TR201909874T4 - Farklı substratların tekstüre edilmesine yönelik yöntem ve esnek mühür. - Google Patents
Farklı substratların tekstüre edilmesine yönelik yöntem ve esnek mühür. Download PDFInfo
- Publication number
- TR201909874T4 TR201909874T4 TR2019/09874T TR201909874T TR201909874T4 TR 201909874 T4 TR201909874 T4 TR 201909874T4 TR 2019/09874 T TR2019/09874 T TR 2019/09874T TR 201909874 T TR201909874 T TR 201909874T TR 201909874 T4 TR201909874 T4 TR 201909874T4
- Authority
- TR
- Turkey
- Prior art keywords
- texture
- area
- stamp
- lacquer
- process according
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B30—PRESSES
- B30B—PRESSES IN GENERAL
- B30B11/00—Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses
- B30B11/20—Roller-and-ring machines, i.e. with roller disposed within a ring and co-operating with the inner surface of the ring
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/168—Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P76/00—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/0198—Manufacture or treatment batch processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C2791/00—Shaping characteristics in general
- B29C2791/004—Shaping under special conditions
- B29C2791/006—Using vacuum
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Kesintisiz tabaka şeklindeki bir damgalama lakesinin tedarik edilmesi, damgalama lakesinin arka tarafa ve ön tarafa sahip bir kalıp ile tekstüre edilmesi; burada arka taraf, en az bir rulo ile sürtünmeli temas halindedir; ve burada ön taraf, bir fonksiyonel alan içeren bir damga dokusu sergilemektedir ve bu fonksiyonel alan, açıklıklar ve yükseltiler ile oluşturulmaktadır ve böylelikle, damgalanmış lake elde etmek için damga dokusunda hacimler oluşturmaktadır; ve opsiyonel olarak bunu takiben, katılaştırılmış dokulu veya örüntülü tabaka elde etmek için damgalanmış lakenin kürlenmesi adımlarını içeren, ekranlar, aydınlatma panoları veya güneş panelleri gibi farklı substratların tekstüre edilmesi veya örüntülenmesine yönelik en az bir rulo içeren rulodan plakaya proses ile ulaşılmaktadır; söz konusu proses, tekstüre etme veya örüntüleme işleminin, gazın kaçabildiği bir dokuya sahip bir giriş alanı olan başlangıç alanını takiben, giriş alanının dokusundan farklı olan bir dokuya sahip fonksiyonel alanı içeren bir damga dokusuyla gerçekleştirilmesi ile karakterize edilmektedir.
Description
TARIFNAME FARKLI SUBSTRATLARIN TEKSTÜRE EDILMESINE YÖNELIK YÖNTEM VE ESNEK Mevcut bulus, farklEtubstrat üstünde bir ek fonksiyonel dokulu tabakaya yol açmak için bir mühür ile bir damgalama Iakesinin damgalanmasIlZiiakiben, damgalanmlglakenin kürlenmesi araciIIgJlýla göstergeler (ekranlar), aydIatma panolarEIveya günes panelleri gibi farkIIZI substratlarI tekstüre edilmesi veya örüntülenmesine yönelik bir yöntem ile ilgilidir. Bu ek tabakanI fonksiyonu, digerleri arasIa, iglKl yönetimi tabakasIan hidrofobik tabakaya, dekoratif kullan! veya biyosensörlerde kullanIi dogrultusunda degismektedir. Mevcut bulus, ilaveten farklElsubstratlarEltekstüre etmek veya örüntülemek amaclsîla Iakeyi damgalayan bir mühür ile ilgilidir. Cihazlar üstündeki fonksiyonel dokulu tabakalar. kullanÇl önemli bir konudur. Bu tür tabakalari aklIEEIbir sekilde kullanllE1asl,`_l ürünün görsel görünümünü gelistirebilmektedir, maliyeti azaltabilmektedir veya performansElarttßibilmektedir. Örnegin, daha ince LED arkadan aydIatma konseptleri saglayan ve ekranlarElyanlardan aydIatan difüzyon tabakalarüekranlarda kullanllüiaktadE Diger yeni yüksek teknoloji olanaklarÇlfonksiyonel dokulu tabakalari günes panellerine entegre edilmesi ve bu panellerin verimliliginin gelistirilmesi veya daha fazla lglKl saglamak amaclîla organik Elli] yayan diyotlu (OLED) ayd Iatma panellerine entegre edilmesidir. Fonksiyonel dokulu tabakalar, damga Iitografisi kullanilârak yapüâbilmektedir. Bu vakada, substrat veya kallül veya her iki taraf, lake (reçine veya direnç) ile kaplanmaktadlE KaIII arada lake ile birlikte substrata preslenmesinden sonra, dokulu lake, katüfaz haline kürlenmektedir. Kürleme yöntemi, termal olabilmektedir veya UV lglglîl kullanilarak bahsedilmistir. Ilave öncü çallgtna, 1995 y-a Chou tarafIdan yapllîhlgtlEl Chou, sert mühür kullanilârak, 25 nm-aItEIdokuIarI yüksek çithUJDtoplu üretimde tekrarlanabildigini (5,772,905 saylüJIlJS Patent DokümanmStephen Y. Chou, Peter R. Krauss, Preston J. Renstrom sonra, dokularlEI kopyaslüllîlarmak amaclýla bir katEkaI- veya bükülmüs ince saca baslik; uygulamak için baskBilindirinin kullanlmösterilmistir (makale Hua Tan, Andrew Gilbertson, Birçok kurum ve sirket, bu çalismaya devam etmis ve farklEllekniklere yol açmlgtlîl YarEiletken endüstrisinde, levhadan levhaya damgalama Islemi, 6,334,960 saylJIEUS Patent DokümanIda tarif edildigi gibi aktarma prosesi, malzemeler ve hassas konumlandlElna ile kombinasyon halinde sert mühür kullanllârak uygulanmaktadlE Rulodan ruloya damgalama teknigi, örnegin 