TW201344380A - 曝光微影裝置以及曝光微影方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種曝光微影裝置以及曝光微影方法，可防止因被曝光基板的端部翹曲或浮起等而引起的表背的位置對準用標記的品質降低。曝光微影裝置包括：平台，載置被曝光基板；固定部，自預定的第1位置向第2位置移動，在第2位置將載置於平台的被曝光基板的端部夾持並固定於上述固定部與上述平台之間；微影部，在端部被固定的狀態下對被曝光基板的第1面進行曝光，藉此將預定的電路圖案微影於上述第1面上；形成部，與固定部的移動聯動地移動，在藉由上述固定部而使端部固定的狀態下，在被曝光基板的與第1面相對向的第2面形成預定的標記。

Description

曝光微影裝置以及曝光微影方法

本發明是有關於一種曝光微影裝置以及曝光微影方法。本發明特別是有關於一種對基板微影圖像的曝光微影裝置以及曝光微影方法。

近年來，關於將平面基板作為被曝光基板而形成電路圖案的曝光微影裝置，開發出一種不使用轉印遮罩而直接將微影光照射至基板來微影電路圖案的曝光微影裝置。然而，在對要求高解析度的基板微影電路圖案的情況下，存在如下情形：孔加工中所附著的灰塵及移動過程中附著於孔的灰塵等會掉落至其他基板上，或因抗蝕劑(resist)塗佈等的加工的加熱而引起孔周邊變形。該情況下，微影於基板的一面(以下，亦稱作「第1面」)的電路圖案與微影於與上述一面相對向的另一面(以下，亦稱作「第2面」)的電路圖案的相對位置發生偏移。

作為解決該問題的技術，而提出有將電路圖案的微影所需的對準用的標記微影在被曝光基板的第1面及第2面的曝光微 影裝置。關於該曝光微影裝置的技術，在日本專利特開2008-292915號公報中，揭示了如下的曝光微影裝置：對被曝光基板的第1面及第2面分別微影第1對準用的標記及第2對準用的標記，並根據第1對準用的標記及第2對準用的標記，將電路圖案微影於基板的第1面及第2面。

而且，美國專利6,701,197 B2號說明書中，揭示了如下的曝光微影裝置：使用與平台處於已知的位置關係的被固定的紫外線光源，與被曝光基板的第1面的曝光同時地在第2面形成對準用的標記。

然而，上述美國專利6,701,197 B2號說明書中所揭示的曝光微影裝置中，紫外線光源已被固定。因此，不會發生因紫外線光源的工作槽而被曝光基板自平台浮起等的現象。然而，當載置於平台的被曝光基板未被確實地固定於端部時，有基板發生翹曲或自平台浮起的可能性。該情況下，有第2面的標記形狀變得不穩定的可能性。

本發明提供曝光微影裝置以及曝光微影方法，可防止由被曝光基板的端部的翹曲或浮起等而引起的表背的位置對準用的標記的品質的降低。

本發明的第1實施方式為一種曝光微影裝置，包括：平 台，載置被曝光基板；固定部，自預定的第1位置向第2位置移動，於第2位置，將載置於平台的被曝光基板的端部夾持並固定於上述固定部與該平台之間；以及微影部，在藉由固定部而使端部固定的狀態下，對被曝光基板的第1面進行曝光，藉此將預定的電路圖案微影於該第1面上；以及形成部，與固定部的移動聯動地移動，在藉由該固定部而使端部固定的狀態下，在被曝光基板的與第1面相對向的第2面上形成預定的標記。

根據本發明的第1實施方式的曝光微影裝置，藉由平台載置被曝光基板，藉由自預定的第1位置向第2位置移動的固定部，於第2位置將載置於平台的被曝光基板的端部夾持並固定於上述固定部與該平台之間。

此處，本發明的第1實施方式中，在藉由固定部而端部固定的狀態下對被曝光基板的第1面進行曝光，藉此利用微影部將預定的電路圖案微影於該第1面。進而，藉由與固定部的移動聯動地移動的形成部，在藉由該固定部而端部固定的狀態下的被曝光基板的與第1面相對向的第2面形成預定的標記。

亦即，本發明的第1實施方式中，在被曝光基板載置於平台，且被曝光基板的端部藉由固定部而固定的狀態下，在被曝光基板的第1面已微影出電路圖案，另一方面，在被曝光基板的第2面形成著標記。而且，本發明的第1實施方式中，當在第2面上微影電路圖案時，藉由形成於該第2面的標記來調整微影位置，藉此進行被曝光基板的表背的位置對準。

如此，根據本發明的第1實施方式的曝光微影裝置，可在被曝光基板的端部藉由固定部而固定的狀態下，在被曝光基板的第2面形成位置對準用的標記。結果，本發明的第1實施方式中，可防止由被曝光基板的端部的翹曲或浮起等引起的表背(第1面及第2面)的位置對準用的標記的品質的降低。

另外，本發明的第2實施方式在上述第1實施方式中，可更包括對形成部的位置進行測量的位置測量部。藉此，本發明的第2實施方式中，可使用所測量的形成部的位置來調整對第2面微影電路圖案的位置。

而且，本發明的第3實施方式在上述第2實施方式中，可在平台形成貫通孔，且由夾板構成固定部，上述夾板通過貫通孔而向基板載置側突出，且將被曝光基板固定。藉此，本發明的第3實施方式可將被曝光基板牢固地固定於平台。

而且，本發明的第4實施方式在上述第3實施方式中，形成部可通過貫通孔而在被曝光基板的第2面形成標記。藉此，本發明的第4實施方式中，無須在平台設置新的貫通孔，便可在被曝光基板的第2面形成標記。

而且，本發明的第5實施方式在上述第4實施方式中，形成部可具有出射紫外線光束的光源，使自該光源出射的紫外線光束通過貫通孔而照射至被曝光基板的第2面，藉此形成標記。藉此，本發明的第5實施方式中，可在被曝光基板的第2面高精度地形成標記。

而且，本發明的第6實施方式在上述第2實施方式至第5實施方式中，位置測量部可在各個形成部具有基準部，其中該基準部與形成部的移動聯動地移動，並作為形成部的位置的基準，且該基準部設置於如下位置，即，在平台上載置著被曝光基板的狀態下露出於該被曝光基板的外部的位置。藉此，本發明的第6實施方式可簡單地測量形成部的位置。

而且，本發明的第7實施方式在上述第6實施方式中，基準部可經由貫通孔而露出在外部。藉此，本發明的第7實施方式無須在平台設置新的貫通孔，便可測量形成部的位置。

而且，本發明的第8實施方式在上述第6實施方式或第5實施方式中，可更包括：記憶機構，記憶相對應的各個形成部及基準部的位置關係；測量機構，對基準部的位置進行測量；以及導出機構，根據藉由測量機構測量的基準部的位置與記憶於記憶機構的位置關係而導出形成部的位置。藉此，本發明的第8實施方式可簡單地測量形成部的位置。

而且，本發明的第9實施方式在上述第8實施方式中，基準部可為多個位置識別用標記，記憶機構分別記憶多個位置識別用標記的每一者與形成部的位置關係，測量機構與被微影電路圖案的位置處於已知的關係，並對多個位置識別用標記的每一者的位置進行測量，導出機構根據由測量機構測量的各個位置識別用標記的位置與記憶於記憶機構的位置關係而導出形成部的位置。藉此，本發明的第9實施方式可更簡單地測量形成部的位置。

而且，本發明的第10實施方式在上述第9實施方式中，平台可沿規定方向來回移動，在各個露出部，將多個位置識別用標記的每一者以在相對於平台的來回移動方向交叉的方向上並列的方式而設置。藉此，本發明的第10實施方式可在相同的時機(timing)測量多個位置識別用標記。

而且，本發明的第11實施方式在上述實施方式中，形成部可設置為相對於平台而在預定的範圍內可移動。藉此，本發明的第11實施方式可在與被曝光基板的尺寸相應的適當位置形成標記。

而且，本發明的第12實施方式在上述第6實施方式或第5實施方式中，可在平台上設置另一固定部，該另一固定部自第1面或者第2面的方向固定被曝光基板。藉此，本發明的第12實施方式中，可進而防止由被曝光基板的端部的翹曲或浮起等引起的表背的位置對準用的標記的品質的降低。

