealed electrodes and automatic washing of electrodes during operation of the cell
US6991768B2 (en) 2003-07-28 2006-01-31 Iono2X Engineering L.L.C. Apparatus and method for the treatment of odor and volatile organic compound contaminants in air emissions
US7767167B2 (en) 2003-07-28 2010-08-03 Iono2X Engineering, L.L.C. Dielectric barrier discharge cell with hermetically sealed electrodes, apparatus and method for the treatment of odor and volatile organic compound contaminants in air emissions, and for purifying gases and sterilizing surfaces
US20050189302A1 (en) 2003-07-31 2005-09-01 Latino Joseph S. Viral inactivation using ozone
RU2254143C2 (ru) * 2003-09-08 2005-06-20 ФГУП - Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики - ФГУП-РФЯЦ-ВНИИЭФ Способ стерилизации объектов
WO2005070018A2 (en) 2004-01-22 2005-08-04 Plasmasol Corporation Modular sterilization system
US7367196B2 (en) 2004-02-23 2008-05-06 Princeton Biomeditech Corporation Spinning cold plasma apparatus and methods relating thereto
NL1026532C2 (nl) 2004-06-30 2006-01-02 Tno Methode en middelen voor generatie van een plasma bij atmosferische druk.
DE102004049783B4 (de) 2004-10-12 2009-03-19 Je Plasmaconsult Gmbh Vorrichtung zur Bearbeitung von Gütern unter Zuhilfenahme einer elektrischen Entladung
JP4697625B2 (ja) * 2004-10-12 2011-06-08 俊介 細川 殺菌脱臭装置
FR2880105B1 (fr) 2004-12-23 2007-04-20 Cie Financiere Alcatel Sa Dispositif et procede de pilotage de l'operation de deshydratation durant un traitement de lyophilisation
DE102005002142A1 (de) 2005-01-12 2006-07-20 Forschungsverbund Berlin E.V. Mikroplasmaarray
GB0501460D0 (en) 2005-01-25 2005-03-02 Univ Edinburgh Improved plasma cleaning method
US8999357B2 (en) 2005-02-07 2015-04-07 Sishield Technologies, Inc. Methods and compositions for biocidal treatments
EP1863611A2 (en) 2005-03-07 2007-12-12 Mounir Laroussi Plasma generator
JP5142984B2 (ja) 2005-04-29 2013-02-13 ヴラームス インステリング ヴール テクノロギシュ オンデルゾーク 液体、固体または気体物質の精製及び殺菌のための装置及び方法
EP1908011B1 (en) 2005-07-19 2013-09-04 Spectrum Dynamics LLC Reconstruction stabilizer and active vision
WO2007009336A1 (en) 2005-07-20 2007-01-25 Alphatech International Limited Apparatus for air purification and disinfection
US8535615B2 (en) 2005-07-28 2013-09-17 Saga University Radical sterilization apparatus
WO2007031934A2 (en) 2005-09-15 2007-03-22 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Adaptive driver for dielectric barrier discharge (dbd) lamp
US20070104610A1 (en) 2005-11-01 2007-05-10 Houston Edward J Plasma sterilization system having improved plasma generator
WO2007067924A2 (en) 2005-12-07 2007-06-14 Stryker Corporation Sterilizing system with a plasma generator, the plasma generator having an electrode assembly having an array of capillaries in which the plasma is generated and into which fluid is introduced to generate sterilant
US7967820B2 (en) 2006-02-07 2011-06-28 P Tech, Llc. Methods and devices for trauma welding
DE102006019664B4 (de) 2006-04-27 2017-01-05 Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V. Kaltplasma-Handgerät zur Plasma-Behandlung von Oberflächen
