TR2025004530T2 - Eri̇yi̇k kirilmasi azaltilmiş poli̇meri̇k fi̇lmler ve i̇lgi̇li̇ yöntemler - Google Patents

Abstract

Birleştirme yoluyla bir bileşik bileşim üretme adımlarına sahip bir prosesle üretilen bir ekstrüde film: bir poliolefin; bir birinci bileşen olarak: bir polietilen glikol, bir polietilen glikol mono-ester, bir polietilen glikol di-ester, bir polikaprolakton, bir polipropilen glikol, bir polipropilen glikol mono-ester, bir polipropilen glikol di-ester, bir polietilen-glikol polipropilen-glikol kopolimeri, bir polietilen glikol ve polipropilen glikol kopolimerinden hazırlanan bir ester, bir polietilen-glikol polikaprolakton kopolimeri veya bir polipropilen-glikol polikaprolakton kopolimeri; aşağıdaki iki yapıdan birine sahip fosfor içeren bir bileşik olan ikinci bir bileşen: burada her bir R1, R2, R3, R4 ve R5 bağımsız olarak seçilir ve bir C10-C18 alkil grubudur; n 3 ila 11 arasında değişen bir tam sayıdır; ve x1 + x2 toplamı 1-251 arasında değişen bir tam sayıdır, veya burada her bir R1, R2, R3 ve R4 bağımsız olarak seçilir ve bir C10-C18 alkil grubudur; m 3 ila 11 arasında değişen bir tam sayıdır; ve x 1 ila 122 arasında değişen bir tam sayıdır; ve bir tuz olan üçüncü bir bileşen; burada bileşik bileşim flor içeren bir bileşik içermez; ve bileşik bileşim kullanılarak ekstrüde bir film üretilmesi; burada filmin, aynı prosesle ve başka şekilde aynı olan ancak birinci, ikinci veya üçüncü bileşeni içermeyen bir bileşik bileşimle üretilen bir filme göre daha az erime kırılmasına sahip olmasıdır.