而且，本發明的第13實施方式在上述第12實施方式中，另一固定部可藉由自第1面或者第2面的方向吸附被曝光基板而固定於平台。藉此，本發明的第13實施方式中，可進而防止由被曝光基板的端部的翹曲或浮起等引起的表背的位置對準用的標記的品質的降低。

本發明的第14實施方式為一種曝光微影方法，是曝光微影裝置的曝光微影方法，包括：平台，載置被曝光基板；固定部，自預定的第1位置向第2位置移動，將載置於平台的被曝光 基板的端部夾持並固定於上述固定部與該平台之間；微影部，在藉由固定部而使端部固定的狀態下，對被曝光基板的第1面進行曝光，藉此將預定的電路圖案微影於該第1面上；形成部，與固定部的移動聯動地移動，在藉由該固定部而使端部固定的狀態下，在被曝光基板的與第1面相對向的第2面形成預定的標記；以及作為形成部的位置的基準的基準部，與形成部的移動聯動地移動；上述曝光微影方法包括：記憶步驟，記憶相對應的各個形成部及基準部的位置關係；位置測量步驟，對基準部的位置進行測量；以及導出步驟，根據測量步驟中測量的基準部的位置與記憶步驟中記憶的位置關係而導出形成部的位置。

根據該本發明的第14實施方式的曝光微影方法，與本發明的第1實施方式的曝光微影裝置同樣地發揮作用，因而與本發明的第1實施方式同樣地，可防止由被曝光基板的端部的翹曲或浮起等引起的表背(第1面及第2面)的位置對準用的標記的品質的降低。

根據本發明的上述實施方式，可防止由被曝光基板的端部的翹曲或浮起等引起的表背的位置對準用的標記的品質的降低。

1‧‧‧曝光微影系統

2‧‧‧第1曝光微影裝置

3‧‧‧反轉裝置

3a‧‧‧滾輪

3b‧‧‧滾輪單元

3c‧‧‧支持棒

3d‧‧‧旋轉軸

4‧‧‧第2曝光微影裝置

5‧‧‧第1搬送部

6‧‧‧第2搬送部

7‧‧‧第3搬送部

8‧‧‧第4搬送部

10‧‧‧平台

11‧‧‧基體

12‧‧‧基台

13‧‧‧移動機構部

14‧‧‧導軌

15、22‧‧‧閘極

16‧‧‧曝光部

16a‧‧‧曝光頭

17‧‧‧光源單元

18‧‧‧光纖

19‧‧‧圖像處理單元

20‧‧‧信號電纜

23‧‧‧攝影部

30‧‧‧基板夾緊機構部

31a~31d‧‧‧夾桿

32a~32d‧‧‧移動單元

33‧‧‧夾持器

34‧‧‧夾刀

35‧‧‧支持柱

37‧‧‧插通孔

40‧‧‧支持板

41‧‧‧空氣氣缸

42‧‧‧活塞桿

44‧‧‧驅動滑輪

45‧‧‧從動滑輪

46‧‧‧正時皮帶

47、75‧‧‧皮帶驅動馬達

48‧‧‧安裝部

49‧‧‧光感測器(基板端緣感測器)

50‧‧‧傾斜面

51‧‧‧紫外線光源

52‧‧‧位置測量構件

52a‧‧‧位置識別用標記

62‧‧‧AC掌

63‧‧‧吸附部

64‧‧‧擠壓部

70‧‧‧系統控制部

71‧‧‧平台驅動部

72‧‧‧基板載置位置決定部

73‧‧‧操作裝置

74‧‧‧移動控制部

C‧‧‧被曝光基板

C1‧‧‧被曝光基板C的第1面

C2‧‧‧被曝光基板C的第2面

L1‧‧‧距離

M‧‧‧對準用的標記

P1‧‧‧表面用圖像

P2‧‧‧背面用圖像

S101~S105、S201~S209、S301~S311‧‧‧步驟

UV‧‧‧紫外線

X、Y、Z、θ‧‧‧方向

圖1是表示本發明的例示性實施形態的曝光微影系統的整體 構成的構成圖。

圖2是表示本發明的例示性實施形態的曝光微影系統的功能的方塊圖。

圖3A是表示對本發明的例示性實施形態的曝光微影系統的被曝光基板的表面進行曝光的情況下的該表面的一例的正視圖。

圖3B是表示對本發明的例示性實施形態的被曝光基板的背面進行曝光的情況下的該背面的一例的正視圖。

圖4是表示本發明的例示性實施形態的第1曝光微影裝置及第2曝光微影裝置的構成的立體圖。

圖5是本發明的例示性實施形態的第1曝光微影裝置及第2曝光微影裝置的基板夾緊機構部的分解立體圖。

圖6是用以說明本發明的例示性實施形態的第1曝光微影裝置及第2曝光微影裝置的光感測器的功能的放大剖面圖。

圖7A是用以說明本發明的例示性實施形態的第1曝光微影裝置及第2曝光微影裝置的位置測量構件的主要部分放大剖面圖。

圖7B是用以說明本發明的例示性實施形態的第1曝光微影裝置及第2曝光微影裝置的位置測量構件的主要部分放大俯視圖。

圖8是表示本發明的例示性實施形態的曝光微影系統的反轉裝置的反轉機構的構成的示意側正視圖。

圖9是表示本發明的例示性實施形態的第1曝光微影裝置及第2曝光微影裝置的電氣系統的構成圖。

圖10是表示本發明的例示性實施形態的曝光微影系統中平 台的移動方向與攝影部的移動方向的關係的圖。

圖11是表示本發明的例示性實施形態的第1曝光微影裝置中載置著被曝光基板的平台的示意正視圖及詳細圖。

圖12是用以說明本發明的例示性實施形態的第1曝光微影裝置中將載置於平台的被曝光基板的端部藉由基板夾緊機構而固定的流程的示意側面圖。

圖13A是表示在現有的曝光微影裝置中載置著被曝光基板的平台的示意正視圖。

圖13B是表示以圖13A的b-b剖面切斷所得的示意剖面圖的圖。

圖14是表示本發明的例示性實施形態的曝光前處理程式的處理流程的流程圖。

圖15是用於說明本發明的例示性實施形態的曝光前處理的示意正視圖。

圖16是表示本發明的例示性實施形態的第1曝光處理程式的處理流程的流程圖。

圖17是用於說明本發明的例示性實施形態的第1曝光處理的示意正視圖。

圖18是表示本發明的例示性實施形態的第2曝光處理程式的處理流程的流程圖。

圖19是用於說明本發明的例示性實施形態的第2曝光處理的示意正視圖。

以下，使用隨附圖式對本例示性實施形態的曝光微影系統進行詳細說明。另外，本例示性實施形態中，作為曝光微影系統1，以如下系統為例進行說明：將印刷配線基板及平板顯示器用玻璃基板等平板基板作為被曝光基板C，對被曝光基板C的第1面(以下，亦稱作「表面」)C1及第2面(以下，亦稱作「背面」)C2的雙方進行曝光微影。

圖1是表示本例示性實施形態的曝光微影系統1的整體構成的構成圖。而且，圖2是表示本例示性實施形態的曝光微影系統1的功能的方塊圖。如圖1及圖2所示，曝光微影系統1包括第1曝光微影裝置2、反轉裝置3、第2曝光微影裝置4、第1搬送部5、第2搬送部6、第3搬送部7、及第4搬送部8。第1曝光微影裝置2在對紫外線光源51的位置進行測量後，對被曝光基板C的表面C1進行曝光，並且在被曝光基板C的背面C2形成對準用的標記M。反轉裝置3將被曝光基板C的表背予以反轉。第2曝光微影裝置4藉由對準用的標記M來調整微影位置且對被曝光基板C的背面C2進行曝光。第1搬送部5將被曝光基板C搬送至第1曝光微影裝置2。第2搬送部6將被曝光基板C自第1曝光微影裝置2搬送至反轉裝置3。第3搬送部7將被曝光基板C自反轉裝置3搬送至第2曝光微影裝置4。第4搬送部8將被曝光基板C自第2曝光微影裝置4搬送。

圖3A是表示對被曝光基板C的表面C1進行曝光的情 況下的該表面C1的一例的正視圖，圖3B是表示對被曝光基板C的背面C2進行曝光的情況下的該背面C2的一例的正視圖。

