TW201945689A - 外觀檢查裝置及外觀檢查方法 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種外觀檢查裝置，其特徵在於具備：目視指定器件，其指示大型光罩主面之目視指定位置；目視指定器件；目視指定資訊獲取器件，其獲取目視指定資訊；二維座標計算器件，其根據上述目視指定資訊計算表示上述目視指定位置之上述主面之二維座標；顯微鏡，其可移動至能夠觀察上述主面之各位置之位置；顯微鏡驅動器件，其使上述顯微鏡移動至能夠觀察上述二維座標所示之上述主面之位置的位置；及二維座標輸入器件，其輸入表示大型光罩之主面之任意位置之二維座標。
Description
本發明係關於一種用於大型光罩之外觀檢查之外觀檢查裝置及外觀檢查方法。
大型光罩例如於平板顯示器或彩色濾光片等之製造時之光微影製程、更具體而言於曝光製程等中用於各種圖案形成。
大型光罩於製造過程中，存在因轉印圖案之線寬或形成位置略微偏離設計而導致轉印圖案產生不均之情況。又，於製造過程或洗淨過程中，存在斑點、污垢、異物附著於轉印圖案或形成傷痕之情況。存在如下情形，即，對於該等不均或斑點等缺陷，使用以目視全局性地進行觀察之宏觀觀察更容易檢測而並非以顯微鏡詳細地觀察局部之微觀觀察。因此，於該等缺陷之檢查中，例如，如專利文獻1所記載般，使用外觀檢查裝置進行宏觀觀察之情況較多。
作為進行宏觀觀察之外觀檢查裝置，已知有除大型光罩以外還進行液晶顯示器用玻璃基板等之檢查之裝置。此種外觀檢查裝置中存在於利用宏觀觀察檢測出被檢查試樣之主面之缺陷之後藉由微觀觀察該缺陷而詳細地進行解析者。
例如，專利文獻2～4中記載有如此微觀觀察利用宏觀觀察檢測出之缺陷之外觀檢查裝置。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2013-45797號公報
[專利文獻2]日本專利特開2008-175548號公報
[專利文獻3]日本專利特開平4-151547號公報
[專利文獻4]日本專利特開2005-164610號公報
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2013-45797號公報
[專利文獻2]日本專利特開2008-175548號公報
[專利文獻3]日本專利特開平4-151547號公報
[專利文獻4]日本專利特開2005-164610號公報
[發明所欲解決之問題]
於宏觀觀察中，必須高精度地獲取缺陷位置。進而，有時於藉由微觀觀察檢測出大型光罩之主面之缺陷之後，重新利用宏觀觀察檢查該缺陷或其修正部位。然而，於如上所述之外觀檢查裝置及使用其之外觀檢查方法中，未能以可目視觀察之方式指示藉由微觀觀察檢測出之該缺陷或其修正部位。因此，宏觀觀察該缺陷或其修正部位並不容易。
本發明之主要目的在於提供一種於宏觀觀察中可高精度地獲取缺陷位置，且能以可目視之方式指示藉由微觀觀察檢測出之缺陷或其修正部位的外觀檢查裝置及外觀檢查方法。
[解決問題之技術手段]
[解決問題之技術手段]
為了解決上述問題，本發明提供一種外觀檢查裝置，其特徵在於具備：目視指定器件，其指示基於目視觀察而指示之大型光罩主面之目視指定位置；目視指定資訊獲取器件，其獲取目視指定資訊；二維座標計算器件，其根據上述目視指定資訊計算表示目視指定位置之上述大型光罩之主面之二維座標；顯微鏡，其可移動至能夠觀察上述大型光罩之主面之各位置之位置；顯微鏡驅動器件，其使上述顯微鏡移動至能夠觀察上述二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置的位置；及二維座標輸入器件，其輸入表示上述大型光罩之主面之任意位置之二維座標。
根據本發明，可容易地進行利用包含宏觀觀察及微觀觀察之兩者之外觀檢查之缺陷之檢查。
於上述發明中，較佳為具備目視指定資訊計算器件，該目視指定資訊計算器件根據藉由上述二維座標輸入器件輸入之二維座標計算上述目視指定資訊。
於上述發明中，較佳為上述目視指定資訊獲取器件獲取表示具有面積之區域之上述目視指定資訊。其原因在於：關於因轉印圖案之線寬產生之不均、污垢等，指定缺陷之區域並測定線寬、反射率、透過率等而調查原因較為有效。
於上述發明中，較佳為進而具有光源之種類互不相同之複數個觀察用照明。其原因在於：於目視觀察中，容易檢測多種多樣之缺陷。
又，於上述發明中，較佳為進而具有使上述大型光罩繞著與上述大型光罩之主面平行之旋動軸旋動之旋動機構，且可使上述大型光罩之主面自與地板面平行之方向繞著旋動軸旋轉之角度為90°以上。其原因在於：上述大型光罩之正面之目視觀察變得容易。
又，於上述發明中，較佳為上述可旋轉之角度為270°以上。其原因在於：上述大型光罩之背面之目視觀察變得容易。
又，於上述發明中，較佳為進而具有拍攝上述大型光罩之主面之攝像裝置。其原因在於：可使上述大型光罩之主面之狀態周知。
又，本發明提供一種外觀檢查方法，其特徵在於具備：目視指定資訊獲取步驟，其係獲取基於目視觀察而指示之大型光罩之主面之缺陷之目視指定資訊；二維座標計算步驟，其係根據上述目視指定資訊計算表示目視指定位置之上述大型光罩之主面之二維座標；及微觀觀察步驟，其係利用顯微鏡觀察上述二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置。
根據本發明，容易微觀觀察藉由宏觀觀察檢測出之缺陷。
進而，於上述外觀檢查方法中，較佳為上述目視指定資訊獲取步驟係於藉由外觀之觀察而檢查存在於上述大型光罩之主面之缺陷之有無之缺陷檢查步驟內進行，上述缺陷檢查步驟藉由對上述大型光罩之主面以固定之照射角度照射觀察用照明而於上述大型光罩之主面設置照射區域，藉由使上述照射區域上下左右移動而進行檢查上述大型光罩之主面之整面之整面檢查，且上述整面檢查係改變上述觀察用照明相對於上述大型光罩之主面之照射角度而進行至少2次。
進而，本發明提供一種外觀檢查方法，其特徵在於具備：缺陷修正步驟，其係修正大型光罩之主面之缺陷；目視指定資訊計算步驟，其係根據表示上述缺陷之修正部位之上述大型光罩之主面之二維座標計算目視指定資訊；及宏觀觀察步驟，其係根據上述目視指定資訊對上述缺陷之修正部位進行目視觀察。
根據本發明，容易宏觀觀察藉由微觀觀察檢測出之缺陷或其修正部位。
根據本發明，容易宏觀觀察藉由微觀觀察檢測出之缺陷或其修正部位。
又，本發明提供一種缺陷檢查方法，其特徵在於：其係藉由對大型光罩之主面以固定之照射角度照射觀察用照明而於上述大型光罩之主面設置照射區域，藉由使上述照射區域上下左右移動而進行檢查上述大型光罩之主面之整面之整面檢查，從而檢查存在於上述大型光罩之主面之缺陷之有無，且上述整面檢查係改變上述觀察用照明相對於上述大型光罩之主面之照射角度而進行至少2次。
於上述缺陷檢查方法中，較佳為上述整面檢查包含以上述照射角度為15°～45°之範圍內之角度進行之低照射角整面檢查、及以上述照射角度為45°～75°之範圍內之角度進行之高照射角整面檢查。
進而，較佳為上述整面檢查係藉由重複進行如下步驟而檢查大型光罩整面之邊整面檢查，即，自上述大型光罩之一邊側向相對於上述一邊正交之方向照射上述觀察用照明，且一面相對於上述一邊平行地移動一面進行檢查，於檢查上述一邊之長度量之後，使照射區域向與上述一邊正交之方向以特定之距離移動，特佳為對上述大型光罩之4個邊進行上述邊整面檢查。
於上述缺陷檢查方法中，較佳為上述整面檢查中之上述照射區域之移動速度為5 cm/秒～9 cm/秒之範圍內。
於上述目視指定資訊獲取步驟中，較佳為上述觀察用照明藉由控制部而交替地重複照射光相對於上述大型光罩之主面之照射狀態及非照射狀態。其中，較佳為藉由控制部將上述觀察用照明設為上述非照射狀態並利用雷射指示器獲取大型光罩之主面之缺陷之目視指定位置的方法、或於藉由交替地高速切換上述照射狀態及非照射狀態而使上述大型光罩上之照射光之亮度降低之狀態下利用雷射指示器獲取大型光罩之主面之缺陷之目視指定位置的方法。
[發明之效果]
於上述目視指定資訊獲取步驟中，較佳為上述觀察用照明藉由控制部而交替地重複照射光相對於上述大型光罩之主面之照射狀態及非照射狀態。其中，較佳為藉由控制部將上述觀察用照明設為上述非照射狀態並利用雷射指示器獲取大型光罩之主面之缺陷之目視指定位置的方法、或於藉由交替地高速切換上述照射狀態及非照射狀態而使上述大型光罩上之照射光之亮度降低之狀態下利用雷射指示器獲取大型光罩之主面之缺陷之目視指定位置的方法。
[發明之效果]
於本發明中，發揮如下效果，即，可容易地進行利用包含宏觀觀察及微觀觀察之兩者之外觀檢查之缺陷檢查。
以下，對本發明之外觀檢查裝置及外觀檢查方法詳細地進行說明。
A.外觀檢查裝置
本發明之外觀檢查裝置之特徵在於具備：目視指定器件，其指示基於目視觀察而指示之大型光罩主面之目視指定位置；二維座標計算器件，其根據目視指定資訊計算表示上述目視指定位置之上述大型光罩之主面之二維座標；顯微鏡，其可移動至能夠觀察上述大型光罩之主面之各位置之位置；顯微鏡驅動器件，其使上述顯微鏡移動至能夠觀察上述二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置的位置；及二維座標輸入器件，其輸入表示上述大型光罩之主面之任意位置之二維座標。此處，於本發明中，所謂「大型光罩之主面」係指大型光罩之正面及背面。
