TW201829082A - 層流超音波洗淨裝置 - Google Patents

Abstract

本發明之目的是提供一種層流超音波洗淨裝置，可將附著在被洗淨物之洗淨部位的被去除物加以洗淨去除。

本發明之層流超音波洗淨裝置1，將供給到第1洗淨槽20A之儲存槽22內的洗淨液S從層流噴射噴嘴224噴射之際，使超音波振動元件221A振盪出的超音波振動傳播到層流噴射噴嘴224噴射出的層流Sb中，藉由層流噴射噴嘴224噴射出的層流Sb之噴射力與超音波振動的相乘作用，洗淨處理已搬入洗淨槽21內既定位置的被洗淨物A。

Description

層流超音波洗淨裝置

本發明係關於一種層流超音波洗淨裝置，用來洗淨處理例如電子零件(CMOS、MEMS)、組裝有電子零件的基板、光學零件、精密零件、金屬零件等被洗淨物。

做為洗淨處理上述被洗淨物的洗淨裝置，已有許多各種洗淨裝置被提議出來，專利文獻1揭示的洗淨裝置亦為此種洗淨裝置之一。專利文獻1之洗淨裝置，使洗淨液之層流從洗淨槽內之上游側往下游側流動之際，係將配置在洗淨槽之底部或側部的超音波振動元件振盪出的超音波振動傳播到洗淨槽內之層流，且對浸漬在洗淨槽內之洗淨液中的被洗淨物進行超音波洗淨。

但是，相對於在洗淨槽內流動的洗淨液之層流，超音波振動元件振盪出的超音波振動係呈正交方向傳播到層流之流動方向，故傳播到層流的超音波振動容易產生偏倚，難以均等傳播到層流全體。相較於傳播到下游側層流的超音波振動，傳播到上游側層流的超音波振動較容易衰減，故難以洗淨去除被洗淨物當中與上游側層流接觸的部分附著之被去除物。

先前技術文獻：專利文獻1 日本特開平8-332465號公報

本發明之目的是提供一種層流超音波洗淨裝置，可將附著在被洗淨物之洗淨部位的被去除物加以洗淨去除。

本發明之層流超音波洗淨裝置，包含：一洗淨槽，係將洗淨液之層流噴送到被洗淨物以進行洗淨處理；以及一超音波振動元件，係將超音波振動傳播到該洗淨液之層流；其中，該層流超音波洗淨裝置更包含： 一儲存槽，係儲存該洗淨液，經由一區分板連結設置在該洗淨槽，該區分板係區分該洗淨槽與該儲存槽；一洗淨液供給手段，係將該洗淨液供給到該儲存槽且連接該儲存槽；至少一層流噴射噴嘴，係噴射該洗淨液之層流，與該儲存槽相通而設置在該區分板，該層流噴射噴嘴係配置多個在該區分板中對應該洗淨槽的一面且保持既定間隔；該超音波振動元件係對向於該區分板而配置在該儲存槽側。

上述被洗淨物能以例如電子零件(CMOS、MEMS)、組裝有電子零件之基板、光學零件、精密零件、金屬零件等構成。洗淨液能以例如氫氟醚(HFE)、氫氟烯烴(HFO)、氫氟碳(HFC)、氫氯氟烯烴(HCFO)等之氟溶劑或有機溶劑全類等構成。洗淨液供給手段能以例如送液流路、送液泵等構成。

依據本發明，可將附著在被洗淨物之洗淨部位的被去除物加以洗淨去除。

詳而言之，用洗淨液供給手段供給到儲存槽內的洗淨液從設置在區分板的多數層流噴射噴嘴進行噴射之際，使超音波振動元件振盪出的超音波振動傳播到層流噴射噴嘴噴射出的層流，並可將層流噴射噴嘴噴射且傳播著超音波振動的洗淨液之層流噴送到已搬入洗淨槽內之既定位置的被洗淨物。

藉此，傳播到洗淨液之層流的超音波振動不易衰減，可大致均等地傳播到層流噴射噴嘴噴射出的層流，並可將層流噴射噴嘴噴射且傳播著超音波振動的洗淨液之層流集中噴送到已搬入洗淨槽內之既定位置的被洗淨物之洗淨部位。