DE102006020483A1 (de) 2006-04-28 2007-11-08 Fachhochschule Hildesheim/Holzminden/Göttingen Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Saatgut mit einem physikalischen Plasma bei Atmosphärendruck
US7384456B2 (en) 2006-05-15 2008-06-10 Airinspace B.V. Modular frame for air purification devices
US20080006536A1 (en) 2006-05-18 2008-01-10 North Carolina State University Processing cellulosic material utilizing atmospheric-pressure plasma
DE102006036536B3 (de) 2006-07-31 2008-02-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Plasmabehandeln einer Oberfläche
EP1884248A1 (fr) 2006-08-01 2008-02-06 L'AIR LIQUIDE, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude Procédé continu de fonctionnalisation et aseptisation d'éléments plans d'emballages alimentaires par plasma atmosphérique
EP2051743B8 (en) 2006-08-02 2013-05-15 Omega Environmental Services Inc. Method for using ozone as a disinfectant
KR100775124B1 (ko) 2006-09-07 2007-11-08 삼성전자주식회사 플렉서블 전도성 폴리머 전극을 포함한 선도 유지 시스템
US20080063559A1 (en) 2006-09-13 2008-03-13 Joseph Alexander Fan forced electric unit that incorporates a low power cold plasma generator and method of making same
FR2907351B1 (fr) 2006-10-18 2009-02-06 Sidel Participations Machine de traitement de recipients par plasma,comprenant des circuits de depressurisation et de pressurisation decales
US7931811B2 (en) 2006-10-27 2011-04-26 Regents Of The University Of Minnesota Dielectric barrier reactor having concentrated electric field
WO2008072170A2 (en) 2006-12-15 2008-06-19 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Dielectric barrier discharge lamp
KR100707730B1 (ko) * 2007-01-29 2007-04-16 (주)씨맥스 슬롯형 리모트 대기압 플라즈마 반응기
WO2008096292A1 (en) 2007-02-07 2008-08-14 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Dielectric barrier discharge lamp
US20080193330A1 (en) 2007-02-09 2008-08-14 Tokyo Institute Of Technology surface treatment apparatus
EP2153851A1 (en) 2007-04-11 2010-02-17 Olexandr Borisovich Zayika Method for treating water and aqueous solutions by means of a gas-discharge plasma and a device for carrying out said method
IE20080271A1 (en) 2007-04-11 2008-11-26 Univ Limerick A plasma system
DK1982734T3 (da) 2007-04-19 2011-10-17 Akos Advanced Technology Ltd Fremgangsmåde og apparat til væskerensning
EP2153704B1 (en) 2007-05-11 2018-02-14 Force Technology Enhancing plasma surface modification using high intensity and high power ultrasonic acoustic waves
WO2008144499A1 (en) 2007-05-16 2008-11-27 Old Dominion Univesity Research Foundation System and methods for pasteurizing food using ultrashort electrical pulses
US8097217B2 (en) 2007-07-06 2012-01-17 Uion Co., Ltd Atmospheric pressure plasma generating apparatus by induction electrode
DE102007037406A1 (de) 2007-08-08 2009-06-04 Neoplas Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur plasmagestützten Oberflächenbehandlung
WO2009041861A1 (en) 2007-09-25 2009-04-02 Sik Institutet För Livsmedel Och Bioteknik Ab Device and method for lifting and handling of objects
WO2009041049A1 (ja) 2007-09-27 2009-04-02 Satoshi Ikawa 殺菌方法および装置
WO2009040130A1 (en) 2007-09-28 2009-04-02 Danmarks Tekniske Universitet Method for sterilization of objects
CA2741135C (en) * 2007-11-06 2015-10-20 Microoncology Limited Hydroxyl radical producing plasma sterilisation apparatus
