TW201504367A - 偏光板及偏光板的製造方法以及用於製造偏光板的轉印材料及轉印材料的製造方法 - Google Patents

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Masataka Hasegawa
Hideaki Kagawa
Kazuhiro Oki
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Abstract

藉由本發明可提供一種偏光板的製造方法，包括如下步驟：(1)於暫時支持體上塗佈包含環烯烴聚合物的組成物而形成含環烯烴聚合物的層；(2)將所述含環烯烴聚合物的層與包含偏光元件的膜積層；及(3)將所述暫時支持體剝離。藉由所述製造方法可製造膜厚小的偏光板。

Description

偏光板及偏光板的製造方法以及用於製造偏光板的 轉印材料及轉印材料
本發明是有關於一種偏光板的製造方法、及偏光板。另外，本發明是有關於一種偏光板的製造方法中所使用的轉印材料、及轉印材料的製造方法。
隨著智慧型手機(smart phone)或平板型(tablet)個人電腦(personal computer，PC)等的市場的擴大，對於顯示器(display)亦要求日益薄型化。於該潮流中，除自先前以來一直用作透明且低雙折射性的光學膜(optical film)的醯化纖維素(cellulose acylate)系聚合物膜(polymer film)以外，業界亦嘗試將丙烯酸系聚合物膜、環烯烴系聚合物膜等各種膜用作偏光板的保護膜(例如，專利文獻1)。該些聚合物膜通常是使用利用聚合物溶液或熔融聚合物藉由流延法或擠出法製膜而成的膜。例如，專利文獻2的段落0091、專利文獻3的段落0054中有關於利用該些方法製成環烯烴聚合物膜的記載。
[現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2009-175222號公報
[專利文獻2]日本專利特開2009-237376號公報
[專利文獻3]日本專利特開2010-191389號公報
本發明的課題在於提供一種膜厚小的偏光板。本發明的課題尤其在於提供一種具有低雙折射性的薄膜聚合物膜作為保護膜的偏光板的製造方法。
本發明者等人基於所述課題嘗試製作更薄的保護膜。但是，作為醯化纖維素系聚合物膜或環烯烴系聚合物膜，難以藉由現有的製膜法獲得較各自市售的膜薄的膜。例如，即便可以超低速藉由流延法或擠出法中任一現有的製膜法獲得薄膜之膜，於其後的乾燥或延伸等步驟中進行搬送時薄膜之膜亦會發生斷裂，最終難以維持膜形狀。但是，其後的研究結果發現，藉由在暫時支持體上進行塗佈製膜，可以薄膜形成環烯烴系聚合物膜，且可自暫時支持體無缺陷地剝離，其後進一步反覆研究，從而完成了本發明。即，本發明提供下述的[1]~[14]。
[1]一種偏光板的製造方法，其是包括下述(1)~(3)的製造方法： (1)於暫時支持體上塗佈包含環烯烴聚合物的組成物而形成含環烯烴聚合物的層；(2)將所述含環烯烴聚合物的層與包含偏光元件的膜積層；(3)將所述暫時支持體剝離。
[2]如[1]所述的製造方法，其中在所述(1)中，於暫時支持體的表面直接塗佈包含環烯烴聚合物的組成物而形成含環烯烴聚合物的層。
[3]如[1]或[2]所述的製造方法，其依序包括所述(1)~(3)，並且包括：在所述(2)中，將包含所述暫時支持體與所述含環烯烴聚合物的層的轉印材料及包含偏光元件的膜積層，以及自所述(2)中所形成的積層體將所述暫時支持體剝離。
[4]如[1]至[3]中任一項所述的製造方法，其中所述(1)的含環烯烴聚合物的層的形成以所述含環烯烴聚合物的層的膜厚成為20μm以下的方式進行。
[5]如[1]至[3]中任一項所述的製造方法，其中所述(1)的含環烯烴聚合物的層的形成以所述含環烯烴聚合物的層的膜厚成為15μm以下的方式進行。
[6]如[1]至[5]中任一項所述的製造方法，其中所述(2)的積層以使所述含環烯烴聚合物的層與所述包含偏光元件的膜經由接著層直接接著的方式進行。
[7]如[6]所述的製造方法，其中所述積層以使所述含環烯烴聚 合物的層與所述偏光元件經由所述接著層直接接著的方式進行。
[8]如[1]至[5]中任一項所述的製造方法，其中在所述(1)之後且所述(2)之前包括：使選自由光學各向異性層及丙烯酸系聚合物層所組成的組群中的一層以上的層形成於所述含環烯烴聚合物的層上。
[9]一種偏光板，其是藉由如[1]至[8]中任一項所述的製造方法獲得的偏光板，且所述偏光板包含膜厚為20μm以下的含環烯烴聚合物的層與偏光元件。
[10]一種偏光板，包括偏光元件及與所述偏光元件經由接著層直接接著的膜厚為20μm以下的含環烯烴聚合物的層。
[11]一種用於製造偏光板的轉印材料的製造方法，其包括：於暫時支持體上塗佈包含環烯烴聚合物的組成物而形成含環烯烴聚合物的層。
[12]如[11]所述的製造方法，其中所述含環烯烴聚合物的層的形成以所述含環烯烴聚合物的層的膜厚成為20μm以下的方式進行。
[13]如[11]或[12]所述的製造方法，其中所述含環烯烴聚合物的層的形成以所述含環烯烴聚合物的層的膜厚成為15μm以下的方式進行。
[14]一種轉印材料，其是藉由如[11]至[13]中任一項所述的製造方法獲得的用於製造偏光板的轉印材料，且所述轉印材料包含 膜厚為20μm以下的含環烯烴聚合物的層與暫時支持體。
藉由本發明可提供一種偏光板的製造方法。藉由本發明可容易地製造具有低雙折射性的薄膜聚合物膜作為保護膜的偏光板。
1‧‧‧暫時支持體
2‧‧‧含環烯烴聚合物的層
3‧‧‧丙烯酸系聚合物層
4‧‧‧光學各向異性層
10‧‧‧塗佈裝置
12‧‧‧膜
14‧‧‧塗佈液供給部(塗佈頭)
15‧‧‧支承輥
16‧‧‧支柱
圖1是表示本發明的製造方法中所使用的轉印材料的層構成的例子的圖。
圖2是說明塗佈步驟的一例的圖。
以下，詳細地說明本發明。
此外，本說明書中，「~」是以包含其前後所記載的數值作為下限值及上限值的含義使用。本說明書中，所謂「偏光板」，只要無特別說明，則以包含長條的偏光板及裁斷成可組入至液晶裝置中的大小等所需的大小(本說明書中，「裁斷」亦包括「沖裁」及「切取」等)的偏光板兩者的含義使用。另外，本說明書中，區別使用「偏光元件」(亦有稱為「偏光膜」的情況)及「偏光板」，但「偏光板」意指於「偏光元件」的至少單面具有膜的積層體。
另外，本說明書中，記載為「(甲基)丙烯酸酯」是表示「丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯的任一者或兩者」。「(甲基)丙烯酸」等亦相同。
本說明書中，Re(λ)、Rth(λ)分別表示波長λ下的面內的延遲(retardation)及厚度方向的延遲。Re(λ)是於KOBRA 21ADH或WR(王子計測機器股份有限公司製造)中使波長λ nm的光入射至膜法線方向而進行測定。於選擇測定波長λ nm時，可利用手動(manual)更換波長選擇濾波器(filter)，或利用程式(program)等變換測定值而進行測定。
在所測定的膜以單軸或雙軸折射率橢球體表示的情況下，藉由以下的方法算出Rth(λ)。
Rth(λ)是將面內的慢軸(藉由KOBRA 21ADH或WR判斷)作為傾斜軸(旋轉軸)(在無慢軸的情況下將膜面內的任意的方向設為旋轉軸)相對於膜法線方向自法線方向起至單側50度以10度步進(step)自各個傾斜方向入射波長λ nm的光而在全部6點測定Re(λ)，基於該測定所得的延遲值與平均折射率的假定值及所輸入的膜厚值藉由KOBRA 21ADH或WR而算出。
所述之中，在自法線方向將面內的慢軸作為旋轉軸而於某傾斜角度具有延遲的值成為零(zero)的方向的膜的情況下，大於該傾斜角度的傾斜角度下的延遲值是將其符號變更為負後藉由KOBRA 21ADH或WR而算出。
此外，亦可將慢軸作為傾斜軸(旋轉軸)(在無慢軸的情況下將膜面內的任意的方向設為旋轉軸)，自任意的傾斜的2個方向測定延遲值，基於該值與平均折射率的假定值及所輸入的膜厚值，根據以下的式(11)及式(12)算出Rth。
所述的Re(θ)是表示自法線方向傾斜角度θ的方向上的延遲值。