Description

TARIFNAME ERIYIK KIRILMASI AZALTILMIS POLIMERIK FILMLER VE ILGILI YÖNTEMLER Ilgili Basvurulara Çapraz Referans Bu patent basvurusu, basvuru tarihi 19 Ekim 2022 olan ABD geçici patent basvurusu SIS/417,645 e rüçhan hakki talep etmektedir ve ABD geçici patent basvurusu 63/417,645'in konusu bu patent basvurusuna referans olarak dahil edilmistir. geçici patent basvurusuna rüçhan hakki talep etmektedir ve SIS/417,653 sayili ABD geçici patent basvurusunun konusu referans olarak bu patent basvurusuna dahil edilmistir. Teknigin Bilinen Durumu Florlu polimerik isleme yardimcilarinin florlu olmayan polimerik isleme yardimcilariyla degistirilmesine ve ayrica daha az eriyik kirilmasina sahip ekstrüde polimerik filmlere olan ihtiyaç devam etmektedir. Bulusun Kisa Açiklamasi Birlestirme yoluyla bir bilesik bilesim üretme adimlarina sahip bir islemle üretilen bir ekstrüde film: bir poliolefin; bir birinci bilesen olarak: bir polietilen glikol, bir polietilen glikol mono-ester, bir polietilen glikol di-ester, bir polikaprolakton, bir polipropilen glikol, bir polipropilen glikol mono-ester, bir polipropilen glikol di-ester, bir polietilen-glikol polipropilen-glikol kopolimeri, bir polietilen glikol ve polipropilen glikol kopolimerinden hazirlanan bir ester, bir polietilen-glikol polikaprolakton kopolimeri veya bir polipropilen- glikol polikaprolakton kopolimeri; asagidaki iki yapidan birine sahip fosfor içeren bir bilesik olan ikinci bir bilesen: oR2 oR3 R1o P-O 0 P 0 0R4 X1 OR5 burada her bir R1, R2, R3, R4 ve R5 bagimsiz olarak seçilir ve bir C10-C13 alkil parçasidir; n 3 ila 11 arasinda degisen bir tam sayidir; ve X1 +X2 toplami 1-251 arasinda degisen bir tam sayidir, veya R1o P 0 /O-R3 burada her bir R1, R2, R3 ve R4 bagimsiz olarak seçilir ve bir C10-C18 alkil parçasidir; m 3 ila 11 arasinda degisen bir tam sayidir; ve X 1 ila 122 arasinda degisen bir tam sayidir; ve birtuz olan üçüncü bir bilesen; burada bilesik bilesim flor içeren bir bilesik içermez; ve bilesik bilesim kullanilarak ekstrüde birfilm üretilmesi; burada filmin, ayni islemle ve baska sekilde ayni olan ancak birinci, ikinci veya üçüncü bileseni içermeyen bir bilesik bilesimle üretilen bir filme göre daha az erime kirilmasina sahip olmasidir. Birlestirme yoluyla bir bilesik bilesim üretme adimlarina sahip bir islemle üretilen bir ekstrüde film: bir poliolefin; bir ilk bilesen olarak: bir polietilen glikol, bir polietilen glikol mono-ester, bir polietilen glikol di-ester, bir polikaprolakton, bir polipropilen glikol, bir polipropilen glikol mono-ester, bir polipropilen glikol di-ester, bir polietilen-glikol polipropilen-glikol kopolimeri, bir polietilen glikol ve polipropilen glikol kopolimerinden hazirlanan bir ester, bir polietilen-glikol polikaprolakton kopolimeri veya bir polipropilen- glikol polikaprolakton kopolimeri; asagidaki iki yapidan birine sahip fosfor içeren bir bilesik olan ikinci bir bilesen: oR2 oR3 R1o P-o 0 P 0 0R4 X1 OR5 burada her bir R1, R2, R3, R4 ve R5 bagimsiz olarak seçilir ve bir C10-C18 alkil parçasidir; n 3 ila 11 arasinda degisen bir tam sayidir; ve X1 +X2 toplami 1-251 arasinda degisen bir tam sayidir, veya R1o P 0 p-R3 burada her bir R1, R2, R3 ve R4 bagimsiz olarak seçilir ve bir C10-C18 alkil parçasidir; m 3 ila 11 arasinda degisen bir tam sayidir; ve X 1 ile 122 arasinda degisen bir tam sayidir; ve bir asit ve baz olan üçüncü bir bilesen; burada bilesik bilesim flor içeren bir bilesik içermez; ve bilesik bilesim kullanilarak ekstrüde bir film üretilmesi; burada film, ayni islemle ve baska sekilde ayni olan ancak birinci, ikinci veya üçüncü bileseni içermeyen bir bilesik bilesimle üretilen bir filme göre daha az erime kirilmasina sahiptir. Dogrusal düsük yogunluklu polietilen; polietilen glikol olan bir birinci bilesen; asagidaki yapiya sahip fosfor içeren bir bilesik olan bir ikinci bilesenin birlestirilmesiyle bir bilesik bilesim üretme adimlarina sahip bir islemle üretilen bir ekstrüde film: R10 P-o 0 P 0 0R4 X1 OR5 burada her bir R1, R2, R3, R4 ve R5 bagimsiz olarak seçilir ve bir C10-C18 alkil parçasidir; n 3 ila 11 arasinda degisen bir tam sayidir; ve X1 +X2 toplami 1-251 arasinda degisen bir tam sayidir; ve asagidaki yapiya sahip fosfor içeren birtuz bilesigi olan üçüncü bir bilesen: burada bilesik bilesim flor içeren bir bilesik içermez; ve bilesik bilesim kullanilarak ekstrüde bir film üretilir, burada film ayni islemle ve baska sekilde ayni olan ancak birinci, ikinci veya üçüncü bileseni içermeyen bir bilesik bilesimle üretilen bir filme göre daha az erime kirilmasina sahiptir. BU LUSUN DETAYLI AÇIKLAMASI Düzenlemeler genel olarak, filmlerin ayni islemle üretilen diger filmlere göre daha az erime kirilmasina sahip olmasina neden olan florlanmamis polimerik isleme yardimcilarina sahip polimerik bilesimlerden üretilen ekstrüde polimerik filmlere ve baska sekilde ayni olan ancak florlanmamis polimerik isleme yardimcilarinin bir kismini veya tamamini içermeyen bilesimlere yöneliktir. Çok genel olarak, düzenlemeler, bir poliolefin, bir birinci bilesen, bir ikinci bilesen ve bir üçüncü bilesen içeren bir bilesik polimerik bilesimden üretilen bir ekstrüde polimerik filme yöneliktir. Ekstrüde polimerik filmler hem üflemeli filmler hem de döküm filmleri içerir ve üflemeli filmlerin ve döküm filmlerin üretim yöntemleri iyi bilinmektedir. Üflemeli filmlerin üretimi için faydali sicakliklar, teknikte olagan beceriye sahip kisiler tarafindan gereksiz deneyler yapmak zorunda kalmadan belirlenebilir. Düzenlemelerde, faydali üflemeli film üretim sicakliklari 190°C ila 250°C arasinda degisir; diger düzenlemelerde, yaklasik 220°C sicakliklar üflemeli film üretimi için kullanislidir. Döküm filmlerin üretimi için faydali sicakliklar, teknikte olagan beceriye sahip kisiler tarafindan gereksiz deneyler yapmak zorunda kalmadan da belirlenebilir. Düzenlemelerde, faydali dökme film üretim sicakliklari tipik olarak 250°C ila 330°C arasinda degisir. Diger düzenlemelerde, faydali dökme film üretim sicakliklari tipik olarak 240°C ila 330°C arasinda degisir. Dökme ve üflemeli filmlerin üretiminde yararli oldugu bilinen tüm poliolefinler düzenlemelerde kullanilabilir. Belirli düzenlemelerde, faydali poliolefinler sunlari içerir: polietilen (PE), dogrusal düsük yogunluklu polietilen (LLDPE), düsük yogunluklu polietilen (LDPE), yüksek yogunluklu polietilen (HDPE), polipropilen (PP) ve bunlarin kombinasyonlari. Düzenlemelerde, birinci bilesen bir yaglayici bilesik veya çok sayida yaglayici bilesik olarak anlasilabilir. Düzenlemelerde, birinci bilesen bir polietilen glikol, bir polietilen glikol mono-ester veya bir polietilen glikol di-esterdir. Düzenlemelerde, polietilen glikol asagidaki yapiya sahiptir: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir. Bazi düzenlemelerde, faydali polietilen glikoller 1.000 g/mol ila 10.000 g/mol g/mol araliginda olanlari içerir; hemen yukaridaki kimyasal yapi ile ilgili olarak, bu g/mol araligi genellikle 23 ila 227 arasinda degisen bir "n" degerine esittir. Düzenlemelerde, polietilen glikol mono-ester su yapiya sahiptir: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve R, C1'C28 doymus veya doymamis bir kisimdir. Diger düzenlemelerde, polietilen glikol mono-ester su yapiya sahiptir: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve R, C6-C20 doymus veya doymamis bir kisimdir. Düzenlemelerde, polietilen glikol di-ester su yapiya sahiptir: RTOILßOJJLR