JP2011504404A (ja) 2007-11-21 2011-02-10 ユニバーシティ オブ フロリダ リサーチ ファウンデーション,インク. プラズマ場を使用する自己滅菌装置
US8268136B2 (en) 2007-12-20 2012-09-18 McCutchen, Co. Electrohydraulic and shear cavitation radial counterflow liquid processor
WO2009098662A1 (en) 2008-02-08 2009-08-13 Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) Long lifetime system for the generation of surface plasmas
US8115135B2 (en) 2008-02-14 2012-02-14 Adventix Technologies Inc. Plasma assisted oxygen decontaminant generator and sprayer
SE0800771L (sv) 2008-04-07 2009-08-04 Paer H Henriksson Arrangemang och förfarande för oskadliggörande av mikroorganismer med ett elektriskt fält samt användningar av arrangemanget
WO2009134663A1 (en) 2008-05-01 2009-11-05 Airinspace B.V. Plasma-based air purification device including carbon pre-filter and/or self-cleaning electrodes
US7621985B1 (en) 2008-05-24 2009-11-24 Adventix Technologies Inc. Plasma torch implemented air purifier
US20090297409A1 (en) 2008-05-30 2009-12-03 Buchanan Walter R Discharge plasma reactor
WO2010016347A1 (ja) 2008-08-08 2010-02-11 Sato Chokichi 水蒸気プラズマ生成装置、並びに水蒸気プラズマを用いた滅菌・殺菌方法及び抗酸化処理方法
WO2010022160A2 (en) 2008-08-19 2010-02-25 Drexel University Nano discharges in liquids
ITMI20081993A1 (it) * 2008-11-11 2010-05-12 Francesco Mazzariello Metodo ed impianto per la sanificazione di prodotti alimentari contaminati da micotossine
US9363880B2 (en) 2009-03-24 2016-06-07 Purdue Research Foundation Method and system for treating packaged products
US9539352B2 (en) 2009-03-24 2017-01-10 Purdue Research Foundation Method and system for treating packaged products
GB0906091D0 (en) 2009-04-07 2009-05-20 Snowball Malcolm R None invasive disinfector
US8372460B2 (en) 2009-07-10 2013-02-12 L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude System and method for non-thermal plasma treatment of foodstuffs
CN102625730B (zh) 2009-09-03 2014-03-12 国立大学法人大阪大学 向液体供给离子的方法和装置以及杀菌方法和装置
US8128869B2 (en) 2009-10-05 2012-03-06 Hussmann Corporation Air sanitization system with variable speed fan
GB0919274D0 (en) 2009-11-03 2009-12-16 Univ The Glasgow Plasma generation apparatus and use of plasma generation apparatus
US20110115415A1 (en) 2009-11-16 2011-05-19 Kun-Liang Hong Low ozone ratio, high-performance dielectric barrier discharge reactor
WO2011110191A1 (en) 2010-03-10 2011-09-15 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e. V. Method and arrangement for treating an object with a low- temperature plasma
DE102010003284A1 (de) 2010-03-25 2011-09-29 Dot Gmbh Verfahren zur chemischen Aktivierung von Arbeitsgasen in abgeschlossenen Volumina
US20130330229A1 (en) 2010-03-31 2013-12-12 Drexel University Plasma system for air sterilization
FR2958187B1 (fr) 2010-04-01 2012-06-15 Centre Nat Rech Scient Dispositif de production d'une espece chimique a partir d'un fluide grace a la mise en oeuvre d'une structure resonante micro-ondes
US20110268850A1 (en) 2010-04-30 2011-11-03 Vashui Rasanayagam Modified atmosphere packaging gas, method for non-thermal plasma treatment of article, and article of manufacture for use therein
US9623132B2 (en) * 2010-05-07 2017-04-18 Leibniz-Institut Fuer Plasmaforschung Und Technologie E.V., Inp Greifswald Plasma-generated gas sterilization method