式(11)中的nx是表示面內的慢軸方向的折射率，ny是表示於面內與nx正交的方向的折射率，nz是表示與nx及ny正交的方向的折射率。d為膜厚。
式(12)：Rth={(nx+ny)/2-nz}×d
式(12)中的nx是表示面內的慢軸方向的折射率，ny是表示於面內與nx正交的方向的折射率，nz是表示與nx及ny正交的方向的折射率。d為膜厚。
在所測定的膜無法以單軸或雙軸折射率橢球體表現、即為不存在所謂的光學軸(optic axis)的膜的情況下，藉由以下方法算出Rth(λ)。
Rth(λ)是將面內的慢軸(藉由KOBRA 21ADH或WR判斷)作為傾斜軸(旋轉軸)自相對於膜法線方向為-50度起至+50度為止以10度步進自各個傾斜方向入射波長λ nm的光而在11點測定Re(λ)，基於該測定所得的延遲值與平均折射率的假定值及所輸 入的膜厚值藉由KOBRA 21ADH或WR而算出。
於所述的測定中，平均折射率的假定值可使用聚合物手冊(hand book)(約翰威立父子出版公司(JOHN WILEY & SONS,INC))中各種光學膜的目錄(catalogue)的值。對於平均折射率的值未知者，可利用阿貝折射計(Abbe refractometer)進行測定。以下例示主要的光學膜的平均折射率的值：醯化纖維素(1.48)、環烯烴聚合物(1.52)、聚碳酸酯(1.59)、聚甲基丙烯酸甲酯(1.49)、聚苯乙烯(1.59)。藉由輸入該些平均折射率的假定值與膜厚，利用KOBRA 21ADH或WR而算出nx、ny、nz。根據該算出的nx、ny、nz進一步算出Nz=(nx-nz)/(nx-ny)。
本說明書中，在對測定波長無特別附註的情況下，測定波長為550nm。例如，在簡記為Re時，表示Re(550)。
另外，本說明書中，關於角度(例如，「90°」等角度)、及其關係(例如，「正交」、「平行」、及「以45°交叉」等)，包含本發明所屬的技術領域中所容許的誤差的範圍。例如，意指小於嚴格的角度±10°的範圍內，與嚴格的角度的誤差較佳為5°以下，更佳為3°以下。進而，延遲實質上為0意指Re(550)≦10nm且Rth(550)≦10nm，較佳為Re(550)≦5nm以下且Rth(550)≦5nm。
本發明的偏光板的製造方法包括於暫時支持體的表面直接塗佈包含環烯烴聚合物的組成物而形成含環烯烴聚合物的層的步驟。包含暫時支持體、含環烯烴聚合物的層、及視需要的其他 層的積層體可於本發明的製造方法中用作轉印材料。以下，對轉印材料進行說明。
[轉印材料]
本說明書中，轉印材料是具有直接設置於暫時支持體的至少一表面的含環烯烴聚合物的層及視需要的其他層，用於將含環烯烴聚合物的層轉印至其他基板(通常為包含偏光元件的膜)上的材料。圖1中表示本發明的轉印材料的若干例子的概略斷面圖。圖中表示除包含具有暫時支持體及含環烯烴聚合物的層的轉印材料以外，亦進而包含光學各向異性層及/或丙烯酸系聚合物層的例子。除圖中所示的層以外，亦可包含接著層、用於液晶性分子的配向的配向層等其他層。
[暫時支持體]
暫時支持體可為透明亦可為不透明，並無特別限定。構成暫時支持體的聚合物的例子包含纖維素酯(例如，三乙醯纖維素(triacetyl cellulose，TAC)等乙酸纖維素、丙酸纖維素、丁酸纖維素)、聚烯烴(例如，降冰片烯系聚合物)、聚(甲基)丙烯酸酯(例如，聚甲基丙烯酸甲酯)、聚碳酸酯、聚酯及聚碸、降冰片烯系聚合物。為了於製造步驟中檢測光學特性，透明支持體較佳為透明且低雙折射的材料，就低雙折射性的觀點而言，較佳為纖維素酯及降冰片烯系。市售的降冰片烯系聚合物可使用Arton(日本合成橡膠(JSR)股份有限公司製造)、Zeonex、Zeonor(以上為日本傑昂(ZEON)股份有限公司製造)等。另外，由於廉價，故而亦 可較佳地使用聚碳酸酯或聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene Terephthalate，PET)等。
另外，暫時支持體可為未延伸膜亦可為延伸膜。在使用延伸膜的情況下，延伸可為單軸延伸亦可為雙軸延伸。單軸延伸較佳為利用2個以上的輥(roll)的旋轉差的縱單軸延伸、或把持膜的兩端使之沿寬度方向延伸的拉幅機延伸(tenter stretching)。進而，亦可為使膜沿縱橫方向延伸而成者。
[含環烯烴聚合物的層]
於本發明的製造方法中，含環烯烴聚合物的層可藉由包括於暫時支持體上塗佈包含環烯烴聚合物的組成物的步驟的方法而形成。此外，於本說明書中，在記為「暫時支持體上」等某些層「上」的情況下，若為暫時支持體，則包含暫時支持體的直接的表面、或於暫時支持體上設置有某些層(膜)的表面的任一者、或兩者的含義。
包含環烯烴聚合物的組成物亦可視需要包含添加劑或溶劑等其他成分。
含環烯烴聚合物的層的膜厚並無特別限定，例如只要為1μm~100μm即可。於本發明的方法中，藉由以塗佈製膜設置，而含環烯烴聚合物的層可為25μm以下、20μm以下、15μm以下、10μm以下、9μm以下、8μm以下等。並且，含環烯烴聚合物的層可於形成後自暫時支持體無缺陷等地容易地剝離，因此可使用所述的轉印材料於偏光板容易地形成薄膜的保護膜。另外，剝離 後的含環烯烴聚合物的層即便成為薄膜亦容易維持自支持性，因此亦可於剝離暫時支持體後使含環烯烴聚合物的層接著於偏光元件等，操作性亦良好。
[環烯烴聚合物]
於本說明書中，所謂環烯烴聚合物，是表示具有環烯烴結構的聚合物，所謂的環烯烴聚合物(Cycloolefin Polymer，COP)及環烯烴共聚物(Cycloolefin Copolymer，COC)均為環烯烴聚合物的一種。
環烯烴聚合物的例子可列舉：(1)降冰片烯系聚合物、(2)單環的環烯烴的聚合物、(3)環狀共軛二烯的聚合物、(4)乙烯基脂環式烴聚合物、(5)降冰片烯系加成(共)聚合物、及(1)~(5)的氫化物等。亦可較佳地使用包含至少一種環狀重複單元的開環(共)聚合物。
降冰片烯系聚合物氫化物可如日本專利特開平1-240517號、日本專利特開平7-196736號、日本專利特開昭60-26024號、日本專利特開昭62-19801號、日本專利特開2003-1159767號或日本專利特開2004-309979號各公報等中所揭示般，藉由使多環狀不飽和化合物進行加成聚合或複分解(metathesis)開環聚合後進行氫化而製作製造。
降冰片烯系樹脂是自JSR(股)以商品名Arton G或Arton F出售，另外，自日本傑昂(股)以商品名Zeonor ZF14、Zeonor ZF16、Zeonex 250或Zeonex 280市售，可使用該些。
降冰片烯系加成(共)聚合物於日本專利特開平10-7732號公報、日本專利特表2002-504184號公報、美國公開專利2004229157A1號或WO2004/070463A1號等中有所揭示。可藉由使降冰片烯系多環狀不飽和化合物彼此進行加成聚合而獲得。另外，亦可視需要使降冰片烯系多環狀不飽和化合物、與乙烯、丙烯、丁烯；如丁二烯、異戊二烯之類的共軛二烯；如亞乙基降冰片烯之類的非共軛二烯；丙烯腈、丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸酐、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、順丁烯二醯亞胺、乙酸乙烯酯、氯乙烯等線性二烯化合物進行加成聚合。其中，較佳為與乙烯的共聚物。該降冰片烯系加成(共)聚合物自三井化學(股)以商品名APEL出售，有玻璃轉移溫度(glass transition temperature，Tg)不同的例如APL8008T(Tg70℃)、APL6013T(Tg125℃)或APL6015T(Tg145℃)等品級(grade)。自寶理塑膠(Polyplastics)(股)出售有TOPAS 8007、TOPAS 6013、TOPAS 6015等顆粒(pellet)。自菲林(Ferrania)公司出售有Appear3000。
環烯烴聚合物中，環烯烴聚合單元的含量較佳為5質量%~95質量%。另外，環烯烴聚合物的玻璃轉移溫度(Tg)無限制，例如亦可使用如200℃~400℃的高Tg的環烯烴聚合物聚合物。