本發明之外觀檢查裝置之特徵在於具備：目視指定器件，其指示基於目視觀察而指示之大型光罩主面之目視指定位置；二維座標計算器件，其根據目視指定資訊計算表示上述目視指定位置之上述大型光罩之主面之二維座標；顯微鏡，其可移動至能夠觀察上述大型光罩之主面之各位置之位置；顯微鏡驅動器件，其使上述顯微鏡移動至能夠觀察上述二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置的位置；及二維座標輸入器件，其輸入表示上述大型光罩之主面之任意位置之二維座標。此處，於本發明中，所謂「大型光罩之主面」係指大型光罩之正面及背面。
一面參照圖式一面對本發明之外觀檢查裝置之一例之構成及動作進行說明。圖1係表示本發明之外觀檢查裝置之一例之概略側視圖。再者，於圖1中，所謂X1方向係指與地板面2平行之方向，所謂Y1方向係指與地板面2平行且與X1方向垂直之方向，所謂Z1方向係指與地板面2垂直之方向。
首先，對圖1所示之外觀檢查裝置100之構成進行說明。
如圖1所示，外觀檢查裝置100具備：基部5，其設置於地板面2；架台10，其可移動地設置於基部5；及基板支持框14，其經由旋轉軸12而設置於架台10。又，如圖1所示，外觀檢查裝置100具備：載台16，其設置於地板面2；雷射指示器20及顯微鏡50，其等安裝於載台16；操作部30；及電腦40。電腦40具有顯示部40a、控制部40b、及記憶部40c。
如圖1所示，外觀檢查裝置100具備：基部5，其設置於地板面2；架台10，其可移動地設置於基部5；及基板支持框14，其經由旋轉軸12而設置於架台10。又，如圖1所示，外觀檢查裝置100具備：載台16，其設置於地板面2；雷射指示器20及顯微鏡50，其等安裝於載台16；操作部30；及電腦40。電腦40具有顯示部40a、控制部40b、及記憶部40c。
基板支持框14具有自正面貫通至背面之開口部14a，固定於基板支持框14之大型光罩70之正面70a及背面70b可自基板支持框14之正面側及背面側經由開口部14a而觀察。架台10藉由利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示，而能夠相對於基部5向±Y1方向移動。基板支持框14藉由利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示，而能夠藉由架台10之驅動向±Z1方向移動，且能夠繞著與X1方向平行之旋轉軸12旋動。雷射指示器20於載台16之正面16a能夠移動至±X1方向及±Z1方向之各位置，且可指示大型光罩70之正面70a及背面70b之各位置。載台16之正面16a中之雷射指示器20之位置及雷射指示器20之下述指示方向可藉由利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示而進行控制。
顯微鏡50於載台16之正面16a能夠移動至±X1方向及±Z1方向之各位置。因此，顯微鏡50可移動至觀察配置於藉由架台10之移動及基板支持框14之移動及旋動能夠觀察之位置之大型光罩70之正面70a及背面70b之各位置的位置。
繼而，對圖1所示之外觀檢查裝置100之動作進行說明。
外觀檢查裝置100之動作存在觀察者200按照藉由目視進行觀察之宏觀觀察及利用顯微鏡詳細地進行觀察之微觀觀察之順序進行大型光罩70之外觀檢查之情形之第1動作、及觀察者200使用藉由微觀觀察而獲得之缺陷之資訊進行宏觀觀察之情形之第2動作之兩種。
外觀檢查裝置100之動作存在觀察者200按照藉由目視進行觀察之宏觀觀察及利用顯微鏡詳細地進行觀察之微觀觀察之順序進行大型光罩70之外觀檢查之情形之第1動作、及觀察者200使用藉由微觀觀察而獲得之缺陷之資訊進行宏觀觀察之情形之第2動作之兩種。
圖2係說明圖1所示之外觀檢查裝置100之第1動作之模式圖。圖2(a)係模式性地表示圖1所示之雷射指示器20及大型光罩70之圖，圖2(b)係模式性地表示圖1所示之顯微鏡50及大型光罩70之圖。再者，於圖2中，所謂X2方向係指與大型光罩70之正面70a之一邊平行之方向，所謂Y2方向係指與大型光罩70之正面70a平行且與X2方向垂直之方向，所謂Z2方向係指與大型光罩70之正面70a垂直之方向。於圖1中，於使大型光罩70之正面70a及背面70b自與地板面2平行之方向繞旋動軸12旋轉之角度θx為0°之情形時，圖2中之X2方向、Y2方向、及Z2方向與圖1中之X1方向、Y1方向、及Z1方向一致。
於進行圖1所示之外觀檢查裝置100之第1動作之情形時，首先，觀察者200進行藉由目視而全局性地進行觀察之宏觀觀察，藉此，檢測大型光罩70之正面70a之缺陷72。
此時利用目視進行之宏觀觀察可如圖1所示般使用如觀察用照明80a～80c般固定之觀察用照明進行觀察，但較佳為如圖7所示般，觀察者200手持觀察用照明80，相對於大型光罩70之正面70a將上述觀察用照明80以特定之角度傾斜而照射，且一面左右移動一面進行觀察，從而檢查缺陷72。
此時利用目視進行之宏觀觀察可如圖1所示般使用如觀察用照明80a～80c般固定之觀察用照明進行觀察，但較佳為如圖7所示般，觀察者200手持觀察用照明80，相對於大型光罩70之正面70a將上述觀察用照明80以特定之角度傾斜而照射，且一面左右移動一面進行觀察，從而檢查缺陷72。
繼而，如圖1及圖2(a)所示，觀察者200利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示，藉此，利用雷射指示器20之雷射指示大型光罩70之正面70a之缺陷72之位置。
繼而，如圖1及圖2(a)所示，觀察者200於利用雷射指示出缺陷72之位置之狀態下，利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示，藉此，外觀檢查裝置100藉由控制部40b而獲取載台16之正面16a中之雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)、及大型光罩70之位置，並記憶於記憶部40c。
此處，於進行如圖7所示之宏觀觀察之情形時，上述操作部30較佳為如由觀察者200保持且於發現缺陷72之情形時可當場進行上述操作般之可攜帶之控制器型者。
此處，於進行如圖7所示之宏觀觀察之情形時，上述操作部30較佳為如由觀察者200保持且於發現缺陷72之情形時可當場進行上述操作般之可攜帶之控制器型者。
此處，所謂雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)，係指如圖2(a)所示般相對於Z2方向之基準方向朝X2方向傾斜Pθx
之角度且朝Y2方向傾斜Pθy
之角度的方向。再者，基準方向並非必須設定為Z2方向，例如，亦可設定為如圖1中之Y1方向之任意方向。
繼而，觀察者200利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示，藉此，外觀檢查裝置100根據載台16之正面16a中之雷射指示器20之位置、雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)、及大型光罩70之位置之幾何學關係，利用控制部40b計算表示缺陷72之位置之大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)，並記憶於記憶部40c。
繼而，如圖1及圖2(b)所示，觀察者200利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示，藉此，使大型光罩70移動至藉由架台10之移動及基板支持框14之移動及旋動能夠觀察之位置之後，使顯微鏡50自基準位置移動至能夠觀察二維座標(Mx，My)所示之大型光罩70之正面70a之位置的位置。藉此，觀察者200可於調整顯微鏡50之焦點之後進行利用顯微鏡50觀察大型光罩70之正面70a之缺陷72之微觀觀察。具體而言，於圖1中將θx設定為90°，將大型光罩70向載台16之平行方向旋動，使顯微鏡50向缺陷72之二維方向(Mx，My)移動。
如上所述，於外觀檢查裝置100之第1動作中，獲取雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)、及大型光罩70之位置作為基於目視觀察而指示之大型光罩70之正面70a之缺陷72之目視指定資訊之後，可計算大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)。由此，可獲取表示藉由宏觀觀察檢測出之缺陷之位置之大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)。
再者，例如，於將載台16之正面16a中之雷射指示器20之位置固定之情形時，如圖1及圖2(a)所示般，獲取雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)、及由架台10之Y1方向之位置、高度H、以及旋轉角θx決定之大型光罩70之位置之後，可根據該等位置資訊計算表示缺陷72之位置之大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)。再者，表示缺陷72之位置之二維座標(Mx，My)之計算方法並不限定於該方法。
圖3係表示圖1所示之外觀檢查裝置100之第2動作之模式圖。圖3(a)係表示圖1所示之大型光罩70之圖，圖3(b)係表示圖1所示之雷射指示器20及大型光罩70之圖。再者，圖3中之X2方向、Y2方向、及Z2方向與圖2中之X2方向、Y2方向、及Z2方向一致。