n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve her bir R bagimsiz olarak seçilir ve bir C1-C2s doymus veya doymamis bagdir. Diger düzenlemelerde, birinci bilesen bir polikaprolakton'dur. Bazi düzenlemelerde, polikaprolakton su yapiya sahiptir: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir. Diger düzenlemelerde, birinci bilesen bir polipropilen glikol, bir polipropilen glikol mono- ester veya bir polipropilen glikol di-esterdir. Düzenlemelerde, polipropilen glikol su yapiya sahiptir: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir. Düzenlemelerde, polipropilen glikol mono-ester su yapiya sahiptir: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve R, C1'C28 doymus veya doymamis bir kisimdir. Düzenlemelerde, polipropilen glikol di-ester su yapiya sahiptir: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve her bir R bagimsiz olarak seçilir ve bir C1-C28 doymus veya doymamis bagdir. Diger düzenlemelerde, birinci bilesen bir polietilen-glikol polipropilen-glikol kopolimeridir. Düzenlemelerde, polietilen-glikol polipropilen-glikol kopolimeri suyapiya sahiptir: n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m 1-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve X, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir. Diger düzenlemelerde, birinci bilesen polietilen glikol ve polipropilen glikol kopolimerinden hazirlanan bir esterdir. Birinci bilesenin polietilen glikol ve polipropilen glikol kopolimerinden hazirlanan bir ester oldugu düzenlemelerde, ester asagidaki iki yapidan Rli/OGÄOHVOßH n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, birine sahip olabilir: m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve R, C1-C28 doymus veya doymamis bir kisimdir. Rîg/OGHOHVOISYR burada n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve her bir R bagimsiz olarak bir C1-C28 doymus veya doymamis kisimdan seçilir. Diger düzenlemelerde, birinci bilesen bir polietilen-glikol polikaprolakton kopolimeridir. Düzenlemelerde, polietilen-glikol polikaprolakton kopolimeri asagidaki üç yapidan birine sahiptir: Xburada n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir; n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve R, C1-C28 doymus veya doymamis bir kisimdir. iQ/Jl`CD C) 11 111 burada n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve her bir R bagimsiz olarak bir C1-C28 doymus veya doymamis kisimdan seçilir. Diger düzenlemelerde, birinci bilesen bir polipropilen-glikol polikaprolakton kopolimeridir. Düzenlemelerde, polipropilen-glikol polikaprolakton kopolimeri asagidaki üç yapidan birine sahiptir: n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir veya n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve R, C1-C28 doymus veya doymamis bir kisimdir. 11 111 burada n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve her bir R bagimsiz olarak bir C1-C28 doymus veya doymamis kisimdan seçilir. Birinci bilesen ticari olarak elde edilebilir veya bilinen bir yöntem veya yöntemler kullanilarak üretilebilir. Düzenlemelerde, birinci bilesen bilesimde milyonda 250-3000 parça arasinda degisen bir miktarda bulunur. Diger düzenlemelerde, birinci bilesen bilesimde milyonda 250-2000 parça arasinda degisen bir miktarda bulunur. Diger düzenlemelerde, birinci bilesen bilesimde milyonda 250-1000 parça arasinda degisen bir miktarda bulunur. Düzenlemelerde, ikinci bilesen asagidaki iki yapidan birine sahip fosfor içeren bir bilesiktir: R1O P-O 0 P 0 0R4 her bir R1, R2, R3, R4 ve R5 bagimsiz olarak seçilir ve bir C10-C18 alkil parçasidir; n, 3 ile 11 arasinda degisen bir tam sayidir; ve X1 +X2 toplami 1-251 arasinda degisen birtamsayidir, R1o P 0 p-R3 her bir R1, R2, R3 ve R4 bagimsiz olarak seçilir ve bir C10-Cis alkil parçasidir; m, 3 ile 11 arasinda degisen bir tam sayidir; ve X, 1 ile 122 arasinda degisen birtamsayidir. Ikinci bilesen ticari olarak elde edilebilir veya bilinen bir yöntem veya yöntemler kullanilarak üretilebilir. Düzenlemelerde, ikinci bilesen, yani fosfor içeren bilesik olan, bilesimde milyonda 250- 3000 parça arasinda degisen bir miktarda bulunur. Diger düzenlemelerde, ikinci bilesen bilesimde milyonda 250-2000 parça arasinda degisen bir miktarda bulunur. Diger düzenlemelerde, ikinci bilesen bilesimde milyonda 500-1500 parça arasinda degisen bir miktarda bulunur. Düzenlemelerde, üçüncü bilesen bir tuzdur. Düzenlemelerde, üçüncü bilesen bir fosfor asit tuzudur. Düzenlemelerde, fosfor asit tuzu ya i) bir fosforik asit tuzu veya ii) bir fosfor asit tuzu. Düzenlemelerde, üçüncü bilesen asagidaki yapiya sahip mono-fosforik asit tipi bir tuzdur: burada her bir R bagimsiz olarak seçilir ve a'dir: C1-C20 alkil parçasi, C1-C20 alkil parçasi veya hidrojen atomu; ve i) lityum, sodyum veya potasyum olan bir alkali katyon, ii) magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak alkali katyon, iii) çinko veya bakir veya iv) bir amin veya amid katyonu; ve Burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya üçüncül bir amin veya amiddir. Diger düzenlemelerde, üçüncü bilesen asagidaki yapiya sahip mono-fosforik asit tipi bir Diger düzenlemelerde, üçüncü bilesen asagidaki yapiya sahip mono-fosforik asit tipi bir R1`O 9 burada her bir R1 bagimsiz olarak seçilir ve a'dir: C1-C20 alkil grubu, C1-C20 alkilen doymus mono-gliserit grubu, mono-doymamis mono-gliserit grubu, çoklu doymamis mono-gliserit grubu, doymus di-gliserit grubu, mono-doymamis di-gliserit, çoklu doymamis di-gliserit grubu veya bir hidrojen atomu; ve i) lityum, sodyum veya potasyum olan bir alkali katyon, ii) magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak alkali katyon, iii) çinko veya bakir veya iv) bir amin veya amid katyonu; ve burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya üçüncül bir amin veya amiddir. Diger düzenlemelerde, üçüncü bilesen asagidaki iki yapidan birine sahip fosfat mono ve di-gliseritlerin sodyum tuzudur: Diger düzenlemelerde, üçüncü bilesen asagidaki iki yapidan birine sahip olan fosfat mono ve di-etoksillenmis 0leyl alkolün bir tri-izopropanol amin tuzudur: Diger düzenlemelerde, üçüncü bilesen asagidaki yapiya sahip bir di-fosforik asit tipi burada her bir R1 bagimsiz olarak seçilir ve a'dir: C1-C20 alkil grubu (moiety), C1- ester grubu, C2-C30 etoksillenmis alkil grubu, C2-C30 etoksillenmis aril grubu, C2-C30 alkanol amin grubu, doymus mono-gliserit grubu, mono-doymamis mono-gliserit grubu, çoklu doymamis mono-gliserit grubu, doymus di-gliserit grubu, mono-doymamis di- gliserit, çoklu doymamis di-gliserit parçasi veya bir hidrojen atomu; ve burada 8 i) magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak alkali katyon, ii) çinko veya bakir veya iii) bir amin veya amid katyonu; ve Burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya üçüncül bir amin veya amiddir. Diger düzenlemelerde, üçüncü bilesen asagidaki yapiya sahip fosfor asit tipi bir tuzdur: C2-C30 etoksillenmis aril grubu, C2-C30 alkanol amin grubu, doymus mono-gliserit grubu, mono-doymamis mono-gliserit grubu, çoklu doymamis mono-gliserit grubu, doymus di- gliserit grubu, mono-doymamis di-gliserit, çoklu doymamis di-gliserit grubu veya bir hidrojen atomu; ve i) Iityum, sodyum veya potasyum olan bir alkali katyon, ii) magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak alkali katyon, iii) çinko veya bakir veya iv) bir amin veya amid katyonu; ve burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya üçüncül bir amin veya amiddir. Diger düzenlemelerde, üçüncü bilesen asagidaki yapiya sahip tri-izopropanol aminli bir fosfor asit tuzudur: Diger düzenlemelerde, üçüncü bilesen asagidaki yapiya sahip fosfor asitli bir di- izopropanol, oleik asit, amid estertuzudur: Diger düzenlemelerde, üçüncü bilesen asagidaki yapiya sahip bir di-fosfor asit tipi tuzdur: R1` o 1. HI O-.