其結果，藉由層流噴射噴嘴噴射出的層流之噴射力與超音波振動的相乘作用，可將附著在被洗淨物之洗淨部位的被去除物(例如微細粒子、溶劑、油脂、其他污物等)確實地洗淨去除。

並且，例如相較於從金屬製板上設置的噴射孔噴射洗淨液之層流，從層流噴射噴嘴大致筆直地噴射洗淨液之層流，更可提高層流之指向性，可正確噴送到被洗淨物之洗淨部位。

再者，由於從層流噴射噴嘴噴射且傳播著超音波振動的洗淨 液之層流係集中噴送到被洗淨物之洗淨部位，故層流之超音波振動不易傳播到洗淨部位以外的部分，可確實防止超音波振動影響洗淨部位以外的部分。

以本發明之態樣而言，也可將該層流噴射噴嘴噴射該層流之噴射方向設定在與該超音波振動元件振盪出的該超音波振動之振盪方向呈一致之方向。

依據本發明，可將附著在被洗淨物之洗淨部位的被去除物確實地進行洗淨處理。

詳而言之，從超音波振動元件振盪出的超音波振動可確實地朝向層流噴射噴嘴噴射出的層流之流動方向傳播，並可將層流噴射噴嘴噴射且傳播著超音波振動的洗淨液之層流正確地噴送到已搬入洗淨槽內的被洗淨物之洗淨部位。

其結果，可藉由層流噴射噴嘴噴射出的層流之噴射力與超音波振動的相乘作用，可將附著在被洗淨物之洗淨部位的被去除物確實地洗淨去除。

此外以本發明之態樣而言，也可使該層流噴射噴嘴之內部設置的供液流路之內周面形成的孔徑，係朝向該層流噴射噴嘴噴噴射該層流之方向漸漸縮小。

依據本發明，可將附著在被洗淨物之洗淨部位的被去除物更確實地洗淨去除。

詳而言之，由於供給到層流噴射噴嘴之供液流路內的洗淨液之流量朝向層流噴射噴嘴噴射層流的方向逐漸窄縮化，故施加在洗淨液的壓力會逐漸提升。

藉此，從層流噴射噴嘴噴射出的層流之流速會加快，可使層流噴射噴嘴噴射且傳播著超音波振動的洗淨液之層流強力地噴送到被洗淨物之洗淨部位。

其結果，即便被去除物強固地附著在被洗淨物之洗淨部位，也可藉由從層流噴射噴嘴強力噴射出的層流之噴射力與超音波振動之相乘作用更確實地洗淨去除。

此外以本發明之態樣而言，可將供液流路(將該洗淨液供給到該洗淨槽內)連接該洗淨槽之一側部，並將排液流路(將該洗淨液排出到該洗淨槽外)連接該洗淨槽之另一側部。

依據本發明，可用更潔淨的洗淨液將附著在被洗淨物之洗淨部位的被去除物加以洗淨去除。

詳而言之，在被洗淨物之洗淨處理中，洗淨液經由供液流路從洗淨槽之一側部供給到槽內，再經由排液流路從洗淨槽之另一側部排出到槽外，使供給到洗淨槽內的洗淨液從一側部往另一側部流動。

藉此，可防止從被洗淨物去除的被去除物或包含被去除物的洗淨液滯留或殘留在洗淨槽內，且可防止從被洗淨物去除的被去除物再次附著在經過洗淨處理的被洗淨物。

其結果，供給到洗淨槽內的洗淨液可保持在適於洗淨處理的潔淨狀態，且可用潔淨的洗淨液將被洗淨物洗淨處理到良好的狀態。

此外以本發明之態樣而言，包含該超音波振動元件的該儲存槽可配置在該洗淨槽之下部及側部當中至少一處。

上述至少一處的概念包含例如洗淨槽之下部、或洗淨槽之一側部、或洗淨槽之下部及側部。

依據本發明，可將附著在被洗淨物之洗淨部位的被去除物更確實地洗淨去除。

詳而言之，例如當儲存槽係配置在洗淨槽之下部時，可藉由從下部之層流噴射噴嘴垂直噴射出的層流之噴射力與從下部之超音波振動元件傳播到層流的超音波振動的相乘作用，將附著在被洗淨物之洗淨部位的被去除物加以洗淨去除。