作為環烯烴聚合物而較佳的例子可列舉以下通式(21)、或通式(22)所表示的環烯烴聚合物等。
[化1]
通式(21)中，R1~R3分別獨立地表示氫原子或碳原子數1~10(較佳為1~6、例如1~3)的烴基(例如鏈狀或環狀的烷基、烯基、或炔基)。l、m、n表示0~4的整數，典型的是1。
通式(22)中，R11~R12分別獨立地表示氫原子或碳原子數1~10(較佳為1~6、例如1~3)的烴基(例如鏈狀或環狀的烷基、烯基、或炔基)。o表示0~4的整數，典型的是1。
[塗佈方法]
含環烯烴聚合物的層可藉由將包含環烯烴聚合物的組成物塗佈於暫時支持體上，進而對塗佈層進行加熱、乾燥而形成。
包含環烯烴聚合物的組成物的塗佈可藉由浸漬塗佈法(dip coating method)、氣刀塗佈法(air knife coating method)、簾幕式塗佈法(curtain coating method)、輥式塗佈法(roller coating method)、線棒塗佈法(wire bar coating method)、凹版塗佈法(gravure coating method)、模具塗佈法(die coating method)等進行。於藉由塗佈形成後述的光學各向異性層、丙烯酸系聚合物層、配向層等時，亦可使用相同的塗佈方法。
於形成含環烯烴聚合物的層時，其中尤其更佳為微凹版塗佈法(micro gravure coating method)、線棒塗佈法、模具塗佈法(參照美國專利2681294號說明書、日本專利特開2006-122889號公報)，尤佳為模具塗佈法。
藉由使用塗佈方法形成含環烯烴聚合物的層，而可形成利用溶液流延法或熔融流延法無法達成的薄膜。
(塗佈步驟)
圖1中示出表示可用於本發明的製造方法的塗佈步驟的一例的圖。
自送出機或上一步驟送出的膜12(暫時支持體等)是於塗佈裝置10中被實施塗佈步驟。塗佈裝置10包括：塗佈液供給部(以下，稱為塗佈頭(coating head))14，其將自塗佈液槽(tank)藉由泵(pump)等送液的塗佈液塗佈於膜12；圓筒狀支承輥(backup roller)15，其與塗佈頭14對向配置而設置，且以外周面支持塗佈時的膜12；及支柱16，其經由軸承保持支承輥15的旋轉軸使之旋轉自如。塗佈頭14是塗佈頭前端與連續移行的膜12近接而以 非接觸的狀態對向配置。塗佈頭14與膜12的間隔是構成為可調整的。塗佈頭14是自塗佈液槽藉由泵送液，藉由調整泵的塗佈液送出量，可控制獲得所需的塗佈膜厚的塗佈量。雖未圖示，但就使塗佈液的供給流量穩定化而言，泵較佳為使用定量泵。定量泵例如可使用齒輪泵(gear pump)、滾子泵(roller pump)等各種泵。
所述塗佈步驟較佳為於良好的無塵度及最佳的溫濕度的環境下實施。此外，塗佈後的乾燥步驟、形成光學各向異性層時的紫外線照射步驟、及製作配向膜時的摩擦(rubbing)步驟等亦於塗佈步驟的上游或下游作為一連串的步驟進行，且同樣較佳為於良好的無塵度及最佳的溫濕度的環境下實施。所述塗佈步驟等較佳為於無塵室(clean room)內進行，特別是塗佈裝置10較佳為設置於潔淨度高的環境下。為此，可採用併用降流(down flow)的無塵室或無菌無塵工作台(clean bench)的形態。
塗佈裝置10例如可使用擠壓(extrusion)型的塗佈機(coater)、棒式塗佈機(bar coater)(亦稱為「棒塗機(rod coater)」，亦包含邁耶棒式塗佈機(Meyer bar coater))、凹版塗佈機(gravure coater)(直接凹版塗佈機(direct gravure coater)、凹版吻合式塗佈機(gravure kiss coater)等)、輥式塗佈機(roll coater)(傳送輥塗佈機、逆輥塗佈機等)、模塗機(die coater)、噴注式塗佈機(fountain coater)、滑板料斗(slide hopper)等。
塗佈步驟後較佳為供至使塗佈膜乾燥的乾燥步驟。乾燥步驟中所使用的乾燥裝置亦可無限定地使用通常的乾燥裝置。例 如，可使用利用熱風的對流乾燥方式、利用紅外線等輻射熱的輻射乾燥方式等。在使用熱風的情況下，調整熱風的溫度及風速而控制塗膜的乾燥。另外，在施加熱風時，可使用狹縫噴嘴(slit nozzle)(於帶狀的支持體的寬度方向具有狹縫狀的開口形狀的噴嘴)或穿孔噴嘴(punching nozzle)(多孔式的平板噴嘴)等。
[溶劑]
於本發明的方法中，藉由塗佈而形成含環烯烴聚合物的層、及後述的光學各向異性層、丙烯酸系聚合物層、配向層等時的塗佈液的製備中所使用的溶劑可較佳地使用有機溶劑或水、或該些的混合溶劑。有機溶劑的例子可列舉：醯胺(例如，N,N-二甲基甲醯胺)、亞碸(例如，二甲基亞碸)、雜環化合物(例如，吡啶)、烴(例如，苯、己烷)、烷基鹵化物(例如，氯仿、二氯甲烷)、酯(例如，乙酸甲酯、乙酸丁酯)、酮(例如，丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮)、醚(例如，四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷)、烷基醇(例如，甲醇、乙醇、丙醇)。另外，亦可混合使用兩種以上的溶劑。所述之中，較佳為烷基鹵化物、酯、酮及該些的混合溶劑。
[光學各向異性層]
轉印材料亦可包含光學各向異性層。另外，藉由本發明的製造方法製造的偏光板亦可包含光學各向異性層。
於使用轉印材料將光學各向異性層設置於偏光板時，藉由設為具有含環烯烴聚合物的層的轉印材料，而使轉印時的暫時支持 體的剝離變得良好。另外，由於藉由含環烯烴聚合物的層可獲得良好的剝離性，故而與不包括含環烯烴聚合物的層的情況相比，可使用各種暫時支持體。因此，為了利用表面檢測機檢測轉印材料，可選擇不易產生彩虹狀不均勻(rainbow unevenness)等的暫時支持體。
光學各向異性層是具有在測定延遲時存在即便一個延遲實質上不為0的入射方向、即非各向同性的光學特性的層。本發明中所使用的光學各向異性層是藉由對包含液晶化合物的聚合性組成物進行光照射使液晶化合物聚合而形成。聚合性組成物只要為包含具有至少1個聚合性基的液晶化合物且利用光照射而使液晶化合物藉由聚合性基進行聚合的組成物即可。聚合性組成物較佳為塗佈於暫時支持體上。尤佳為直接塗佈於作為暫時支持體的膜經摩擦處理的面、或直接塗佈於配向層。可藉由將塗佈層進一步藉由室溫等乾燥、或進行加熱(例如，50℃~150℃、較佳為80℃~120℃的加熱)，而使層中的液晶化合物分子配向。只要對其進行光照射使之聚合固定化，藉此形成光學各向異性層即可。
光學各向異性層的膜厚只要為10μm以下、小於8μm、7μm以下、6μm以下、5μm以下、4μm以下、3μm以下、2μm以下、1.9μm以下、1.8μm以下、1.7μm以下、1.6μm以下、1.5μm以下、1.4μm以下、1.3μm以下、1.2μm以下、1.1μm以下或1μm以下，且0.2μm以上、0.3μm以上、0.4μm以上、0.5μm以上、0.6μm以上、0.7μm以上、0.8μm以上、0.9μm以上即可。 光學各向異性層亦較佳為透明(例如，透光率為80%以上)。
[兩層以上的光學各向異性層]
本發明的偏光板亦可包含兩層以上的光學各向異性層。兩層以上的光學各向異性層可於法線方向上相互直接接觸，亦可於其間夾有配向層等其他層。形成兩層以上的層的聚合性組成物可相互相同亦可不同。例如，於組合兩層光學各向異性層時，可為由包含棒狀液晶化合物的組成物形成的層彼此、或由包含圓盤狀液晶化合物的組成物形成的層彼此的組合，亦可為由包含棒狀液晶化合物的組成物形成的層與由包含圓盤狀液晶化合物的組成物形成的層的組合。於轉印材料(偏光板)包含兩層以上的光學各向異性層時，先製作的光學各向異性層亦可作為後形成的光學各向異性層的配向層而發揮功能。此時先製作的光學各向異性層亦可被實施摩擦。另外，亦可被實施氧化表面處理。氧化表面處理較佳為電暈放電處理(corona discharge treatment)或電漿處理(plasma treatment)。於包含兩層以上的光學各向異性層時，較佳為光學各向異性層的膜厚的總計為所述的膜厚。
