TW202331908A - 閘閥及驅動方法 - Google Patents

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網倉紀彦
北正知
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日商東京威力科創股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種可降低氣體洩漏之閘閥及驅動方法。 本發明之閘閥係於具有設置有第1開口部之第1腔室之真空處理裝置中將上述第1開口部開閉之閘閥，且具備：閥體，其用以將上述第1開口部開閉；驅動部，其使上述閥體移動，以至少取上述閥體關閉上述第1開口部之位置即關閉位置及上述閥體打開上述第1開口部之位置即打開位置；第1氣體管線及第2氣體管線；以及第1切換閥，其將上述第1氣體管線及上述第2氣體管線之一者連接於上述驅動部；且上述驅動部藉由自上述第1氣體管線或上述第2氣體管線供給之氣體之壓力而使上述閥體自上述打開位置移動至上述關閉位置，藉由自上述第2氣體管線供給之氣體之壓力而將上述閥體保持於上述關閉位置。

Description

閘閥及驅動方法
本發明之例示性實施方式係關於一種閘閥及驅動方法。
作為閥體於封閉位置與打開位置之間移動之閘閥，有專利文獻1中所記載之閘閥。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2018-10986號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明提供一種可降低氣體洩漏之閘閥及驅動方法。 [解決問題之技術手段]
於本發明之一個例示性實施方式中，提供於具有設置有第1開口部之第1腔室之真空處理裝置中將上述第1開口部開閉之閘閥。閘閥具備：閥體，其用以將上述第1開口部開閉；驅動部，其使上述閥體移動，以至少取上述閥體關閉上述第1開口部之位置即關閉位置及上述閥體打開上述第1開口部之位置即打開位置；第1氣體管線，其連接於上述驅動部；及第2氣體管線，其連接於上述驅動部；上述驅動部藉由自上述第1氣體管線或上述第2氣體管線供給之氣體之壓力而使上述閥體自上述打開位置移動至上述關閉位置，藉由自上述第2氣體管線供給之氣體之壓力而將上述閥體保持於上述關閉位置。 [發明之效果]
根據本發明之一個例示性實施方式，可提供一種可降低氣體洩漏之閘閥及驅動方法。
以下，對本發明之各實施方式進行說明。
於一個例示性實施方式中，提供一種於具有設置有第1開口部之第1腔室之真空處理裝置中將第1開口部開閉之閘閥。閘閥具備：閥體，其用以將第1開口部開閉；驅動部，其使閥體移動，以至少取閥體關閉第1開口部之位置即關閉位置及閥體打開第1開口部之位置即打開位置；第1氣體管線及第2氣體管線；以及第1切換閥，其將第1氣體管線及第2氣體管線之一者連接於驅動部；且驅動部藉由自第1氣體管線或第2氣體管線供給之氣體之壓力而使閥體自打開位置移動至關閉位置，藉由自第2氣體管線供給之氣體之壓力而將閥體保持於關閉位置。
於一個例示性實施方式中，第1切換閥具有：常閉閥，其切換是否自第1氣體管線對驅動部供給氣體；及常開閥，其切換是否自第2氣體管線對驅動部供給氣體。
於一個例示性實施方式中，驅動部具有使閥體移動之氣缸，第1切換閥切換將第1氣體管線連接於氣缸還是將第2氣體管線連接於氣缸。
於一個例示性實施方式中，進而具備連接於驅動部之第3氣體管線，驅動部藉由自第3氣體管線供給之氣體之壓力而將閥體保持於打開位置。