於進行圖1所示之外觀檢查裝置100之第2動作之情形時，首先，如圖1及圖3(a)所示，利用自動地進行微觀觀察之外觀檢查機自動地檢測出大型光罩70之正面70a之缺陷74之後，對缺陷74進行修正。此時，將表示大型光罩70之正面70a之缺陷之修正部位74c或者缺陷74之位置之大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)與缺陷之種類等一同資料化。繼而，觀察者200利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示，藉此，將表示缺陷之修正部位74c或缺陷74之位置之大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)輸入至記憶部40c。
如此，本發明之外觀檢查裝置具備如下器件，該器件不僅獲取表示藉由宏觀觀察檢測出之缺陷之位置之大型光罩之主面之二維座標，而且輸入表示藉由微觀觀察檢測出之缺陷之修正部位或缺陷之位置之二維座標。由此，可容易地進行藉由宏觀觀察及微觀觀察之兩者檢測出之缺陷之檢查。
繼而，如圖1及圖3(a)所示，根據載台16之正面16a中之雷射指示器20之設置位置、表示缺陷之修正部位74c之大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)、及大型光罩70之位置之幾何學關係，利用控制部40b計算指示缺陷之修正部位74c之雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)，並記憶於記憶部40c。
繼而，如圖1及圖3(b)所示，觀察者200利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示，藉此，外觀檢查裝置100使用雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)以觀察者200可目視之方式利用雷射指示器20之雷射指示缺陷之修正部位74c。藉此，觀察者200可目視觀察缺陷之修正部位74c。
如上所述，於外觀檢查裝置100之第2動作中，可於修正藉由微觀觀察檢測出之大型光罩70之正面70a之缺陷74之後，根據表示缺陷之修正部位74c之大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)計算指示缺陷之修正部位74c之雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)作為用以目視缺陷之修正部位74c之目視指定資訊。因此，可使用雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)以可目視之方式指示缺陷之修正部位74c。由此，可宏觀觀察藉由微觀觀察檢測出之缺陷之修正部位74c。
因此，根據本發明，可獲取表示藉由宏觀觀察檢測出之缺陷之位置之大型光罩之主面之二維座標。進而，能以可目視之方式指示藉由微觀觀察檢測出之缺陷或其修正部位。由此，可容易地進行基於包含宏觀觀察及微觀觀察之兩者之外觀檢查之缺陷之檢查。
1.目視指定資訊獲取器件
上述目視指定資訊獲取器件係獲取基於目視觀察而指示之大型光罩之主面之目視指定位置之目視指定資訊的器件。
上述目視指定資訊獲取器件係獲取基於目視觀察而指示之大型光罩之主面之目視指定位置之目視指定資訊的器件。
作為上述目視指定資訊獲取器件，並無特別限定，例如，如圖1及圖2(a)所示般，於利用雷射指示器20之雷射指示大型光罩70之正面70a之缺陷74之位置之狀態下，對控制部40b賦予特定之指示，藉此，利用控制部40b獲取載台16之正面16a中之雷射指示器20之位置、雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)、及大型光罩70之位置。
此處，圖4係表示自圖1所示之觀察者200目視之大型光罩70之正面70a中之雷射指示器20之雷射之照射位置之例的概略圖。作為上述目視指定資訊獲取器件，可為將缺陷之位置捕捉為點之後指定利用雷射指示器20之雷射指示之點之器件，亦可為使用將缺陷之位置捕捉為矩形區域、圓形區域、橢圓形區域之後利用雷射指示器20之雷射進行指示之矩形指定、圓指定、橢圓指定之器件，進而亦可為使用將缺陷之位置捕捉為直線之後利用雷射指示器20之雷射進行指示之直線指定之器件。
觀察者200根據缺陷之形狀、分佈適當選擇缺陷之位置之指定方法。使用上述點指定之上述目視指定資訊獲取器件係對控制部40b指示缺陷之位置為點，並獲取如圖4所示般指示點之位置411時之雷射指示器之指示方向(Pθx
，Pθy
)。又，使用上述矩形指定之上述目視指定資訊獲取器件係對控制部40b指示缺陷之位置為矩形區域，並分別獲取如圖4所示般指示矩形區域之對角之位置412、413時之雷射指示器之指示方向(Pθx
，Pθy
)。又，使用上述圓指定之上述目視指定資訊獲取器件係對控制部40b指示缺陷之位置為圓形區域，並分別獲取如圖4所示般指示圓形區域之直徑之中心之位置414及兩端之位置415、416時之雷射指示器之指示方向(Pθx
，Pθy
)。再者，該器件亦可為分別獲取僅指示圓形區域之直徑之中心之位置414及兩端之位置415、416之某一者之2點時之雷射指示器之指示方向(Pθx
，Pθy
)者。又，使用橢圓指定之上述目視指定資訊獲取器件係對控制部40b指示缺陷之位置為橢圓形區域，並分別獲取如圖4所示般指示橢圓形區域之中心之位置417、長軸之兩端之位置418、419、及短軸之兩端之位置420、421時之雷射指示器之指示方向(Pθx
，Pθy
)即可。再者，該器件亦可為分別獲取僅指示橢圓形區域之中心之位置417、長軸之兩端之位置418、419之某一者、及短軸之兩端之位置420、421之某一者之3點時之雷射指示器之指示方向(Pθx
，Pθy
)者。進而，使用直線指定之上述目視指定資訊獲取器件係對控制部40b指示缺陷之位置為直線，並分別獲取如圖4所示般指示直線之兩端之位置422、423時之雷射指示器之指示方向(Pθx
，Pθy
)即可。
表1表示目視指定資訊。「屬性」表示雷射指示器20之區域指定方法。「傾斜度」表示圖1之角度θx，「指示方向」表示雷射指示器20之指示方向。
[表1]
作為上述目視指定資訊獲取器件，並不限定於使用上述方法之器件，只要能夠指定上述大型光罩之主面中之包含缺陷之區域即可。作為上述缺陷之位置之指定方法，並不限定於點指定、矩形指定、圓指定、橢圓指定、直線指定，只要能夠最佳地指定缺陷之位置即可。再者，作為上述目視指定資訊獲取器件，可為獲取上述大型光罩之主面中之點或直線之目視指定資訊作為上述目視指定資訊之器件，亦可為獲取如上述大型光罩之主面中之矩形區域、圓形區域、橢圓形區域等之具有面積之區域之目視指定資訊之器件，但較佳為獲取該具有面積之區域之目視指定資訊之器件。
2.目視指定器件
本發明中之目視指定器件係指示基於目視觀察而指示之大型光罩主面之目視指定位置之器件。
本發明中之目視指定器件係指示基於目視觀察而指示之大型光罩主面之目視指定位置之器件。
作為上述目視指定器件，並無特別限定，例如，可列舉雷射指示器、觸控面板之顯示圖像內之指示器等。
作為上述雷射指示器，較佳為如圖1所示般配置於觀察者200之頭上方者。其原因在於：於觀察者200目視觀察大型光罩70時不會成為障礙。
作為上述雷射指示器，較佳為如圖1所示般配置於觀察者200之頭上方者。其原因在於：於觀察者200目視觀察大型光罩70時不會成為障礙。
又，作為上述雷射，例如可列舉紅色光或綠色光等，但較佳為紅色光。其原因在於：容易藉由目視來視認。
亦可代替上述雷射指示器而使用照射至上述大型光罩正面上時之直徑例如可為5 mm左右之高亮度燈。若利用上述雷射指示器，則一面照射觀察用照明一面進行目視觀察，於發現缺陷之情形時，由於觀察用照明之照射區域內之亮度較高，故而有可能無法確認表示上述缺陷部分之雷射指示器之雷射。於此種情形時，藉由代替上述雷射指示器而使用上述高亮度燈，於捕捉到缺陷部分之上述觀察用照明之照射區域內將上述高亮度燈重疊照射至缺陷部分附近，其後，將觀察用照明熄滅之後，利用上述高亮度燈特定出上述缺陷部分，並使之照射該位置，藉此，可獲取缺陷部分之位置資訊。
亦可代替上述雷射指示器而使用照射至上述大型光罩正面上時之直徑例如可為5 mm左右之高亮度燈。若利用上述雷射指示器，則一面照射觀察用照明一面進行目視觀察，於發現缺陷之情形時，由於觀察用照明之照射區域內之亮度較高，故而有可能無法確認表示上述缺陷部分之雷射指示器之雷射。於此種情形時，藉由代替上述雷射指示器而使用上述高亮度燈，於捕捉到缺陷部分之上述觀察用照明之照射區域內將上述高亮度燈重疊照射至缺陷部分附近，其後，將觀察用照明熄滅之後，利用上述高亮度燈特定出上述缺陷部分，並使之照射該位置，藉此，可獲取缺陷部分之位置資訊。
此種高亮度燈亦可為能夠使大型光罩正面之照射區域之面積變化者。其原因在於：藉由重疊於捕捉到缺陷部分之上述觀察用照明之照射部分照射上述高亮度燈，其後，縮小高亮度燈之照射區域，可獲取缺陷部分之位置資訊。
作為此種高亮度燈，例如可列舉Aitec System股份有限公司製LSP68x240W-ST(商品名、光源：LED(Light Emitting Diode，發光二極體)、色溫：6500 K)、POLARION公司製PS-NP1(商品名、光源：氙氣HID(High-intensity discharge，高強度氣體放電)燈、色溫：4300 K)、S-vans股份有限公司製370TFI/R(商品名、光源：鹵素燈、色溫：約3000 K)等。