兩層的光學各向異性層例如亦可一併具有作為λ/4相位差板的功能。λ/4相位差板是與偏光元件(直線偏光元件)組合而發揮作為圓偏光板(circularly polarizing plate)的功能。
相位差板具有非常多的用途，已被用於反射型液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)、半透過型LCD、增亮膜、有機電致發光(electroluminescence，EL)顯示裝置、觸控面板(touch panel)等。例如，有機EL(有機電致發光)元件具有積層折射率不同的層的構造、或使用金屬電極的構造，因此有外界光於各層的界面發生反射而產生對比度(contrast)降低或反射眩光(reflected glare)的問題等的情況。因此，自先前以來，為了抑制由外界光反射引起的不良影響，而將包含相位差板與偏光膜的圓偏光板用於有機EL顯示裝置或LCD顯示裝置等。
[液晶化合物]
液晶化合物可列舉棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物。
棒狀液晶化合物可較佳地使用偶氮甲鹼類、氧偶氮基(azoxy)類、氰基聯苯類、氰基苯酯類、苯甲酸酯類、環己烷羧酸苯酯類、氰基苯基環己烷類、經氰基取代的苯基嘧啶類、經烷氧基取代的苯基嘧啶類、苯基二噁烷類、二苯乙炔類及烯基環己基苯甲腈類。不僅可使用如上的低分子液晶性分子，而且亦可使用高分子液晶性分子。
棒狀液晶化合物更佳為藉由聚合使配向固定，聚合性棒狀液晶化合物可使用「大分子化學(Makromol.Chem.)」、第190卷、第2255頁(1989年)，「先進材料(Advanced Materials)」、第5卷、第107頁(1993年)，美國專利4683327號、美國專利5622648號、美國專利5770107號，WO95/22586號、WO95/24455號、WO97/00600號、WO98/23580號、WO98/52905號，日本專利特開平1-272551號、日本專利特開平6-16616號、日本專利特開平7-110469號、日本專利特開平11-80081號、及日本專利特願 2001-64627號等中記載的化合物。另外，聚合性棒狀液晶化合物較佳為下述通式(1)所表示的聚合性棒狀液晶化合物。
通式(1) Q1-L1-Cy1-L2-(Cy2-L3)n-Cy3-L4-Q2
(通式(1)中，Q1及Q2分別獨立為聚合性基，L1及L4分別獨立為二價連結基，L2及L3分別獨立為單鍵或二價連結基，Cy1、Cy2及Cy3為二價環狀基，n為0、1、2或3)
以下，進而對通式(1)所表示的聚合性棒狀液晶化合物進行說明。
通式(1)中，Q1及Q2分別獨立為聚合性基。聚合性基的聚合反應較佳為加成聚合(包含開環聚合)或縮合聚合。換言之，聚合性基較佳為可進行加成聚合反應或縮合聚合反應的官能基。以下表示聚合性基的例子。
[化2]
所述之中，較佳的聚合性基可列舉：丙烯酸基、甲基丙烯酸基。尤佳為通式(1)中的Q1及Q2兩者為丙烯酸基或甲基丙烯酸基。
通式(1)中，L1及L4分別獨立為二價連結基。L1及L4較佳為分別獨立為選自由-O-、-S-、-CO-、-NR-、-C=N-、二價鏈狀基、二價環狀基及該些的組合所組成的組群中的二價連結基。所述R為碳原子數為1至7的烷基或氫原子。R較佳為碳原子數1至4的烷基或氫原子，進而較佳為甲基、乙基或氫原子，最佳為氫原子。
將包含組合的二價連結基的例子示於以下。此處，左側 鍵結於Q(Q1或Q2)、右側鍵結於Cy(Cy1或Cy3)。
L-1：-CO-O-二價鏈狀基-O-
L-2：-CO-O-二價鏈狀基-O-CO-
L-3：-CO-O-二價鏈狀基-O-CO-O-
L-4：-CO-O-二價鏈狀基-O-二價環狀基-
L-5：-CO-O-二價鏈狀基-O-二價環狀基-CO-O-
L-6：-CO-O-二價鏈狀基-O-二價環狀基-O-CO-
L-7：-CO-O-二價鏈狀基-O-二價環狀基-二價鏈狀基-
L-8：-CO-O-二價鏈狀基-O-二價環狀基-二價鏈狀基-CO-O-
L-9：-CO-O-二價鏈狀基-O-二價環狀基-二價鏈狀基-O-CO-
L-10：-CO-O-二價鏈狀基-O-CO-二價環狀基-
L-11：-CO-O-二價鏈狀基-O-CO-二價環狀基-CO-O-
L-12：-CO-O-二價鏈狀基-O-CO-二價環狀基-O-CO-
L-13：-CO-O-二價鏈狀基-O-CO-二價環狀基-二價鏈狀基-
L-14：-CO-O-二價鏈狀基-O-CO-二價環狀基-二價鏈狀基-CO-O-
L-15：-CO-O-二價鏈狀基-O-CO-二價環狀基-二價鏈狀基-O-CO-
L-16：-CO-O-二價鏈狀基-O-CO-O-二價環狀基-
L-17：-CO-O-二價鏈狀基-O-CO-O-二價環狀基-CO-O-
L-18：-CO-O-二價鏈狀基-O-CO-O-二價環狀基-O-CO-
L-19：-CO-O-二價鏈狀基-O-CO-O-二價環狀基-二價鏈狀基-
L-20：-CO-O-二價鏈狀基-O-CO-O-二價環狀基-二價鏈狀基-CO-O-
L-21：-CO-O-二價鏈狀基-O-CO-O-二價環狀基-二價鏈狀基-O-CO-
二價鏈狀基意指伸烷基、經取代的伸烷基、伸烯基、經取代的伸烯基、伸炔基、經取代的伸炔基。較佳為伸烷基、經取代的伸烷基、伸烯基、經取代的伸烯基，進而較佳為伸烷基及伸烯基。
伸烷基亦可具有分支。伸烷基的碳數較佳為1至12，進而較佳為2至10，最佳為2至8。
經取代的伸烷基的伸烷基部分與所述伸烷基相同。取代基的例子包含鹵素原子。
伸烯基亦可具有分支。伸烯基的碳數較佳為2至12，進而較佳為2至10，最佳為2至8。
經取代的伸烷基的伸烷基部分與所述伸烷基相同。取代基的例子包含鹵素原子。
伸炔基亦可具有分支。伸炔基的碳數較佳為2至12，進而較佳為2至10，最佳為2至8。
取代伸炔基的伸炔基部分與所述伸炔基相同。取代基的例子包含鹵素原子。
二價鏈狀基的具體例可列舉：伸乙基、三亞甲基、伸丙基、四亞甲基、2-甲基-四亞甲基、五亞甲基、六亞甲基、八亞甲基、 2-伸丁烯基、2-伸丁炔基等。
二價環狀基的定義及例子與後述Cy1、Cy2及Cy3的定義及例子相同。
通式(1)中，L2或L3分別獨立為單鍵或二價連結基。L2及L3較佳為分別獨立為選自由-O-、-S-、-CO-、-NR-、-C=N-、二價鏈狀基、二價環狀基及該些的組合所組成的組群中的二價連結基或單鍵。所述R為碳原子數為1至7的烷基或氫原子，較佳為碳原子數為1至4的烷基或氫原子，進而較佳為甲基、乙基或氫原子，最佳為氫原子。二價鏈狀基、及二價環狀基與L1及L4的定義含義相同。
作為L2或L3而較佳的二價連結基可列舉：-COO-、-OCO-、-OCOO-、-OCONR-、-COS-、-SCO-、-CONR-、-NRCO-、-CH2CH2-、-C=C-COO-、-C=N-、-C=N-N=C-等。
通式(1)中，n為0、1、2或3。在n為2或3的情況下，兩個L3可相同亦可不同，兩個Cy2亦可相同亦可不同。n較佳為1或2，進而較佳為1。
通式(1)中，Cy1、Cy2及Cy3分別獨立為二價環狀基。
環狀基中所含的環較佳為五員環、六員環、或七員環，進而較佳為五員環或六員環，最佳為六員環。
環狀基中所含的環亦可為縮合環。但是，單環較縮合環更佳。
環狀基中所含的環亦可為芳香族環、脂肪族環、及雜環中的任一種。芳香族環的例子包含苯環及萘環。脂肪族環的例子包含 環己烷環。雜環的例子包含吡啶環及嘧啶環。
具有苯環的環狀基較佳為1,4-伸苯基。具有萘環的環狀基較佳為萘-1,5-二基及萘-2,6-二基。具有環己烷環的環狀基較佳為1,4-伸環己基。具有吡啶環的環狀基較佳為吡啶-2,5-二基。具有嘧啶環的環狀基較佳為嘧啶-2,5-二基。
環狀基亦可具有取代基。取代基的例子包含鹵素原子、氰基、硝基、碳原子數為1至5的烷基、碳原子數為1至5的经鹵素取代的烷基、碳原子數為1至5的烷氧基、碳原子數為1至5的烷硫基、碳原子數為2至6的醯氧基、碳原子數為2至6的烷氧基羰基、胺甲醯基、經碳原子數為2至6的烷基取代的胺甲醯基及碳原子數為2至6的醯基胺基。