於一個例示性實施方式中，具備第2切換閥，該第2切換閥切換對第1氣體管線供給氣體還是對第3氣體管線供給氣體。
於一個例示性實施方式中，供給至第1氣體管線之氣體、供給至第2氣體管線之氣體、及供給至第3氣體管線之氣體係壓縮空氣。
於一個例示性實施方式中，提供一種於具有設置有第1開口部之第1腔室之真空處理裝置中將第1開口部開閉的閘閥之驅動方法。閘閥具備：閥體，其用以將第1開口部開閉；驅動部，其使閥體移動，以至少取閥體關閉第1開口部之位置即關閉位置及閥體打開第1開口部之位置即打開位置；第1氣體管線及第2氣體管線；第1切換閥，其將上述第1氣體管線及上述第2氣體管線之一者連接於上述驅動部；以及控制部；且驅動方法包含以下步驟：驅動部藉由自第1氣體管線或第2氣體管線供給之氣體之壓力而使閥體自打開位置移動至關閉位置；及藉由自第2氣體管線供給之氣體之壓力而將閥體保持於關閉位置。
以下，參照圖式，對本發明之各實施方式詳細地進行說明。再者，於各圖式中對同一或同樣之要素標註同一之符號，而省略重複之說明。只要未特別說明，則基於圖式所示之位置關係來說明上下左右等位置關係。圖式之尺寸比率並非表示實際之比率，又，實際之比率並非限定於圖示之比率。
＜基板處理系統PS之構成＞ 圖1係概略性地表示一個例示性實施方式之基板處理系統PS之圖。基板處理系統PS具有基板處理模組PM1～PM6(以下，亦統稱為「基板處理模組PM」)、搬送模組TM、加載互鎖模組LLM1及LLM2(以下，亦統稱為「加載互鎖模組LLM」)、承載器模組LM、及負載埠LP1～LP3(以下，亦統稱為「負載埠LP」)。控制部CT控制基板處理系統PS之各構成，而對基板W執行規定之處理。
基板處理模組PM於其內部，對基板W執行蝕刻處理、修整處理、成膜處理、退火處理、摻雜處理、微影處理、清潔處理、灰化處理等處理。基板處理模組PM之一部分可為測定模組，亦可測定形成於基板W上之層之厚度或形成於基板W上之圖案之尺寸等。
搬送模組TM具有搬送基板W之搬送裝置22。搬送模組TM於基板處理模組PM間或基板處理模組PM與加載互鎖模組LLM之間，搬送基板W。基板處理模組PM及加載互鎖模組LLM係與搬送模組TM相鄰配置。搬送模組TM與基板處理模組PM及加載互鎖模組LLM藉由能夠開閉之閘閥GV而於空間上隔離或連結。於本實施方式中，搬送模組TM中所包含之搬送裝置22(參照圖2)自搬送模組TM之腔室20之內部空間20s(參照圖2)向基板處理模組PM之腔室10(參照圖2)之內部空間10s搬送基板W，將基板W載置於基板支持部11。又，搬送裝置22自基板處理模組PM之內部空間10s向搬送模組TM之內部空間20s搬送基板W。搬送裝置22經由形成於基板處理模組PM之腔室10之開口部12，而於搬送模組TM與基板處理模組PM之間，移動基板W。作為一例，搬送裝置22可為搬送矽晶圓等基板之處理機。
加載互鎖模組LLM1及LLM2設置於搬送模組TM與承載器模組LM之間。加載互鎖模組LLM可將其內部之壓力切換為大氣壓或真空。加載互鎖模組LLM自大氣壓之承載器模組LM向真空之搬送模組TM搬送基板W，又，自真空之搬送模組TM向大氣壓之承載器模組LM搬送。
承載器模組LM具有搬送基板W之搬送裝置，於加載互鎖模組LLM與負載埠LP之間搬送基板W。於負載埠LP內之內部，可載置例如能夠收納25片基板W之FOUP(Front Opening Unified Pod，前開式晶圓盒)或空的FOUP。承載器模組LM自負載埠LP內之FOUP取出基板W，搬送至加載互鎖模組LLM。又，承載器模組LM自加載互鎖模組LLM取出基板W，搬送至負載埠LP內之FOUP。