又，作為上述目視指定資訊獲取器件，亦可為如下器件，即，由上述觀察用照明照射上述大型光罩正面，於發現缺陷部分時，以表示缺陷部分之方式產生陰影，並特定出該陰影之位置。
又，作為上述目視指定資訊獲取器件，亦可為如下器件，即，由上述觀察用照明照射上述大型光罩正面，於發現缺陷部分時，以表示缺陷部分之方式產生陰影，並特定出該陰影之位置。
作為產生陰影之方法，例如，可列舉如下等方法：準備指示棒等具有前端部分之構件，將其插入至上述觀察用照明與上述大型光罩正面之間，藉此，產生指示缺陷部分之陰影；或於觀察用照明可裝卸地配置例如產生十字等之陰影之濾光片，於無濾光片之狀態下進行觀察，於發現缺陷時，將濾光片配置於觀察用照明之照射部，使缺陷部分產生陰影。
產生此種陰影時之位置之特定可列舉如下等方法：利用上述雷射指示器之雷射來指示陰影之位置，利用上述方法特定出位置；或利用下述攝像裝置拍攝陰影部分，並對該影像進行解析而特定出位置。
產生此種陰影時之位置之特定可列舉如下等方法：利用上述雷射指示器之雷射來指示陰影之位置，利用上述方法特定出位置；或利用下述攝像裝置拍攝陰影部分，並對該影像進行解析而特定出位置。
進而，例如亦可於上述觀察用照明之光源之前配置遮光物等，使用其交替地重複照射光相對於上述大型光罩之主面之照射狀態及非照射狀態，藉此，使得能夠指示目視指定位置。
具體而言，可列舉如下態樣：以非照射狀態利用雷射指示器獲取大型光罩之主面之缺陷之目視指定位置；或於藉由交替地高速切換照射狀態及非照射狀態而使上述大型光罩上之照射光之亮度降低之狀態下，利用雷射指示器獲取大型光罩之主面之缺陷之目視指定位置。
再者，上述所謂「高速切換」較佳為70 Hz以上，更佳為100 Hz以上。
具體而言，可列舉如下態樣：以非照射狀態利用雷射指示器獲取大型光罩之主面之缺陷之目視指定位置；或於藉由交替地高速切換照射狀態及非照射狀態而使上述大型光罩上之照射光之亮度降低之狀態下，利用雷射指示器獲取大型光罩之主面之缺陷之目視指定位置。
再者，上述所謂「高速切換」較佳為70 Hz以上，更佳為100 Hz以上。
作為實現上述方法之裝置，可列舉如下裝置，即，於上述觀察用照明之光源前配置能夠旋轉之遮光物，於發現缺陷部分時，藉由使該遮光物低速旋轉，具體而言使該遮光物以1 Hz以下旋轉，而重複觀察用照明之大型光罩正面中之照射、非照射，藉此，使得容易進行缺陷之檢測及雷射指示器之辨識，或使之高速地旋轉而使照射面之照度降低，使得能夠確認上述雷射指示器之雷射之位置。
又，亦可為如下裝置，即，於發現缺陷部分時，藉由使觀察用照明之光源低速地打開/關閉而重複大型光罩正面中之照射、非照射，或藉由使之高速地打開/關閉而使照射面之照度降低，同樣能夠進行利用雷射指示器之位置確認。除此以外，亦能以0.5秒以上之間隔重複照明之強度，附加強弱而調整照射面之照度。
又，亦可為如下裝置，即，於發現缺陷部分時，藉由使觀察用照明之光源低速地打開/關閉而重複大型光罩正面中之照射、非照射，或藉由使之高速地打開/關閉而使照射面之照度降低，同樣能夠進行利用雷射指示器之位置確認。除此以外，亦能以0.5秒以上之間隔重複照明之強度，附加強弱而調整照射面之照度。
作為此種裝置，例如可列舉圖14及圖15所示之裝置。
圖14(a)所示之裝置係具有燈箱1及引導來自燈箱之光之導光件2者。燈箱1具有燈3及反射來自燈3之光之凹面鏡4，且具有能夠遮擋來自凹面鏡4之光路之遮光板5、及使該遮光板5旋轉之驅動部6。於驅動部6組入有調整遮光板5之轉速之控制部。圖14(b)係表示上述遮光板5之形態之一例者，該形態之遮光板5具有270°之遮光區域7及90°之透光區域8。另一方面，於圖14(c)表示具有180°之遮光區域7及180°之透光區域8之遮光板5之另一形態。
圖14(a)所示之裝置係具有燈箱1及引導來自燈箱之光之導光件2者。燈箱1具有燈3及反射來自燈3之光之凹面鏡4，且具有能夠遮擋來自凹面鏡4之光路之遮光板5、及使該遮光板5旋轉之驅動部6。於驅動部6組入有調整遮光板5之轉速之控制部。圖14(b)係表示上述遮光板5之形態之一例者，該形態之遮光板5具有270°之遮光區域7及90°之透光區域8。另一方面，於圖14(c)表示具有180°之遮光區域7及180°之透光區域8之遮光板5之另一形態。
圖14所示之裝置能以兩種態樣使用。首先，於能以高亮度之光掌握之缺陷之情形時，首先，將上述遮光板3配置於不會將來自上述凹面鏡4之光路遮光之位置，利用自導光件2之前端照射之光檢查缺陷之有無。於發現缺陷之情形時，利用上述驅動部6使遮光板3低速旋轉，重複向大型光罩正面之照射、非照射，於非照射狀態時，即，於利用遮光板3將來自上述凹面鏡4之光路遮光時，可利用上述雷射指示器指示缺陷，從而特定出位置。
另一方面，於即便降低亮度亦能夠目視缺陷之情形時，於與上述同樣地利用自導光件2之前端照射之光發現缺陷時，可使上述遮光板3高速旋轉，使大型光罩正面之亮度降低，於該狀態下利用上述雷射指示器指示缺陷，從而特定出位置。
圖15所示之裝置中配置有控制燈1之打開/關閉之控制部9而代替上述圖14所示之裝置之遮光板5及驅動部6。於圖15所示之裝置之情形時，使用LED作為燈1。
於圖15所示之裝置中，亦與圖14之裝置同樣地能以兩種態樣使用。即，低速進行打開/關閉之控制之情形成為使上述遮光部3低速旋轉之態樣，高速進行打開/關閉之控制之情形成為使上述遮光部3高速旋轉之態樣。
3.二維座標計算器件
上述二維座標計算器件係根據上述目視指定資訊計算表示上述目視指定位置之上述大型光罩之主面之二維座標之器件。
上述二維座標計算器件係根據上述目視指定資訊計算表示上述目視指定位置之上述大型光罩之主面之二維座標之器件。
作為上述二維座標計算器件，並無特別限定，例如，可列舉如下器件，即，於獲取載台16之正面16a中之雷射指示器20之位置、雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)、及大型光罩70之位置作為上述目視指定資訊之情形時，如圖1及圖2(a)所示，對控制部40b賦予特定之指示，藉此，根據載台16之正面16a中之雷射指示器20之位置、雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)、及大型光罩70之位置之幾何學關係，利用控制部40b進行計算。又，例如亦可拍攝大型光罩，根據如大型光罩之主面之對準標記等標記計算利用觸控面板指示之缺陷之二維座標。
圖11表示獲取利用觸控面板之二維座標之構成圖。利用攝像裝置拍攝光罩，根據光罩上之對準標記等標記之座標及圖像資料上之對準標記之位置求出與觀察者在顯示器上觸摸之缺陷位置(x，y)對應之光罩上之二維座標(Mx，My)。
又，若上述目視指定資訊係指示圖4所示之大型光罩70之主面70a中之點之位置者，則上述二維座標計算器件只要計算表示該點之二維座標即可。又，若上述目視指定資訊係指示如圖4所示之大型光罩70之主面70a中之矩形區域、圓形區域、或橢圓形區域等之具有面積之區域之位置者，則上述二維座標計算器件只要計算如分別表示矩形區域之對角之位置之二維座標、分別表示圓形區域之直徑之中心位置及兩端位置之二維座標、分別表示橢圓形區域之中心位置、長軸之兩端之位置、及短軸之兩端之位置之二維座標等之複數個二維座標即可。
4.顯微鏡
上述顯微鏡係可移動至能夠觀察上述大型光罩之主面之各位置之位置者。
上述顯微鏡係可移動至能夠觀察上述大型光罩之主面之各位置之位置者。
作為上述顯微鏡，並無特別限定，但較佳為具有測定尺寸之尺寸測定功能、測定透過率之透過率測定功能、及測定反射率之反射率測定功能之任一種或兩種以上之功能者。
5.顯微鏡驅動器件
上述顯微鏡驅動器件係使上述顯微鏡移動至能夠觀察上述二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置的位置之器件。
上述顯微鏡驅動器件係使上述顯微鏡移動至能夠觀察上述二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置的位置之器件。
作為上述顯微鏡驅動器件，並無特別限定，例如，可列舉如圖1所示之載台16般可驅動地配置於上述外觀檢查裝置且能夠保持上述顯微鏡之載台且藉由對控制部40b賦予特定之指示而使上述顯微鏡50移動至能夠觀察上述二維座標所示之上述大型光罩70之主面之位置的位置之載台等。又，作為上述顯微鏡驅動器件，只要係如圖1所示之載台16及架台10及基板支持框14般，藉由使上述顯微鏡及上述大型光罩之相對位置移動而使上述顯微鏡移動至能夠觀察上述二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置的位置之器件即可。因此，上述顯微鏡驅動器件亦可為包含使上述大型光罩移動至上述顯微鏡側之器件者。
作為上述顯微鏡驅動器件，可為藉由對控制部賦予使上述顯微鏡以手動輸入之移動方向及移動距離移動之指示，而使上述顯微鏡移動至上述能夠觀察位置的器件，亦可為藉由對控制部賦予使上述顯微鏡自動地移動至上述能夠觀察之位置之指示而使上述顯微鏡自動地移動至上述能夠觀察之位置的器件，但較佳為使上述顯微鏡自動地移動至上述能夠觀察之位置之器件。
6.二維座標輸入器件
上述二維座標輸入器件係輸入表示上述大型光罩之主面之任意位置之二維座標之器件。
上述二維座標輸入器件係輸入表示上述大型光罩之主面之任意位置之二維座標之器件。