êjßCT H burada her bir R1 bagimsiz olarak seçilir ve a'dir: C1-C20 alkil grubu, C1-C20 alkilen C2-C30 etoksillenmis alkil grubu, C2-C30 etoksillenmis aril grubu, C2-C30 alkanol amin grubu, doymus mono-gliserit grubu, mono-doymamis mono-gliserit grubu, çoklu doymamis mono-gliserit grubu, doymus di-gliserit grubu, mono-doymamis di-gliserit, çoklu doymamis di-gliserit grubu veya bir hidrojen atomu; ve i) magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak alkali katyon, ii) çinko veya bakir veya iii) bir amin veya amid katyonu; ve burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya üçüncül bir amin veya amiddir. Diger düzenlemelerde, üçüncü bilesen asagidaki yapiya sahip bir mono-fosfonat asit tipi etoksillenmis aril grubu, C2-C30 alkanol amin grubu, doymus mono-gliserit grubu, mono- doymamis mono-gliserit grubu, çoklu doymamis mono-gliserit grubu, doymus di-gliserit grubu, mono-doymamis di-gliserit, çoklu doymamis di-gliserit grubu veya bir hidrojen burada R2 ya R1 ile aynidir ya da bir hidrojen atomudur; ve i) magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak alkali katyon, ii) çinko veya bakir veya iii) bir amin veya amid katyonu; ve Burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya üçüncül bir amin veya amiddir. Diger düzenlemelerde, üçüncü bilesen asagidaki yapiya sahip bir di-fosfonat asit tipi R1- F5- oî.,82..+. o-s-Ri Burada her bir R1 bagimsiz olarak seçilir ve a'dir: Ci-C20 alkil grubu, C1-C20 alkilen C2-C30 etoksillenmis alkil grubu, C2-C30 etoksillenmis aril grubu, C2-C30 alkanol amin grubu, doymus mono-gliserit grubu, mono-doymamis mono-gliserit grubu, çoklu doymamis mono-gliserit grubu, doymus di-gliserit grubu, mono-doymamis di-gliserit, çoklu doymamis di-gliserit grubu veya bir hidrojen atomu ve i) lityum, sodyum veya potasyum olan bir alkali katyon, ii) magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak alkali katyon, iii) çinko veya bakir veya iv) bir amin veya amid katyonu; ve Burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya üçüncül bir amin veya amiddir. Spesifik düzenlemelerde, di-fosfonat asit tipi tuz asagidaki yapiya sahiptir: HO F'J O Ca2+ Hemen yukarida gösterilen yapiya sahip bir di-fosfonat asit tipi tuz, BASF SE Sirketi tarafindan dagitilan IRGANOX® 1425 WL ticari markasi altinda ticari olarak mevcuttur. Diger düzenlemelerde, üçüncü bilesen bir fosfolipid tuzudur; bu tür tuzlar, amin bazinin bir tuz olarak baglandigi ve fosfora bir oksijen ile kovalent olarak baglandigi fosfonatlar olarak anlasilabilir. Düzenlemelerde, fosfolipid tuzu su yapiya sahiptir: R3_ OxliDI/Ox /N'I' Burada R3 a'dir: doymus mono-gliserit grubu, mono-doymamis mono-gliserit grubu, çoklu-doymamis mono-gliserit grubu, doymus di-gliserit grubu, mono-doymamis di-gliserit grubu, çoklu-doymamis di-gliserit grubu, C1-C20 alkil grubu, C1-20 alkil grubu, Ce- C20 sikloakil grubu, bir C3-C20 ester grubu veya bir hidrojen atomu ve Burada her bir R4 bagimsiz olarak seçilir ve bir C1-C20 alkil parçasi veya bir hidrojen atomudur. Belirli bir düzenlemede, fosfolipid tuzu su yapiya sahip fosfatidil etanolamindir: MAML 9' /\/NHg Bir baska spesifik düzenlemede, fosfolipid tuzu su yapiya sahip fosfatidil kolindir: Diger düzenlemelerde, üçüncü bilesen yapiya sahip bir fosfolipid tuzudur: RrO'Iî-O-RS Burada R3, a'dir: doymus mono-gliserit grubu, mono-doymamis mono-gliserit grubu, çoklu-doymamis mono-gliserit grubu, doymus di-gliserit grubu, mono-doymamis di- gliserit grubu, çoklu-doymamis di-gliserit grubu, C1-C20 alkil grubu, C1-20 alkil grubu, Ce- C20 sikloakil grubu, bir C3-C20 ester grubu veya bir hidrojen atomu, Burada R5 bir: inositol parçasi, seker alkol parçasi, seker parçasi, sakkarit parçasi veya bir polisakkarit parçasidir ve i) lityum, sodyum veya potasyum olan bir alkali katyon, ii) magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak alkali katyon, iii) çinko veya bakir veya iv) bir amin veya amid katyonu; ve Burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya üçüncül bir amin veya amiddir. Belirli düzenlemelerde, fosfolipid tuzu su yapiya sahip fosfatidil inositoldür: Düzenlemelerde, yukaridaki tuzlardan herhangi biri üçüncü bilesen olarak ilgili ayrismis formlarinda kullanilabilir. Farkli bir sekilde ifade etmek gerekirse, bir tuz ayristiktan sonra (genellikle sivi fazda - örnegin bilesik olusturma sirasinda) ilgili anyon(lar)ina ve katyon(lar)ina ayrilir ve bu ayrismis anyon(lar) ve katyon(lar) üçüncü bilesen olarak kullanilabilir. Daha da ötesi, ayrismis anyon(lar) ve katyon(lar)in bir proton kazandigi veya kaybettigi bir akiskan fazda, ortaya çikan asit ve baz formlarinda kullanilabilirler. Bazi düzenlemelerde, üçüncü bilesen sudur: i) bir fosfor asidi veya bir fosforik asit ve Faydali fosfor asitleri ticari olarak mevcuttur ve yapiya sahip olanlari içerir: alkillaril grubu, bir C3-20 amid grubu, bir C3-C20 ester grubu, bir etoksillenmis alkil grubu, bir etoksillenmis aril grubu, bir alkanol amin grubu, bir mono-gliserit grubu, bir di-gliserit Faydali fosforik asitler ticari olarak mevcuttur ve yapiya sahip olanlari içerir: her bir R bagimsiz olarak seçilir ve bir C1-20 alkil grubu, C1-20 alkil grubu, Cs-20 grubu, bir etoksillenmis alkil grubu, bir etoksillenmis aril grubu, bir alkanol amin grubu, bir mono-gliserit grubu, bir di-gliserit grubu veya bir hidrojen atomu. Faydali bazlar ticari olarak mevcuttur ve Iityum, sodyum veya potasyum gibi bir toprak alkali katyonu veya magnezyum veya kalsiyum gibi bir alkali katyonu veya bir amin katyonunu içerir. Diger düzenlemelerde, baz birincil, ikincil veya üçüncül amin, bir alkanol amin olabilir: etanolamin, dietanolamin, trietanolamin, izopropanol amin, di-izopropanol amin ve tri-izopropanol amin. Üçüncü bilesenin tüm düzenlemeleri ticari olarak elde edilebilir veya üçüncü bilesen bilinen bir yöntem veya yöntemler kullanilarak üretilebilir. Düzenlemelerde, üçüncü bilesen, örnegin, bir tuz bileseni veya bir asit-baz bileseni, bilesimde milyonda 250-3000 parça arasinda degisen bir miktarda bulunur. Diger düzenlemelerde, üçüncü bilesen bilesimde milyonda 250-2000 parça arasinda degisen bir miktarda bulunur. Diger düzenlemelerde, üçüncü bilesen bilesimde milyonda 250- 1000 parça arasinda degisen bir miktarda bulunur. Bazi bilesimsel düzenlemeler, bir film üretmek için kullanilan polimerik bilesimden flor içeren bilesikleri özellikle hariç tutar. Polimerik bilesimleri birlestirme yöntemleri iyi bilinmektedir ve bilinen herhangi bir birlestirme yöntemi kullanilabilir. Bilinen birlestirme yöntemlerinin sinirlayici olmayan örnekleri sunlari içerir: banbury birlestirme, tek vidali birlestirme ve çift vidali birlestirme. Teknikte olagan beceriye sahip kisiler, gereksiz deneyler yapmak zorunda kalmadan bilesik olusturma kosullarini ve ayarlarini belirleyebileceklerdir. Düzenlemelerde, burada tanimlanan filmler, ayni islemle ve baska sekilde ayni olan ancak birinci bileseni, ikinci bileseni veya üçüncü bileseni içermeyen bir bilesimle üretilen bir filme göre daha az erime kirilmasina sahiptir. Polimer birlestirme veya isleme için yararli oldugu bilinen herhangi bir katki maddesi veya katki maddeleri açiklanan düzenlemelerde