DE102010026104B3 (de) 2010-07-05 2011-12-01 Fresenius Medical Care Deutschland Gmbh Verfahren zur Sterilisation wenigstens eines Gegenstandes, Sterilisationsvorrichtung sowie Verwendung hierzu
CN101912761B (zh) 2010-07-05 2014-02-19 洪昆喨 一种均匀电场介电质放电反应器
FR2965179B1 (fr) 2010-09-24 2013-04-26 C R I T T Materiaux Depots Et Traitement De Surface Dispositif de sterilisation par plasma froid d'un objet, tel qu'un dispositif medical, un implant ou autre et procede mettant en oeuvre ce dispositif
DE102010062874A1 (de) 2010-12-13 2012-06-14 Hilti Aktiengesellschaft Handwerkzeugmaschine
US8551546B2 (en) 2010-12-20 2013-10-08 American Air Liquide, Inc. Plasma generation of CO for modified atmosphere packaging
US20120156340A1 (en) 2010-12-20 2012-06-21 Vasuhi Rasanayagam Plasma Generation of CO for Modified Atmosphere Packaging
DE102011009056B4 (de) 2011-01-20 2016-04-07 Schott Ag Vorrichtung zur Plasmabehandlung von Hohlkörpern
DE102011003782A1 (de) * 2011-02-08 2012-08-09 Meiko Maschinenbau Gmbh & Co. Kg Reinigungsvorrichtung zur Reinigung von Reinigungsgut
NL2006212C2 (en) * 2011-02-16 2012-08-20 Synthesis B V Device and method for disinfecting plant seeds.
EP2678046B1 (de) 2011-02-25 2015-01-21 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Desinfektionseinrichtung, behälter, verwendung eines behälters und desinfektionsverfahren zur desinfektion eines behälters, insbesondere für einen lebensmittelbehälter
US9220162B2 (en) 2011-03-09 2015-12-22 Samsung Electronics Co., Ltd. Plasma generating apparatus and plasma generating method
MX2013010445A (es) 2011-03-11 2014-06-23 Purdue Research Foundation Generacion de un microbicida dentro de un envase utilizando una composicion de gas controlada.
DE102011016448A1 (de) 2011-03-29 2012-10-04 Khs Corpoplast Gmbh Verfahren zum Sterilisieren sowie Vorrichtung zur Blasformung von Behältern
GB201107692D0 (en) 2011-05-09 2011-06-22 Snowball Malcolm R Sterilisation of packed articles
US20130164173A1 (en) 2011-06-24 2013-06-27 Elwood G. Norris Plasma emitter
CN102343106B (zh) * 2011-07-22 2014-07-23 大连民族学院 大气压低温等离子体杀菌装置及杀菌方法
TWI461113B (zh) 2011-08-24 2014-11-11 Nat Univ Tsing Hua 常壓電漿噴射裝置
US9107538B2 (en) 2011-11-01 2015-08-18 Pepsico, Inc. Cold plasma sanitation for a dispensing machine
EP2779803B1 (en) 2011-11-11 2020-01-08 Saga University Plasma generation device for suppressing localised discharges
US20150004248A1 (en) 2011-11-22 2015-01-01 University Of California, Berkeley Method and device for generating a non-thermal plasma having a predetermined ozone concentration
GB2496879A (en) 2011-11-24 2013-05-29 Creo Medical Ltd Gas plasma disinfection and sterilisation
US8871145B2 (en) 2011-12-12 2014-10-28 Applied Quantum Energy Llc Plasma powder sterilization apparatus and methods
JP6317927B2 (ja) 2012-01-09 2018-04-25 ムー・メディカル・デバイスズ・エルエルシーMoe Medical Devices Llc プラズマ補助皮膚処置
US8747972B2 (en) 2012-01-31 2014-06-10 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Packaging material for boil/retort treatment and pouch
KR101391708B1 (ko) 2012-06-07 2014-05-07 한국식품연구원 대기압 플라즈마를 이용한 밀봉 포장식품의 살균방법 및 이에 의해 제조된 밀봉 포장식품