此外，當儲存槽係配置在洗淨槽之下部及側部時，可藉由從下部及側部之層流噴射噴嘴垂直噴射出的層流之噴射力與從下部及側部之超音波振動元件傳播到層流的超音波振動的相乘作用，將附著在被洗淨物之洗淨部位的被去除物確實地洗淨去除。

其結果，可依據被洗淨物之洗淨部位，選擇是否使洗淨液之層流從垂直及水平當中的單方向噴射，或從垂直及水平的雙方向噴射。

依據本發明，可提供一種層流超音波洗淨裝置，用來洗淨去除附著在被洗淨物之洗淨部位的被去除物。

A‧‧‧被洗淨物

S‧‧‧洗淨液

Sa‧‧‧蒸氣

Sb‧‧‧層流

1‧‧‧層流超音波洗淨裝置

2‧‧‧洗淨槽

20A‧‧‧第1洗淨槽

20B‧‧‧第2洗淨槽

21‧‧‧洗淨槽

22‧‧‧儲存槽

23‧‧‧儲存部

24A,24B‧‧‧排液流路

25‧‧‧供液流路

26‧‧‧送液泵

27‧‧‧熱交換器

28‧‧‧過濾器

30‧‧‧蒸氣槽

31B‧‧‧冷卻套管

32‧‧‧蒸氣流路

40A‧‧‧蒸餾槽

40B‧‧‧凝結槽

41A‧‧‧加熱器

41B‧‧‧凝結盤管

42A‧‧‧送液泵

42B‧‧‧送液流路

43A‧‧‧過濾系統

44A‧‧‧送液流路

50A,50B‧‧‧洗淨液儲存槽

51‧‧‧增溫加熱器

52‧‧‧送液泵

53‧‧‧熱交換器

54‧‧‧過濾器

55‧‧‧供液流路

60‧‧‧水分離槽

61‧‧‧送液泵

62‧‧‧過濾系統

63‧‧‧送液流路

221A,221B,221C‧‧‧超音波振動元件

222A,222B,222C‧‧‧振動振盪部

223‧‧‧區分板

224‧‧‧層流噴射噴嘴

224a‧‧‧噴射孔

224b‧‧‧供液流路

225‧‧‧噴射區域

631,632‧‧‧分歧流路

圖1係實施例1之層流超音波洗淨裝置之示意圖。

圖2係洗淨液之層流朝向上方垂直噴射之洗淨槽之放大截面圖。

圖3係從上方俯瞰著配置多數層流噴射噴嘴的區分板之俯視圖。

圖4係噴射洗淨液之層流的層流噴射噴嘴之說明圖。

圖5係實施例2之層流超音波洗淨裝置具備的洗淨槽之示意圖。

圖6係實施例3之層流超音波洗淨裝置之示意圖。

基於以下圖式詳述本發明之一實施形態。

(實施例1)

圖1係實施例1之層流超音波洗淨裝置1之示意圖，圖2係洗淨液S之層流Sb朝向上方垂直噴射之第1洗淨槽20A之放大截面圖，圖3係從上方俯瞰著配置多數層流噴射噴嘴224的區分板223之俯視圖。

圖4係噴射洗淨液S之層流Sb的層流噴射噴嘴224之說明圖，詳而言之，圖4(a)係圖2所示a部之放大截面圖，圖4(b)係層流噴射噴嘴224當中之噴嘴前端之放大立體圖。

實施例1之層流超音波洗淨裝置1包含：第1洗淨槽20A，係將傳播著超音波振動的洗淨液S之層流Sb噴送到被洗淨物A進行超音波洗淨；第2洗淨槽20B，係用洗淨液S對被洗淨物A進行最終洗淨(淋灑洗淨)；蒸氣槽30，係用洗淨液S之蒸氣Sa對被洗淨物A進行蒸氣洗淨；蒸餾槽40A，係將洗淨液S之蒸氣Sa供給到蒸氣槽30；凝結槽40B，係將洗淨液S之蒸氣Sa加以凝結液化(參見圖1、圖2)。

第1洗淨槽20A包含：洗淨槽21，係將後述層流噴射噴嘴224噴射出的洗淨液S之層流Sb噴送到被洗淨物A進行洗淨；以及儲存槽22，係儲存後述洗淨液儲存槽50A供給之清淨的洗淨液S(參見圖1、圖 2)。