kullanilabilir. DENEYSEL ÇALISMA Bir yaglayici ve fosfor bazli tuz ile birlikte polimerik fosfitleri içeren isleme yardimci paketi, etkinligini göstermek için bir dizi farkli isleme sicakligi ve kosulu ve reçine sinifi altinda degerlendirilmistir. Örneklerde Kullanilan Fosforlu Tuz Yapilari Fosfor Tuzu 1 Fosfor Tuzu 2 Fosfor Tuzu 3 Fosfor Tuzu 4 Fosfor Tuzu 6 Patent Örneklerinde Kullanilan FosfitYapilari Fosfit 1 R1o P 0 /O-R3 her bir R1, R2, R3 ve R4 bagimsiz olarak seçilir ve bir C10-C1s alkil grubudur; m, 3 ile 11 arasinda degisen bir tam sayidir; ve X, 1 ile 122 arasinda degisen birtamsayidir. Fosfit 2 R1O '3-0 0 P O OR4 her bir R1, R2, R3, R4 ve R5 bagimsiz olarak seçilir ve bir C10-C18 alkil n, 3 ile 11 arasinda degisen bir tam sayidir; ve X1 +X2 toplami 1-251 arasinda degisen birtamsayidir. Fosfit 3 burada R dallanmis veya dogrusal bir nonil grubudur Fosfit 4 Burada R bir amil grubu veya bir hidrojendir. Ürün, amilfenol ve di-amilfenol karisimindan üretilen 4 fosfitin bir karisimidir. Mevcut bulusun isleme yardimcisi paketi degerlendirilmis ve tipik bir florlu isleme yardimcisi ile karsilastirilmistir. Formülasyonlar, % inç tek vidali Brabender ekstrüder kullanilarak 0,8MI LLDPE Zieglar Natta katalizli reçineye karistirilmistir. Polimer, 0,02 inç kalinliginda bir film üretmek için 80 rpm ve 205C'de 2 inç X 0,02 inç film kalibindan ekstrüde edilmistir. Ekstrüder kosullari, islem yardimcisi içermeyen bir formülasyonun yüzeyinde eriyik kirilmasi olacak sekilde seçilmistir. Her bir formülasyon, her bir filmin yüzeyinden eriyik kirigi temizlenene kadar çalistirilmistir. Eriyik kiriginin temizlenmesi için geçen süre kaydedilmistir. Ekstrüder, sonucu etkileyebilecek önceki formülasyondan kalan kalintilari gidermek için her formülasyon arasinda temizlenmistir. Formülasyonlarin her biri yaglayici bilesen olarak PEG 2000 ve polimerik fosfit 1 ya da polimerik fostit 2 içermektedir. Film yüzeyindeki eriyik kirilmasini ortadan kaldirmak için bunlarla birlikte çesitli fosfor asit tuzlari kullanilmistir. Floropolimer Dynamar 5920 isleme yardimcisi içeren kontrol formülasyonu, 30 dakikalik ekstrüzyondan sonra film yüzeyindeki tüm eriyik kiriklarini temizlemistir. Polimerik fostit, PEG 2000 ve fosfor tuzu içeren 7 formülasyonun tamami eriyik kirigini 20 dakika veya daha kisa sürede temizleyerek bu katki paketinin isleme yardimcisi olarak kullanilmasinin faydasini göstermistir. Bilesen Dinamar 5920 2000 Temizleme zamani Min Diger fosfitler, polimerik fosfitlerle kombinasyonla ayni etkiyi yaratip yaratmayacaklarini görmek için fosfor tuzu ve PEG-2000 yaglayici ile birlikte degerlendirilmistir. Formülasyonlar, örnek1 ile ayni ekstrüzyon düzenegi kuIIaniIarak1 MI metalosen LLDPE reçinesi halinde birlestirilmistir. Ekstrüzyon 185C eriyik sicakliginda ve 40 rpm'de gerçeklestirilmistir. Polimerik fosfit 2, PEG 2000 ve bir fosfor tuzu ile birlikte kullanildiginda, formülasyon 20 dakikalik ekstrüzyondan sonra eriyik kirilmasindan arindirilmistir. Polimerik fosfit standart bir fosfit ile degistirildiginde, 30 dakikalik ekstrüzyondan sonra eriyik kiriginin temizlenmesinde herhangi bir iyilesme görülmemistir. Bilesen 1MI LLDPE X X X Fosfit 2 1000 Fosfit 3 1000 Fosfit 4 1000 Temizleme Süresi 20 NC NC Polimerik fosfitlerin, yaglayicilarin ve fosfor tuzlarinin kombinasyonu, farkli bir film üretim teknigi kullanilarak eriyik kirilmasini gidermedeki etkinliklerini göstermek için laboratuvar ölçekli bir üflemeli film hatti kullanilarak degerlendirilmistir. Formülasyonlar 26 mm es- dönüslü çift vidali ekstrüder kullanilarak birlestirilmistir. Üflemeli film, 2 inçlik bir üflemeli film kalibina bagli 180C ve BORPM'de 3%" tek vidali bir ekstrüder kullanilarak 1MI LLDPE ekstrüde edilerek üretilmistir. Dynamar 5920 kontrol formülasyonu olarak kullanilmis ve erime çatlagini 25 dakikada temizlemistir. Fosfor tuzlari, polimerik fosfit ve PEG'in çesitli kombinasyonlari degerlendirilmis ve hepsi eriyik kirigini esit veya daha düsük bir sürede temizlemistir. Bilesen 1MILLDPE X X X X X Dinamar 5920 1000 Ilave formülasyonlar, örnek 3 ile ayni üflemeli film ekstrüzyon düzenegi kulIaniIarak degerlendirilmistir. Katki maddelerini dogrudan reçineye karistirmak yerine, katki maddelerinin kati olarak yüklenebilmesi için önce LLDPE 'de katki maddesi konsantreleri üretildi. Katki maddeleri, konsantreleri olusturmak için 26 mm'lik bir ekstrüderde asagidaki konsantrasyonlarda reçineye karistirilmistir. Konsantre formülasyonlar 200C eriyik sicakliginda, 160rpms'de, nitrojen aItinda birlestirilmistir. Konsantrasyon Bilesen 1MILLDPE X X X X X X X X PE83350 %1 Konsantre peletler daha sonra üflemeli film hatti ekstrüderindeki 1 MI reçineye birakildi, böylece nihai konsantrasyon asagidaki tablodaki seviyede oldu. Tüm formülasyonlar, saf katki maddelerinin dogrudan reçineye karistirildigi duruma benzer sekilde iyi bir eriyik kirilma performansi göstermistir. Bilesen 1MI LLDPE X X X X X X X X PEG 3350, örnek 3 ile ayni ekstrüzyon düzenegi kulIaniIarak 0,85 MI Ziegler Natta katalizli bir LLDPE formülasyonunda fosfor tuzIari ve polimerik fosfit 2 ile birlikte kullanilmistir. Bu formülasyonlar yaklasik 180C'lik bir eriyik sicakliginda ve 80 RPM'de islenmistir. Polimerik fosfit, PEG 3350 ve fosfor tuzu seviyeleri, bunlarin farkli kullanim seviyeleri ve oranlarinda birlikte kullanilabilecegini göstermek için degistirilmistir. Sadece polimerik fosfit yaglayici içeren bir formülasyon, bu katki maddesinin kendi basina çalismadigini ve diger bilesenlerden en az birinin mevcut olmasi gerektigini göstermek için çalistirilmistir. Sonuçlar, florlu isleme yardimcisi Dynamar 5920 kullanilan bir kontrol formülasyonu ile karsiIastiriImistir. Dynamar 5920 isleme yardimcisi içeren formülasyon 18 dakikalik ekstrüzyondan sonra eriyik kiriImasini gidermistir. Bir polimerik fostit, bir PEG 3350MW yagIayici ve birfosfor tuzu içeren 3 formülasyon, benzer performans göstererek 15 dakika - 24 dakika arasinda eriyik kirigini temizlemistir. Sadece polimerik fosfit içeren formülasyon, 30 dakikalik ekstrüzyondan sonra eriyik kirilmasinda herhangi bir açiklik göstermemistir. Bilesen 0,85 MI LLDPE X X X X X X X X Dinamar 5920 2000 Temizleme süresi (dak) 18 NC 22 Ortalama molekül agirligi 4000 olan bir polikaprolakton, bir fosfor tuzu ile birlikte 1MI metalosen reçinesinde yaglayici olarak degerlendirilmistir. Üflemeli film, örnek 3'te açiklanan ayni laboratuvar film ekstrüderinde üretilmistir. Film yaklasik 180C ve 60rpms'de islenmistir. Polikaprolakton tek basina ve bir polimerik fosfit ve bir fosfor tuzu ile birlikte degerlendirilmistir. Polikaprolakton kontrol formülasyonu 30 dakika sonra eriyik kirigini temizlememis, diger iki formülasyon ise 10-15 dakika içinde temizlemistir. Ticari bir bilestiricide %8 polimerik fosfit, %1 fosfor tuzu ve %4 PEG içeren bir konsantre üretilmistir. Bu konsantre, katki maddelerinin bir konsantreden yüklenmesinin etkinligini Bilesen 1MI LLDPE X X X Fosfit 2 2000 2000 Temizleme Süresi N/A 10 15 degerlendirmek için %2 seviyesinde 1 MI metalosen reçineye birakilmistir. Bu, sivi katki maddelerinin normalde kullanilamadigi ekstrüderlerde bu katki maddelerinin kullanilmasina olanak tanir. Üflemeli film, örnek 3 ile ayni düzenekte üretilmistir. Film yaklasik 200C ve 80rpms'de islenmistir. Konsantre yoluyla yüklenen katki maddeleri 20 dakika içinde eriyik kirilmasini temizleyerek bu yöntemle yüklendiklerinde etkili olmaya devam ettiklerini göstermistir. TR TR TR TR