作為上述二維座標輸入器件，例如可列舉如圖1及圖3(a)所示般藉由對控制部40b賦予特定之指示而利用控制部40b將表示缺陷之修正部位74c之大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)輸入至記憶部40c之器件等。
7.其他
對本發明之外觀檢查裝置之其他特徵詳細地進行說明。
對本發明之外觀檢查裝置之其他特徵詳細地進行說明。
(1)目視指定資訊計算器件
上述外觀檢查裝置較佳為具備目視指定資訊計算器件者，該目視指定資訊計算器件根據利用上述二維座標輸入器件輸入之二維座標計算用於以可目視之方式指示上述任意位置之目視指定資訊。
上述外觀檢查裝置較佳為具備目視指定資訊計算器件者，該目視指定資訊計算器件根據利用上述二維座標輸入器件輸入之二維座標計算用於以可目視之方式指示上述任意位置之目視指定資訊。
作為上述目視指定資訊計算器件，並無特別限定，只要係計算雷射指示器20之目視指定資訊者即可。例如，如圖1及圖3(a)所示，根據載台16之正面16a中之雷射指示器20之位置、表示缺陷之修正部位74c之大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)、及大型光罩70之位置之幾何學關係，利用控制部40b計算以可目視之方式指示缺陷之修正部位74c之雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)。
圖12表示根據光罩上之任意之二維座標(Mx，My)計算目視指定資訊之處理。將任意之二維座標(Mx，My)輸入至記憶部40c(步驟1)，根據二維座標(Mx，My)計算雷射指示器20之目視指定資訊(Pθx
，Pθy
)(步驟2)。
圖13表示使用觸控面板計算目視指定資訊之處理。大型光罩被拍攝，利用觸控面板指定顯示於顯示器之缺陷，並獲取缺陷位置(x，y)(步驟1)。提取所拍攝之光罩之對準標記等標記(步驟2)。根據對準標記等標記計算光罩上之缺陷位置(Mx，My)，求出目視指定資訊(Pθx
，Pθy
)(步驟3)。
(2)觀察用照明
上述外觀檢查裝置通常進而具有用於目視觀察之觀察用照明。
上述外觀檢查裝置通常進而具有用於目視觀察之觀察用照明。
作為上述觀察用照明，例如較佳為如圖1所示之觀察用照明80a～80c之光源之種類互不相同之複數個觀察用照明。其原因在於：藉由使用此種複數個觀察用照明，於目視觀察中，容易檢測多種多樣之缺陷(不均、斑點、污垢、傷痕、異物等)。作為上述光源之種類，例如可列舉螢光燈、高亮度鹵素投光機、高亮度LED、HID(POLARION)、Na燈等。再者，若使用於Na燈組合短波長截止濾光片所得者作為光源，則亦能夠實施塗佈不均檢查。又，作為上述觀察用照明，可為固定之類型，亦可為觀察者手持而可自由地移動之類型。
(3)旋動機構
上述外觀檢查裝置通常進而具有使上述大型光罩繞著與上述大型光罩之主面平行之旋動軸旋動之旋動機構。
上述外觀檢查裝置通常進而具有使上述大型光罩繞著與上述大型光罩之主面平行之旋動軸旋動之旋動機構。
圖1所示之外觀檢查裝置100具有包含固定於設置於地板面2之架台10之旋轉軸12、及經由旋轉軸12而固定於架台10且可繞著旋轉軸12旋動之基板支持框14之旋動機構，藉此，可使設置於基板支持框14之大型光罩70繞著與大型光罩70之正面70a平行之旋動軸12旋動。
作為上述旋動機構，較佳為可使上述大型光罩之主面自與地板面平行之方向繞著旋動軸旋轉之角度為90°以上。其原因在於：例如，藉由如圖1所示般使大型光罩70之正面70a自與地板面2平行之方向繞著旋動軸12旋轉之角度θx為90°以上，而於使大型光罩70之正面70a向與地板面2垂直之方向傾斜之狀態下，觀察者200可進行正面70a之目視觀察，因此，正面70a之目視觀察變得容易。其中，較佳為上述可旋轉之角度為270°以上者。其原因在於：例如，藉由圖1所示之上述角度θx為270°以上，於使大型光罩70之背面70b向與地板面2垂直之方向傾斜之狀態下，觀察者200可進行背面70b之目視觀察，因此，背面70b之目視觀察變得容易。
(4)攝像裝置
作為上述外觀檢查裝置，較佳為進而具有拍攝上述大型光罩之主面之攝像裝置者。
作為上述外觀檢查裝置，較佳為進而具有拍攝上述大型光罩之主面之攝像裝置者。
例如，圖1所示之外觀檢查裝置100具有拍攝大型光罩70之正面70a或背面70b之數位相機90。藉此，對於直接觀察大型光罩70之正面70a或背面70b之觀察者200以外之人，亦可藉由控制部40b使利用數位相機90拍攝到之圖像顯示於顯示部40a。其原因在於：由此，可使上述大型光罩之主面之狀態周知。又，藉由使拍攝到之圖像顯示於觸控面板，而於上述二維座標計算器件、上述目視指定資訊計算器件、及上述目視指定器件中，可使用觸控面板之顯示圖像。再者，作為上述攝像裝置，例如除數位相機以外，亦可列舉TV(television，電視)相機等。
又，作為上述攝像裝置，較佳為如圖1所示之數位相機90般配置於觀察者200之頭上方者。其原因在於：於觀察者200目視觀察大型光罩70時不會成為障礙。
(5)其他
上述外觀檢查裝置通常具有控制上述外觀檢查裝置所具備之器件、裝置、機構等構成要素之如圖1所示之控制部40b之控制器件。又，上述外觀檢查裝置亦可具有為了控制上述構成要素而自外部對上述控制器件賦予特定之指示之如圖1所示之操作部40b之操作器件。
上述外觀檢查裝置通常具有控制上述外觀檢查裝置所具備之器件、裝置、機構等構成要素之如圖1所示之控制部40b之控制器件。又，上述外觀檢查裝置亦可具有為了控制上述構成要素而自外部對上述控制器件賦予特定之指示之如圖1所示之操作部40b之操作器件。
又，上述外觀檢查裝置通常具有記憶上述目視指定資訊、表示上述目視指定位置之上述大型光罩之主面之二維座標、表示上述大型光罩之主面之任意位置之二維座標、及上述目視用位置資訊等之任一種或兩種以上之資訊的如圖1所示之記憶部40c之記憶器件。
又，上述外觀檢查裝置通常具有如圖1所示之顯示部40a之顯示器件。作為上述顯示器件，例如可列舉液晶顯示器、有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示器等。又，上述顯示器件亦可用作上述「1.目視指定資訊獲取器件」之項目所記載之目視指定資訊獲取器件中使用之觸控面板。
進而，上述外觀檢查裝置亦可進而具有自外部輸入表示上述大型光罩之主面之任意位置之二維座標之輸入器件，且上述顯微鏡驅動器件可使上述顯微鏡移動至能夠觀察利用上述輸入器件輸入之二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置的位置。藉此，例如可將利用自動地進行微觀觀察之微觀外觀檢查機自動地獲取之表示大型光罩之主面之缺陷之位置的二維座標自微觀外觀檢查機輸入至上述外觀檢查裝置之後，使上述顯微鏡移動至能夠觀察該二維座標所示之上述主面之位置的位置，從而詳細地觀察該缺陷。又，可於將表示大型光罩之主面所記載之對準標記或品名等各種標記之位置之二維座標自外部輸入至上述外觀檢查裝置之後，使顯微鏡移動至能夠觀察該二維座標所示之上述主面之位置的位置，從而詳細地觀察各種標記。
B.外觀檢查方法
本發明之外觀檢查方法大致分為於按宏觀觀察及微觀觀察之順序進行大型光罩之外觀檢查之情形時使用之第1態樣、及於按微觀觀察及宏觀觀察之順序進行大型光罩之外觀檢查之情形時使用之第2態樣。
本發明之外觀檢查方法大致分為於按宏觀觀察及微觀觀察之順序進行大型光罩之外觀檢查之情形時使用之第1態樣、及於按微觀觀察及宏觀觀察之順序進行大型光罩之外觀檢查之情形時使用之第2態樣。
I.第1態樣
第1態樣之外觀檢查方法之特徵在於具備：目視指定資訊獲取步驟，其係獲取基於目視觀察而指示之大型光罩之主面之缺陷之目視指定資訊；二維座標計算步驟，其係根據上述目視指定資訊計算表示上述缺陷之位置之上述大型光罩之主面之二維座標；及微觀觀察步驟，其係利用顯微鏡觀察上述二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置。
第1態樣之外觀檢查方法之特徵在於具備：目視指定資訊獲取步驟，其係獲取基於目視觀察而指示之大型光罩之主面之缺陷之目視指定資訊；二維座標計算步驟，其係根據上述目視指定資訊計算表示上述缺陷之位置之上述大型光罩之主面之二維座標；及微觀觀察步驟，其係利用顯微鏡觀察上述二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置。
一面參照圖式，一面對第1態樣之外觀檢查方法之一例進行說明。圖5係表示第1態樣之外觀檢查方法之一例之流程圖。
於本例之外觀檢查方法中，首先，如圖5所示進行目視指定資訊獲取步驟S11。例如，首先，如圖1所示，觀察者200進行藉由目視而全局性地進行觀察之宏觀觀察，藉此，檢測大型光罩70之正面70a之缺陷72。其次，如圖1及圖2(a)所示，觀察者200利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示，藉此，利用雷射指示器20之雷射而指示大型光罩70之正面70a之缺陷72之位置。繼而，如圖1及圖2(a)所示，觀察者200於利用雷射而指示缺陷72之位置之狀態下，利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示，藉此，外觀檢查裝置100藉由控制部40b獲取載台16之正面16a中之雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)、及大型光罩70之位置，並記憶於記憶部40c。