如圖3A所示，在被曝光基板C的表面C1，藉由第1曝光微影裝置2微影表面用圖像(本例示性實施形態中，為「F」的形狀的圖像)P1。而且，如圖3B所示，在被曝光基板C的背面C2，藉由第2曝光微影裝置4，在與表面C1的已微影出表面用圖像P1的座標系(以下，稱作「圖像座標系」)相對應的圖像座標系中，微影背面用圖像(本例示性實施形態中，為矩形的框形狀的圖像，該矩形的框形狀的圖像包圍與上述表面C1的「F」的形狀的圖像相對應的背面C2的區域)P2。而且，在被曝光基板C的背面C2，在正面觀察為上部中央側及正面觀察為下部中央側，藉由第1曝光微影裝置2微影多個(本例示性實施形態中為2個)對準用的標記M。該對準用的標記M是如下標記，即，用以使分別微影在被曝光基板C的表面C1及背面C2的表面用圖像P1的位置與背面用圖像P2的位置彼此相對應。

本例示性實施形態的曝光微影系統1中，在被曝光基板C的搬送方向的上游側設置著第1曝光微影裝置2。第1曝光微影裝置2在將藉由第1搬送部5搬送的未曝光的被曝光基板C搬入至裝置內時，在被曝光基板C載置於平台10的狀態下對後述紫外線光源51的位置進行測量，並對被曝光基板C的表面C1進行曝光而在表面微影表面用圖像P1，從而在被曝光基板C的背面C2形成對準用的標記M。另外，以後將對紫外線光源51的位置的測 量方法進行敍述。

本例示性實施形態的曝光微影系統1中，對準用的標記M以φ0.5mm至φ1mm程度的圓形而微影。對準用的標記M的大小或形狀並不限定於此，大小只要為不與表面用圖像P1及背面用圖像P2的微影重合的大小即可，形狀可任意地設定為十字型的形狀或矩形型的形狀等。

在第1曝光微影裝置2的被曝光基板C的搬送方向的下游側，設置著將被曝光基板C的表背予以反轉的反轉裝置3。在搬入藉由第1曝光微影裝置2而表面C1曝光且微影有對準用的標記M的被曝光基板C時，為了在下一製程中對被曝光基板C的背面C2進行曝光，而反轉裝置3使被曝光基板C的表背反轉。

在反轉裝置3的被曝光基板C的搬送方向的下游側，設置著對被曝光基板C的背面C2進行曝光的第2曝光微影裝置4。在將藉由反轉裝置3反轉的被曝光基板C搬入至裝置內時，第2曝光微影裝置4對被曝光基板C的背面C2進行曝光而微影背面用圖像P2。此時，第2曝光微影裝置4在使用藉由第1曝光微影裝置2而微影於被曝光基板C的對準用的標記M進行位置對準後，對背面C2進行曝光。

而且，本例示性實施形態的曝光微影系統1包括第1搬送裝置5、第2搬送裝置6、第3搬送裝置7、及第4搬送裝置8。第1搬送裝置5將被曝光基板C搬送至第1曝光微影裝置2為止並搬入至第1曝光微影裝置2。第2搬送裝置6將自第1曝光微影 裝置2排出的被曝光基板C搬送至反轉裝置3為止並搬入至反轉裝置3。第3搬送裝置7將自反轉裝置3排出的被曝光基板C搬送至第2曝光微影裝置4為止並搬送至第2曝光微影裝置4。第4搬送裝置8搬送自第2曝光微影裝置4排出的被曝光基板C。

上述各搬送裝置具有多個旋轉滾輪及使旋轉滾輪旋轉的驅動馬達。旋轉滾輪多根平行地敷設著，在旋轉滾輪的一端安裝著接受藉由皮帶(belt)或金屬絲(wire)傳遞的旋轉力的鏈輪(sprocket)或滑輪。作為傳遞使旋轉滾輪旋轉的驅動馬達的旋轉力的機構，除皮帶或金屬絲以外亦可採用借助於圓筒狀的磁鐵(magnet)的傳遞方法。

另外，本例示性實施形態中，為了提高被曝光基板C的產量(throughput)(單位時間的生產量)，而使用第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置4這2台曝光微影裝置，第1曝光微影裝置2對被曝光基板C的表面C1進行曝光，第2曝光微影裝置4對被曝光基板C的背面C2進行曝光。然而，並不限定於此，亦可使被曝光基板C自表面C1向背面C2反轉而僅利用第1曝光微影裝置2來微影被曝光基板C的兩面。

然後，對第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置4的構成進行說明。

圖4是表示本例示性實施形態的第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置4的構成的立體圖。此處，對第1曝光微影裝置2的構成進行說明，而關於第2曝光微影裝置4的構成，省略 與第1曝光微影裝置2共通的構成的說明，而僅對與第1曝光微影裝置2的差異進行說明。而且，以下，將平台10移動的方向規定為Y方向，將相對於該Y方向在水平面內正交的方向規定為X方向，將與Y方向在鉛垂面正交的方向規定為Z方向，進而將以Z軸為中心的旋轉方向規定為θ方向。

如圖4所示，第1曝光微影裝置2包括用以固定被曝光基板C的平板狀的平台10。在平台10的上表面的載置著被曝光基板C的區域，設置著具有多個抽吸空氣的吸附孔的吸附機構(省略圖示)。該吸附機構在被曝光基板C被固定於平台10的上表面時，藉由自吸附孔10a抽吸被曝光面C及平台10間的空氣，而使被曝光基板C真空吸附於平台10的上表面從而將被曝光基板C吸附保持於平台10。而且，平台10可移動地構成，固定於平台10的被曝光基板C伴隨平台10的移動而使被曝光基板C移動至曝光位置為止，藉由後述的曝光部16照射光束而在第1面C1微影表面用圖像P1。

平台10支持於平板狀的基台12上，該平板狀的基台12可移動地設置在桌狀的基體11的上表面。而且，在基台12與平台10之間設置著具有包含馬達等的移動驅動機構(省略圖示)的移動機構部13。平台10藉由移動機構部13而相對於基台12，以平台10的中央部的垂線為中心軸向θ方向旋轉移動。

在基體11的上表面設置著1根或多根(本例示性實施形態中為2根)導軌14。基台12藉由導軌14而可來回自如移動 地支持著，且藉由包含馬達等的平台驅動部(後述的平台驅動部71)而移動。而且，平台10藉由支持於該可移動的基台12的上表面而沿著導軌14移動。

在基體11的上表面，以跨越導軌14的方式立設著門型的閘極(gate)15，在該閘極15上安裝著曝光部16。曝光部16包含多個(本例示性實施形態中為16個)曝光頭16a、且固定配置於平台10的移動路徑上。在曝光部16上分別連接著自光源單元17抽出的光纖18、及自圖像處理單元19抽出的信號電纜20。

各曝光頭16a具有作為反射型的空間光調變元件的數位微鏡裝置(digital micromirror device，DMD)。各曝光頭16a根據自圖像處理單元19輸入的圖像資料來控制DMD，對來自光源單元17的光束進行調變，並將該光束照射至載置於平台10的被曝光基板C。藉此，藉由第1曝光微影裝置2進行曝光。另外，亦可使用液晶等透過型空間光調變元件來作為空間光調變元件。

在基體11的上表面，進而以跨越導軌14的方式設置著閘極22。在閘極22上安裝著用以對載置於平台10的被曝光基板C進行攝影的1個或多個(本例示性實施形態中為2個)攝像部23。攝影部23為內置1次發光時間極短的頻閃儀(strobo)的電荷耦合器件(Charge Coupled Device，CCD)照相機等。各個攝影部23在水平面內相對於平台10的移動方向(Y方向)垂直的方向(X方向)上可移動地設置著，且為了對後述的位置測量構件52、及微影於被曝光基板C的對準用的標記M進行攝影而設置。 而且，攝影部23的相對於平台10的相對位置根據平台10或者攝影部23的移動來測量，且記憶於系統控制部70所具有的記憶機構中。另外，在對位置測量構件52中的紫外線光源51進行攝影的情況下，在未載置被曝光基板C的狀態下進行攝影。