洗淨槽21在圖1中之左側下方壁部係使排液流路24A之一端連接到高於區分板223但低於層流噴射噴嘴224的部分。排液流路24A之另一端連接後述洗淨液儲存槽50A在圖1中之左側下方壁部。排液流路24A係將儲存在洗淨槽21內之區分板223上包含被去除物之洗淨液S送到後述洗淨液儲存槽50A(參見圖1、圖2)。

儲存槽22係經由洗淨槽21與儲存槽22之間配置的後述區分板223且連結設置在洗淨槽21之下部(或底部)。供液流路25之一端係分歧為二連接儲存槽22在圖1中的左側底部及右側壁部。供液流路25的另一端經由送液泵26、熱交換器27、過濾器28並連接於後述洗淨液儲存槽50A在圖1中之右側下方壁部(參見圖1、圖2)。

儲存槽22之底部中央外壁配置有超音波振動元件221A，用以對於儲存在儲存槽22內的洗淨液S傳播超音波振動。超音波振動元件221A係與後述區分板223對向，且振盪出超音波振動的振動振盪部222A朝上的方式進行配置(參見圖1、圖2)。

區分板223係配置在第1洗淨槽20A當中之洗淨槽21與儲存槽22之間，且將第1洗淨槽20A區分成洗淨槽21與儲存槽22。可使得區分板223之板厚形成為從振動振盪部222A所振盪出的超音波振動容易傳播於洗淨槽21內之洗淨液S的厚度(參見圖1、圖2)。

區分板223之材質係用板厚約達1.5mm的不鏽鋼板構成，與超音波振動元件221A之振動振盪部222A對向且水平配置，並對振動振盪部222A保持既定間隔配置(參見圖1、圖2)。

區分板223當中與超音波振動元件221A之振動振盪部222A對向的平面，係設定有圖3中用二點鏈線標示之噴射區域225。區分板223當中之噴射區域225內的平面係垂直設置與儲存槽22相通且噴射出層流Sb的層流噴射噴嘴224(參見圖2、圖3)。

層流噴射噴嘴224相對區分板223當中之噴射區域225內的平面，係保持既定間隔且配置多數個。層流噴射噴嘴224之噴射方向係設定為層流Sb在洗淨槽21內從圖1中之下部區域往上部區域垂直噴射的方 向(圖2之a部放大圖，參見圖3)。

層流噴射噴嘴224之噴嘴前端部設有噴射層流Sb且大致呈圓形狀的噴射孔224a。噴嘴內部之中心部設有供給洗淨液S的供液流路224b。供液流路224b之一端係與噴射孔224a相通，另一端與儲存槽22相通且有開口(參見圖4(a)~(b))。

供液流路224b在儲存槽22側之內周面係形成錐面，朝層流Sb之流動方向漸漸縮小。供液流路224b在洗淨槽21側之內周面形成大致筆直的孔徑，與超音波振動元件221A之振動振盪部222A振盪出的超音波振動之振盪方向朝向一致的方向。

層流噴射噴嘴224之噴嘴前端部的外徑d1係形成約6.0mm。噴射孔224a之孔徑d2形成約3.0mm(參見圖4(a)~(b))。

第2洗淨槽20B相對第1洗淨槽20A在圖1中之右側部係保持既定間隔配置；依照洗淨處理被洗淨物A之順序，配置第1洗淨槽20A與第2洗淨槽20B。

第2洗淨槽20B內之底部配置超音波振動元件221B，使儲液在第2洗淨槽20B內的洗淨液S產生超音波振動。超音波振動元件221B係使振盪出超音波振動的振動振盪部222B呈朝上的方式水平配置(參見圖1)。

第2洗淨槽20B在圖1中之左側下方壁部係連接排液流路24B之一端。排液流路24B之另一端係連接後述洗淨液儲存槽50B在圖1中之左側下方壁部(參見圖1)。

第2洗淨槽20B之上部外壁設有儲存部23，用來儲存從第2洗淨槽20B溢出的洗淨液S。溢出到儲存部23的洗淨液S係經由未圖示之送液流路供給到後述蒸餾槽40A或洗淨液儲存槽50B(參見圖1)。

蒸氣槽30係與第1洗淨槽20A及第2洗淨槽20B之內部相通且連結設置在洗淨槽20A、20B之上部。蒸氣槽30及凝結槽40B之上部內壁配置冷卻套管31B，將釋放到蒸氣槽30內的洗淨液S之蒸氣Sa加以凝結液化。蒸氣槽30在圖1中之左側壁部係連接蒸氣流路32之一端。蒸氣流路32之另一端連接後述蒸餾槽40A之上部(參見圖1)。