繼而，如圖5所示進行二維座標計算步驟S12。例如，如圖1及圖2(a)所示，觀察者200利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示，藉此，外觀檢查裝置100根據載台16之正面16a中之雷射指示器20之位置、雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)、及大型光罩70之位置之幾何學關係，藉由控制部40b計算表示缺陷72之位置之大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)，並記憶於記憶部40c。
繼而，如圖5所示進行微觀觀察步驟S13。例如，如圖1及圖2(b)所示，觀察者200利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示，藉此，藉由架台10之移動以及基板支持框14之移動及旋動而使大型光罩70移動至可利用顯微鏡50觀察之位置之後，使顯微鏡50自基準位置移動至可觀察二維座標(Mx，My)所示之大型光罩70之正面70a之位置的位置。繼而，觀察者200調整顯微鏡50之焦點之後，進行利用顯微鏡50觀察大型光罩70之正面70a之缺陷72之微觀觀察。
如上所述，於本例之外觀檢查方法中，獲取指示載台16之正面16a中之缺陷72之位置之雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)、及大型光罩70之位置作為基於目視觀察而指示之大型光罩70之正面70a之缺陷72之目視指定資訊之後，可根據此種缺陷72之目視指定資訊計算表示缺陷72之位置之大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)。
因此，根據第1態樣，可獲取表示藉由宏觀觀察檢測出之缺陷之位置之大型光罩之主面之二維座標，因此，容易微觀觀察藉由宏觀觀察檢測出之缺陷。
1.目視指定資訊獲取步驟
於上述目視指定資訊獲取步驟中，獲取基於目視觀察而指示之大型光罩之主面之缺陷之目視指定資訊。
於上述目視指定資訊獲取步驟中，獲取基於目視觀察而指示之大型光罩之主面之缺陷之目視指定資訊。
作為獲取上述目視指定資訊之方法，並無特別限定，例如，可列舉使用上述「A.外觀檢查裝置 1.目視指定資訊獲取器件」之項目所記載之目視指定資訊獲取器件獲取上述目視指定資訊之方法等。又，作為上述目視指定資訊，並無特別限定，例如可列舉上述「A.外觀檢查裝置 1.目視指定資訊獲取器件」之項目所記載之目視指定資訊等。
2.二維座標計算步驟
於上述二維座標計算步驟中，根據上述目視指定資訊計算表示上述缺陷之位置之上述大型光罩之主面之二維座標。
於上述二維座標計算步驟中，根據上述目視指定資訊計算表示上述缺陷之位置之上述大型光罩之主面之二維座標。
作為計算上述二維座標之方法，並無特別限定，例如可列舉使用上述「A.外觀檢查裝置 2.二維座標計算器件」之項目所記載之二維座標計算器件計算上述二維座標之方法等。
3.微觀觀察步驟
於上述微觀觀察步驟中，利用顯微鏡觀察上述二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置。
於上述微觀觀察步驟中，利用顯微鏡觀察上述二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置。
作為上述顯微鏡，並無特別限定，例如如圖1所示，可列舉上述「A.外觀檢查裝置 3.顯微鏡」之項目所記載之顯微鏡等。
4.外觀檢查方法
第1態樣之外觀檢查方法通常使用上述「A.外觀檢查裝置」之項目所記載之外觀檢查裝置實施。
第1態樣之外觀檢查方法通常使用上述「A.外觀檢查裝置」之項目所記載之外觀檢查裝置實施。
5.其他
於第1態樣之外觀檢查方法中，通常於上述目視指定資訊獲取步驟之前具有藉由外觀之觀察而發現缺陷之缺陷檢查步驟。係對藉由上述缺陷檢查步驟而發現之缺陷進行上述目視指定資訊獲取步驟。
該缺陷檢查步驟並無特別限定，通常藉由如下方式進行，即，如圖7所示般，觀察者200手持觀察用照明80，相對於大型光罩70之正面70a將上述觀察用照明80以特定之角度傾斜而照射，且一面上下左右移動一面進行觀察，從而檢查缺陷72。
本態樣中之缺陷檢查步驟並無特別限定，較佳為使用下述「C.缺陷檢查方法」之步驟。
於第1態樣之外觀檢查方法中，通常於上述目視指定資訊獲取步驟之前具有藉由外觀之觀察而發現缺陷之缺陷檢查步驟。係對藉由上述缺陷檢查步驟而發現之缺陷進行上述目視指定資訊獲取步驟。
該缺陷檢查步驟並無特別限定，通常藉由如下方式進行，即，如圖7所示般，觀察者200手持觀察用照明80，相對於大型光罩70之正面70a將上述觀察用照明80以特定之角度傾斜而照射，且一面上下左右移動一面進行觀察，從而檢查缺陷72。
本態樣中之缺陷檢查步驟並無特別限定，較佳為使用下述「C.缺陷檢查方法」之步驟。
II.第2態樣
第2態樣之外觀檢查方法之特徵在於具備：缺陷修正步驟，其係修正大型光罩之主面之缺陷；目視指定資訊計算步驟，其係根據表示上述缺陷之修正部位之上述大型光罩之主面之二維座標計算上述缺陷之修正部位之目視指定資訊；及宏觀觀察步驟，其係使用上述目視指定資訊指示上述缺陷之修正部位，藉此，進行上述缺陷之修正部位之目視觀察。
第2態樣之外觀檢查方法之特徵在於具備：缺陷修正步驟，其係修正大型光罩之主面之缺陷；目視指定資訊計算步驟，其係根據表示上述缺陷之修正部位之上述大型光罩之主面之二維座標計算上述缺陷之修正部位之目視指定資訊；及宏觀觀察步驟，其係使用上述目視指定資訊指示上述缺陷之修正部位，藉此，進行上述缺陷之修正部位之目視觀察。
一面參照圖式，一面對第2態樣之外觀檢查方法之一例進行說明。圖6係表示第2態樣之外觀檢查方法之一例之流程圖。
於本例之外觀檢查方法中，首先，如圖6所示進行缺陷修正步驟S21。例如，首先，如圖1所示，利用自動地進行微觀觀察之外觀檢查機自動地檢測出大型光罩70之正面70a之缺陷74之後，對缺陷74進行修正。此時，將表示大型光罩70之正面70a之缺陷之修正部位74c或缺陷74之位置之大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)與缺陷之種類等一同資料化。
其次，如圖6所示進行目視指定資訊計算步驟S22。例如，如圖1及圖3(a)所示，觀察者200利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示，藉此，將表示缺陷之修正部位74c或缺陷74之位置之大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)輸入至記憶部40c。繼而，觀察者200利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示，藉此，根據載台16之正面16a中之雷射指示器20之位置、表示缺陷之修正部位74c之大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)、及大型光罩70之位置之幾何學關係，藉由控制部40b計算指示缺陷之修正部位74c之雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)並記憶於記憶部40c。
繼而，如圖6所示進行宏觀觀察步驟S23。例如，如圖1及圖3(b)所示，觀察者200利用操作部30之鍵操作對控制部40b賦予特定之指示，藉此，外觀檢查裝置100使用雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)，以觀察者200可目視之方式利用雷射指示器20之雷射指示缺陷之修正部位74c。繼而，觀察者200目視觀察利用雷射指示之缺陷之修正部位74c。
如上所述，於本例之外觀檢查方法中，可於對藉由微觀觀察檢測出之大型光罩70之正面70a之缺陷74進行修正之後，根據表示缺陷之修正部位74c之大型光罩70之正面70a之二維座標(Mx，My)計算指示缺陷之修正部位74c之雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)作為用於以可目視之方式指示缺陷之修正部位74c之目視指定資訊。因此，可使用雷射指示器20之指示方向(Pθx
，Pθy
)，以可目視之方式指示缺陷之修正部位74c。由此，可宏觀觀察藉由微觀觀察檢測出之缺陷之修正部位74c。
因此，根據第2態樣，能以可目視之方式指示藉由微觀觀察檢測出之缺陷或其修正部位，因此，容易宏觀觀察該缺陷或其修正部位。
1.缺陷修正步驟
於上述缺陷修正步驟中，對大型光罩之主面之缺陷進行修正。
於上述缺陷修正步驟中，對大型光罩之主面之缺陷進行修正。
作為修正上述缺陷之方法，並無特別限定，但於上述缺陷為黑缺陷之情形時，例如，可列舉一面對上述黑缺陷供給輔助氣體一面照射荷電粒子束，從而對上述黑缺陷進行蝕刻之方法等。又，於上述缺陷為白缺陷之情形時，例如可列舉一面對上述白缺陷供給沈積用氣體一面照射荷電粒子束，從而堆積修正膜之方法。
再者，於本發明中，所謂黑缺陷係指大型光罩之遮罩圖案中之不需要之多餘部分。又，所謂白缺陷係指大型光罩之遮罩圖案中之缺損。