第1曝光微影裝置2根據藉由攝影部23而對位置測量構件52進行攝影所得的圖像，導出紫外線光源51的被曝光基板C的位置。另外，第2曝光微影裝置4根據藉由攝影部23而對對準用的標記M進行攝影所得的圖像，與第1曝光微影裝置2的紫外線光源51的位置進行比較而檢測其位置偏移量(X方向、Y方向、θ方向的偏移量)。該對準用的標記M的位置偏移量的資訊被用於微影於被曝光基板C的表面C1的表面用圖像P1與微影於背面C2的背面用圖像P2的位置的修正。

另外，理想的是以與位置測量構件52的個數(或者對準用的標記M的個數)相應的個數來設置攝影部23。然而，並不限定於此，亦可設置1個攝影部23，並且藉由使該攝影部23移動而對多個標記形成部52或多個對準用的標記M進行攝影。

而且，在平台10的上表面，設置著用以將被曝光基板C牢固地固定於平台的基板夾緊機構部30。

圖5是本例示性實施形態的第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置4的基板夾緊機構部30的分解立體圖。如圖5所示，基板夾緊機構部30包括一對夾桿(clamp bar)31a、夾桿31b，自上方夾緊被曝光基板C的一方向的兩端部；一對夾桿31c、夾桿 31d，自上方夾緊在被曝光基板C的水平面相對於上述一方向垂直的方向的兩端部；以及移動單元32a~移動單元32d，使該些夾桿31a~夾桿31d分別沿水平方向平行移動。夾桿31a~夾桿31d分別配置於平台10的上表面，移動單元32~移動單元32d配置於平台10的下方。

夾桿31a、夾桿31b在Y方向上為長條狀且在X方向上相對向，夾桿31c、夾桿31d在X方向上為長條狀且在Y方向上相對向。夾桿31a、夾桿31b以如下方式構成：長度形成得比夾桿31b、夾桿31d短，即便在被曝光基板C的尺寸比較小的情況下，亦不會相互干涉。

夾桿31a包括金屬製(例如鋁)的夾持器33(clamp holder)；樹脂製的夾刀34，固定於夾持器33的下表面的內側區域(平台10的中心側區域)，且與被曝光基板C的表面C1接觸；以及2根支持柱35，設置於夾持器33的下表面的外側區域(平台10的外側區域)。在平台10上，以貫通表背方向且自端部朝向中央的方式，在各邊按照規定間隔而形成1個或多個(本例示性實施形態中在各邊形成2個(共計8個))沿Y方向或者X方向延伸的插通孔37，夾桿31a的2根支持柱35插通至各邊的2個插通孔37中。夾桿31b~夾桿31d亦為與夾桿31a相同的構成。

移動單元32a包括對2根支持柱35進行支持的支持板40、及使該支持板40沿Z方向滑動移動的空氣氣缸41。空氣氣缸41的活塞桿42的前端固定於支持板40的下表面。空氣氣缸41 藉由包含馬達等的驅動部而使活塞桿42下降及上升。活塞桿42的可動範圍受到限制，下降時上升時均在規定位置處停止。

當活塞桿42下降時，夾桿31a與活塞桿42一併下降，夾桿31a被擠壓至平台10。此處，在平台10上載置著被曝光基板C的情況下，被曝光基板C藉由夾桿31a而夾緊。另一方面，當活塞桿42上升時，夾桿31a與活塞桿42一併上升，夾桿31a在Z方向上與平台10相隔。夾桿31a與平台10相隔的距離比被曝光基板C的厚度大。

移動單元32a還包括：在X方向上排列的驅動滑輪44及從動滑輪45，架設於該些滑輪44、滑輪45的正時皮帶46(timing belt)，以及使驅動滑輪44旋轉的皮帶驅動馬達47。皮帶驅動馬達47可進行正轉及逆轉。在正時皮帶46上經由安裝部48而安裝著空氣氣缸41，當正時皮帶46驅動時，空氣氣缸41及支持板40在X方向上移動，藉此，夾桿31a在X方向上移動。夾桿31a一邊使支持柱35沿著插通孔37滑動移動，一邊在支持柱35位於插通孔37的外側的端部的退避位置、與支持柱35位於插通孔37的內側的端部的中央位置之間移動。另外，將夾桿31a夾緊被曝光基板C的周緣部時的夾桿31a的位置(退避位置與中央位置之間的任一位置)稱作夾緊位置。

移動單元32b、移動單元32c、移動單元32d為與移動單元32a相同的構成。其中，移動單元32b使夾桿31b在Z方向及X方向上移動，移動單元32c使夾桿31c在Z方向及Y方向上 移動，移動單元32d使夾桿31d在Z方向及Y方向上移動。

圖6是用以說明本例示性實施形態的第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置4的光感測器49的功能的放大剖面圖。如圖5及圖6所示，在移動單元32a的支持板40上設置著用以檢測被曝光基板C的有無的反射型光感測器(基板端緣感測器)49。光感測器49安裝於支持板40上，且設置於與插通孔37相對應的位置，亦即自上方觀察時光感測器49自插通孔37露出的位置。光感測器49包括朝向上方發出檢查光的投光部、及接收反射至被曝光基板C的背面C2的檢查光的受光部，在受光部接收到檢查光的情況下輸出有基板信號，在受光部未接收到檢查光的情況下輸出無基板信號。

夾桿31a的夾刀34位於光感測器49的上方。為了防止來自光感測器49的檢查光反射至夾刀34而朝向光感測器49折回，在夾刀34的與插通孔37相對應的部位形成著傾斜面50。在各移動單元32b、移動單元32c、移動單元32d的支持板40上，亦設置著與移動單元32a相同的光感測器49。

而且，在各個支持板40上設置著位置測量構件52，該位置測量構件52對載置於平台10的被曝光基板C形成對準用的標記M。圖7A是用以說明本例示性實施形態的第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置4的位置測量構件52的主要部分放大剖面圖。圖7B是用以說明本例示性實施形態的第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置4的位置測量構件52的主要部分放大俯視圖。 另外，圖7B中為了說明紫外線光源51的構成而省略被曝光基板C。

如圖5、圖7A及圖7B所示，各個位置測量構件52以與在各邊設置著多個的插通孔37中的設置於中央的插通孔37相對應的方式，形成為在沿著插通孔37的方向伸展的板狀。在位置測量構件52，在平台10的中央一側，設置著朝向平台10的方向產生紫外線光束(短波長的光束)紫外線(ultraviolet，UV)的紫外線光源51。將藉由該紫外線光源51產生的紫外線光束UV一邊通過插通孔37一邊照射至被曝光基板C，藉此在被曝光基板C的第2面(與平台10相接的一側的面)C2微影對準用的標記M。

而且，在位置測量構件52，在平台10的端部一側，多個(本例示性實施形態中為2個)位置識別用標記52a設置於可自平台10的上方目測確認的同一面上。而且，該些位置識別用標記52a在將被曝光基板C載置於平台10上，且固定於基板夾緊機構30的狀態下，形成於不會由被曝光基板C遮住而可通過插通孔37自外部目測確認的位置。藉此，各個位置識別用標記52a可在由攝影部23所獲得的攝影圖像中加以識別。

各個位置測量構件52分別與移動單元32a~移動單元32d的移動聯動地移動。與各個標記形成部52相對應的插通孔37設置於包含各個位置測量構件52的移動路徑的區域。紫外線光源51在藉由曝光部16對被曝光基板C的表面C1進行曝光的期間，亦能夠以貫通未插通支持柱35的插通孔37的方式產生紫外線光 束UV。另外，紫外線光束UV的照射時間可根據塗佈於被曝光基板C的感光材料而分別設定最佳時間。

而且，在各個位置測量構件52中，以紫外線光源51與位置識別用標記52a相互成為已知的位置關係的方式來進行設置，並且對各個位置關係預先進行測量並記憶於系統控制部70所具有的記憶機構中。藉此，即便在紫外線光源51位於被曝光基板C的背部的情況下等，無法藉由攝影部23對紫外線光源51進行攝影的情況下，亦可藉由對各個位置識別用標記52a進行攝影而測量位置，並根據經測量的各個位置識別用標記52a的位置、與所記憶的紫外線光源51及位置識別用標記52a的位置關係，來導出紫外線光源51的位置。

另外，第1曝光微影裝置2包括多個紫外線光源51，而第2曝光微影裝置4亦可不必包括多個紫外線光源51。亦可在第1曝光微影裝置2設置著多個紫外線光源，並且藉由使該紫外線光源移動而微影多個對準用的標記M。