以下表示通式(1)所表示的聚合性棒狀液晶化合物的例子，但聚合性棒狀液晶化合物的例子並不限定於該些。
[化3]
[化4]
[化5]
[化6]
另外，棒狀液晶化合物較佳為除通式(1)所表示的聚合性棒狀液晶化合物以外，亦併用至少一種下述通式(2)所表示的化合物。
通式(2)M1-(L1)p-Cy1-L2-(Cy2-L3)n-Cy3-(L4)q-M2
(通式(2)中，M1及M2分別獨立地表示氫原子、經取代或未經取代的烷基、經取代或未經取代的芳基、雜環基、氰基、鹵素、-SCN、-CF3、硝基、或Q1，且M1及M2的至少一者表示Q1 以外的基。
其中，Q1、L1、L2、L3、L4、Cy1、Cy2、Cy3及n與通式(1)所表示的基團含義相同。另外，p及q為0、或1)
在M1及M2不表示Q1的情況下，M1及M2較佳為氫原子、經取代或未經取代的烷基、經取代或未經取代的芳基、氰基，更佳為碳數1~4的烷基、或苯基，p及q較佳為0。
另外，通式(1)所表示的聚合性液晶化合物與通式(2)所表示的化合物的混合物中，通式(2)所表示的化合物的較佳的混合比率(質量比)為0.1%~40%，更佳為1%~30%，進而較佳為5%~20%。
以下表示通式(2)所表示的化合物的較佳例，但本發明並不限定於該些。
[化7]
圓盤狀液晶化合物於多個文獻(C.Destrade et al.,Mol.Cryst.Liq.Cryst.,vol.71,page 111(1981)；「日本化學會編」、季「刊化學總述」、No.22、「液晶的化學」、第5章、第10章第2節(1994)；B.Kohne et al.,Angew.Chem.Soc.Chem.Comm.,page 1794(1985)；J.Zhang et al.,J.Am.Chem.Soc.,vol.116,page 2655(1994))中有所記載。關於圓盤狀液晶化合物的聚合，於日本專利特開平8-27284公報中有記載。為了使圓盤狀配向層液晶化合物藉由聚合而固定，必須使聚合性基作為取代基而鍵結於圓盤狀液晶化合物的圓盤狀核(core)。但是，若使聚合性基直接鍵結於圓盤狀核，則難以於聚合反應中保持配向狀態。因此，於圓盤狀核與聚合性基之間導入連結基。即，光硬化型圓盤狀液晶化合物較佳為下述式(3)所表示的化合物。
通式(3)D(-L-P)n
(通式中，D為圓盤狀核，L為二價連結基，P為聚合性基，n為4~12的整數)
式(3)中的圓盤狀核(D)、二價連結基(L)及聚合性基(P)的較佳的具體例分別為日本專利特開2001-4837號公報中記載的(D1)~(D15)、(L1)~(L25)、(P1)~(P18)，可較佳地利 用該公報中所記載的內容。
另外，圓盤狀液晶化合物亦較佳為使用日本專利特開2007-2220號公報中記載的通式(DI)所表示的化合物。
液晶化合物相對於聚合性組成物的固體成分質量(溶劑除外的質量)以80質量%以上、90質量%以上、或95質量%以上、且99.99質量%以下、99.98質量%以下、99.97質量%以下含有即可。特別是包含丙烯酸基、或甲基丙烯酸基的化合物較佳為以70質量%以上、80質量%以上、90質量%以上、或95質量%以上、且99.99質量%以下、99.98質量%以下、99.97質量%以下含有。
液晶化合物可以水平配向、垂直配向、傾斜配向、及扭曲配向的任一配向狀態固定。此外，本說明書中，所謂「水平配向」，在棒狀液晶的情況下，是指分子長軸與透明支持體的水平面為平行，在圓盤狀液晶的情況下，是指圓盤狀液晶化合物的核的圓盤面與透明支持體的水平面為平行，但並不要求嚴格平行，本說明書中，意指與水平面所成的傾斜角小於10度的配向。本發明中所使用的光學各向異性層較佳為包含以使棒狀液晶化合物水平配向的狀態固定化者。
[配向固定化]
液晶化合物的聚合反應只要為光聚合反應即可。光聚合反應可為自由基聚合(radical polymerization)、陽離子聚合(cationic polymerization)的任一種，但較佳為自由基聚合。自由基光聚合起始劑的例子包含α-羰基化合物(記載於美國專利2367661號、 美國專利2367670號的各說明書)、酮醇(acyloin)醚(記載於美國專利2448828號說明書)、α-烴取代芳香族酮醇化合物(記載於美國專利2722512號說明書)、多核醌化合物(記載於美國專利3046127號、美國專利2951758號的各說明書)、三芳基咪唑二聚體與對胺基苯基酮的組合(記載於美國專利3549367號說明書)、吖啶及吩嗪化合物(記載於日本專利特開昭60-105667號公報、美國專利4239850號說明書)及噁二唑化合物(記載於美國專利4212970號說明書)。陽離子光聚合起始劑的例子可例示有機鋶鹽系、錪鹽系、鏻鹽系等，較佳為有機鋶鹽系，尤佳為三苯基鋶鹽。該些化合物的抗衡離子(counter ion)可較佳地使用六氟銻酸根離子、六氟磷酸根離子等。
光聚合起始劑的使用量較佳為塗佈液的固體成分的0.01質量%~20質量%，進而較佳為0.5質量%~5質量%。用於液晶化合物的聚合的光照射較佳為使用紫外線。照射能量(energy)較佳為10mJ/cm2~10000mJ/cm2，進而較佳為25mJ/cm2~1000mJ/cm2。照度較佳為10mW/cm2~2000mW/cm2，更佳為20mW/cm2~1500mW/cm2，進而較佳為40mW/cm2~1000mW/cm2。作為照射波長，較佳為於250nm~450nm具有峰值(peak)，進而較佳為於300nm~410nm具有峰值。為了促進光聚合反應，亦可於氮氣等惰性氣體環境下或加熱條件下實施光照射。
[水平配向劑]
藉由使包含液晶化合物的聚合性組成物中含有日本專利特開 2009-69793號公報的段落「0098」~「0105」中記載的使用通式(1)~通式(3)所表示的化合物及通式(4)的單體(monomer)的含氟均聚物(homopolymer)或共聚物的至少一種，可使液晶化合物的分子實質上進行水平配向。在使液晶化合物進行水平配向的情況下，其傾斜角較佳為0度~5度，更佳為0度~3度，進而較佳為0度~2度，最佳為0度~1度。
水平配向劑的添加量較佳為液晶化合物的質量的0.01質量%~20質量%，更佳為0.01質量%~10質量%，尤佳為0.02質量%~1質量%。此外，日本專利特開2009-69793號公報的段落「0098」~「0105」中記載的通式(1)~通式(4)所表示的化合物可單獨使用，亦可併用兩種以上。
[其他添加劑]
包含液晶化合物的聚合性組成物亦可含有日本專利特開2006-113500號公報中記載的式(I)所表示的吡啶鎓化合物。吡啶鎓化合物可作為配向層界面側垂直配向劑而發揮功能，例如可使盤狀(discotic)液晶性化合物的分子於配向層附近實質上垂直配向。包含液晶化合物的聚合性組成物亦可含有日本專利特開2013-054201號公報中記載的通式(I)所表示的硼酸化合物。
包含液晶化合物的聚合性組成物此外亦可含有必需的添加劑，但較佳為不含所謂的手性劑(chiral agent)。
[配向層]
光學各向異性層亦可由塗佈於配向層的表面的聚合性組成物 的層所形成。配向層是設置於暫時支持體(延伸膜)或塗設於暫時支持體上的底塗層的表面。配向層發揮規定設置於其上的聚合性組成物中的液晶化合物的配向的功能。配向層只要可對光學各向異性層賦予配向性，則可為任意層。配向層的較佳例可列舉：酚樹脂、環氧樹脂、氟樹脂、聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂等。另外，例如較佳為含有羥基、胺基、羧基、磺酸基、磷酸基等親水性基的有機材料。具體而言，可使用丙烯酸系樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚酯樹脂、胺基樹脂等。進而，可列舉：經有機化合物(較佳為聚合物)的摩擦處理的層、以偶氮苯聚合物或聚肉桂酸乙烯酯為代表的藉由偏光照射而表現出液晶的配向性的光配向層、無機化合物的斜向蒸鍍層、及具有微溝(microgroove)的層、進而ω-二十三烷酸、二(十八烷基)甲基氯化銨及硬脂酸甲酯等藉由朗繆爾布洛節塔法(Langmuir-Blodgett，LB膜)形成的累積膜、或藉由賦予電場或磁場使介電體配向而成的層。配向層較佳為於摩擦的態樣中包含聚乙烯醇，尤佳為可與配向層的上或下的至少任一層交聯。控制配向方向的方法較佳為光配向層及微溝。光配向層尤佳為如聚肉桂酸乙烯酯般藉由二聚化而表現配向性，微溝尤佳為預先藉由機械加工或雷射(laser)加工而製作的母輥(master roll)的壓紋處理(emboss treatment)。