US8834803B2 (en) 2012-10-19 2014-09-16 Hussmann Corporation Electro hydrodynamic thruster for decontaminating a display case
US9067788B1 (en) 2012-11-01 2015-06-30 Rick B. Spielman Apparatus for highly efficient cold-plasma ozone production
CN103039151B (zh) 2012-12-07 2015-09-02 常州中科常泰等离子体科技有限公司 冷等离子体种子处理设备
WO2014093513A1 (en) 2012-12-11 2014-06-19 Cold Plasma Medical Technologies, Inc. Method and apparatus for cold plasma food contact surface sanitation
US20160017184A1 (en) 2013-03-06 2016-01-21 John Moore Adhesive with tunable porosity and methods to support temporary bonding applications
DE102013003865B4 (de) 2013-03-06 2018-09-13 Al-Ko Therm Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung eines Gegenstandes
EP2966973B1 (en) 2013-03-15 2019-02-27 Archer-Daniels-Midland Company Improved methods for treating grain with ozone
HUE061493T2 (hu) 2013-07-04 2023-07-28 Vilmorin & Cie Vetõmagok fertõtlenítõ kezelése
DE102014107805A1 (de) * 2013-07-17 2015-01-22 Vorwerk & Co. Interholding Gmbh Anordnung zur Filterung von Luft sowie Verfahren zur Luftreinigung
JP2016529919A (ja) 2013-09-16 2016-09-29 マース インコーポレーテッドMars Incorporated 食品の殺菌
NL2013151C2 (en) 2013-10-30 2015-05-04 Johannes Adrianus Maria Hoefnagels Process for the treatment of fruits and vegetables.
GB201322387D0 (en) 2013-12-18 2014-02-05 Dublin Inst Of Technology A method for reducing the oil content of snacks by increasing spreadsheet
US9560860B2 (en) * 2014-05-15 2017-02-07 Tim Zwijack Apparatus and method for decontaminating grain
WO2015200907A1 (en) 2014-06-27 2015-12-30 EP Technologies LLC Treated sprout plants with decreased bacterial viability and methods and apparatuses for making the same
EP3166413B1 (en) 2014-07-08 2020-05-13 Johannes Adrianus Maria Hoefnagels Process for the treatment of biological material
WO2016140447A1 (en) 2015-03-03 2016-09-09 Plasmapp Co., Ltd. Plasma treatment method for processed meat product and plasma treatment apparatus for processed meat product
LU92784B1 (en) 2015-07-22 2017-01-31 Luxembourg Inst Of Science And Tech (List) Negatively charged self-assembling supported lipid bilayer on mesoporous silica nanoparticles, method of synthesis and use as a nanovector
WO2017019621A1 (en) 2015-07-24 2017-02-02 The Board Of Regents For Aklahoma State University Cold plasma devices for decontamination of foodborne human pathogens
US10194672B2 (en) 2015-10-23 2019-02-05 NanoGuard Technologies, LLC Reactive gas, reactive gas generation system and product treatment using reactive gas
DE102015119369A1 (de) 2015-11-10 2017-05-11 INP Leipniz-Institut für Plalsmaforschung und Technologie e.V. Vorrichtung, System und Verfahren zur Behandlung eines Gegenstandes mit Plasma
JP6649754B2 (ja) 2015-11-24 2020-02-19 日本特殊陶業株式会社 プラズマリアクタ
US10668180B2 (en) 2016-03-02 2020-06-02 Asp Global Manufacturing Gmbh Apparatus and method for sterilizing medical devices
BR112019004301A2 (pt) * 2016-09-02 2019-05-28 Somnio Global Holdings Llc gerador de radical livre, processo para produzir um radical em um fluido, método para prolongar a vida de prateleira do produto, método para fumigação de um espaço, método para limpeza superficial localizada, método de tratamento hidropônico de plantas e método para gerar radicais livres usando um drone adaptado para carregar o gerador de radical livre