8,027,086 saylIlIUS Patent Dokümania tarif edildigi gibi bir kesintisiz proseste folyolarElveya filmleri tekstüre etmek amaclîla esnek substratlarla kombinasyon halinde dokulu baskßilindirleri kullanmaktadlEl Ilk bahsedilen plakadan plakaya teknik, yüksek konum dogruluguyla tekdüze düz zarlar üstünde küçük dokularI (100 nm-altßözünürlük) hassas, çok ince ölçekli damgalanmasEilçin tasarlanmlStE Ancak CN 103235483 saylIUIin Patent Basvurusunda tarif edildigi gibi, bu teknolojinin daha büyük alanlara ölçeklendirilmesi zordur. Rulodan ruloya teknolojisi kullanllârak, yüksek üretim hlîlarIa dokulu folyolar, kesintisiz olarak yapllâbilmektedir. Bu folyolar, esnek uygulamalara yönelik substratlar seklinde kullanllâbilmektedir veya sert substratlarda üst üste konulmaktadlEl Ancak, bu sonraki islem, dokulu folyonun sert substrata veya ürüne yaplStlEHBmsElçin bir ara yaplgkan tabakanI ek maliyetlerini de beraberinde getirmektedir. Dolaylîlsîla, üçüncü yeni teknoloji gelistirilmektedir: bu teknoloji, dogrudan rulodan plakaya damgalama teknolojisidir. Böylelikle, fonksiyonel dokulu tabaka, onlarca yüzlerce mikron kalIlglIaki ara kaII yapiskan tabakalar olmadan farkllîlsubstrata dogrudan uygulanmaktadlEl Bu tür proseslerde, 2,893,610 sayHJDFranslZl Patent Dokümanütla örneklendigi gibi bir dokulu baskElsilindiri veya 7,824,516 sayEIJEUS Patent DokümanIa açlEland [gllgibi bir çlKbrllâbilir esnek mühür kullanüB1aktadlEl Kesintisiz rulodan ruloya prosesin aksine, kesintili rulodan plakaya prosesinin zorluklarÇbaslatma durdurma etkileridir. Rulodan ruloya prosesin yanlîsß plakadan plakaya prosese klýhsla ek bir zorluk, rulodan plakaya prosesinde dokulu yüzeyin tipik olarak daha küçük numuneler halinde kesilmemesidir. Dolaylglsîla, numunelerin kenarlarlîdjahil tam bir numunenin bu tür son isleme olmadan rulodan plakaya prosesinde iyi kontrollü bir sekilde yapllBiaslgerekmektedir. Giris paragrafIa hâlihazüla bahsedildigi gibi, damgalama islemi, bir substrat (panel) veya kaIII üstüne bir Iakenin kaplanmasElve arada Iakeyle birlikte kallpl ile substratlE] temas ettirilmesi araclllglîla damgalanmasü(tekstüre etme) aracmMa elde edilmektedir. Kalip] olarak, esnek mühür, sert mühür veya dokulu basklîlsilindiri kullanllâbilmektedir. Kaplama Islemi, örnegin bununla sIlEllEblmamak üzere, dagltîlna, mürekkep püskürtmeli basküfilm basküflgklma, püskürtme, yuva-kalliîl kaplamasEl/eya rulo kaplamaslîbracmljlîla Iakenin substrata veya damgaya uygulanmasßeklinde yapllâbilmektedir. Mevcut bulus seyrinde, "lake" terimiyle, substrata kaplanabilen ve teknikte uzman kisiler tarafian bilinen yöntemler aracIIJglIQa tekstüre edilebilen bir madde kastedilmektedir. Lake, genellikle monomerler, oligomerler, muhtemelen ilave edilmis foto-baslatlîllâr ve çapraz baglaylEEIakrilat gruplarIEiçermektedir. Diger olasünalzemeler, bununla sIlEllElolmamak üzere, kürlenebilir sol-jeller ve epoksiler olmaktadIEI Lake, damgalanmgörüntüyü tutmak için kürlenebilmektedir. Aynüamanda bu kürleme prosesleri bilinmektedir ve @kürleme UV Elgllîl ile kürleme, kimyasal olarak indüklenmis kürleme ve kendiliginden bilinen diger yöntemleri kapsamaktadlîl Bu tür Iakeler aynElzamanda kaplamalar, reçineler, dirençler ve benzeri seklinde ifade edilmektedir. Aynüzamanda, mevcut bulusun seyrinde, lake ile damgalanan ögeler, aynElzamanda substratlar veya paneller olarak ifade edilmektedir. Bu substratlar veya paneller, örnegin cam, plastik veya metal substratlar gibi alt tertibatlar olabilmektedir veya göstergeler, ayd Iatma panolarüleya günes panelleri gibi tamamlanmßcihazlar olabilmektedir. Farkllîpanellerin veya substratlarlEl rulodan plakaya damgalama prosesi araclIJgilsîla tekstüre edilmesi, kesintilidir. Her bir panele yönelik olarak bir baslatma-durdurma momenti olacaktB Bu prosesin baslanglEÇI birkaç zorluga sahiptir. Substrat, kaIII altlEla yerlestirilmek zorundadE Rulodan plakaya proseste, substrat, esnek kallEla baskESilindirinin alt. yatay olarak kaydlîllüiaktadlrîl Bunun her bir substrata yönelik kesintili proses olmasIan dolayü substrata yerlestirilen damga Iakesi ile kallüaraslrîhla birinci temas olacaktE KalLötaki dokular sayesinde gaz, birinci temas alanIa dokulu kalü ile lake araletla silZlStlEEcaktlEl Örnegin merceksi kanallar gibi farklEkanallara sahip dokulara iliskin olarak, lelgtlElEiE gaz, yanlardan kaçabilmektedir. Çogu 3D dokuya, özellikle ters 3D dokular ve rastgele 3D dokulara yönelik olarak, SEISIlEllßîggaz veya çogu uygulamaya yönelik hava kaçamamaktadlEl Bu, dokunun eksik kopyas- çllZbrllüîalela yol açacaktlEl Bu, dokunun islevselliginde en az bir kismi kaybI olmas. sebep olmaktadlEl ve aynlZlzamanda görsel olarak göze hos gelmeyebilmektedir. Kesintili plakadan plakaya proseste, bu sorun, vakum adIiüdahiI edilerek çözülmektedir. Ortamda yapilan rulodan plakaya proseste, hiçbir vakum adIÜJygulanmamaktadlEI Dokunun ayarlanmasßraclüglîla hava Inklüzyonunun çözülmesi gerekmektedir. EP 2476538 A2 saylIiEPatent