蒸餾槽40A係配置在蒸氣槽30於圖1中之左側部。蒸餾槽40A內之底部配置加熱器41A，將儲存在蒸餾槽40A內的洗淨液S加熱到蒸發氣化的溫度(參見圖1)。

蒸餾槽40A在圖1中之右側下方壁部係經由送液泵42A及過濾器式的過濾系統43A連接送液流路44A之一端。送液流路44A之另一端連接蒸餾槽40A在圖1中之左側下方壁部。過濾系統43A具備從被送液的洗淨液S去除有機物等異物之過濾機能(參見圖1)。

凝結槽40B係與蒸氣槽30之內部相通且連結設置在蒸氣槽30於圖1中之右側壁部。凝結槽40B內之中央部配置凝結盤管41B，將流入凝結槽40B內的洗淨液S之蒸氣Sa加以凝結液化(參見圖1)。

此外，上述冷卻套管31B及凝結盤管41B係連接未圖示之冷凝器、鹽水冷凝器等冷凍機。

凝結槽40B之底部係連接送液流路42B之一端。送液流路42B之另一端連接後述水分離槽60在圖1中之右側壁部。經凝結盤管41B凝結液化後的洗淨液S暫時儲存在凝結槽40B內之底部，再經由送液流路42B供給到水分離槽60(參見圖1)。

洗淨液儲存槽50A係配置在第1洗淨槽20A之下部、或低於第1洗淨槽20A之位置。洗淨液儲存槽50A內之底部配置增溫加熱器51，將儲存在洗淨液儲存槽50A內的洗淨液S增溫到希望之溫度(參見圖1)。

洗淨液儲存槽50A之底部中央係經由送液泵52、熱交換器53及過濾器54連接循環用之供液流路55之一端。供液流路55之另一端連接洗淨液儲存槽50A在圖1中之右側上方壁部(參見圖1、圖2)。

洗淨液儲存槽50B係配置在第2洗淨槽20B之下部、或低於第2洗淨槽20B之位置。洗淨液儲存槽50B內之底部配置增溫加熱器51，將儲存在洗淨液儲存槽50B內的洗淨液S增溫到希望之溫度(參見圖1)。

洗淨液儲存槽50B之底部中央係經由送液泵52、熱交換器53及過濾器54連接供液流路55之一端。供液流路55之另一端連接第2 洗淨槽20B在圖1中之右側下方壁部(參見圖1)。

水分離槽60係配置在凝結槽40B之下部、或低於凝結槽40B之位置。水分離槽60在圖1中之右側下方壁部係經由送液泵61及過濾器式之過濾系統62連接送液流路63之一端(參見圖1)。

送液流路63之另一端將分歧為二之分歧流路631、632當中一者的分歧流路631連接水分離槽60在圖1中之左側下方壁部。另一分歧流路632係連接洗淨液儲存槽50B在圖1中之右側下方壁部(或後述圖6中之左側下方壁部)(參見圖1)。

過濾系統62具備從已在水分離槽60內分離水分後的洗淨液S去除有機物等異物之過濾機能。經過濾系統62去除異物後的洗淨液S係經由分歧流路631返還到水分離槽60，且經由分歧流路632供給到後述洗淨液儲存槽50B(參見圖1)。

針對使用上述層流超音波洗淨裝置1洗淨處理被洗淨物A之際的洗淨方法進行說明。

首先，將被洗淨物A搬入第1洗淨槽20A裡洗淨槽21內的既定位置之際，係驅動送液泵26、52將儲存在洗淨液儲存槽50A的洗淨液S連續供給到洗淨槽21及儲存槽22(參見圖1、圖2)。

使供給到儲存槽22內的洗淨液S從區分板223之層流噴射噴嘴224朝上方垂直噴射，且使從層流噴射噴嘴224噴射出的洗淨液S之層流Sb從洗淨槽21內在圖1中之下部區域往上部區域垂直噴射。

使從超音波振動元件221A之振動振盪部222A振盪出的超音波振動經由儲存在儲存槽22內的洗淨液S，傳播到從層流噴射噴嘴224噴射出的層流Sb，且使傳播著超音波振動的層流Sb朝上方垂直噴射(參見圖2)。