對配向層等光學各向異性層的下層等層所實施的摩擦處理通常可藉由以紙或布沿一定方向對以聚合物為主成分的膜的表面進行摩擦而實施。關於摩擦處理的通常的方法，例如於「液晶 便覽」(丸善公司發行，2000年10月30日)中有所記載。
改變摩擦密度的方法可使用「液晶便覽」(丸善公司發行)中記載的方法。摩擦密度(L)是以下述式(A)定量化。
式(A) L=Nl(1+2 πrn/60v)
式(A)中，N為摩擦次數，l為摩擦輥的接觸長度，r為輥的半徑，n為輥的轉速(rpm)，v為台(stage)移動速度(秒速)。
為了提高摩擦密度，只要增加摩擦次數，加長摩擦輥的接觸長度，增大輥的半徑，增大輥的轉速，減慢台移動速度即可，另一方面，為了降低摩擦密度，只要反之即可。
另外，摩擦處理時的條件亦可參照日本專利4052558號的記載。
[丙烯酸系聚合物層]
轉印材料亦可包含丙烯酸系聚合物層。另外，藉由本發明的製造方法製造的偏光板亦可包含丙烯酸系聚合物層。
丙烯酸系聚合物層形成用的材料通常較含環烯烴聚合物的層的形成用的材料廉價，但作為用以將丙烯酸系聚合物層設置於包含偏光元件的膜的轉印材料，即便本發明者等人欲製作於所述的暫時支持體的表面直接設置有丙烯酸系聚合物層的構成的轉印材料，亦難以將丙烯酸系聚合物層無缺陷地剝離。但是，藉由使用在暫時支持體上具有含環烯烴聚合物的層的轉印材料，於含環烯 烴聚合物的層上設置丙烯酸系聚合物層，可形成具有自暫時支持體的良好的剝離性，並且以更廉價構成具有所需的膜厚的透明且低雙折射性的保護膜。
轉印材料亦可包含丙烯酸系聚合物層以及光學各向異性層。此時，丙烯酸系聚合物層及光學各向異性層的層順序並無特別限定。亦可依序包含含環烯烴聚合物的層、丙烯酸系聚合物層、及光學各向異性層，且丙烯酸系聚合物層兼作用於形成光學各向異性層的配向層。
丙烯酸系聚合物層可為於含環烯烴聚合物的層或光學各向異性層等的下層的表面塗佈包含(甲基)丙烯酸酯單體的聚合性組成物並使該塗佈層硬化而形成的層，可為塗佈含丙烯酸系聚合物的組成物並使該塗佈層乾燥而形成的層，亦可為藉由接著等設置有另外製作的丙烯酸系聚合物膜的層。
丙烯酸系聚合物層較佳為低雙折射性且透明的丙烯酸系聚合物層。只要使用光學各向同性者即可。所謂為光學各向同性，意指面內延遲(Re(550))的絕對值為10nm以下且厚度方向延遲(Rth)的絕對值為10nm以下。
用以形成丙烯酸系聚合物層的包含(甲基)丙烯酸酯的聚合性組成物中的(甲基)丙烯酸酯只要為含有丙烯醯基或甲基丙烯醯基的化合物，則並無特別限定。化合物中的丙烯醯基或甲基丙烯醯基可為1個，亦可為2個以上(例如，2個、3個、4個等)。(甲基)丙烯酸酯的分子量只要為5000以下左右即可，較佳為3000 以下，更佳為2000以下，尤佳為1000以下。例如，(甲基)丙烯酸酯可列舉：(甲基)丙烯酸、其各種酯((甲基)丙烯酸甲酯等)。
用以形成丙烯酸系聚合物層的包含(甲基)丙烯酸酯的聚合性組成物中亦可含有(甲基)丙烯酸酯以外的聚合性化合物。
丙烯酸系聚合物例如可列舉：聚(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸與其各種酯的共聚物、苯乙烯與(甲基)丙烯酸或各種(甲基)丙烯酸酯的共聚物、乙烯基甲苯與(甲基)丙烯酸或各種(甲基)丙烯酸酯的共聚物等。較佳例可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯與(甲基)丙烯酸的共聚物，(甲基)丙烯酸烯丙酯與(甲基)丙烯酸的共聚物，(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸、及其他單體的多元共聚物等。該些聚合物可單獨使用，亦可組合使用多種。
丙烯酸系聚合物層可為使(甲基)丙烯酸酯及其他單體進行熱聚合而成的層亦可為進行光聚合而成的層，但尤佳為進行光聚合而成的層。光聚合反應只要於由包含液晶化合物的聚合性組成物形成的層直接塗佈包含(甲基)丙烯酸酯的聚合性組成物，於該塗佈層進行即可。用於光聚合反應的光照射只要於與上述用於液晶化合物的聚合的光照射相同的條件下進行即可，用於液晶化合物的聚合的光照射亦可使(甲基)丙烯酸酯同時聚合。
聚合起始劑可根據方法適當使用熱聚合起始劑、光聚合起始劑。
光聚合起始劑可列舉：美國專利第2367660號說明書中揭示的鄰聚縮酮基(vicinal polyketaldonyl)化合物、美國專利第2448828 號說明書中記載的酮醇醚化合物、美國專利第2722512號說明書中記載的經α-烴取代的芳香族酮醇化合物、美國專利第3046127號說明書及美國專利第2951758號說明書中記載的多核醌化合物、美國專利第3549367號說明書中記載的三芳基咪唑二聚物與對胺基酮的組合、日本專利特公昭51-48516號公報中記載的苯并噻唑化合物與三鹵甲基均三嗪化合物、美國專利第4239850號說明書中記載的三鹵甲基-三嗪化合物、美國專利第4212976號說明書中記載的三鹵甲基噁二唑化合物等。尤佳為三鹵甲基均三嗪、三鹵甲基噁二唑及三芳基咪唑二聚物。另外，此外亦可列舉日本專利特開平11-133600號公報中記載的「聚合起始劑C」作為較佳者。
另外，聚合起始劑的量較佳為用於形成丙烯酸系聚合物層的聚合性組成物的固體成分的0.01質量%~20質量%，進而較佳為0.2質量%~10質量%。
為了使丙烯酸系聚合物層具有硬塗(hard coat)性，而使用Tg高的聚合物作為丙烯酸系聚合物層中的聚合物。其Tg較佳為50℃以上，更佳為80℃以上，進而較佳為100℃以上。為了提高聚合物的Tg，可導入羥基、羧酸基、胺基等極性基。高Tg聚合物的一例可列舉：聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸乙酯等(甲基)丙烯酸烷基酯的反應物、(甲基)丙烯酸烷基酯與(甲基)丙烯酸的共聚物、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯等含有羥基的(甲基)丙烯酸酯的反應物、(甲基)丙烯酸烷基酯與作 為含有羥基的(甲基)丙烯酸酯與琥珀酸酐、鄰苯二甲酸酐等酸酐的反應物的半酯的共聚物等。
另外，為了賦予硬塗性，亦可使用藉由光照射或熱使包含至少一種二官能以上的聚合性單體及聚合性聚合物的層聚合而成的層。反應性基除了(甲基)丙烯酸基以外，可列舉：乙烯基、烯丙基、環氧基、氧雜環丁烷基、乙烯基醚基等。聚合性聚合物的一例可列舉：(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、甘油1,3-二(甲基)丙烯酸酯等含有聚合性基的丙烯酸酯的反應物、含有聚合性基的丙烯酸酯與(甲基)丙烯酸的共聚物、及含有聚合性基的丙烯酸酯與其他單體的多元共聚物。
丙烯酸系聚合物層的膜厚較佳為60μm以下、50μm以下、40μm以下、30μm以下、25μm以下、或15μm以下、且2μm以上、3μm以上、3.5μm以上、4μm以上、4.5μm以上、或5μm以上。
[其他層]
轉印材料除所述層以外，亦可包含低透濕層、保護層、抗靜電層、硬塗層、接著層等其他功能性層。
[偏光板的製作方法]