Dokümanübir esnek mühür kullanüârak bir sert substrat üstüne bir dokunun damgalanmas. yönelik rulo-plaka yöntemini tarif etmektedir. esnek mührü tarif etmektedir ve söz konusu damga, farklüle uzatUBiEIç-Hârübermektedir. veya delikler kullanan klîmi vakumun olusturulmasElaraclügllýla bir nano-damga litografi sablonunun civarIa Istenen ortamI olusturulmasEl/e korunmasi yönelik bir Iitografik damga sistemi tarif etmektedir. litografi sablonunu tarif etmektedir ve [0041] nolu paragrafta kalIlEl polimerik malzeme damlacllZlar- temas ettigini açEamaktadB Bu, damlacllZlarI yaylEhalela ve polimerik malzemeden olusan bir bitisik slýütabakasll üretilmesine sebep olmaktadlEl Polimerik malzeme tabakaslZI geri kalan damlacuZlarla çevrelenmektedir. Geri kalan damlaclKlar araletlaki hacim, içinden gazI substrat kenarlarlEb ittirilebildigi gaz geçitlerini tanIilamaktadEl Slîüabakanl kenarügeri kalan damlacilZlar araleUaki hacimdeki gazlarEl substrat. kenarlari dogru Ittirme islevi gören bir sMgaz ara yüzeyini tannlamaktadlEl Sonuç olarak, slîlgaz ara yüzeyi, gaz geçitleriyle birlikte, gazlasI polimerik malzeme slîlîl tabakasia tutulmasIlZönlemese bile azaltmaktadlE] EP 1 958 025 Bl sayl[[l]3atent Dokümanüsubstrat ile kalßl tertibatEiarasIda polimerik malzemenin plakadan plakaya damgalanmasEprosesini tarif etmektedir. Proses, bir torna aynasEile kallEE'Iemas halinde olan bir kalip] tertibatlElElkullanmaktadE Kallpltertibatüvakum ile bükülmektedir ve bu sekilde gaz, söz konusu substrat ve söz konusu kalßl tertibatII araletlan atHB1aktadlEl ve söz konusu slîljsöz konusu kalliîl tertibatljle substrat araletla tanIilanan hacmi doldurmaktadlEI malzemenin plakadan plakaya damgalanmasEbrosesini tarif etmektedir. Kalli] tertibatÇl bir torna aynaslZlile kaIlEEltemas halindedir. Kallü tertibatü birden çok alanda vakum ile bükülmektedir ve bu sekilde gaz, söz konusu substrat ile söz konusu kalip] tertibatII arasIan atllüiaktadlîl ve söz konusu slilleöz konusu kalü tertibatlîlle substrat arasIa tan lanan hacmi doldurmaktadlEl Plakadan plakaya proseste standart oldugu gibi, damga prosesi esnasia vakum uygulanmaktadlElve yukar- ele allEbn hava Inklüzyonu sorunu, mevcut olmayacaktlEl Ancak, maliyeti ve takt süresini düsürmek için, vakum seviyesi düsürülmeli veya hatta vakum adIiIZI ortadan kaldlElIBîalIlEI Hava inklüzyonuyla basa çllîlacak diger çözümler, önceki teknikte önerilmistir. algilâma sistemini önermektedir ve hava kabarcllZlarII görünür kalmaslîüurumunda vakum adIiII uzunlugunu ve baletlZhyarlayacaktlÜ Bu önerilen çözüm, sistemi daha pahallîl/e daha yavas kHBiaktadlEl Mevcut bulus, önceki teknige ait sorunlarElazaltmayEli/eya önlemeyi amaçlamaktadlü Bu hedefe, kesintisiz tabaka seklindeki bir damgalama Iakesinin tedarik edilmesi, damgalama bir rulo ile sürtünmeli temas halindedir; ve burada ön taraf, bir fonksiyonel alan içeren bir damga dokusu sergilemektedir ve bu fonksiyonel alan, açlKIlElar ve yükseltiler ile olusturulmaktadEve böylelikle, damgalanmglake elde etmek için damga dokusunda hacimler olusturmaktadlîil ve opsiyonel olarak bunu takiben, katllâstlîllüîgldokulu veya örüntülü tabaka elde etmek için damgalanmlgl lakenin kürlenmesi adllarIIZIiçeren, ekranlar, aydIatma panolarü'eya günes panelleri gibi farkllîsubstratlarl tekstüre edilmesi veya örüntülenmesine yönelik en az bir rulo içeren rulodan plakaya proses ile ulaslliîaktadß söz konusu proses, tekstüre etme veya örüntüleme isleminin, gazI kaçabildigi bir dokuya sahip bir giris alanlZl olan baslanglgl alanIEltakiben, giris alanlElI dokusundan farkllZIoIan bir dokuya sahip fonksiyonel alanEik;eren bir damga dokusuyla gerçeklestirilmesi ile karakterize edilmektedir. Mevcut bulusa ait yöntemin tercih edilen yapllândünalarü baglllîlistemlerden elde edilebilmektedir. Çogu uygulamaya yönelik olarak tekstüre edilme prosesi, hava ile uygulanacaktlEl DolayElîla, bu basvuruda genel gaz teriminin yerine havadan bahsedilmektedir. Ancak mevcut bulus, aynIZI zamanda, bununla sIlEIllZlolmamak üzere, argon, azot veya karbondioksit gibi diger gaz kosullarlEUa uygulanan tekstüre edilme prosesine yöneliktir. TW 201036799 sayilIlHayvan Patent Basvurusu, tam alan presi esnaslüda havan. kaçabildigi iç alan Için bir genis çukur önermektedir. Bu çukur, fonksiyonel alanlarI yari- yerlestirilmektedir, ancak fonksiyonel alana baglElolmamaktadlE Bu çukur, yarEliletken uygulamalar. yönelik olarak zarlEI daha küçük parçalar halinde kesilmesinden dolayüwihai üründe mevcut olmayacaktE Mevcut bulus, yalnlîta görsel olarak göze hos gelecek ve dolaylglýla çllZbrllB'ialeb gerek bulunmayan bir sekilde tanIllElgiris bölgesinde dokunun ayarlanmasElaraclIlljWla hava lelgnasElsorununu çözmektedir. Fonksiyonel alandaki doku degismemektedir. USZOO80099175 sayiUIUS Patent Basvurusu, mikro veya nano yapma enine bagIIZbir akl kanalIEönermektedir. Böylelikle hava veya gaz, mikro veya nano-dokularßogaltmak amacMa kal. çogaltma malzemesinin zorlanmasIan