藉此，傳播到洗淨液S之層流Sb的超音波振動不易衰減，可大致均等地傳播到層流噴射噴嘴224噴射出的層流Sb，且可將傳播著超音波振動的層流Sb集中噴送到已搬入第1洗淨槽20A之洗淨槽21內的被洗淨物A之洗淨部位(具體而言為基板之組裝有電子零件的面)。

其結果，即便附著在被洗淨物A當中未圖示之微細間隙或 未圖示之微小孔部等洗淨部位的微細粒子或奈米粒子等級的微小被去除物，也可藉由層流噴射噴嘴224噴射出的層流Sb之噴射力與超音波振動的相乘作用確實地洗淨去除。

並且，比起從設置在未圖示之金屬製板的噴射孔噴射洗淨液S之層流Sb，從層流噴射噴嘴224大致筆直地噴射，層流Sb之指向性較高且可正確地噴送到被洗淨物A之洗淨部位。

再者，將層流噴射噴嘴224噴射出之傳播著超音波振動的洗淨液S之層流Sb集中噴送到被洗淨物A之洗淨部位，故層流Sb之超音波振動不易傳播到洗淨部位以外之部分，可確實防止超音波振動影響洗淨部位以外的部分。

此外，用層流噴射噴嘴224噴射出的洗淨液S之層流Sb洗淨處理被洗淨物A時，洗淨液S(包含從被洗淨物A去除的被去除物)係儲存在洗淨槽21內之區分板223上，且經由排液流路24A從洗淨槽21在圖1中之左側下方壁部排出到槽外，回收到洗淨液儲存槽50A。

藉此，可防止從被洗淨物A去除的被去除物或包含被去除物的洗淨液S滯留或殘留在洗淨槽21內，且可防止從被洗淨物A去除的被去除物再度附著在經洗淨處理後的被洗淨物A上。

此外，由於回收到洗淨液儲存槽50A的洗淨液S係經過濾器28過濾再供給到儲存槽22，故可將層流噴射噴嘴224噴射出的洗淨液S之層流Sb維持在適合洗淨處理的潔淨狀態，且可用潔淨的洗淨液S洗淨處理被洗淨物A到良好的狀態。

此外，由於使層流噴射噴嘴224噴射出的洗淨液S之層流Sb大致筆直地朝被洗淨物A之洗淨部位噴射，故層流噴射噴嘴224噴射出的層流Sb之指向性高，可更積極地滲入與層流Sb之流動方向呈平行的被洗淨物A之洗淨部位，且可將附著在被洗淨物A之洗淨部位的被去除物更確實地洗淨去除。

此外，由於使供給到層流噴射噴嘴224之供液流路內的洗淨液S之流量朝噴射層流Sb之方向逐漸窄縮化，故比起層流Sb之流量未窄縮化直接噴射之際的流速，層流Sb之流量經窄縮化者施加在洗淨液S的 壓力會提升。

藉此，層流噴射噴嘴224噴射出的層流Sb之流速會變快，可使層流噴射噴嘴224噴射且傳播著超音波振動的層流Sb強力地噴送到被洗淨物A之洗淨部位，即使被去除物強固地附著在被洗淨物A之洗淨部位，也可藉由層流噴射噴嘴224強力噴射出的層流Sb之噴射力與層流Sb之超音波振動的相乘作用確實地洗淨去除。

此外，將回收到洗淨液儲存槽50A的洗淨液S供給到儲存槽22之際，由於用熱交換器27經熱交換後再用過濾器28過濾，故可去除洗淨液S含有的毛邊等被去除物，且可移除洗淨液S中含有的微細氣泡，故可使超音波振動元件221A振盪出的超音波振動高效率地傳播到儲存槽22儲存的洗淨液S。

以下，針對上述層流超音波洗淨裝置1之其他例進行說明。此說明中，針對和前述構成係相同或同等之部位係賦予相同符號且省略其詳細說明。

(實施例2)

上述實施例1中，係說明用垂直噴射之洗淨液S之層流Sb進行洗淨處理之層流超音波洗淨裝置1。實施例2如圖5所示，係說明從垂直及水平的雙方向噴射之洗淨液S之層流Sb進行洗淨處理之層流超音波洗淨裝置1之第1洗淨槽20A。