2.目視指定資訊計算步驟
於上述目視指定資訊計算步驟中，根據表示上述缺陷之修正部位之上述大型光罩之主面之二維座標計算用於以可目視之方式指示上述缺陷之修正部位之目視指定資訊。
於上述目視指定資訊計算步驟中，根據表示上述缺陷之修正部位之上述大型光罩之主面之二維座標計算用於以可目視之方式指示上述缺陷之修正部位之目視指定資訊。
作為計算上述目視指定資訊之方法，並無特別限定，例如，可列舉使用上述「A.外觀檢查裝置 6.其他 (1)目視指定資訊計算器件及目視指定器件」之項目所記載之目視用位置資訊計算器件計算上述目視用位置資訊之方法等。
3.宏觀觀察步驟
於上述宏觀觀察步驟中，藉由使用上述目視指定資訊指示上述缺陷之修正部位，而進行上述缺陷之修正部位之目視觀察。
於上述宏觀觀察步驟中，藉由使用上述目視指定資訊指示上述缺陷之修正部位，而進行上述缺陷之修正部位之目視觀察。
作為使用上述目視指定資訊指示上述缺陷之修正部位之方法，並無特別限定，例如可列舉使用上述「A.外觀檢查裝置 6.其他 (1)目視指定資訊計算器件及目視指定器件」之項目所記載之目視指定器件指示上述缺陷之修正部位之方法等。
4.外觀檢查方法
第2態樣之外觀檢查方法通常使用上述「A.外觀檢查裝置」之項目所記載之外觀檢查裝置實施。
第2態樣之外觀檢查方法通常使用上述「A.外觀檢查裝置」之項目所記載之外觀檢查裝置實施。
III.其他態樣
作為本發明之外觀檢查方法之其他態樣，可列舉如下等方法，即，將利用自動地進行微觀觀察之微觀外觀檢查機自動地獲取之表示大型光罩之正面之缺陷之位置之二維座標自微觀外觀檢查機輸入至上述「A.外觀檢查裝置」之項目所記載之外觀檢查裝置之後，使上述外觀檢查裝置中之顯微鏡移動至可觀察該二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置的位置，而詳細地觀察該缺陷。
作為本發明之外觀檢查方法之其他態樣，可列舉如下等方法，即，將利用自動地進行微觀觀察之微觀外觀檢查機自動地獲取之表示大型光罩之正面之缺陷之位置之二維座標自微觀外觀檢查機輸入至上述「A.外觀檢查裝置」之項目所記載之外觀檢查裝置之後，使上述外觀檢查裝置中之顯微鏡移動至可觀察該二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置的位置，而詳細地觀察該缺陷。
C.缺陷檢查方法
本發明之缺陷檢查方法之特徵在於：其係藉由對大型光罩之主面以固定之照射角度照射觀察用照明而於上述大型光罩之主面設置照射區域，藉由使上述照射區域上下左右移動而進行檢查上述大型光罩之主面之整面之整面檢查，從而檢查存在於上述大型光罩之主面之缺陷之有無，且上述整面檢查係改變上述觀察用照明相對於上述大型光罩之主面之照射角度而進行至少2次。
本發明之缺陷檢查方法之特徵在於：其係藉由對大型光罩之主面以固定之照射角度照射觀察用照明而於上述大型光罩之主面設置照射區域，藉由使上述照射區域上下左右移動而進行檢查上述大型光罩之主面之整面之整面檢查，從而檢查存在於上述大型光罩之主面之缺陷之有無，且上述整面檢查係改變上述觀察用照明相對於上述大型光罩之主面之照射角度而進行至少2次。
作為存在於上述大型光罩之主面、即正面之缺陷，可列舉被稱為所謂不均之表示與周圍不同之反射之區域、斑點或污垢、異物，進而可列舉形成於大型光罩之圖案之邊緣之不良等。該等缺陷於普通之利用目視之檢查中難以發現，因此，自先前以來，例如進行如圖7所示之使用觀察用照明之檢查方法。
即，採用如下方法，即，如圖7所示，觀察者200手持觀察用照明80，相對於大型光罩70之正面70a將上述觀察用照明80以特定之角度傾斜而進行照射，且一面左右移動一面進行觀察，從而檢查缺陷72。
即，採用如下方法，即，如圖7所示，觀察者200手持觀察用照明80，相對於大型光罩70之正面70a將上述觀察用照明80以特定之角度傾斜而進行照射，且一面左右移動一面進行觀察，從而檢查缺陷72。
然而，現狀為即便於以上述方法進行檢查之情形時，亦有可能產生缺陷之漏看，作為檢查之可靠性，無法充分滿足。
本發明者等為了解決上述問題而進行了銳意研究，結果發現，存在可發現之缺陷根據觀察用照明相對於大型光罩之主面之角度而不同之情形，從而發現了上述缺陷檢查方法，藉由使用上述缺陷檢查方法，發揮可大幅地減少大型光罩之缺陷檢查中之漏看之效果。
以下，對本發明之缺陷檢查方法詳細地進行說明。
本發明者等為了解決上述問題而進行了銳意研究，結果發現，存在可發現之缺陷根據觀察用照明相對於大型光罩之主面之角度而不同之情形，從而發現了上述缺陷檢查方法，藉由使用上述缺陷檢查方法，發揮可大幅地減少大型光罩之缺陷檢查中之漏看之效果。
以下，對本發明之缺陷檢查方法詳細地進行說明。
1.照射角度
本發明之特徵在於如下方面，即，於大型光罩之缺陷檢查時，改變上述觀察用照明相對於上述大型光罩之主面之照射角度而進行至少2次。藉由如此改變照射角度進行至少2次而缺陷之漏看減少之理由推定如下。
即，根據發明者等之研究，作為上述缺陷之一種之異物或形成於大型光罩之圖案之邊緣之不良等於上述照射角度較小時能夠發現之可能性較高。另一方面，上述不均、斑點及污垢等於增大上述照射角度且使照射區域之照度某種程度地高時能夠發現之可能性較高。進而，對於不均，根據其種類，可發現之角度不同，於以一個角度進行之檢查中，存在漏看之可能性。就以上方面而言，如上所述，藉由改變角度進行至少2次以上之整面檢查，可減少缺陷之漏看。
本發明之特徵在於如下方面，即，於大型光罩之缺陷檢查時，改變上述觀察用照明相對於上述大型光罩之主面之照射角度而進行至少2次。藉由如此改變照射角度進行至少2次而缺陷之漏看減少之理由推定如下。
即，根據發明者等之研究，作為上述缺陷之一種之異物或形成於大型光罩之圖案之邊緣之不良等於上述照射角度較小時能夠發現之可能性較高。另一方面，上述不均、斑點及污垢等於增大上述照射角度且使照射區域之照度某種程度地高時能夠發現之可能性較高。進而，對於不均，根據其種類，可發現之角度不同，於以一個角度進行之檢查中，存在漏看之可能性。就以上方面而言，如上所述，藉由改變角度進行至少2次以上之整面檢查，可減少缺陷之漏看。
具體而言，如圖8所示，進行以觀察用照明80相對於大型光罩70之主面之照射角度較小之低照射角A進行整面檢查之低照射角整面檢查、及以觀察用照明80相對於大型光罩70之主面之照射角度較大之高照射角B進行整面檢查之高照射角整面檢查。
此處，低照射角整面檢查中之照射角度A以30°為中心，較佳為15°～45°之範圍內，其中，較佳為20°～40°之範圍內，特佳為25°～35°之範圍內。
此處，低照射角整面檢查中之照射角度A以30°為中心，較佳為15°～45°之範圍內，其中，較佳為20°～40°之範圍內，特佳為25°～35°之範圍內。
另一方面，高照射角整面檢查中之照射角度B以60°為中心，較佳為45°～75°之範圍內，其中，較佳為50°～70°之範圍內，特佳為55°～65°之範圍內。
於本發明中，如上所述，改變整面檢查之角度進行至少2次整面檢查即可，因此，亦可進行3次以上整面檢查。
於本發明中，如上所述，改變整面檢查之角度進行至少2次整面檢查即可，因此，亦可進行3次以上整面檢查。
又，各整面檢查中之照射角度較佳為固定，較佳為至少於±10°、較佳為±5°之範圍內進行。
2.整面檢查
本發明中之整面檢查只要係能夠檢查上述大型光罩之整面之方法則並無特別限定，但上述整面檢查較佳為藉由重複進行如下步驟而檢查大型光罩整面之邊整面檢查，即，自上述大型光罩之一邊側向相對於上述一邊正交之方向照射上述觀察用照明，且一面相對於上述一邊平行地移動一面進行檢查，於檢查上述一邊之長度量之後，使照射區域向與上述一邊正交之方向以特定之距離移動。
本發明中之整面檢查只要係能夠檢查上述大型光罩之整面之方法則並無特別限定，但上述整面檢查較佳為藉由重複進行如下步驟而檢查大型光罩整面之邊整面檢查，即，自上述大型光罩之一邊側向相對於上述一邊正交之方向照射上述觀察用照明，且一面相對於上述一邊平行地移動一面進行檢查，於檢查上述一邊之長度量之後，使照射區域向與上述一邊正交之方向以特定之距離移動。
即，如圖9所示，自大型光罩70之一邊71側向與上述一邊71正交之方向照射上述觀察用照明80，而形成照射區域81。繼而，藉由相對於上述一邊71平行地移動上述觀察用照明80而一面於與上述一邊71平行之方向P移動上述照射區域81一面進行檢查。於檢查上述一邊71之長度量之後，使照射區域81向與上述一邊71正交之方向R移動特定之距離。藉由重複該操作，可檢查大型光罩70之整面。再者，將利用該方法之整面檢查設為邊整面檢查。
於使照射區域向與上述一邊71正交之方向r移動之情形時，照射區域以重疊20 mm左右之方式移動就防止缺陷之漏看之方面而言較佳。
於本發明中，較佳為於正交之兩條邊進行上述邊整面檢查，特佳為如圖10所示般於所有4邊進行上述邊整面檢查。
其原因在於：根據描繪於大型光罩之圖案之方向，於僅上述一邊之邊整面檢查中，存在漏看缺陷之可能性。
於本發明中，較佳為於正交之兩條邊進行上述邊整面檢查，特佳為如圖10所示般於所有4邊進行上述邊整面檢查。
其原因在於：根據描繪於大型光罩之圖案之方向，於僅上述一邊之邊整面檢查中，存在漏看缺陷之可能性。
於上述各邊整面檢查中，如上所述，至少改變角度進行2次整面檢查，因此，於所有4邊進行邊整面檢查之情形時進行至少8次整面檢查，該進行至少8次整面檢查就使缺陷之漏看為最小限度之觀點而言可謂最佳。
3.照射區域之移動速度