sonra kaçabilmektedir. Akü kanali: nihai ürünün bir parçasüalmayacaktlîl Mevcut bulus, damga prosesini tam alan presi ile degil, giris alanIa baslatmaktadlEl Bu giris alanIaki doku, görsel olarak göze hos gelecek ve böylelikle çllZlarHB1as. gerek bulunmayacak sekilde hava sllZlgnas- önlenmesi için degistirilmektedir. Mevcut bulus, asaglilhki Sekillere atlflla bulunarak daha ayrlEtlElölarak anlatllîhaktadEi Sekil 1, bir damgalama prosesini sematik olarak göstermektedir. Sekiller 2a, 2b ve 2c, damgalama prosesi sßsia hava inklüzyonlarElI olusumunu Sekiller 3a ve 3b, bir açilZl kanal yapEEIve ters 3D dokusunu sematik olarak göstermektedir (hiç hava kaçamamaktadlî). Sekil 4, baskEtsilindirine baslik; uygulanarak ve az miktarda lake fazlasEkullanilârak, lakenin küçük ön klgl'n olusturulmaslßematik olarak göstermektedir. Sekil 5, önceki teknige göre damgalama prosesi ile elde edilen bir damgalanmlgl paneli Sekil 6, mevcut bulusa göre damgalama prosesi ile elde edilen bir damgalanmlgl paneli kullanllBiaktadE Sekil 1'e atlflla bulunarak, bir sematik rulodan plakaya damga prosesi gösterilmektedir. Bu vakada, fonksiyonel damga tabakasüsubstratlEl (104) tepesine uygulanmaktadlEI Substrat (104) herhangi bir malzeme olmakta; tercihen substrat (104), cam, metal levhalar, polikarbonat, PEN, PET veya PMMA içermektedir veya bunlardan yapüöîaktadß Substrat (104), örnegin yüzeyin tepesinde, yaplSlnayElgüçlendirici tabaka ve/veya saydam iletken tabaka (örnegin indiyum kalay oksit, alüminyum katkllllginko oksit veya un katkl]]]]kalay oksit) gibi bir veya daha fazla ek tabaka(lar) taslýlabilmektedir. Istenen damga tabakaslZlçogaltma veya damga prosesi kullanüârak substrat. (104) tepesine eklenebilmektedir. Bu vakada, substrat (104), biçimlendirilebilir damga lakesi (103) ile kaplanmaktadlEl Substrat, kllâvuz ve karsEbalei; için platforma (110) yerlestirilmektedir. Bu platform (110), bir veya birden fazla baskßilindiri, sabit tezgâh, hareketli tezgâh veya yeterli karsElbalel; saglayan diger herhangi bir platform olabilmektedir. Sekil 1'de, kallîil, bir esnek mühürdür (100). Esnek mühür (100), bir destekleyici esnek mühür tabanlZlve aynElzamanda "damga dokusu" veya "damga örüntüsü" olarak da ifade edilen bir örüntülü dlglyüzeye (101) sahiptir. Bu damga dokusu, bir fonksiyonel alan içermektedir ve bu fonksiyonel alan, teknikte uzman kisiler tarafIan kabartma örüntüsü olarak bilinen açlKllKlar ve yükseltilerden olusmaktadlE Bu kabartma örüntülü dlgyüzey (101), substrat Üstünde istenen dokunun negatif (veya ters) dokusudur. Esnek mühür tabanl1100) ve örüntülü dlglyüzey, bir ve aynlîilnalzemeden, örnegin, bununla sIlEllüilmamak üzere, ince metal saclar veya frezeleme veya slîbk gofraj prosesi aracÜJgWla yapllân plastik Ievhalardan yapllâbilmektedir. Esnek mühür, aynüamanda örnegin, bununla sIlEIllEImamak üzere, PET folyo, PC folyo, PEN folyo veya ince metal saclar gibi taban (100) olarak bir esnek tabakaya ve örnegin, bununla sIlEllüblmamak üzere, akrilat malzeme, sol-jel malzeme, epoksi veya Ikinci dokulu plastik folyo gibi bir yaplglEl dokulu organik tabakaya (101) sahip olacak sekilde iki veya daha fazla malzeme kullanllârak da yapllâbilmektedir. Tercihen esnek mühür (100), 0.1 Giga Pascal (GPa) ile 10 Giga Pascal (GPa), özellikle tercihen 0.5 Giga Pascal (GPa) ile 5 Giga Pascal (GPa) arasIa Young modülü sergilemektedir. Young Modülü, ASTM E111'e göre ölçülmüstür. Esnek mühür (100), damga silindirlerinin (102A & 102B) üzerinden yönlendirilmektedir. Sadelik amaclgla iki silindirin (102) çizildigini dikkate aIIlîl Esnek mührü (100) yönlendirmek amacEla bir silindir yeterli olabilmektedir veya daha fazla silindir ilave edilebilmektedir. Silindirler, örnegin, bununla sIlEIll])Imamak Üzere, paslanmaz çelik gibi sert bir malzemeden yapllâbilmekle birlikte, tercihen silindirler, örnegin, bununla lellîllljblmamak üzere, 50 ile 60 arasEtipik destek-A sertligine sahip EPDM veya poliüretan, polikloropren gibi daha elastik malzemeden yapllhiaktadE Silindirlerin (102) dönüsü, oklarla gösterilen, substrat. (108) basIa damgalamayElbasIatan ve substrat. (109) sonunda bitiren damga yönünü isaret etmektedir. Bir damga lakesi (103), substrat (104) yüzeyine tedarik edilmektedir. Dokuyu aktarmak için, esnek mühür (100), istenen dokunun tersi dokuya sahip dlgyüzeyi olan damga dokusuyla (101) birlikte, arada damga lakesine (103) sahip substrat. (104) üstüne preslenmektedir. SonrasIa, biçimlendirilebilir damga lakesi (103), katilâstlElîhE tabakaya (107) ulasmak için termal olarak veya UV lglg]:(106) kullanüârak katllâstlEllüîaktadlîl Sekil 1'de, biçimlendirilebilir lake, UV Elli] kaynagIan (105) UV EJgElüOö) kullanllârak katilâstlßlßîaktadlü UV SIKI kaynagEl (105), saydam esnek mührün (100) üzerine yerlestirilebilmektedir. Veya substratI (, esnek mührün (100) kars-, saydam substrat. (104) ait. yerlestirilebilmektedir. Sekil kaynagE(105), aynEzamanda iki silindirin (102) birine veya silindirlerin (102) kars- da yerlestirilebilmektedir. Damga Iakesinin (103) katllâstlüllhiasian sonra, esnek mühür, daha sonra substrat (104) üstünde katllâstlîllüilgl tabakadan (107) ayrilîhaktadlîl ve bu sekilde, katllâstmlfhg tabakaya (107) sahip substrat, mühür (100) biçimindeki sablondan ayrllßîaktadlü Plakadan plakaya prosesin aksine, substrat, kaIII ait. ileri dogru mekanik olarak tasüinaktadm Silindirler (102) arasIaki bosluk ve karsEIbalei; platformu (110) kontrol edilebilmektedir. Bu, substrat. sabit kalIiglEla iliskin olarak, kaIII substrat. kenariEla degil, yalnlîta Iakeye dokunacagElsekiIde boslugun ayarlanabilecegi anlam. gelmektedir. Lake kaIIII[gi yaygliîl olarak mikron aral[glIa olmasÜ/e yaygI olarak yüzlerce mikron kal-[Eta olan substrat kalIII[gi degisken olmasIan dolaylîiuygulamada bu zor olacaktlü Dolaylîlîila birinci silindir (102A), Sekil 2a'da gösterildigi gibi substrat. damgaya dokunmadan girebilecegi bir giris boslugu (200) saglamak amacûla kaldßlâbilmektedir. AynlIIbosluk, platformun (110) alçaltllfhasEhracHJglýla da elde edilebilmektedir. SubstratI yüklenmesinden sonra, dokulu silindir veya damgaya sahip silindir, Sekil 2b'de gösterildigi gibi yeniden alçaltllfhaktadlEl Birinci silindir (102A) alçaltllHRen, hava, dokulu kalip] ile lake arasiaki birinci temas alanlEtla (201) lelStlEilâcaktlEl Silindirin alçaltHBiasEl/e Sekil 2c'de gösterildigi gibi ilk olarak Iakeye temas etmeden cam kenarlara temas etmesi halinde, lakenin damgalanmaya baslanmasllsnasia aynElbirinci temas alanIa (201) siKIgtlEilâcaktE Sekil 2c'de gösterildigi gibi kalül ile damga lakesi araslütlaki birinci temas alanüdamga boslugunun (200) iyi kontrol edildigi ve silindirin ne kaldlEllIiîl ne de indirilmesi gerektigi vakada benzer olacaktiEI Ayni] zamanda bu vakada, kalip] ile damga lakesi arasIaki birinci temas alanIa siElginlgl hava bulunacaktlEl HavanI birinci temas alanIa (201) kaçabilmesine yönelik belirli kallül dokularEl bulunmaktadlEI Bunlar, havanI kaçabilecegi aç[EJ kanallara sahip dokulardlEl Kanalllîdlokulara yönelik örnekler, kalip] üstündeki 2D merceksi yapllâr veya kafesler, mercekler veya piramitler araleUa kanallara sahip kalir-ll Üstündeki mercek dizileri ve piramit dizileridir. Bir açllZl kanal dokusu örnegi, Sekil 3a'da gösterilmektedir. Bu örnekte, piramit dizisi dokusuna sahip bir kalü ( üstündeki damga dokularüdaki kanallardan (304) kaçabilmektedir. Havani sllZIStlEIBiayacagEUiger dokular, 1 mikronun ait. bir dokuya sahip derin olmayan dokular veya hatta dokusuz düz yüzey olmaktadlEI Kalli-2] üstündeki ters 3D dokulara veya rastgele 3D dokulara yönelik olarak, Sekil 3b'de gösterildigi gibi, arada damga Iakesiyle (103) birlikte kal& (302) ve substrat. (104) preslenmesi esnaletia hava kaçamamaktadE Bu Sekil 3b, kalip] (302) üstünde bir ters piramit dizisini (305) göstermektedir. Bu piramit alanEdokusunun damga Iakesi ile temasa geçmesi halinde hava, ceplerde sllZlSmaktadlEIve kaçamamaktadE Bu hava kaçigakIEßOö), damga Iakesi tarafIan engellenmektedir. Bu, görsel olarak göze hos gelmeyen eksik çogaltmaya yol açacak ve optik dokunun islevselligini sIlElayacaktlE Örnegin, bir ters piramit dizisi kalIiýla damgalanmadan ortaya çiIZlan substrat üstündeki piramit dizisi dokusu, piramit boslugunun tepesinde bulunan hava kabarc[giIdan dolayEkeskin bir tepe noktasi sahip olmayacaktB YukarIki proseste tarif edildigi gibi, kallül üstünde ters 3D dokulara veya rastgele 3D dokular. sahip bir damga prosesine yönelik baslangEl alana hava inklüzyonlarlîmevcut olacaktIE Birinci silindirin alçaltilBiasEUan sonra, Sekil 4'te gösterildigi gibi, baskEtilindirine baleÇ uygulanarak ve az miktarda damga Iakesi (103) fazlasEkullanilârak, Iakenin (401) küçük bir ön kEinEblusturulabilmektedir. Bu ön lake kigmiî(401), doku açiEliElarIan (402) disarElhavaylîlpresleyecektir. Ters veya rastgele dokularda hava giderme derecesi, doku sekline, Iakenin viskozitesine ve damgalama hiîlîib bagHIEblacaktlEi Dolaylîlsîla baslanglÇI alanIan sonra, silindir ve kal_ reçine ile birinci temasa sahip oldugu noktada, fonksiyonel dokuda, diger bir ifadeyle, fonksiyonel alandaki hava inklüzyonu kontrol edilebilmektedir ve önlenebilmektedir. Ancak, söz konusu fonksiyonel tabakadaki hava inklüzyonunun kontrolü ve önlenmesi, - belirli lake viskozitesinde ve belirli damgalama h-a, yeterince hiîIEhava giderilmesine olanak saglayan fonksiyonel alandaki doku sekillerine, - belirli damgalama h-a ve fonksiyonel alandaki belirli doku seklinde Iakenin yeterince hlîlü bir sekilde aç[El[ElarI içine akacaglZl derecede düsük olmasEi gereken lake viskozitelerine, ve - fonksiyonel alandaki belirli doku seklinde ve belirli lake viskozitesinde Iakenin fonksiyonel alanI açllZIllZlar-oldurmasiîiçin yeterli süre bulunacagütlerecede düsük olmasEigerek damgalama hlîlar- 5-- Sekil 5'te, katilâstlîißigdamga dokusuna (107) sahip bir damgalanmlgi panelin sematik sekli verilmektedir. Bu örnege yönelik olarak, ok ile belirtilen ve