Claims (11)

ISTEMLER

1. Asagidaki adimlari içeren bir prosesle üretilen bir ekstrüde film olup, özelligi: bilesik olusturma yoluyla bilesik bir bilesimin üretilmesi: bir poliolefin; bir birinci bilesen olarak: bir polietilen glikol, bir polietilen glikol mono-ester, bir polietilen glikol di-ester, bir polikaprolakton, bir polipropilen glikol, bir polipropilen glikol mono-ester, bir polipropilen glikol di-ester, bir polietilen- glikol polipropilen-glikol kopolimeri, bir polietilen glikol ve polipropilen glikol kopolimerinden hazirlanan bir ester, bir polietilen-glikol polikaprolakton kopolimeri veya bir polipropilen-glikol polikaprolakton kopolimeri; asagidaki iki yapidan birine sahip fosfor içeren bir bilesik olan ikinci bir bilesen: R1O '3-0 0 P O OR4 X1 OR5 her bir R1, R2, R3, R4 ve R5 bagimsiz olarak seçilir ve bir C10-C18 alkil n, 3 ile 11 arasinda degisen bir tam sayidir; ve X1 +X2 toplami 1-251 arasinda degisen birtamsayidir, R1o P 0 p-R3 her bir R1, R2, R3 ve R4 bagimsiz olarak seçilir ve bir C10-C18 alkil parçasidir; m, 3 ile 11 arasinda degisen bir tam sayidir; ve X, 1 ile 122 arasinda degisen bir tam sayidir; ve tuz olan üçüncü bir bilesen; burada bilesik bilesim flor içeren bir bilesik içermez; ve Bilesik bilesimi kullanarak ekstrüde bir film üretilmesi, Burada film, ayni prosesle ve baska bir sekilde ayni olan ancak birinci, ikinci veya üçüncü bileseni içermeyen bir bilesimle üretilen bir filme göre daha az erime kirilmasina sahiptir.

2. Istem 1'e uygun ekstrüde filmi olup, özelligi; polietilen glikolün asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir; polietilen glikol mono-esterin asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve R, C1'C28 doymus veya doymamis bir grubudur polietilen glikol di-esterin asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve her bir R bagimsiz olarak seçilir ve bir Ci-Czs doymus veya doymamis polikaprolakton asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir; polipropilen glikolün asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir; polipropilen glikol mono-esterin asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve R, C1-C28 doymus veya doymamis bir grubudur ; ve polipropilen glikol di-esterin asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve her bir R bagimsiz olarak seçilir ve bir Ci-Czs doymus veya doymamis polietilen-glikol polipropilen-glikol kopolimerin asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m 1-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve X, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir; polietilen glikol ve poIipropiIen glikol kopolimerinden hazirlanan esterin asagidaki iki yapidan birine sahip olmasi: RFOWOHVOlsH 5 n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve R, C1-C28 doymus veya doymamis bir grubudur RFOGVOI/b/OwR n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, 10 veya m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, 15 X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve her bir R bagimsiz olarak bir Ci-Czs doymus veya doymamis gruptan seçilir polietilen-glikol polikaprolakton kopolimeri asagidaki üç yapidan birine sahip olmasi: n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, 5 X, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir; 10 n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve R, C1'C28 doymus veya doymamis bir grubudur 15 Veya n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve her bir R bagimsiz olarak bir Ci-Czs doymus veya doymamis gruptan seçilir; polipropilen-glikol polikaprolakton kopolimeri asagidaki üç yapidan birine sahip olmasi: n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve R, C1-C28 doymus veya doymamis bir grubudur n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, 5 m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve her bir R bagimsiz olarak bir Ci-C2s doymus veya doymamis gruptan seçilir.