第1曝光微影裝置2包括自動載置掌(auto carriers hand)(以下，AC掌)62，該自動載置掌將藉由第1搬送裝置5搬送而來的被曝光基板C搬入至第1曝光微影裝置2的內部。AC掌62形成為平板狀，並且與水平面平行地在水平方向及鉛垂方向上可移動地設置著。而且，在AC掌62的下表面設置著：具有吸附部63的吸附機構，該吸附部63藉由抽吸空氣而將被曝光基板C利用真空吸附進行吸附保持；以及具有擠壓部64的擠壓機構，該擠 壓部64將被曝光基板C朝向下方擠壓且上下移動自如。

AC掌62藉由將載置於第1搬送裝置5的未曝光的被曝光基板C利用吸附機構來吸附保持而在上方吊起，將吊起的被曝光基板C載置於平台10的上表面的預定的位置。當載置被曝光基板C時，一邊藉由擠壓機構將被曝光基板C擠壓至平台10一邊解除吸附部63的吸附，藉此平台10的真空吸附發揮作用，從而被曝光基板C牢固地固定於平台10。

而且，AC掌62藉由將載置於平台10的上表面的已完成曝光的被曝光基板C利用吸附機構來吸附保持而在上方吊起，在吸附保持著吊起的被曝光基板C的狀態下移動至第2搬送裝置6為止，然後解除吸附機構的吸附，藉此使被曝光基板C移動至第2搬送裝置6。

根據本例示性實施形態的曝光微影系統1的基板夾緊機構部30，為如下的構成：可確實地夾緊被曝光基板C的周緣部，從而可矯正被曝光基板C的翹曲及應變，並且，使紫外線光源51、位置識別構件52及光感測器59與夾桿31a~夾桿31d一併移動，而無須用於紫外線光源51及光感測器59的移動機構，因而可抑制基板夾緊機構部30的製造成本。

圖8是表示本例示性實施形態的曝光微影系統1的反轉裝置3的反轉機構的構成的示意側正視圖。如圖7所示，反轉裝置3包括具有夾入被曝光基板C的多個滾輪3a的滾輪單元3b。滾輪單元3b藉由支持棒3c而支持，當夾入被曝光基板C時，在 藉由支持棒3c而提昇的狀態下以設置於滾輪單元3b的中央部的旋轉軸3d為中心進行旋轉。在滾輪單元3b旋轉180度後，將被曝光基板C自滾輪單元3b釋放，藉此被曝光基板C的表背反轉。另外，反轉機構的構成並不限於上述構成，亦可使用將被曝光基板C的一端提昇而使被曝光基板C旋轉180度，從而使被曝光基板C的表背反轉的方法，或其他的先前已知的方法。

圖9是表示本例示性實施形態的第1曝光微影裝置2及第2曝光微影裝置4的電氣系統的構成圖。

如圖9所示，在第1曝光微影裝置2中，設置著分別與裝置各部電性連接的系統控制部70，該系統控制部70對各部總括地控制。系統控制部70對AC掌62進行控制而進行被曝光基板C的朝平台10的搬入動作及排出動作。而且，系統控制部70一邊控制平台驅動部71一邊進行平台10的移動，藉由攝影部23進行對準用的標記M的攝影，而根據對準標記M的位置來調整圖像的微影位置，並且，對光源單元17及圖像處理單元19進行控制而由曝光頭16a進行曝光處理。操作裝置73具有顯示部與輸入部，例如在輸入被曝光基板C的外形尺寸時進行操作。

基板載置位置決定部72決定被曝光基板C的相對於平台10的載置位置(將該載置位置稱作適當載置位置)。另外，可藉由在Y方向上對攝影部23的攝像時機進行調整而使對準用的標記M位於攝影區域的中央，因此，Y方向上的適當載置位置可設定於平台10上的任一位置，在本例示性實施形態中，Y方向上的 適當載置位置設定於被曝光基板C的中心與平台10的中心一致的位置。

基板載置位置決定部72中，根據藉由在對被曝光基板C進行曝光動作之前所進行的準備動作而獲得的資訊，來算出X方向上的基板的適當載置位置(對準用的標記M的適當位置)。該準備動作中，在X方向上將被曝光基板C載置於平台10的適當位置(以在Y方向上，使被曝光基板C的中心與平台10的中心一致，且平台10的一方的相對向的邊與被曝光基板C的一方的相對向的邊分別平行的方式載置)，之後藉由攝影部23對對準用的標記M進行攝影，從而算出X方向上的攝影區域的中心位置與對準用的標記M的位置的偏移量，並根據該偏移量算出X方向上的基板的適當載置位置。在準備動作中，藉由對多塊(例如5塊)基板進行該處理，而能夠更正確地求出適當的載置位置。另外，在該準備動作中，亦決定攝影部23的攝影時機。所算出的基板的適當載置位置資訊、及攝影時機資訊被送至系統控制部70且記憶於系統控制部70所具有的記憶機構中。

移動控制部74根據系統控制部70的指示，在平台10移動時測量紫外線光源51的位置的情況下，以多個位置測量構件52的各自的位置識別用標記52a通過多個攝影部23的各自的攝影區域的方式，對攝影部23的移動驅動進行控制。而且，移動控制部74在根據系統控制部70的指示，對被曝光基板C進行曝光微影的情況下，以形成於被曝光基板C的多個對準用的標記M通過 多個攝影部23的各自的攝影區域的方式，對攝影部23的移動驅動進行控制。

移動控制部74根據系統控制部70的指示，而分別對移動單元32a~移動單元32d的驅動進行控制。移動控制部74監視來自移動單元32a~移動單元32d的光感測器49的信號(有基板信號或者無基板信號)，並根據該信號對移動單元32a~移動單元32d的空氣氣缸41及皮帶驅動馬達75的驅動進行控制，而使夾桿31a~夾桿31d進行夾緊動作。

移動控制部74中，根據自操作裝置73輸入的基板尺寸資訊、及藉由準備動作而算出的基板的適當載置位置資訊，來推測平台10上的區域中載置有被曝光基板C的區域，並根據該推測的區域將夾桿31a~夾桿31d的移動速度在高速/低速之間進行切換。具體來說，在平台10上，在比與被曝光基板C的周緣相隔了距離L1(例如40mm)的位置(參照圖6)靠外側處設定為高速移動，在比該位置靠內側處設定為低速移動。藉此，因在低速移動時進行被曝光基板C的檢測，故可確實地檢測被曝光基板C。另外，將與被曝光基板C的周緣相隔了距離L1的位置稱作減速位置(切換點)。夾桿31a~夾桿31d於自檢測到被曝光基板C的位置而向內側深入了規定距離(例如5mm)的夾緊位置處停止，且在該夾緊位置處進行夾緊。該夾緊位置成為夾桿31a~夾桿31d的支持柱35不抵接於被曝光基板C的端緣的位置。

移動控制部74在夾桿31a~夾桿31d高速移動時檢測到 被曝光基板C的情況下，判斷為實際的基板尺寸比所輸入的基板尺寸大，使夾桿31a~夾桿31d的移動立即停止並且對系統控制部70輸出異常信號。系統控制部70接收異常信號，使操作裝置73的顯示部顯示內容為基板尺寸大的錯誤資訊。另外，亦可代替顯示錯誤資訊而發出警告音。

而且，移動控制部74在夾桿31a~夾桿31d低速移動而未檢測到被曝光基板C且低速移動持續規定時間的情況下，判斷為實際的基板尺寸比所輸入的基板尺寸小、或並未載置有基板，從而使夾桿31a~夾桿31d的移動立即停止並且對系統控制部70輸出異常信號。系統控制部70接收異常信號，使操作裝置73的顯示部顯示內容為基板尺寸小、或未載置有被曝光基板C的錯誤資訊。

圖10是表示本例示性實施形態的曝光微影系統1中平台10的移動方向與攝影部23的移動方向的關係的圖。如圖10所示，攝影部23的移動方向為在水平方向上相對於平台10的移動方向(Y方向)垂直的方向(X方向)。在由攝影部23對多個紫外線光源51或者微影於被曝光基板C的對準用的標記M進行攝影時，藉由使平台10移動而控制Y方向的位置，藉由使攝影部23移動而控制X方向的位置，藉此以多個位置測量構件52或者對準用的標記M包含於攝影部23的攝影區域的方式來控制各自的相對位置。另外，攝影部23的移動方向並不限定於X方向，只要能夠對位置測量構件52或者微影於被曝光基板C的對準用的標記 M進行攝影即可，能夠沿X方向及Y方向的雙方移動即可，或者能夠沿X方向及Y方向以外的其他方向移動即可。