Sekil 1'de tanIilanan damga yönüyle yapüân damga prosesine iliskin, damga prosesinin baslanglEÇlsubstrat baslanglgl tarafIdadlEl (108). Damga prosesi, substrat bitis tarafIa (109) sonlanmaktadlEl Bu fonksiyonel dokulu alan, uzunluk (503) ve genislik (504) ile tanIilanmaktadlEI Ancak, reçineye dokunan kaIIlE] bir sonucu olarak prosesin baslang-aki hava inklüzyonundan dolayÇIiyi çogaltma kalitesine sahip fonksiyonel tabakanI boyutu azalmaktadlEl Kallül üstünde ters 3D damga dokularEl/eya rastgele 3D damga dokularII kullanllßiaslîdurumunda hava Inklüzyonlu baslanglglalanlî(506) olacaktlE] Bu baslanglg alan genisligi, fonksiyonel alanlEI (507) genisligi ile aynügenislige (504) sahip olacaktlB BaslangIÇJaIanlEE (505) uzunlugu, baski] silindirinin çapEl/e temas alanüle tanilanmaktadE Baslanglgl alan uzunlugu, 0.1 ile 50 milimetre arasIa olabilmektedir. YaygI olarak, hava inklüzyonlarlýla birlikte baslanglÇI alan_ uzunlugu, 0.5 ile 20 milimetre arasIa olacaktIEI Görsel olarak göze hos gelmeyen baslanglgalanÇtam fonksiyonel alan uzunlugunun (503) bir parçaslîblacaktlü Sekil 5'teki sekilde, panel, fonksiyonel alandaki aç[lZJ kenarlarla çizilmektedir. Prensipte, tüm alan damgalanabilmektedir veya herhangi spesifik alan kaplanabilmektedir ve damgalanabilmektedir. Her bir vakaya yönelik olarak, baslanglg alanIa baskElsilindirier kal- reçine ile birinci temasa geçtigi yerde hava kabarcllîlarlîgörülebilmektedir. Bu tür hava kabarcUZlarIEönlemeye yönelik bir çözüm, kaIII dokusunun degistirilmesi ve havanI kaçabildigi giris alanlîlokusuna sahip bir giris alanII ilave edilmesidir. Bu giris alanEI (601), fonksiyonel tabakadan (507) önce ilave edilmektedir ve Sekil 6'da gösterildigi gibi, substrat baslanglgl tarafIa (108) kontrollü damga prosesine baslanmaktadlEI Fonksiyonel tabaka (507), hava inklüzyonu olmadan belirtilen genislik (504) ve uzunluk (503) ile damgalanacaktEl Giris alanÇlfonksiyoneI alan. (504) genisligi ile aynEbIan bir genislige ve uzunluga (602) sahip olacaktlEI Uzunluk, silindirin çapEl/e temas alanlZIle tanIilanmaktadlEl Tipik olarak, giris alan_ uzunlugu, 0.1 ile 50 milimetre arasIa olabilmektedir. Yayg olarak, giris alan_ uzunlugu, 1 ile 20 milimetre araledadE Giris alanIÇIfonksiyonel alanI dokusuna kübsla farkllîlbir giris alanlîlokusuna sahip olacaktlEI Kallpl üstündeki giris alanlîiokusu, havanI kaçabildigi bir doku olmak zorundadlüve bir düz yüzey, 1 mikronun aItIa doku yüksekligine sahip bir derin olmayan doku veya örnegin çubuklar, merceksiler, ve kafesler gibi 2D dokular ve piramitler, bloklar, sütunlar, koniler ve mercekler gibi düzenli 3D dokular gibi kanallara sahip bir doku olabilmektedir. Bahsedildigi gibi, giris alanII dokusu, havanI kaçabildigi kanallara sahip herhangi bir doku olabilmektedir. Dokunun yüksekligi ve/veya derinligi, kalip] üstündeki giris alanEile fonksiyonel alan arasIa degisebilmektedir. DahasLIlsimetrik görsel görünüm için fonksiyonel alan. diger taraflar. da aynüdoku eklenebilmektedir. Dolaylglsîla, tercih edilen bir yapllândlülnada, damga dokusu, damgalama prosesinin baslang-a fonksiyonel alan. bir taraflEUa gazI kaçabildigi bir dokuya sahip giris alanIEiçermektedir ve burada fonksiyonel alan. bir veya daha fazla diger tarafÇI görsel görünüme yönelik bir doku sergilemektedir ve bu görsel görünüme yönelik doku, giris alanIaki doku ile ayn ElmaktadlEl Tercih edilen belirli dokular bulunmaktadlE 1) Dokunun kanalslîl fonksiyonel alandaki doku ile aynElaralilZl sekle ve boyutlara sahip oldugu mikro veya nano kanallara sahip giris alanülokularüBu vakada, görsel görünüm, daha büyük k-ida korunmaktadlE Bir örnek, aynlIlz derinligi, açlIi/e yükseklige sahip giris alan-aki (601) zlI] ters olmayan piramit dizisi dokusuyla birlikte fonksiyonel alandaki (504) ters piramit dizisi dokusunun birlestirilmesidir. Diger örnek, kalip] üstündeki fonksiyonel alandaki ters mercek dokusuyla aynEbrallKl mercek yüksekligi ve mercek egriligine sahip giris alanlEUaki (601) 2D merceksi yapllârl kullanühîasIlEl 2) Giris alanü 1 mikronun altIa damga dokusu yükseklik varyasyonuna (diger bir ifadeyle, damga dokusu açiElilZlarülle yükseltileri arasIaki yükseklik bak"an mesafe) sahip bir derin olmayan doku yüzeyine sahip olabilmektedir. Hava kabarcllZJarÇl kalII derin olmayan dokulu giris alanEile düz reçine yüzeyi araletla silîlglnayacaktlü 3) Giris alanÇlbir düz yüzeye sahip olabilmektedir. Hava kabarciKlarÇldüz reçine yüzeyi ile kal- düz giris alanüirasIa siKlginayacaktlEl Düz yüzey vakasIa, giris alanlîskaydam ve daha az görünür olacaktlü 4) Basklîlsilindirinin reçine ile birinci temasa geçtigi giris dokusu, metinler, semboller, barkodlar, logolar veya sekiller gibi bilgi verici sekillerin eklenmesi için kullanilâbilmektedir. Bu vakada, giris alanIa, ters bilgi verici metin, kallütaki düz alanda bulunan ç-[UEOKU olacaktE Harfler, sayilâr, semboller veya örnegin O harfi gibi çevrelenmis alana sahip sekillerin bu çevrelenmis alanIa hava sliZlgcaktE