上述觀察用照明照射之照射區域之移動速度較佳為5 cm/秒～9 cm/秒，其中，較佳為6 cm/秒～8 cm/秒，特佳為7 cm/秒。其原因在於：於較上述範圍快之情形時，產生缺陷之漏看之可能性變高，且其原因在於：於較上述範圍慢之情形時，於發現不均等缺陷時，反射光之強度變化變得平緩，難以做出不均之判斷。
上述觀察用照明照射之照射區域之移動速度較佳為5 cm/秒～9 cm/秒，其中，較佳為6 cm/秒～8 cm/秒，特佳為7 cm/秒。其原因在於：於較上述範圍快之情形時，產生缺陷之漏看之可能性變高，且其原因在於：於較上述範圍慢之情形時，於發現不均等缺陷時，反射光之強度變化變得平緩，難以做出不均之判斷。
4.其他
上述觀察用照明之種類或大型光罩之固定方法等「C.缺陷檢查方法」中未記載之事項可使用於上述「A.外觀檢查裝置」及「B.外觀檢查方法」中說明者。
D.大型光罩之製造方法
本發明之大型光罩之製造方法之特徵在於具有使用上述「B.外觀檢查方法」或「C.缺陷檢查方法」之檢查步驟。
本發明中之大型光罩例如係於平板顯示器或彩色濾光片等之製造時之光微影製程、更具體而言於曝光製程等中使用者。
上述觀察用照明之種類或大型光罩之固定方法等「C.缺陷檢查方法」中未記載之事項可使用於上述「A.外觀檢查裝置」及「B.外觀檢查方法」中說明者。
D.大型光罩之製造方法
本發明之大型光罩之製造方法之特徵在於具有使用上述「B.外觀檢查方法」或「C.缺陷檢查方法」之檢查步驟。
本發明中之大型光罩例如係於平板顯示器或彩色濾光片等之製造時之光微影製程、更具體而言於曝光製程等中使用者。
本發明之大型光罩之製造方法之特徵在於：於外觀檢查步驟等中，具有使用上述外觀檢查方法或缺陷檢查方法之檢查步驟，其他步驟由於與先前進行之步驟相同，故而省略此處之說明。
再者，本發明並不限定於上述實施形態。上述實施形態係例示，具有與本發明之申請專利範圍所記載之技術思想實質上相同之構成且發揮同樣之作用效果者無論為何者均包含於本發明之技術範圍內。
1‧‧‧燈箱
2‧‧‧地板面
3‧‧‧遮光板
4‧‧‧凹面鏡
5‧‧‧基部/遮光板
6‧‧‧驅動部
7‧‧‧遮光區域
8‧‧‧透光區域
9‧‧‧控制部
10‧‧‧架台
12‧‧‧旋轉軸
14‧‧‧基板支持框
14a‧‧‧開口部
16‧‧‧載台
16a‧‧‧正面
20‧‧‧雷射指示器
30‧‧‧操作部
40‧‧‧電腦
40a‧‧‧顯示部
40b‧‧‧控制部
40c‧‧‧記憶部
50‧‧‧顯微鏡
70‧‧‧大型光罩
70a‧‧‧正面
70b‧‧‧背面
71‧‧‧一邊
72‧‧‧缺陷
74‧‧‧缺陷
74c‧‧‧修正部位
80‧‧‧觀察用照明
80a‧‧‧觀察用照明
80b‧‧‧觀察用照明
80c‧‧‧觀察用照明
81‧‧‧照射區域
90‧‧‧數位相機
100‧‧‧外觀檢查裝置
100‧‧‧外觀檢查裝置
200‧‧‧觀察者
411‧‧‧雷射指示器照射位置
412‧‧‧雷射指示器照射位置
413‧‧‧雷射指示器照射位置
414‧‧‧雷射指示器照射位置
415‧‧‧雷射指示器照射位置
416‧‧‧雷射指示器照射位置
417‧‧‧雷射指示器照射位置
418‧‧‧雷射指示器照射位置
419‧‧‧雷射指示器照射位置
420‧‧‧雷射指示器照射位置
421‧‧‧雷射指示器照射位置
422‧‧‧雷射指示器照射位置
423‧‧‧雷射指示器照射位置
A‧‧‧低照射角
B‧‧‧高照射角
H‧‧‧高度
P‧‧‧方向
Pθ x‧‧‧角度
Pθ y‧‧‧角度
R‧‧‧方向
S11‧‧‧目視指定資訊獲取步驟
S12‧‧‧二維座標計算步驟
S13‧‧‧微觀觀察步驟
S21‧‧‧缺陷修正步驟
S22‧‧‧目視指定資訊計算步驟
S23‧‧‧宏觀觀察步驟
X1‧‧‧方向
Y1‧‧‧方向
Z1‧‧‧方向
X2‧‧‧方向
Y2‧‧‧方向
Z2‧‧‧方向
θx‧‧‧旋轉角度
圖1係表示本發明之外觀檢查裝置之一例之概略側視圖。
圖2(a)、(b)係說明圖1所示之外觀檢查裝置之第1動作之模式圖。
圖3(a)、(b)係表示圖1所示之外觀檢查裝置之第2動作之模式圖。
圖4係表示自圖1所示之觀察者目視之大型光罩之概略圖。
圖5係表示第1態樣之外觀檢查方法之一例之流程圖。
圖6係表示第2態樣之外觀檢查方法之一例之流程圖。
圖7係用以說明缺陷檢查方法之說明圖。
圖8係表示本發明之缺陷檢查方法之一例之說明圖。
圖9係表示本發明之缺陷檢查方法之一例之說明圖。
圖10係表示本發明之缺陷檢查方法之一例之說明圖。
圖11係用以說明本發明之外觀檢查裝置之一例之說明圖。
圖12係表示本發明之外觀檢查裝置之一例之流程圖。
圖13係表示本發明之外觀檢查裝置之一例之流程圖。
圖14(a)～(c)係表示本發明之外觀檢查裝置中之用以發現缺陷之光源之一例之說明圖。
圖15係表示本發明之外觀檢查裝置中之用以發現缺陷之光源之另一例之說明圖。
Claims (19)
- 一種外觀檢查裝置，其特徵在於具備： 目視指定器件，其指示基於目視觀察而指示之大型光罩主面之目視指定位置； 目視指定資訊獲取器件，其獲取目視指定資訊； 二維座標計算器件，其根據上述目視指定資訊計算表示目視指定位置之上述大型光罩之主面之二維座標； 顯微鏡，其可移動至能夠觀察上述大型光罩之主面之各位置之位置； 顯微鏡驅動器件，其使上述顯微鏡移動至能夠觀察上述二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置的位置；及 二維座標輸入器件，其輸入表示上述大型光罩之主面之任意位置之二維座標。
- 如請求項1之外觀檢查裝置，其具備目視資訊計算器件，該目視資訊計算器件根據藉由上述二維座標輸入器件輸入之二維座標計算上述目視指定資訊。
- 如請求項1之外觀檢查裝置，其中上述目視指定資訊獲取器件獲取表示具有面積之區域之上述目視指定資訊。
- 如請求項1之外觀檢查裝置，其進而具有光源之種類互不相同之複數個觀察用照明。
- 如請求項1至4中任一項之外觀檢查裝置，其進而具有使上述大型光罩繞著與上述大型光罩之主面平行之旋動軸旋動之旋動機構，且可使上述大型光罩之主面自與地板面平行之方向繞著旋動軸旋轉之角度為90°以上。
- 如請求項5之外觀檢查裝置，其中上述可旋轉之角度為270°以上。
- 如請求項1之外觀檢查裝置，其進而具有拍攝上述大型光罩之主面之攝像裝置。
- 一種外觀檢查方法，其特徵在於具備： 目視指定資訊獲取步驟，其係獲取基於目視觀察而指示之大型光罩之主面之缺陷之目視指定資訊； 二維座標計算步驟，其係根據上述目視指定資訊計算表示上述缺陷之位置之上述大型光罩之主面之二維座標；及 微觀觀察步驟，其係利用顯微鏡觀察上述二維座標所示之上述大型光罩之主面之位置。
- 如請求項8之外觀檢查方法，其中 上述目視指定資訊獲取步驟係於藉由外觀之觀察而檢查存在於上述大型光罩之主面之缺陷之有無之缺陷檢查步驟內進行， 上述缺陷檢查步驟係 藉由對上述大型光罩之主面以固定之照射角度照射觀察用照明而於上述大型光罩之主面設置照射區域，藉由使上述照射區域上下左右移動而進行檢查上述大型光罩之主面之整面之整面檢查，且 上述整面檢查係改變上述觀察用照明相對於上述大型光罩之主面之照射角度而進行至少2次。
- 一種外觀檢查方法，其特徵在於具備： 缺陷修正步驟，其係修正大型光罩之主面之缺陷； 目視指定資訊計算步驟，其係根據表示上述缺陷之修正部位之上述大型光罩之主面之二維座標計算目視指定資訊；及 宏觀觀察步驟，其係根據上述目視指定資訊對上述缺陷之修正部位進行目視觀察。
- 一種缺陷檢查方法，其特徵在於：其係藉由對大型光罩之主面以固定之照射角度照射觀察用照明而於上述大型光罩之主面設置照射區域，藉由使上述照射區域上下左右移動而進行檢查上述大型光罩之主面之整面之整面檢查，從而檢查存在於上述大型光罩之主面之缺陷之有無，且 上述整面檢查係改變上述觀察用照明相對於上述大型光罩之主面之照射角度而進行至少2次。
- 如請求項11之缺陷檢查方法，其中上述整面檢查包含以上述照射角度為15°～45°之範圍內之角度進行之低照射角整面檢查、及以上述照射角度為45°～75°之範圍內之角度進行之高照射角整面檢查。
- 如請求項11之缺陷檢查方法，其中上述整面檢查係藉由重複進行如下步驟而檢查大型光罩整面之邊整面檢查，即，自上述大型光罩之一邊側向相對於上述一邊正交之方向照射上述觀察用照明，且一面相對於上述一邊平行地移動一面進行檢查，於檢查上述一邊之長度量之後，使照射區域向與上述一邊正交之方向以特定之距離移動。
- 如請求項13之缺陷檢查方法，其中對上述大型光罩之4個邊進行上述邊整面檢查。
- 如請求項11之缺陷檢查方法，其中上述整面檢查中之上述照射區域之移動速度為5 cm/秒～9 cm/秒之範圍內。
- 如請求項9之外觀檢查方法，其中於上述目視指定資訊獲取步驟中，上述觀察用照明藉由控制部而交替地重複照射光相對於上述大型光罩之主面之照射狀態及非照射狀態。
- 如請求項16之外觀檢查方法，其中利用控制部將上述觀察用照明設為上述非照射狀態，利用雷射指示器獲取大型光罩之主面之缺陷之目視指定位置。
- 如請求項16之外觀檢查方法，其中於藉由交替地高速切換上述照射狀態及非照射狀態而使上述大型光罩上之照射光之亮度降低之狀態下，利用雷射指示器獲取大型光罩之主面之缺陷之目視指定位置。
- 一種大型光罩之製造方法，其特徵在於具有使用如請求項8至10、及請求項16至18中任一項之外觀檢查方法或如請求項10至15中任一項之缺陷檢查方法之檢查步驟。
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