此處，本例示性實施形態的曝光微影系統1中，為了藉由紫外線光源51的位置來進行微影於第1面C1的圖像與微影於第2面C2的圖像的相互的位置對準，而藉由位置測量構件52測量紫外線光源51的位置。

圖11是表示本例示性實施形態的第1曝光微影裝置2中載置著被曝光基板C的平台10的示意正視圖及詳細圖。另外，後述的圖12是表示以圖11的a-a剖面切斷所得的示意剖面圖的圖。

如圖11所示，在平台10上載置著被曝光基板C，且被曝光基板C的端部藉由基板夾緊機構30的夾持器33而固定的狀態下，在自正面觀察平台10時，紫外線光源51位於被曝光基板C的背部，因此無法目測確認，而位置測量構件52的位置識別用標記52a的各個配置於不與被曝光基板C重疊的位置，因而可進行目測確認。

而且，如圖11所示，將1個紫外線光源51與1個位置測量構件52(2個位置識別用標記52a)分別加以組合，在各組中以紫外線光源51與各個位置識別用標記52a分別成為已知的位置關係的方式來設置。而且，各個位置識別用標記52a與紫外線光源51的位置關係預先進行測量且記憶於系統控制部70所具有的記憶機構中。藉此，即便在紫外線光源51位於被曝光基板C的背 部的情況下等無法直接測量紫外線光源51的位置時，藉由對各個位置識別用標記52a的位置進行測量，而可根據所測量的各個位置與所記憶的各個位置識別用標記52a及紫外線光源51的位置關係，來導出紫外線光源51的位置。

另外，本例示性實施形態中，為了包含旋轉成分在內而正確地導出紫外線光源51的位置，而設置2個以上的位置識別用標記52a，但並不限定於此，只要位置識別用標記52a的形狀為可特別規定紫外線光源51所在的方向的形狀的標記，且位置識別用標記52a與紫外線光源51的距離被預先測量並加以記憶，則可根據1個位置識別用標記52a來導出紫外線光源51的位置，因此位置識別用標記52a亦可為1個。

而且，4組分別相對應的紫外線光源51及位置識別用標記52a中的2組紫外線光源51及位置識別用標記52a，在載置著矩形狀的被曝光基板C的載置區域，在與被曝光基板C的一方的相對向的邊平行(例如Y方向)且不通過載置區域的中央的位置，以分別成為同一直線狀的方式而設置。其他2組紫外線光源51及位置識別用標記52a亦於載置著矩形狀的被曝光基板C的載置區域，在與被曝光基板C的另一方的相對向的邊平行(例如X方向)且不通過載置區域的中央的位置，以分別成為同一直線狀的方式而設置。藉此，關於在Y方向上延伸的同一直線狀的2組紫外線光源51及位置識別用標記52a，藉由使平台10沿Y方向移動而可藉由1個攝影部23進行攝影。此時，如上述般各個紫外線光源 51及位置識別用標記52a以成為不通過載置區域的中央的同一直線狀的方式而設置，藉此，可根據紫外線光源51或者位置識別用標記52a的位置來識別被曝光基板C的左右方向或上下方向。

進而，各個紫外線光源51可在載置著矩形狀的被曝光基板C的載置區域的各邊的中央附近，形成對準用的標記M。藉此，可減小對被曝光基板C的第1面C1及第2面C2微影時的位置對準的誤差，從而可提高位置對準的精度。

此外，在藉由使1個位置測量構件52的多個位置識別用標記52的每一者在相對於平台10的移動方向垂直的X方向上並列，且伴隨平台10的移動而由攝影部23進行攝影時，是在相同的時機進行攝影，因此可在相同的時機測量各個位置識別用標記52a的位置。

此處，在被曝光基板上產生翹曲或應變的情況下，在現有的曝光微影裝置的平台載置被曝光基板的狀態下，當被曝光基板的端部自平台浮起而欲在被曝光基板的端部形成對準用的標記時，難以將對準用的標記正確地形成在預測的位置。另一方面，本例示性實施形態中，如上述般，利用基板夾緊機構30的夾持器33將載置於平台10的被曝光基板C的端部夾持並固定於該夾持器33與平台10之間，藉此可防止被曝光基板C的端部自平台10浮起。

圖12是用以說明在本例示性實施形態的第1曝光微影裝置2中將載置於平台10的被曝光基板C的端部藉由基板夾緊機 構30而固定的流程的示意側面圖。

如圖12的(1)所示，在平台10的上表面載置著被曝光基板C的狀態下，如圖12的(2)所示，夾持器33為了在其與平台10之間夾入被曝光基板C的端部而向上方移動並停止。而且，如圖12的(3)所示，夾持器33在沿著平台10的上表面的平面內移動，當移動至與被曝光基板C的端部在Z方向上重合的位置為止後停止時，如圖12的(4)所示，然後夾持器33向下方移動，且在其與平台10之間夾入被曝光基板C的端部的狀態下停止。藉此，被曝光基板C的端部被固定在平台10與夾持器33之間。如此，在夾入並固定被曝光基板C的端部的狀態下對被曝光基板C照射紫外線光源UV從而形成對準用的標記M，藉此可一直在正確的位置以正確的形狀而形成對準用的標記M。

圖13A是表示在現有的曝光微影裝置中載置著被曝光基板的平台的示意正視圖，圖13B是表示以圖13A的b-b剖面切斷所得的示意剖面圖的圖。

如圖13A所示，在平台載置著被曝光基板的狀態下，在平台上的設置著插通孔的區域，被曝光基板未吸附固定於平台。由此，如圖13B所示，有被曝光基板在設置著插通孔的區域自平台應變而浮起的可能性。該情況下，現有的曝光微影裝置中，在被曝光基板應變的狀態下進行曝光微影，藉此曝光微影失敗而產生次品。

本例示性實施形態的第1曝光微影裝置2中，利用基板 夾緊機構30來固定被曝光基板C的端部，藉此可消除被曝光基板C的設置著插通孔37的區域的應變。

然後，對本例示性實施形態的曝光微影系統1的曝光微影處理流程進行說明。

圖14是表示本例示性實施形態的曝光前處理程式的處理流程的流程圖，該程式預先記憶於第1曝光微影裝置2的系統控制部70中所具備的作為記錄媒體的ROM的規定區域。而且，圖15是用於說明本例示性實施形態的曝光前處理的示意正視圖。

第1曝光微影裝置2的系統控制部70在預定的時機(本例示性實施形態中，是在被曝光基板C載置於平台10的時機)，執行該曝光前處理程式。

當被曝光基板C載置於平台10時，步驟S101中，系統控制部70使紫外線光源51相對於被曝光基板C的位置移動。本例示性實施形態中，與基板夾緊機構部30的移動單元32a~移動單元32d的移動聯動地移動。因此，系統控制部70藉由對移動單元32a進行控制，而開始打開狀態的夾桿31a~夾桿31d的自平台10的端部向中央部的移動而使紫外線光源51的位置移動，並且在自光感測器49接收到有基板信號的情況下，在接收到的位置或者從接收到開始直接移動規定距離後的位置處，使夾桿31a~夾桿31d以閉合狀態移行。藉此，夾桿31a~夾桿31d在其與平台10之間夾入著被曝光基板C的狀態下被固定，隨之，紫外線光源51的位置亦被固定。

步驟S103中，系統控制部70藉由攝影部23對多個位置識別用標記52a的各個進行攝影，並根據該攝影圖像而測量位置識別用標記52a的位置，根據所測量的位置識別用標記52a的位置來導出紫外線光源51的位置。另外，測量紫外線光源51的位置的方法並不限定於上述方法，亦可為如下方法，即，夾桿31a~夾桿31d與紫外線光源51的位置關係為已知，對夾桿31a~夾桿31d的位置進行測量，並根據夾桿31a~夾桿31d與紫外線光源51的相對位置而導出紫外線光源51的位置。該情況下，系統控制部70獲取皮帶驅動馬達75所具備的步進馬達的脈衝，藉此來測量夾桿31a~夾桿31d的位置。