Bu çevrelenmis alanI ya tamamen doldurulmaslgla da bir hava kaçlglkanallEb sahip olmaslîglierekmektedir. Mevcut bulusun bir ilave parçasüen az bir ruloyla farklßubstratlarl rulodan plakaya tekstüre edilmesi veya örüntülenmesi yönelik bir esnek mühür olup; burada esnek mühür, en az bir rulo taraf-an taslEbbilecek ölçüde esnektir; ve burada esnek mühür, disi yüzeyi olarak bir damga dokusunu içermektedir ve bu damga dokusu, bir fonksiyonel alan içermektedir ve bu fonksiyonel alan, damga dokusunda hacimler olusturan açUZl [Elar ve yükseltilerden olusmaktadlÜ ve burada söz konusu esnek mühür, damga dokusunun, gazI kaçabildigi bir dokuya sahip giris alanlîrblan baslanglgalanülre bunu takiben, giris alanII dokusundan farklEl bir dokuya sahip fonksiyonel alanEiçermesi ile karakterize edilmektedir. Tercihen, esnek mühür, 0.1 Giga Pascal (GPa) ile 10 Giga Pascal (GPa) arasIa bir Young Modülü degeri sergilemektedir. TR TR TR TR TR TR TR TR TR TR TR TR
Claims (16)
1. Ekranlar, aydIatma panolarlZl/eya günes panelleri gibi farklElsubstratlarI (104) tekstüre edilmesi veya örüntülenmesine yönelik en az bir rulo içeren bir rulodan plakaya proses olup, söz konusu proses bir kesintisiz tabaka seklinde bir damgalama Iakesinin (103) tedarik edilmesi, damgalama Iakesinin arka tarafa ve ön tarafa sahip bir kalip] ile tekstüre edilmesi adIilarlElEiçermektedir; burada arka taraf, en az bir rulo ile sürtünmeli temas halindedir; ve burada ön taraf, bir fonksiyonel alan içeren bir damga dokusu (101) sergilemektedir, burada fonksiyonel alan, bir damgalanmlgllakenin elde edilmesi için damga dokusunda bu sekilde hacimler olusturarak açllZlllZlar ve yükseltiler tarafIan ve opsiyonel olarak ard .an bir katllâstlEllîhlgtekstüre edilmis veya örüntülenmis tabakanlîil elde edilmesi için damgalanmEI lakenin kürlenmesiyle olusturulmaktadlü söz konusu proses, tekstüre etme veya örüntülemenin gazI kaçabildigi bir dokuya sahip bir giris alanEKöOl) ve ardlEUan giris alanII dokusundan farkllIbir dokuya sahip fonksiyonel alan içeren bir damga dokusu ile gerçeklestirilmesi ile karakterize edilmektedir.
. Kürlemenin termal olarak ve/veya UV lglglIlEl uygulanmasüla gerçeklestirildigi istem 1'e göre proses.
. Kallöl üstündeki giris alanII kanallar içeren bir doku sergiledigi önceki istemlerden herhangi birine göre proses.
. Kanallari bloklar, çubuklar, sütunlar, merceksi yapllâr, lîgaralar, düzenli piramitler, koniler ve/veya mercekler seklinde oldugu istem 3'e göre proses.
. KanallarI bir logo, bir metin, bir sekil, bir barkot, bir indeks isareti veya benzeri gibi belirli bir sekilde organize edildigi istem 4'e göre proses.
. Giris alan_ 1 mikronun altlEdaki damga dokusu yükseklik varyasyonlar. sahip derin olmayan dokuya sahip oldugu istem 1 veya 2'ye göre proses.
. Giris alan-bir düz yüzey oldugu istem 1 veya Z'ye göre proses.
. Giris alanlElI 0.1 ve 50 mm arasIa, tercihen 1 ve 20 mm arasIa bir uzunluga sahip oldugu önceki istemlerden herhangi birine göre proses.
9. Giris alan_ fonksiyonel alanlEki ile aynElgenislige sahip oldugu önceki istemlerden herhangi birine göre proses.
10. Tekstüre etme veya örüntülemenin bir mühür, tercihen dlglyüzeyi olarak giris alan. sahip bir damga dokulu bir esnek mühür ile gerçeklestirildigi önceki istemlerden herhangi birine göre proses.
11. Mührün haddelendigi veya silindirler tarafIan yönlendirildigi önceki istemlerden herhangi birine göre proses.
12. Giris alanII mikro veya nano kanallara sahip bir dokuyu sergiledigi, dokunun kanallar olmadan fonksiyonel tabakadaki doku ile aynüralllîl sekil ve boyutlara sahip oldugu önceki istemlerden herhangi birine göre proses.
13. Damga dokusunun, gazI damgalama prosesinin baslang-a fonksiyonel alan. bir tarafIa kaçabildigi bir dokuya sahip bir giris alanlrîlüçerdigi, fonksiyonel alan. bir veya daha fazla diger tarafIlEl, görsel görünüme yönelik bir doku sergiledigi ve görsel görünüme yönelik dokunun giris alanIaki doku ile aynEbIdugu önceki istemlerden herhangi birine göre proses.
14. Giris alan.. 1 mikronun altlJ-Jtla bir damga dokusu yükseklik varyasyonuna sahip bir derin olmayan doku yüzeyi sergiledigi ve damga dokusu yükseklik varyasyonunun, damga dokusu açlElllZlarlZlve yükseltileri arasIa yükseklik bakIiIan mesafe oldugu önceki istemlerden herhangi birine göre proses.
15. Esnek mührün, en az bir rulo tarafIan tasIbilecek ölçüde esnek oldugu, ve esnek mührün, dlglyüzeyi olarak bir damga dokusunu (101) içerdigi ve damga dokusunun, bir fonksiyonel alan içerdigi, bu fonksiyonel alanlEl, damga dokusunda hacimler olusturan açllZllElar ve yükseltiler tarafIan olusturuldugu, söz konusu esnek mührün, damga dokusunun, gazI kaçabildigi bir dokuya sahip giris alanE(601) olan baslanglglalanEl/e ardIan, giris alanlEllEl dokusundan farklEbir dokuya sahip fonksiyonel alan içermesi ile karakterize edilen en az bir rulo ile farklüsubstratlarl (104) rulodan plakaya tekstüre edilmesi veya örüntülenmesine yönelik bir esnek mühür (100).