圖5係實施例2之層流超音波洗淨裝置1具備之第1洗淨槽20A之示意圖。

實施例2之第1洗淨槽20A係使儲存槽211(用來儲存洗淨液儲存槽50A供給之潔淨的洗淨液S)經由配置在洗淨槽21與儲存槽211之間的區分板213且連結設置在洗淨槽21於圖5中之右側部。區分板213對應洗淨槽21內部的面係水平設置層流噴射噴嘴214，用來噴射洗淨液S之層流Sb(參見圖5)。

層流噴射噴嘴214係相對區分板213對應洗淨槽21內部的面，保持既定間隔且配置多數個。層流噴射噴嘴214之噴射方向係設定在層流Sb從洗淨槽21在圖1中之右側壁部往左側壁部水平噴射的方向(參 見圖5)。

儲存槽211在圖5中之右側外壁配置超音波振動元件221C，使儲存在儲存槽211內的洗淨液S產生超音波振動。超音波振動元件221C係配置在振盪出超音波振動的振動振盪部222C且面向左邊(參見圖5)。

詳而言之，用從垂直及水平的雙方向噴射且傳播著超音波振動的洗淨液S之層流Sb進行洗淨處理時，使供給到儲存槽22內的洗淨液S從區分板223之層流噴射噴嘴224往上方垂直噴射之際，係用超音波振動元件221A之振動振盪部222A振盪出的超音波振動使其產生振動(參見圖5)。

使供給到儲存槽211內的洗淨液S從區分板213之層流噴射噴嘴214水平噴射之際，係用配置在儲存槽211內的超音波振動元件221C之振動振盪部222C振盪出的超音波振動使其產生振動(參見圖5)。

由於將從層流噴射噴嘴214、224之雙方向噴射出的傳播著超音波振動的層流Sb集中噴送到被搬入洗淨槽21內之既定位置的被洗淨物A之洗淨部位，故可確實防止超音波振動影響洗淨部位以外之部分。

其結果，可將附著在被洗淨物A之洗淨部位的被去除物，用層流噴射噴嘴214、224噴射出的層流Sb之噴射力與超音波振動之相乘作用更確實地洗淨去除，故可發揮實施例1以外之作用及效果。

並且，也可依據被洗淨物A之洗淨部位，選擇是否使洗淨液S之層流Sb從垂直及水平當中的單方向噴射或從垂直及水平的雙方向噴射。

(實施例3)

上述實施例1中係說明用第1洗淨槽20A之層流噴射噴嘴224噴射出的洗淨液S之層流Sb進行洗淨處理之層流超音波洗淨裝置1，而實施例3則如圖6所示，係說明用第1洗淨槽20A及第2洗淨槽20B之層流噴射噴嘴224噴射出的洗淨液S之層流Sb進行洗淨處理之層流超音波洗淨裝置1。

圖6係實施例3之層流超音波洗淨裝置1之示意圖。

實施例3之層流超音波洗淨裝置1係使第2洗淨槽20B與第1洗淨槽20A用相同方式構成，且使與第1洗淨槽20A相同的層流噴射噴嘴224相對在構成第2洗淨槽20B的洗淨槽21與儲存槽22之間配置之區分板223保持既定間隔且配置多數個(參見圖6)。

詳而言之，在第1洗淨槽20A經洗淨處理後的被洗淨物A已搬入第2洗淨槽20B裡洗淨槽21內的既定位置之際，將層流噴射噴嘴224噴射且傳播著超音波振動的洗淨液S之層流Sb噴送到被洗淨物A之洗淨部位進行最終洗淨(參見圖6)。

其結果，由於附著在被洗淨物A之洗淨部位的被去除物可藉由第1洗淨槽20A及第2洗淨槽20B之層流噴射噴嘴224噴射出的層流Sb之噴射力與超音波振動的相乘作用更確實地加以洗淨去除及進行最終洗淨，故可發揮實施例1、2以外的作用及效果。