3. Istem 1'e uygun bir ekstrüde film olup, özelligi; tuzun asagidaki yapilardan birine 10 sahip olmasidir: burada her bir R bagimsiz olarak seçilir ve a'dir: Ci-C20 alkil grubu, Ci-C20 alkil grubu veya hidrojen atomu; ve 15 i. lityum, sodyum veya potasyum olan bir alkali katyon, ii. magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak alkali katyon, iii. çinko veya bakir veya iv. bir amin veya amid katyonu; ve Burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya üçüncül bir amin veya amiddir, 5 Veya R1. O P' Burada her bir R1 bagimsiz olarak seçilir ve a'dir: C1-C20 alkil grubu, Ci-C20 10 ester grubu, C2-C30 etoksillenmis alkil grubu, C2-C30 etoksillenmis aril grubu, C2. C30 alkanoI amin grubu, doymus mono-gliserit grubu, mono-doymamis mono- gliserit grubu, çoklu doymamis mono-gliserit grubu, doymus di-gliserit grubu, mono-doymamis di-gliserit, çoklu doymamis di-gliserit grubu veya bir hidrojen atomu; ve 15 burada 8 i. Iityum, sodyum veya potasyum olan bir aIkaIi katyon, ii. magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak aIkaIi katyon, iii. çinko veya bakir veya iv. bir amin veya amid katyonu; ve Burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya üçüncül bir amin veya amiddir, 5 veya WWVOWO/VOwO/VOîB-OH 10 veya WMA/OwoA/OWONOWD o- R1`O ii 9/0”R1 R1/ s 0 R1 burada her bir R1 bagimsiz olarak seçilir ve a'dir: C1-C20 alkil grubu, Ci-C20 ester grubu, C2-C30 etoksillenmis alkil grubu, C2-C30 etoksillenmis aril grubu, C2. C30 alkanol amin grubu, doymus mono-gliserit grubu, mono-doymamis mono- gliserit grubu, çoklu doymamis mono-gliserit grubu, doymus di-gliserit grubu, mono-doymamis di-gliserit, çoklu doymamis di-gliserit grubu veya bir hidrojen atomu; ve i. magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak alkali katyon, ii. çinko veya bakir veya iii. bir amin veya amid katyonu; ve Burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya üçüncül bir amin veya amiddir, grubu, C2-C30 etoksillenmis aril grubu, C2-C30 alkanol amin grubu, doymus mono- gliserit grubu, mono-doymamis mono-gliserit grubu, çoklu doymamis mono- gliserit grubu, doymus di-gliserit grubu, mono-doymamis di-gliserit, çoklu doymamis di-gliserit grubu veya bir hidrojen atomu; ve i. lityum, sodyum veya potasyum olan bir alkali katyon, ii. magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak alkali katyon, iii. çinko veya bakir veya iv. bir amin veya amid katyonu; ve burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya üçüncül 5 bir amin veya amiddir, ii/O- WANJr 9/0_ g 10 HO , R1` o R1.O 9 HI \Oî.gf,.O/- H 15 burada her bir R1 bagimsiz olarak seçilir ve a'dir: C1-C20 alkil grubu, C1-C20 ester grubu, C2-C30 etoksillenmis alkil grubu, C2-C30 etoksillenmis aril grubu, C2. C30 alkanol amin grubu, doymus mono-gliserit grubu, mono-doymamis mono- gliserit grubu, çoklu doymamis mono-gliserit grubu, doymus di-gliserit grubu, mono-doymamis di-gliserit, çoklu doymamis di-gliserit grubu veya bir hidrojen atomu; ve i. magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak alkali katyon, ii. çinko veya bakir veya iii. bir amin veya amid katyonu; ve Burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya üçüncül bir amin veya amiddir, Burada R1 a'dir: C1-C20 alkil grubu, C1-C20 alkilen grubu, Cs-C20 sikloakil grubu, grubu, C2-C30 etoksillenmis aril grubu, C2-C30 alkanol amin grubu, doymus mono- gliserit grubu, mono-doymamis mono-gliserit grubu, çoklu doymamis mono- gliserit grubu, doymus di-gliserit grubu, mono-doymamis di-gliserit, çoklu doymamis di-gliserit grubu veya bir hidrojen atomu, Burada R2 ya R1 ile aynidir ya da bir hidrojen atomudur; ve i. magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak alkali katyon, ii. çinko veya bakir veya iii. bir amin veya amid katyonu; ve Burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya R1- If- OT._SZ..+. OZIID-R1 Burada her bir R1 bagimsiz olarak seçilir ve a'dir: C1-C20 alkil grubu, Ci-C20 ester grubu, C2-C30 etoksillenmis alkil grubu, C2-C30 etoksillenmis aril grubu, C2. C30 alkanol amin grubu, doymus mono-gliserit grubu, mono-doymamis mono- gliserit grubu, çoklu doymamis mono-gliserit grubu, doymus di-gliserit grubu, mono-doymamis di-gliserit, çoklu doymamis di-gliserit grubu veya bir hidrojen atomu ve i. Iityum, sodyum veya potasyum olan bir alkali katyon, ii. magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak alkali katyon, iii. çinko veya bakir veya iv. bir amin veya amid katyonu; ve Burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya Burada R3 a'dir: doymus mono-gliserit grubu, mono-doymamis mono- gliserit grubu, çoklu-doymamis mono-gliserit grubu, doymus di-gliserit grubu, mono-doymamis di-gliserit grubu, çoklu-doymamis di-gliserit grubu, C1-C20 alkil parçasi, C1-20 alkil grubu, C6-C20 sikloakil grubu, bir C3-C20 ester grubu veya bir hidrojen atomu ve Burada her bir R4 bagimsiz olarak seçilir ve bir C1-C20 alkil grubu veya bir hidrojen atomudur, WD DYO _lipl_ O/\/NHg Rg-O'iî_O_R5S Burada R3, a'dir: doymus mono-gliserit grubu, mono-doymamis mono- gliserit grubu, çoklu-doymamis mono-gliserit grubu, doymus di-gliserit grubu, mono-doymamis di-gliserit grubu, çoklu-doymamis di-gliserit grubu, C1-C20 alkil grubu, C1-20 alkil grubu, C6-C20 sikloakil grubu, bir C3-C20 ester grubu veya bir hidrojen atomu, Burada R5 bir: inositol grubu, seker alkol grubu, seker grubu, sakkarit grubu veya bir polisakkarit grubudur ve i. Iityum, sodyum veya potasyum olan bir alkali katyon, ii. magnezyum veya kalsiyum olan bir toprak alkali katyon, iii. çinko veya bakir veya iv. bir amin veya amid katyonu; ve burada 8 bir amin veya amid katyonu oldugunda, birincil, ikincil veya üçüncül bir amin veya amiddir, WWL /Y\ _III_ En?`

4. Istem 3'e uygun ekstrüde filmi olup, özelligi; tuzun ayrismis veya ilgili asit ve baz formunda olmasidir.

5. Istem 1'e uygun ekstrüde filmi olup, özelligi; birinci bilesenin bilesik bilesimde milyonda 250-3000 parça arasinda degisen bir miktarda bulunmasidir, ikinci bilesenin bilesik bilesimde milyonda 250-3000 parça arasinda degisen bir miktarda bulunmasi ve üçüncü bilesen, bilesik bilesimde milyonda 1-1000 parça arasinda degisen bir miktarda bulunmasidir.

6. Istem 1'e uygun ekstrüde filmi olup, özelligi; birinci bilesenin bilesik bilesimde milyonda 400-1200 parça arasinda degisen bir miktarda bulunmasidir, ikinci bilesenin bilesik bilesimde milyonda 1200-2000 parça arasinda degisen bir miktarda bulunmasi ve üçüncü bilesen, bilesik bilesimde milyonda 1-400 parça arasinda degisen bir miktarda bulunmasidir.