16. Esnek mührün, 0.1 Giga Pascal (GPa) ile 10 Giga Pascal (GPa) arasIa bir Young Modülü sergiledigi istem 15'e göre esnek mühür.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP15155039 | 2015-02-13 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TR201909874T4 true TR201909874T4 (tr) | 2019-07-22 |
Family
ID=52595064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TR2019/09874T TR201909874T4 (tr) | 2015-02-13 | 2016-02-11 | Farklı substratların tekstüre edilmesine yönelik yöntem ve esnek mühür. |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10996559B2 (tr) |
| EP (1) | EP3256906B1 (tr) |
| JP (1) | JP6720199B2 (tr) |
| KR (1) | KR102566639B1 (tr) |
| CN (1) | CN107430329B (tr) |
| DK (1) | DK3256906T3 (tr) |
| ES (1) | ES2733809T3 (tr) |
| PL (1) | PL3256906T3 (tr) |
| TR (1) | TR201909874T4 (tr) |
| WO (1) | WO2016128493A1 (tr) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6612439B2 (ja) | 2015-09-23 | 2019-11-27 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 圧電装置を備える光学結像装置 |
| JP7041121B2 (ja) * | 2016-08-03 | 2022-03-23 | ボード オブ リージェンツ,ザ ユニバーシティ オブ テキサス システム | 半導体平坦化用及びインプリントリソグラフィ用ウェハスケールプログラマブル膜 |
| KR102448904B1 (ko) * | 2017-07-31 | 2022-09-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 임프린트 장치 및 임프린트 방법 |
| US10580659B2 (en) * | 2017-09-14 | 2020-03-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Planarization process and apparatus |
| CN111527448B (zh) * | 2018-01-26 | 2024-07-19 | 莫福托尼克斯控股有限公司 | 对不连续基底进行纹理化的方法和设备 |
| JP7417600B2 (ja) * | 2018-10-12 | 2024-01-18 | モーフォトニクス ホールディング ベスローテン フェノーツハップ | 調整可能な高い寸法安定性を有するフレキシブルスタンプ |
| EP3693714A1 (en) | 2019-02-11 | 2020-08-12 | Fresh Strips B.V. | Optical sensor based on shape memory between scattering and transparent modes |
| US12145308B2 (en) | 2019-11-12 | 2024-11-19 | Morphotonics Holding B.V. | Apparatus for a roll-to-plate imprinting process comprising a plate carrier with compensating material |
| EP4189483A1 (en) * | 2020-07-31 | 2023-06-07 | Morphotonics Holding B.V. | Apparatus and process for replicating a texture |
| CN113189840A (zh) * | 2021-04-16 | 2021-07-30 | 深圳先进技术研究院 | 微纳结构制作方法及微纳结构制作装置 |
| WO2023069739A1 (en) * | 2021-10-22 | 2023-04-27 | Worcester Polytechnic Institute | Microchannel printing |
| CA3237104A1 (en) | 2021-11-15 | 2023-05-19 | Jan Matthijs Ter Meulen | Imprinting process |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1362682A1 (en) * | 2002-05-13 | 2003-11-19 | ZBD Displays Ltd, | Method and apparatus for liquid crystal alignment |
| US20080160129A1 (en) * | 2006-05-11 | 2008-07-03 | Molecular Imprints, Inc. | Template Having a Varying Thickness to Facilitate Expelling a Gas Positioned Between a Substrate and the Template |
| US7462028B2 (en) * | 2006-04-03 | 2008-12-09 | Molecular Imprints, Inc. | Partial vacuum environment imprinting |
| TW200819546A (en) * | 2006-10-30 | 2008-05-01 | Jinn P Chu | In-air micro and nanoimprint of bulk metallic glasses and a method for making the same |
| JP4840668B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2011-12-21 | 綜研化学株式会社 | 熱インプリント用モールドおよびこのモールドを用いた光学素子の製造方法 |
| KR101724075B1 (ko) * | 2008-04-18 | 2017-04-06 | 메사추세츠 인스티튜트 오브 테크놀로지 | 불규칙한 표면의 웨지 임프린트 패터닝 |
| CN101852986A (zh) * | 2009-03-30 | 2010-10-06 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 压印模具 |
| TW201228807A (en) * | 2011-01-13 | 2012-07-16 | Moser Baer India Ltd | Method of imprinting a texture on a rigid substrate using flexible stamp |
| KR101910974B1 (ko) * | 2011-12-13 | 2018-10-24 | 삼성전자주식회사 | 임프린팅 스탬프 및 이를 이용한 나노 임프린트 방법 |
| BR112016010214A2 (pt) * | 2013-11-06 | 2017-08-08 | 3M Innovative Properties Co | ?estampas de impressão por microcontato com características funcionais? |
-
2016
- 2016-02-11 PL PL16704585T patent/PL3256906T3/pl unknown
- 2016-02-11 TR TR2019/09874T patent/TR201909874T4/tr unknown
- 2016-02-11 WO PCT/EP2016/052872 patent/WO2016128493A1/en not_active Ceased
- 2016-02-11 JP JP2017542481A patent/JP6720199B2/ja active Active
- 2016-02-11 CN CN201680009436.4A patent/CN107430329B/zh active Active
- 2016-02-11 DK DK16704585.5T patent/DK3256906T3/da active
- 2016-02-11 KR KR1020177022080A patent/KR102566639B1/ko active Active
- 2016-02-11 EP EP16704585.5A patent/EP3256906B1/en active Active
- 2016-02-11 US US15/549,419 patent/US10996559B2/en active Active
- 2016-02-11 ES ES16704585T patent/ES2733809T3/es active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN107430329B (zh) | 2021-02-12 |
| JP2018512263A (ja) | 2018-05-17 |
| WO2016128493A1 (en) | 2016-08-18 |
| US10996559B2 (en) | 2021-05-04 |
| KR102566639B1 (ko) | 2023-08-16 |
| JP6720199B2 (ja) | 2020-07-08 |
| DK3256906T3 (da) | 2019-07-15 |
| CN107430329A (zh) | 2017-12-01 |
| KR20170122186A (ko) | 2017-11-03 |
| EP3256906A1 (en) | 2017-12-20 |
| ES2733809T3 (es) | 2019-12-03 |
| EP3256906B1 (en) | 2019-04-10 |
| PL3256906T3 (pl) | 2019-10-31 |
| US20180017862A1 (en) | 2018-01-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN107430329B (zh) | 纹理化分立基板的方法 | |
| US12613464B2 (en) | Method for texturing discrete substrates | |
| CN101231462A (zh) | 一种光扩散片及其制作方法 | |
| US9776360B2 (en) | Transfer printing apparatus and manufacturing method of light guiding film | |
| KR102775942B1 (ko) | 개별 기판을 텍스처링하기 위한 공정 및 장비 | |
| US20130286687A1 (en) | Light guide with a printed film | |
| US20210382202A1 (en) | Optical Film | |
| KR101190178B1 (ko) | 도광판에 광학 미세 구조 무늬를 각인하는 방법과 장치 | |
| KR20100008475A (ko) | 박형 도광판의 제조 방법 | |
| JP2009092769A (ja) | 光学シートおよび光拡散シート | |
| CN204086597U (zh) | 导光板制造系统 | |
| EP4433871B1 (en) | Multi-textured stamp |