PT3526324T (pt) 2017-03-28 2021-10-20 Locanabio Inc Proteína associada a crispr (cas)
CN108310425B (zh) 2018-02-02 2021-02-12 毕玉亮 大棚自动灭菌机
US10925144B2 (en) 2019-06-14 2021-02-16 NanoGuard Technologies, LLC Electrode assembly, dielectric barrier discharge system and use thereof
US11896731B2 (en) 2020-04-03 2024-02-13 NanoGuard Technologies, LLC Methods of disarming viruses using reactive gas

Also Published As

Publication number Publication date
EP3581209A3 (en) 2020-03-25
ZA201803358B (en) 2022-08-31
BR112018007350B1 (pt) 2021-03-30
US11000045B2 (en) 2021-05-11
RU2018118775A (ru) 2019-11-25
US11882844B2 (en) 2024-01-30
US20210267225A1 (en) 2021-09-02
JP6654238B2 (ja) 2020-02-26
EP3581209A2 (en) 2019-12-18
BR112018007350A2 (pt) 2018-10-23
ES2730803T3 (es) 2019-11-12
KR20180073589A (ko) 2018-07-02
JP2018533405A (ja) 2018-11-15
WO2017070240A1 (en) 2017-04-27
PL3247412T3 (pl) 2019-09-30
PT3247412T (pt) 2019-06-14
US20170112157A1 (en) 2017-04-27
EP4454668A1 (en) 2024-10-30
CN111602710A (zh) 2020-09-01
CA3039902A1 (en) 2017-04-27
CA3039902C (en) 2019-09-17
RU2724046C2 (ru) 2020-06-19
ES2986621T3 (es) 2024-11-12
EP3581209C0 (en) 2024-07-10
MX2019012614A (es) 2020-01-30
KR102113202B1 (ko) 2020-05-20
KR20200056477A (ko) 2020-05-22
EP3247412A1 (en) 2017-11-29
AR106421A1 (es) 2018-01-10
CN207253505U (zh) 2018-04-20
US20190159471A1 (en) 2019-05-30
EP3581209B1 (en) 2024-07-10
CN106962471A (zh) 2017-07-21
US20240415135A1 (en) 2024-12-19
CN106962471B (zh) 2020-05-01
MX369186B (es) 2019-10-31
EP3247412B1 (en) 2019-03-20
MX2018004893A (es) 2018-08-14
US10194672B2 (en) 2019-02-05
RU2018118775A3 (tr) 2019-12-09
HUE043743T2 (hu) 2019-09-30
KR102840154B1 (ko) 2025-07-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11882844B2 (en) Reactive gas, reactive gas generation system and product treatment using reactive gas
Feizollahi et al. Factors influencing the antimicrobial efficacy of dielectric barrier discharge (DBD) atmospheric cold plasma (ACP) in food processing applications
Min et al. In-package inhibition of E. coli O157: H7 on bulk Romaine lettuce using cold plasma
Misra et al. In-package cold plasma technologies
Schlüter et al. Opinion on the use of plasma processes for treatment of foods
Dasan et al. Surface decontamination of eggshells by using non-thermal atmospheric plasma
US9363880B2 (en) Method and system for treating packaged products
Kim et al. Moisture vaporization-combined helium dielectric barrier discharge-cold plasma treatment for microbial decontamination of onion flakes
US9539352B2 (en) Method and system for treating packaged products
KR101384565B1 (ko) 비가열 식품 살균장치
CN102438661A (zh) 包装制品的灭菌
JP2018533405A5 (tr)
Kronn et al. Nonthermal plasma system for extending shelf life of raw broiler breast fillets
Ehlbeck et al. Plasma treatment of food
Smeu et al. Enhancement of food safety–antimicrobial effectiveness of cold plasma treatments
HK40018283A (en) Reactive gas generation system and method of treatment using reactive gas
Kronn Nonthermal plasma treatment of packaged broiler breast fillets to reduce natural microflora and Campylobacter jejuni
Sen KLM