於本發明的偏光板的製作方法中，可將上述的轉印材料的暫時支持體剝離，將剝離暫時支持體後的層或積層體積層於包含偏光元件的膜，亦可將上述轉印材料積層於包含偏光元件的膜，其後將暫時支持體剝離。在將暫時支持體剝離後進行積層的情況 下，可使含環烯烴聚合物的層位於包含偏光元件的膜側的面，亦可使含環烯烴聚合物的層以外的層的面位於包含偏光元件的膜側的面。在積層後將暫時支持體剝離的情況下，自暫時支持體觀察以含環烯烴聚合物的層側的面成為包含偏光元件的膜側的面的方式進行積層。積層只要經由接著層進行即可。接著層只要為包含接著劑或黏著劑的層即可。即，轉印材料與包含偏光元件的膜只要藉由接著劑或黏著劑接著或黏著即可。接著劑並無特別限定，可列舉：如日本專利特開2004-245925號公報中所揭示的於分子內不含芳香環的環氧化合物的硬化性接著劑，日本專利特開2008-174667號公報記載的以於360nm~450nm的波長下莫耳吸光係數為400以上的光聚合起始劑與紫外線硬化性化合物作為必需成分的活性能量線硬化型接著劑，日本專利特開2008-174667號公報記載的於(甲基)丙烯酸系化合物的合計量100質量份中含有(a)分子中具有2個以上(甲基)丙烯醯基的(甲基)丙烯酸系化合物、(b)分子中具有羥基且僅具有1個聚合性雙鍵的(甲基)丙烯酸系化合物、及(c)苯酚環氧乙烷改質丙烯酸酯或壬基苯酚環氧乙烷改質丙烯酸酯的活性能量線硬化型接著劑等。
[包含偏光元件的膜]
包含偏光元件的膜可僅包含偏光元件，亦可除了包含偏光元件以外還包含保護膜等其他層。包含偏光元件的膜可於最表面包含偏光元件，亦可於偏光元件的兩側的面存在其他層。可以位於最表面的偏光元件的面接著於轉印材料(或自轉印材料剝離了暫 時支持體所得的積層體)，亦可以其他層的面接著。
[偏光元件]
偏光元件有碘系偏光元件、使用二色性染料的染料系偏光元件或多烯系偏光元件。碘系偏光元件及染料系偏光元件通常是使用聚乙烯醇系膜進行製造。本發明中可使用任一種偏光元件。例如，偏光元件較佳為包含聚乙烯醇(polyvinyl alcohol，PVA)與二色性分子。關於包含聚乙烯醇(PVA)與二色性分子的偏光元件，例如可參照日本專利特開2009-237376號公報的記載。偏光元件的膜厚只要為50μm以下即可，較佳為30μm以下，更佳為20μm以下。
[保護膜(保護層)]
偏光板亦可包含保護膜。例如，亦可於藉由所述的轉印材料設置環烯烴聚合物層或包含該層的積層體的偏光元件的面的相反側的面配置保護膜。保護膜可使用醯化纖維素系聚合物膜、丙烯酸系聚合物膜、或環烯烴系聚合物膜。關於醯化纖維素系聚合物，可參照日本專利特開2011-237474號公報的關於醯化纖維素系樹脂的記載。環烯烴系聚合物膜只要使用由與作為所述的含環烯烴聚合物的層所記載的材料相同的材料形成的膜即可，另外，亦可參照日本專利特開2009-175222號及日本專利特開2009-237376號公報的記載。保護膜的膜厚只要為30μm以下即可，較佳為20μm以下，更佳為10μm以下。
[硬塗層]
偏光板亦可包含硬塗層。硬塗層只要以最外層的形式被包含即可，較佳為自偏光元件觀察包含於光學各向異性層側的最外層。
於本說明書中，所謂硬塗層，是指藉由形成而使透明支持體的鉛筆硬度上升的層。於實際應用上，積層硬塗層後的鉛筆硬度(JIS K5400)較佳為H以上，進而較佳為2H以上，最佳為3H以上。硬塗層的厚度較佳為0.4μm~35μm，進而較佳為1μm~30μm，最佳為1.5μm~20μm。
關於具體的組成，可參照日本專利特開2012-103689號公報的記載。
[實施例]
以下列舉實施例更具體地說明本發明。以下的實施例中所示的材料、試劑、物質量及其比例、操作等只要不脫離本發明的主旨，則可適當變更。因此，本發明的範圍並不限定於以下實施例。
於下述實施例中，形成含環烯烴聚合物的層、丙烯酸系聚合物層、光學各向異性層等時的塗佈液的塗佈是使用圖2所示的步驟，塗佈裝置是使用擠壓型塗佈機。於塗佈步驟後，將膜直接供至乾燥步驟。乾燥裝置是使用利用狹縫噴嘴的對流乾燥方式，乾燥時間是藉由控制膜12(圖2)的搬送速度而進行調整。
<暫時支持體1(乙酸纖維素膜)的製作>
將下述組成物投入至混合槽(mixing tank)中，一面加熱一面攪拌，使各成分溶解，製備乙酸纖維素溶液。
乙酸纖維素溶液的組成
向另一混合槽中投入下述添加劑(A)16質量份、二氯甲烷92質量份及甲醇8質量份，一面加熱一面攪拌，製備添加劑(A)溶液。於乙酸纖維素溶液474質量份中混合添加劑(A)25質量份，充分地攪拌而製備摻雜液(dope)。添加劑(A)的添加量相對於乙酸纖維素100質量份為6.0質量份。
使用帶式延伸機使所獲得的摻雜液流延。帶(band)上的膜面溫度成為40℃後，利用70℃的溫風乾燥1分鐘，自帶將膜利用140℃的乾燥風乾燥10分鐘，製作殘留溶劑量為0.3質量%的乙酸纖維素膜(暫時支持體1)。
所獲得的長條狀的暫時支持體1的寬度為1490mm，厚度為80μm。另外，面內延遲(Re)為8nm，厚度方向的延遲(Rth)為78nm。
<膜T1(暫時支持體/含環烯烴聚合物的層)的製作> (含環烯烴聚合物的層的形成)
於所述製作的暫時支持體1上連續地塗佈下述組成的環烯烴聚合物塗佈液70cc/m2。暫時支持體1的搬送速度是設為30m/min，利用80℃的溫風乾燥60秒。乾燥後的膜厚為7μm。
含環烯烴聚合物的層的形成用塗佈液1的組成
<膜T2(暫時支持體/含環烯烴聚合物的層)的製作> (含環烯烴聚合物的層的形成)
於暫時支持體1上連續地塗佈所述的含環烯烴聚合物的層的形成用塗佈液1的20cc/m2。暫時支持體1的搬送速度是設為30 m/min，利用80℃的溫風乾燥60秒。乾燥後的膜厚為2μm。
<膜T3(暫時支持體/含環烯烴聚合物的層)的製作> (含環烯烴聚合物的層的形成)
於暫時支持體1上連續地塗佈下述組成的環烯烴聚合物塗佈液70cc/m2。暫時支持體1的搬送速度是設為30m/min，利用80℃的溫風乾燥60秒。乾燥裝置是使用利用狹縫噴嘴的對流乾燥方式，乾燥時間是藉由控制膜12(圖2)的搬送速度而調整。乾燥後的膜厚為7μm。
含環烯烴聚合物的層的形成用塗佈液2的組成
<膜T4(暫時支持體/含環烯烴聚合物的層/丙烯酸系聚合物層)的製作> (丙烯酸系聚合物層的形成)
於所述膜T1的含環烯烴聚合物的層側表面連續地塗佈下述組成的丙烯酸系層形成用塗佈液8.8cc/m2。膜T1的搬送速度是設為30m/min，利用40℃的溫風乾燥60秒。進而於氮氣沖洗(nitrogen purge)下以氧濃度約0.1%使用160W/cm的空冷金屬鹵化物燈(air-cooled metal halide lamp)(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，照射照度400mW/cm2、照射量300mJ/cm2的紫外線使塗佈 層硬化，形成膜厚為2.6μm的丙烯酸系聚合物層。
丙烯酸系聚合物層形成用塗佈液1的組成
<暫時支持體/含環烯烴聚合物的層/丙烯酸系聚合物層/光學各向異性層/附膜T5的製作> (光學各向異性層1的形成)
於所述膜T4的丙烯酸系聚合物層側表面連續地塗佈下述組成的塗佈液5.6cc/m2。將膜T4的搬送速度設為30m/min，並利用60℃的溫風加熱60秒以使塗佈液的溶劑乾燥及使棒狀液晶化合物配向熟化。其後，於氧濃度300ppm的氣體環境中藉由高壓水銀 燈進行300mJ/cm2的累計光量的紫外線照射，使液晶化合物的配向固定化。所述光學各向異性層的厚度為1.9μm。相對於棒狀液晶化合物的長軸的膜面的平均傾斜角為90°，確認液晶化合物相對於膜面垂直配向。
光學各向異性層1的塗佈液的組成
[化11]聚合性液晶化合物LC-1-1
<暫時支持體/含環烯烴聚合物的層/光學各向異性層/丙烯酸系聚合物層/附膜T6的製作> (光學各向異性層2的形成)
於所述膜T1的含環烯烴聚合物的層側表面連續地實施摩擦處理。此時，長條狀的膜的長度方向與搬送方向為平行，將膜長度方向與摩擦輥的旋轉軸所成的角度設為15°(順時針方向)(若將膜長度方向設為90°，則摩擦輥的旋轉軸為75°)。
將所述光學各向異性層1的塗佈液變更為下述光學各向異性層2的塗佈液，除此以外，以與光學各向異性層1相同的方式進行製作。所述光學各向異性層的厚度為1.9μm。相對於棒狀液晶化合物的長軸的膜面的平均傾斜角為0°，確認液晶化合物相對於膜面水平配向。
光學各向異性層2的塗佈液的組成
(丙烯酸系聚合物層的形成)