而且，步驟S105中，系統控制部70在平台10上設定相對應的座標系(以下，稱作「平台座標系」)，而結束曝光前處理程式。如圖15所示，在曝光前處理的階段，在平台座標系中預定的位置處配置各個紫外線光源51。

第1曝光微影裝置2的系統控制部70在曝光前處理結束的時機，執行第1曝光處理。圖16是表示本例示性實施形態的第1曝光處理程式的處理流程的流程圖，該程式預先記憶於第1曝光微影裝置2的系統控制部70中所具備的作為記錄媒體的ROM的規定區域。而且，圖17是用於說明本例示性實施形態的第1曝光處理的示意正視圖。

步驟S201中，系統控制部70根據步驟S103中測量的紫外線光源51的位置，而設定用於對被曝光基板C微影表面用圖 像P1的座標系即圖像座標系。如圖15所示，在第1曝光處理的階段，根據紫外線光源51相對於平台座標系的位置來設定圖像座標系。亦可對任意的圖像座標系導入紫外線光源51的位置。

步驟S203中，系統控制部70根據步驟S201中設定的圖像座標系，而使平台10向曝光位置移動。此時，系統控制部70使平台10沿著導軌14而在X方向上移動，並且使平台10移動至曝光頭16a的曝光對象位置與在被曝光基板C中微影表面用圖像P1時的開始位置一致的位置為止。

步驟S205中，系統控制部70開始藉由各曝光頭16a而進行的曝光，將表面用圖像P1微影於被曝光基板C的表面C1的基於步驟S201中設定的圖像座標系的位置。而且，步驟S207中，系統控制部20使紫外線光源51產生紫外線光束UV，在被曝光基板C的背面C2微影對準用的標記M。另外，步驟205的對被曝光基板C的表面C1的處理與步驟S207的對被曝光基板C的背面C2的處理為不妨礙相互的處理者，可使上述各處理同時並行地進行，因而可同時進行步驟S205及步驟S207的處理，或者可在步驟S205的處理之前進行步驟S207的處理。如圖17所示，根據圖像座標系，在被曝光基板C的表面C1微影表面用圖像P1，在背面C2微影對準用的標記M。

如此，在對被曝光基板C的表面C1微影表面用圖像P1的處理中，在背面C2微影對準用的標記M，藉此無須另外進行微影對準用的標記M的處理，因此，不會對曝光微影處理的週期時 間造成影響，而可確保對準用的標記M的烘烤的保持時間(holding time)長，從而可提高對背面C2的微影處理中的對準用的標記M的攝影圖像的對比度，因此可抑制對準用的標記M的識別偏差。

另外，對準用的標記M在被紫外線光束UV照射後進行烘烤，藉此在被曝光基板C上可目測確認地進行顯示，因此由攝影部23進行攝影，藉此可確認上述對準用的標記M的位置或形狀。

步驟S209中，系統控制部70使平台10移動至載置著被曝光基板C的位置為止，並結束第1曝光處理程式。當平台10移動至被曝光基板C的載置位置為止時，被曝光基板C藉由吸附保持於AC掌62而移動至第2搬送裝置6，而且，被曝光基板C藉由第2搬送裝置6而搬送至反轉裝置3，且在藉由反轉裝置3而表背反轉之後，藉由第3搬送裝置7搬送至第2曝光微影裝置4。

第2曝光微影裝置4的系統控制部70在預定的時機(本例示性實施形態中，在被曝光基板C載置於平台10的時機)，執行該曝光前處理程式。

圖18是表示本例示性實施形態的第2曝光處理程式的處理流程的流程圖，該程式預先記憶於第2曝光微影裝置4的系統控制部70中所具備的作為記錄媒體的ROM的規定區域。而且，圖19是用於說明本例示性實施形態的第2曝光處理的示意正視圖

步驟S301中，系統控制部70使載置有被曝光基板C的平台10移動至如下的位置，即，步驟S207中微影的對準用的標記M的整體包含於攝像裝置23的攝像圖像的位置。此時，系統控 制部70使平台10沿著導軌14而在Y方向上移動，並且使平台10移動至如下位置為止，即，設置有攝影部23的位置與設置有對準用的標記M的位置在Y方向上大致一致的位置為止。

另外，攝影部23的攝影區域為被曝光基板C的背面C2上設置著對準用的標記M的區域，且設為比包含被曝光基板C的設置誤差的區域大。藉此，即便在被曝光基板C的設置位置自預先設定的設置位置偏移的情況下，只要以設定為對準用的標記M的中心部所在的位置為中心進行攝影，則包含於區域攝影部23的攝影區域。

步驟S303中，系統控制部70根據藉由攝像部23攝像對準用的標記M所得的攝像圖像，來測量對準用的標記M的位置。而且，步驟S305中，系統控制部70根據步驟S303中測量到的對準用的標記M的位置，來設定用以決定對於被曝光基板C的背面C2微影背面用圖像P2的位置的圖像座標系。此時，圖像座標系以與步驟S201中設定的圖像座標系相對應的方式來設定，亦即，以如下方式來設定：步驟S103中測量到的紫外線光源51的位置與表面用圖像C1的微影位置的相對位置，和對準用的標記M的位置與背面用圖像C2的微影位置的相對位置相互對應。如圖19所示，在第2曝光處理的階段，根據對準用的標記M的位置來設定圖像座標系，因此亦存在如下情形：平台座標系與圖像座標系的相對位置與第1曝光處理的階段不同。

步驟S307中，系統控制部70根據步驟S305中設定的 圖像座標系，使平台10移動至曝光位置。此時，系統控制部70使平台10沿著導軌14而在Y方向上移動，並且，使平台10移動至曝光頭16a的曝光對象位置與被曝光基板C中微影背面用圖像P2時的開始位置一致的位置為止。

步驟S309中，系統控制部70開始藉由各曝光頭16a進行曝光，在被曝光基板C的背面C2微影背面用圖像P2。如圖17所示，根據圖像座標系，在被曝光基板C的背面C2微影背面用圖像P2。

步驟S311中，系統控制部70使平台10移動至載置著被曝光基板C的位置為止，並結束第2曝光處理程式。當平台10移動至被曝光基板C的載置位置為止時，在表面C1以及背面C2的兩面已微影出圖像的被曝光基板C藉由吸附保持於AC掌62而移動至第4搬送裝置8，且藉由第4搬送裝置8而搬送。

圖18是表示在本例示性實施形態的曝光微影系統1中，被曝光基板C的尺寸與對準用的標記M的微影位置的關係的示意正視圖。本例示性實施形態中，當藉由基板夾緊機構部30的移動單元32a~移動單元32d而夾桿31a~夾桿31d移動時，紫外線光源51與該移動聯動地移動。因此，如圖18所示，光感測器49檢測被曝光基板C的端部而夾桿31a~夾桿31d將被曝光基板C的端部予以固定，藉此紫外線光源51自動地固定於對被曝光基板C的端部照射紫外線光束UV的位置。而且，夾桿31a~夾桿31d的位置與紫外線光源51的位置關係可自由地設計。由此，本 例示性實施形態中，可不依存於被曝光基板C的尺寸，而在被曝光基板C的預定的位置微影對準用的標記M。

另外，步驟S103中對紫外線光源51的位置進行測量的方法根據所求出的測量精度而有所不同，基板夾緊機構部30的移動單元32a~移動單元32d亦可包括步進馬達，藉由該步進馬達的脈衝來測量位置。或者，移動單元32a~移動單元32d亦可包括旋轉編碼器(rotary encoder)，藉由旋轉編碼器的脈衝來測量位置。或者，亦可預先在第1曝光微影裝置2的任一部位設置光學式距離感測器或者利用了超音波的距離感測器，藉由該些距離感測器來測量位置。

在使用位置識別用標記52a來測量紫外線光源51的位置的情況下，即便無法對紫外線光源51進行攝影，只要可藉由攝影部23對2個以上的位置識別用標記進行攝影即可，因此，對紫外線光源51的位置進行測量的時機並不限定於步驟S103的時機，在前處理或者第1曝光處理的任一時機對紫外線光源51的位置進行測量即可。