7. Asagidaki adimlari içeren bir prosesle üretilen bir ekstrüde film olup, özelligi: bilesik olusturma yoluyla bilesik bir bilesimin üretilmesi: bir poliolefin; bir birinci bilesen olarak: bir polietilen glikol, bir polietilen glikol mono-ester, bir polietilen glikol di-ester, bir polikaprolakton, bir polipropilen glikol, bir polipropilen glikol mono-ester, bir polipropilen glikol di-ester, bir polietilen- glikol polipropilen-glikol kopolimeri, bir polietilen glikol ve polipropilen glikol kopolimerinden hazirlanan bir ester, bir polietilen-glikol polikaprolakton kopolimeri veya bir polipropilen-glikol polikaprolakton kopolimeri; asagidaki iki yapidan birine sahip fosfor içeren bir bilesik olan ikinci bir bilesen: R10 P-O 0 P 0 0R4 X1 OR5 her bir R1, R2, R3, R4 ve R5 bagimsiz olarak seçilir ve bir C10-C18 alkil n, 3 ile 11 arasinda degisen bir tam sayidir; ve X1 +X2 toplami 1-251 arasinda degisen birtamsayidir, R1o P o ,CD-R3 her bir R1, R2, R3 ve R4 bagimsiz olarak seçilir ve bir Cio-C18 alkil grubudur; m, 3 ile 11 arasinda degisen bir tam sayidir; ve X, 1 ile 122 arasinda degisen bir tam sayidir; ve asit ve baz olan üçüncü bir bilesen; burada bilesik bilesim flor içeren bir bilesik içermez; ve Bilesik bilesimi kullanarak ekstrüde bir film üretilmesi, Burada film, ayni prosesle ve baska bir sekilde ayni olan ancak birinci, ikinci veya üçüncü bileseni içermeyen bir bilesimle üretilen bir filme göre daha az erime kirilmasina sahip olmasidir.

8. Istem 7'e uygun bir ekstrüde filmi olup, özelligi; polietilen glikol asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir; polietilen glikol mono-ester asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve R, C1'C28 doymus veya doymamis bir grubudur. polietilen glikol di-ester asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve her bir R bagimsiz olarak seçilir ve bir Ci-Czs doymus veya doymamis polikaprolakton asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir; polipropilen glikol asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir; polipropilen glikol mono-ester asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve R, C1-C28 doymus veya doymamis bir grubudur; ve polipropilen glikol di-ester asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 3-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve her bir R bagimsiz olarak seçilir ve bir Ci-Czs doymus veya doymamis polietilen-glikol polipropilen-glikol kopolimeri asagidaki yapiya sahip olmasi: n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m 1-500 arasinda degisen bir tam sayidir ve X, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir; polietilen glikol ve polipropilen glikol kopolimerinden hazirlanan ester asagidaki iki yapidan birine sahip olmasir: RFOWOI/b/Olsm n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve R, C1-C28 doymus veya doymamis bir grubudur RYOWOJ/b/Olssg? n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve her bir R bagimsiz olarak bir C1-C28 doymus veya doymamis grubundan seçilir polietilen-glikol polikaprolakton kopolimeri asagidaki üç yapidan birine sahiptir: n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir; n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, 5 m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve R, C1-C28 doymus veya doymamis bir grubudur Xburada n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve 15 her bir R bagimsiz olarak bir C1-C28 doymus veya doymamis grubundan seçilir; polipropilen-glikol polikaprolakton kopolimeri asagidaki üç yapidan birine sahiptir: n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve R, C1'C28 doymus veya doymamis bir kisimdir. n, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, m, 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir, X 1-500 arasinda degisen bir tamsayidir ve her bir R bagimsiz olarak bir C1-C28 doymus veya doymamis grubundan seçilir.

9. Istem 7'ye uygun ekstrüde film olup, özelligi; asitin asagidaki yapilardan birine sahip olmasidir: C6-20 alkillaril grubu, bir C3-20 amid grubu, bir C3-C20 ester grubu, bir etoksillenmis alkil grubu, bir etoksillenmis aril grubu, bir alkanol amin grubu, bir mono-gliserit grubu, bir di-gliserit grubu veya bir hidrojen atomu, her bir R bagimsiz olarak seçilir ve bir C1-20 alkil grubu, C1-20 alkil grubu, C6- 20 sikloakil grubu, Ce-20 aril grubu, %20 alkillaril grubu, bir C3-20 amid grubu, bir C3-C20 ester grubu, bir etoksillenmis alkil grubu, bir etoksillenmis aril grubu, bir alkanol amin grubu, bir mono-gliserit grubu, bir di-gliserit grubu veya bir hidrojen atomu; ve baz bir toprak alkali katyonu, bir alkali katyonu, bir amin katyonu, bir primer amin katyonu, sekonder amin katyonu veya tersiyer amin katyonu, bir alkanol amin katyonu, etanolamin katyonu, dietanolamin katyonu, trietanolamin katyonu, izopropanol amin katyonu, di-izopropanol amin katyonu ve tri-izopropanol amin 5 katyonudur.

10.Istem 7'ye uygun ekstrüde film olup, özelligi; birinci bilesenin bilesik bilesimde milyonda 250-3000 parça arasinda degisen bir miktarda bulunmasidir, ikinci bilesenin bilesik bilesimde milyonda 250-3000 parça arasinda degisen bir 10 miktarda bulunmasi ve üçüncü bilesen, bilesik bilesimde milyonda 1-1000 parça arasinda degisen bir miktarda bulunmasidir.

11.Istem 7'ye uygun ekstrüde film olup, özelligi; birinci bilesenin bilesik bilesimde 15 milyonda 400-1200 parça arasinda degisen bir miktarda bulunmasidir, ikinci bilesenin bilesik bilesimde milyonda 1200-2000 parça arasinda degisen bir miktarda bulunmasi ve üçüncü bilesen, bilesik bilesimde milyonda 1-400 parça arasinda degisen bir miktarda bulunmasidir.12.Asagidaki adimlari içeren bir prosesle üretilen bir ekstrüde film olup, özelligi: bilesik olusturma yoluyla bilesik bir bilesimin üretilmesi: dogrusal düsük yogunluklu polietilen; polietilen glikol olan bir birinci bilesen; 25 asagidaki yapiya sahip fosfor içeren bir bilesik olan ikinci bir bilesen: R1O P-O 0 P 0 OR4 X1 OR5 her bir R1, R2, R3, R4 ve R5 bagimsiz olarak seçilir ve bir Cio-Cis alkil n, 3 ile 11 arasinda degisen bir tam sayidir; ve 5 X1 +X2 toplami 1-251 arasinda degisen birtam sayidir; ve asagidaki yapiya sahip fosfor içeren bir tuz bilesigi olan üçüncü bir bilesen: HO ro Caz+ burada bilesik bilesim flor içeren bir bilesik içermez; ve Bilesik bilesimi kullanarak ekstrüde bir film üretilmesi, 10 Burada film, ayni prosesle ve baska bir sekilde ayni olan ancak birinci, ikinci veya üçüncü bileseni içermeyen bir bilesimle üretilen bir filme göre daha az erime kirilmasina sahip olmasidir.