於本發明之構成與前述實施形態的對應中，本發明之洗淨槽係對應實施形態之洗淨槽21。

以下同樣地，超音波振動元件係對應超音波振動元件221A、221C；洗淨液供給手段係對應排液流路24A、供液流路25,55、送液泵26,52。

但是，本發明並非僅限於上述實施形態之構成，可基於請求項所示的技術思想進行應用，且得到許多實施形態。

上述實施例1中，係說明被洗淨物A在第1洗淨槽20A經洗淨處理後再用第2洗淨槽20B進行最終洗淨的層流超音波洗淨裝置1，但也可例如使在第1洗淨槽20A噴送層流Sb進行洗淨處理之洗淨製程與在第2洗淨槽20B浸漬在洗淨液S中進行洗淨之最終製程反過來進行。亦即，也可先使被洗淨物A先在第2洗淨槽20B經洗淨處理後再用第1洗淨槽20A進行最終洗淨。

此外，實施例1、2係說明第1洗淨槽20A及第2洗淨槽20B各配置1槽的洗淨裝置，但洗淨槽20A、20B彼此當中至少一者的洗淨槽之槽數，也可增加例如2槽、3槽等。此外，配置在儲存槽22、211之槽外部的超音波振動元件221A、221C也可例如配置在儲存槽22、211之槽 內部。

再者，也可使區分板223之中央部係配置在外側的層流噴射噴嘴224之口徑大於配置在區分板223之中央部的層流噴射噴嘴224，或增加配置數量。

藉此，由於從區分板223之中央部係配置在外側的層流噴射噴嘴224噴射出的層流Sb之流量多於從配置在區分板223之中央部的層流噴射噴嘴224噴射出的層流Sb之流量，故可防止從被洗淨物A去除之被去除物或包含被去除物的洗淨液S滯留或殘留在洗淨槽21內。

此外，也可在第1洗淨槽20A裡洗淨槽21內儲存的洗淨液S中，將層流噴射噴嘴224噴射出的層流Sb噴送到浸漬在洗淨液S中的被洗淨物A進行洗淨處理。

此外，也可將洗淨液儲存槽50B儲存的洗淨液S用蒸餾槽40A進行蒸餾，將已去除被去除物(例如微細粒子、溶劑、油脂等)之清淨的洗淨液S反覆使用在洗淨處理上。

Claims (8)

1. 一種層流超音波洗淨裝置，包含：一洗淨槽，係將一洗淨液之層流噴送到被洗淨物以進行洗淨處理；以及一超音波振動元件，係對該洗淨液之層流傳播超音波振動；其中，該層流超音波洗淨裝置更包含：一儲存槽，係儲存該洗淨液，經由一區分板連結設置在該洗淨槽，該區分板係區分該洗淨槽與該儲存槽；一洗淨液供給手段，係將該洗淨液供給到該儲存槽且連接該儲存槽；至少一層流噴射噴嘴，係噴射該洗淨液之層流，與該儲存槽相通而設置在該區分板，該層流噴射噴嘴係配置多數個在該區分板中對應於該洗淨槽的一面且保持既定間隔；該超音波振動元件係對向於該區分板而配置在該儲存槽側。
2. 如申請專利範圍第1項之層流超音波洗淨裝置，其中該層流噴射噴嘴噴射該層流之噴射方向係設定在與該超音波振動元件振盪出的該超音波振動之振盪方向一致。
3. 如申請專利範圍第1或2項之層流超音波洗淨裝置，其中於該層流噴射噴嘴之內部設置的一供液流路之內周面形成的孔徑係朝該層流之該流動方向漸漸縮小。
4. 如申請專利範圍第1或2項之層流超音波洗淨裝置，其中該供液流路係將該洗淨液供給到該洗淨槽內，且連接該洗淨槽之一側部；一排液流路係將該洗淨液排出到該洗淨槽外，且連接該洗淨槽之另一側部。
5. 如申請專利範圍第3項之層流超音波洗淨裝置，其中該供液流路係將該洗淨液供給到該洗淨槽內，且連接該洗淨槽之一側部；一排液流路係將該洗淨液排出到該洗淨槽外，且連接該洗淨槽之另一側部。
6. 如申請專利範圍第1或2項之層流超音波洗淨裝置，其中包含該超音波振動元件的該儲存槽，係配置在該洗淨槽之下部及側部當中至少一處。
7. 如申請專利範圍第3項之層流超音波洗淨裝置，其中包含該超音波振動元件的該儲存槽，係配置在該洗淨槽之下部及側部當中至少一處。
8. 如申請專利範圍第4項之層流超音波洗淨裝置，其中包含該超音波振動 元件的該儲存槽，係配置在該洗淨槽之下部及側部當中至少一處。