而且，在根據自攝影圖像中的紫外線光源51的位置的理論值偏離的偏離量來測量紫外線光源51的位置時，較佳為紫外線光源51位於攝像部23的焦點深度內，而在紫外線光源51不位於攝像部23的焦點深度內的情況下，能夠以紫外線光源51位於攝像部23的焦點深度內的方式變更平台10的高度(Z方向上的位置)。

而且，本例示性實施形態中，微影2個對準用的標記M，但並不限定於此，對準用的標記M的數量只要為2個以上則可任意地設定。對準用的標記M的數量越多，則越可提高被曝光基板C的表背的對準精度。

而且，本例示性實施形態中，是使用紫外線光源51在被曝光基板C上微影對準用的標記M，但並不限定於此，亦可藉由噴附油墨或轉印油墨來進行微影。

而且，本例示性實施形態中，紫外線光源51在X方向上或在Y方向上可移動地設置著，但並不限定於此，亦可使用在任意方向上可移動的紫外線光源。而且，紫外線光源的移動路徑可為橫切被曝光基板C的中央部的路徑，亦可為橫切被曝光基板C的任意位置的路徑。

本例示性實施形態中，紫外線光源51與夾緊機構部30的移動單元32a~移動單元32d聯動地移動，但並不限定於此，亦可藉由包含馬達等的移動機構而使紫外線光源51分別單獨地移動。該情況下，預先記憶被曝光基板C的尺寸及平台10的載置位置，紫外線光源51可設定為根據所記憶的尺寸及載置位置而移動至預定的位置。

而且，在步驟S205中表面用圖像P1的微影失敗的情況下，亦可不進行步驟S207的處理(對準用的標記M的微影處理)，而轉移至步驟S209的處理。該情況下，在表面用圖像P1的微影失敗的被曝光基板C上未微影有對準用的標記M，因此用戶可藉 由對各個被曝光基板C確認有無對準用的標記M，來判別表面用圖像P1的微影成功或失敗。

而且，在步驟S309中微影背面用圖像P2時，可使步驟S305中設定圖像座標系之後的背面用圖像P2顯示於操作裝置73的顯示部。藉此，用戶對在顯示部顯示的背面用圖像P2進行確認，藉此可推測平台座標系與圖像座標系的偏移量。

而且，可將紫外線光源51的移動範圍設為如下範圍，即，包含作為曝光的對象的最小尺寸的基板的端面的位置至最大尺寸的基板的端面的位置為止的範圍。藉此，作為曝光的對象的基板的尺寸無論為何種尺寸，均可藉由紫外線光源51來微影對準用的標記M。

而且，本例示性實施形態的曝光微影系統1中，紫外線光源51及位置測量構件52被固定於支持板40(亦即移動單元32)，但並不限定於此，亦可為如下構成，即，紫外線光源51及位置測量構件52相對於移動單元32移動。該情況下，例如，紫外線光源51及位置測量構件52之間亦可插入具有馬達等的移動機構而設置於移動單元32。亦即，紫外線光源51及位置測量構件52的相互的位置關係為已知，只要可藉由對位置測量構件52的位置進行測量來導出紫外線光源51的位置即可。從而可不依存於基板夾緊機構30的移動單元32a~移動單元32d的可移動區域，而使紫外線光源51及位置識別構件52移動並在該位置的被曝光基板C上形成對準用的標記M。

日本申請案2012-082559的揭示的內容通過參考而完整地結合於本說明書。

本說明書所記載的所有文獻、專利申請案及技術規格，與具體且分別地記錄藉由參考而結合各個文獻、專利申請案及技術規格的情況同程度地，藉由參考而結合於本說明書中。

10‧‧‧平台

33‧‧‧夾持器

37‧‧‧插通孔

40‧‧‧支持板

41‧‧‧空氣氣缸

42‧‧‧活塞桿

51‧‧‧紫外線光源

52‧‧‧位置測量構件

C‧‧‧被曝光基板

UV‧‧‧紫外線

Y、Z‧‧‧方向

Claims (14)

1. 一種曝光微影裝置，包括：平台，載置被曝光基板；固定部，自預定的第1位置向第2位置移動，於上述第2位置將載置於上述平台的上述被曝光基板的端部夾持並固定於上述固定部與上述平台之間；微影部，在藉由上述固定部而使端部固定的狀態下，對上述被曝光基板的第1面進行曝光，藉此將預定的電路圖案微影於上述第1面上；以及形成部，與上述固定部的移動聯動地移動，在藉由上述固定部而使端部固定的狀態下，在上述被曝光基板的與上述第1面相對向的第2面上形成預定的標記。
2. 如申請專利範圍第1項所述的曝光微影裝置，更包括位置測量部，對上述形成部的位置進行測量。
3. 如申請專利範圍第2項所述的曝光微影裝置，其中在上述平台形成貫通孔，由夾板構成上述固定部，上述夾板通過上述貫通孔而向基板載置側突出，且將上述被曝光基板固定。
4. 如申請專利範圍第3項所述的曝光微影裝置，其中上述形成部通過上述貫通孔而在上述被曝光基板的上述第2面形成上述標記。
5. 如申請專利範圍第4項所述的曝光微影裝置，其中上述形 成部包括出射紫外線光束的光源，使自上述光源出射的紫外線光束通過上述貫通孔而照射至上述被曝光基板的上述第2面，藉此形成上述標記。
6. 如申請專利範圍第2項至第5項中任一項所述的曝光微影裝置，其中上述位置測量部在上述各個形成部具有基準部，其中上述基準部與上述形成部的移動聯動地移動，並作為上述形成部的位置的基準，且上述基準部設置於如下位置，即，在上述平台上載置著上述被曝光基板的狀態下，露出在上述被曝光基板的外部的位置。
7. 如申請專利範圍第6項所述的曝光微影裝置，其中上述基準部經由上述貫通孔而露出在外部。
8. 如申請專利範圍第6項所述的曝光微影裝置，更包括：記憶機構，記憶相對應的各個上述形成部及上述基準部的位置關係；測量機構，對上述基準部的位置進行測量；以及導出機構，根據藉由上述測量機構測量的上述基準部的位置與記憶於上述記憶機構的上述位置關係而導出上述形成部的位置。
9. 如申請專利範圍第8項所述的曝光微影裝置，其中上述基準部為多個位置識別用標記，上述記憶機構分別記憶上述多個位置識別用標記的每一者與上述形成部的位置關係， 上述測量機構與被微影電路圖案的位置處於已知的關係，並對上述多個位置識別用標記的每一者的位置進行測量，上述導出機構根據由上述測量機構測量的各個上述位置識別用標記的位置與記憶於上述記憶機構的上述位置關係導出上述形成部的位置。
10. 如申請專利範圍第9項所述的曝光微影裝置，其中上述平台可沿規定方向來回移動，在各個上述露出部，將上述多個位置識別用標記的每一者以在相對於上述平台的來回移動方向交叉的方向上並列的方式而設置。
11. 如申請專利範圍第1項所述的曝光微影裝置，其中上述形成部設置為相對於上述平台在預定的範圍內可移動。
12. 如申請專利範圍第1項所述的曝光微影裝置，其中在上述平台上設置著另一固定部，上述另一固定部自上述第1面或者上述第2面的方向固定上述被曝光基板。
13. 如申請專利範圍第12項所述的曝光微影裝置，其中上述另一固定部藉由自上述第1面或者上述第2面的方向吸附上述被曝光基板而固定於上述平台。
14. 一種曝光微影方法，是曝光微影裝置的曝光微影方法，包括：平台，載置被曝光基板；固定部，自預定的第1位置向第2位置移動，將載置於上述平台的上述被曝光基板的端部夾持並固定於上述固定部與上述平台之間；微影部，在藉由上述固定部而 使端部固定的狀態下，對上述被曝光基板的第1面進行曝光，藉此將預定的電路圖案微影於上述第1面上；形成部，與上述固定部的移動聯動地移動，在藉由上述固定部而使端部固定的狀態下，在上述被曝光基板的與上述第1面相對向的第2面形成預定的標記；以及作為上述形成部的位置的基準的基準部，與上述形成部的移動聯動地移動；上述曝光微影方法包括：記憶步驟，記憶相對應的各個上述形成部及上述基準部的位置關係；位置測量步驟，對上述基準部的位置進行測量；以及導出步驟，根據上述測量步驟中測量的基準部的位置與上述記憶步驟中記憶的上述位置關係而導出上述形成部的位置。