於所述光學各向異性層2的表面連續地塗佈所述的丙烯酸系聚合物層形成用塗佈液8.8cc/m2。將膜的搬送速度設為30m/min，並利用40℃的溫風乾燥60秒。進而於氮氣沖洗下以氧濃 度約0.1%使用160W/cm的空冷金屬鹵化物燈(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，照射照度400mW/cm2、照射量300mJ/cm2的紫外線使塗佈層硬化，而形成膜厚為2.6μm的丙烯酸系聚合物層。
<偏光板1~偏光板6的製作> (偏光元件的製作)
將厚度80μm的卷狀聚乙烯醇膜於碘水溶液中連續地延伸5倍，進行乾燥而獲得厚度20μm的偏光膜(偏光元件)。
(膜T1對偏光元件的貼附)
對膜T1的含環烯烴聚合物的層側進行電暈處理(corona treatment)，於電暈處理面使用PVA(可樂麗(Kuraray)(股)製造，PVA-117H)3%水溶液作為接著劑與所述偏光膜的單側貼合。貼合後，將暫時支持體1於與含環烯烴聚合物的層的界面剝離，獲得偏光板1。可將暫時支持體1容易地剝離。偏光板1的厚度為27μm。
(膜T2對偏光元件的貼附)
將膜T1替換為膜T2，除此以外，與偏光板1同樣地製作偏光板2。貼合於偏光元件後，將暫時支持體1於與含環烯烴聚合物的層的界面剝離(可容易地剝離)，獲得偏光板2。偏光板2的厚度為22μm。
(膜T3對偏光元件的貼附)
將膜T1替換為膜T3，除此以外，與偏光板1同樣地製作偏 光板3。貼合於偏光元件後，將暫時支持體1於與含環烯烴聚合物的層的界面剝離(可容易地剝離)，獲得偏光板3。偏光板3的厚度為27μm。
(膜T4對偏光元件的貼附)
使用市售的丙烯酸系接著劑(東亞合成股份有限公司製造UV-3300)將膜T2的丙烯酸系聚合物層的面與所述偏光膜的單側貼合。貼合後，將暫時支持體1於與含環烯烴聚合物的層的界面剝離(可容易地剝離)，獲得偏光板4。偏光板4的厚度為29.6μm。
(膜T5對偏光元件的貼附)
使用PVA(可樂麗(股)製造，PVA-117H)3%水溶液作為接著劑將膜T3的液晶面與所述偏光膜的單側貼合。貼合後，將暫時支持體1於與含環烯烴聚合物的層的界面剝離(可容易地剝離)，獲得偏光板5。偏光板5的厚度為31.5μm。
(膜T6對偏光元件的貼附)
使用市售的丙烯酸系接著劑(東亞合成股份有限公司製造UV-3300)將膜T4的丙烯酸系聚合物層的面與所述偏光膜的單側貼合。貼合後，將暫時支持體1於與含環烯烴聚合物的層的界面剝離(可容易地剝離)，獲得偏光板6。偏光板6的厚度為31.5μm。
<偏光板7~偏光板12的製作 剝離暫時支持體後貼附偏光元件> (自暫時支持體的剝離)
將所述獲得的膜T1~膜T6自暫時支持體1剝離，獲得膜T7 ~膜T12。
(膜T7~膜12對偏光元件的貼附)
以膜T7~膜T12各自的含環烯烴聚合物的層以外的層的面成為偏光元件側的面的方式與偏光元件貼合。
於將膜T7~膜T12與偏光元件貼合時，利用與偏光板1~偏光板6的各者相同的方法貼合，獲得偏光元件7~偏光元件12。偏光板的厚度是偏光板7：27μm、偏光板8：22μm、偏光板9：27μm、偏光板10：29.6μm、偏光板11：31.5μm、偏光板12：31.5μm。
比較例 <PET/丙烯酸系聚合物層/光學各向異性層/附膜T13的製作>
於支持體PET(富士膠片(Fujifilm)製造 厚度75μm)上利用與製作膜T4時相同的方法中記載的方法形成丙烯酸系聚合物層，進而利用與形成光學各向異性層1時相同的方法形成光學各向異性層而獲得膜T13。
進行所獲得的膜T1~膜T6、膜T13的面狀檢測。面狀檢測是使用FLAT PANEL FP-901-2(GUNMA USHIO製造)作為光源，利用正交尼科耳(crossed nicol)配置偏光板以目視進行檢測。膜T13的彩虹狀不均勻顯著而無法檢測，相對於此，膜T1~膜T6無彩虹狀不均勻而可進行檢測。
<TAC/丙烯酸系聚合物層/光學各向異性層/附膜T14的 製作>
於支持體TAC(富士膠片製造Fujitac厚度80μm)上利用與製作膜T4時相同的方法形成丙烯酸系聚合物層，進而形成與形成光學各向異性層1時相同的光學各向異性層而獲得膜T14。膜T14中TAC與丙烯酸系聚合物層的界面密接而無法剝離。
<環烯烴聚合物樹脂片材T15的製作>
藉由下述表1所示的延伸溫度(Tg為環狀烯烴系樹脂的玻璃轉移溫度)及延伸倍率使市售的環烯烴聚合物膜「Zeonor ZF14」(日本傑昂製造)延伸，而獲得環狀烯烴樹脂片材T15。發明者的實驗中，在以其以上的倍率延伸的情況下，於膜搬送中膜發生斷裂而無法形成膜。
1‧‧‧暫時支持體
2‧‧‧含環烯烴聚合物的層
3‧‧‧丙烯酸系聚合物層
4‧‧‧光學各向異性層

Claims (14)

  1. 一種偏光板的製造方法，其是包括下述(1)~(3)的製造方法：(1)於暫時支持體上塗佈包含環烯烴聚合物的組成物而形成含環烯烴聚合物的層；(2)將所述含環烯烴聚合物的層與包含偏光元件的膜積層；(3)將所述暫時支持體剝離。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，其中在所述(1)中，於暫時支持體的表面直接塗佈包含環烯烴聚合物的組成物而形成含環烯烴聚合物的層。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的製造方法，其依序包括所述(1)~(3)，並且包括：在所述(2)中，將包含所述暫時支持體與所述含環烯烴聚合物的層的轉印材料及包含偏光元件的膜積層，以及自所述(2)中所形成的積層體將所述暫時支持體剝離。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的製造方法，其中所述(1)的含環烯烴聚合物的層的形成以所述含環烯烴聚合物的層的膜厚成為20μm以下的方式進行。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的製造方法，其中所述(1)的含環烯烴聚合物的層的形成以所述含環烯烴聚合物的層的膜厚成為15μm以下的方式進行。
  6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的製造方法，其中所 述(2)的積層以使所述含環烯烴聚合物的層與所述包含偏光元件的膜經由接著層直接接著的方式進行。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的製造方法，其中所述積層以使所述含環烯烴聚合物的層與所述偏光元件經由所述接著層直接接著的方式進行。
  8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的製造方法，其中在所述(1)之後且所述(2)之前包括：使選自由光學各向異性層及丙烯酸系聚合物層所組成的組群中的一層以上的層形成於所述含環烯烴聚合物的層上。
  9. 一種偏光板，其是藉由如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述的製造方法獲得的偏光板，且所述偏光板包含膜厚為20μm以下的含環烯烴聚合物的層與偏光元件。
  10. 一種偏光板，包括偏光元件及與所述偏光元件經由接著層直接接著的膜厚為20μm以下的含環烯烴聚合物的層。
  11. 一種用於製造偏光板的轉印材料的製造方法，其包括：於暫時支持體上塗佈包含環烯烴聚合物的組成物而形成含環烯烴聚合物的層。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的製造方法，其中所述含環烯烴聚合物的層的形成以所述含環烯烴聚合物的層的膜厚成為20μm以下的方式進行。
  13. 如申請專利範圍第11項或第12項所述的製造方法，其中所述含環烯烴聚合物的層的形成以所述含環烯烴聚合物的層的膜 厚成為15μm以下的方式進行。
  14. 一種轉印材料，其是藉由如申請專利範圍第11項至第13項中任一項所述的製造方法獲得的用於製造偏光板的轉印材料，且所述轉印材料包含膜厚為20μm以下的含環烯烴聚合物的層與暫時支持體。
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