控制部CT控制基板處理系統PS之各構成，而對基板W執行規定之處理。控制部CT儲存設定有製程之順序、製程之條件、搬送條件等之製程配方。控制部CT根據該製程配方，控制基板處理系統PS之各構成，以對基板W執行規定之處理。控制部CT可直接或間接地控制圖2所示之各構成。又，控制部CT可電性地或機械性地控制圖2所示之各構成。機械性的控制包含使用氣體控制圖2所示之各構成。
＜閘閥GV之構成＞ 圖2係概略性地表示一個例示性實施方式之閘閥GV之構成之圖。閘閥GV具備閥體30、驅動部40、切換閥50、52及56、以及氣體管線60、62、64、66及68。切換閥50係第2切換閥之一例。切換閥52係第1切換閥之一例。氣體管線62、64及66分別係第1氣體管線、第2氣體管線及第3氣體管線之一例。
閥體30構成為將基板處理模組PM之內部空間10s與搬送模組TM之內部空間20s於空間上隔離或連結。作為一例，閥體30收容於與基板處理模組PM之腔室10及搬送模組TM之腔室20連結之腔室34中。而且，開口部12自腔室10連通至腔室34而設置。再者，圖2中之腔室10、20及34之剖視圖係概略性地表示圖1中之AA´剖面之一部分者。
於閥體30設置有O形環32。若閥體30將O形環32於開口部12之周圍按壓至腔室34之內壁，則基板處理模組PM之內部空間10s與搬送模組TM之內部空間20s於空間上隔離。又，若O形環32自腔室34之內壁離開，則基板處理模組PM之內部空間10s與搬送模組TM之內部空間20s於空間上連結。
驅動部40構成為使閥體30移動。作為一例，驅動部40於腔室34之內部空間中，使閥體30向圖2中之x1方向及x2方向以及z1方向及z2方向移動(以下，亦將x1方向及x2方向統稱為「x方向」，將z1方向及z2方向統稱為「z方向」)。
驅動部40具有氣缸41及45。驅動部40於氣缸41之內部具有活塞42。於活塞42設置有墊圈43。又，驅動部40具有軸44。於軸44之一端連接有活塞42，又，於軸44之另一端連接有閥體30。而且，若活塞42於氣缸41內向z方向移動，則閥體30於腔室34內沿z方向移動。
又，驅動部40於氣缸45之內部具有活塞46。於活塞46設置有墊圈47。又，驅動部40具有軸48。於軸48之一端連接有活塞46，又，於軸48之另一端連接有軸44。而且，若活塞46於氣缸45內沿x方向移動，則軸44沿x方向移動，閥體30於腔室34內沿x方向移動。
切換閥50具有供氣埠及排氣埠。於切換閥50之供氣埠連接有氣體管線60。而且，自氣體供給源70經由閥80及氣體管線60，而對切換閥50之供氣埠供給氣體。而且，切換閥50將氣體管線62及66之一者連接於供氣埠，且自氣體供給源70對該一者供給氣體，並且將另一者連接於排氣埠，且將於該另一者中流通之氣體排氣。作為一例，切換閥50可為電磁閥。又，作為一例，自氣體供給源70供給之氣體可為壓縮空氣。
切換閥52係將氣體管線62及64之一者連接於氣體管線68之閥。氣體管線62根據切換閥50之狀態，連接於切換閥50之供氣埠或排氣埠。又，經由閥82而自氣體供給源72對氣體管線64供給氣體。閥82可控制為於切換閥52將氣體管線64連接於氣體管線68之狀態下，始終自氣體供給源72對氣體管線64供給氣體。
作為一例，切換閥52具有先導埠(pilot port)54。切換閥52根據是否對先導埠54供給氣體，來切換切換閥52之狀態。作為一例，切換閥52於對先導埠54供給氣體時，將氣體管線62連接於氣體管線68，另一方面，於未對先導埠54供給氣體時將氣體管線64連接於氣體管線68。又，作為一例，先導埠54可連接於氣體管線66。即，切換閥52於自氣體供給源70對氣體管線66供給氣體時，將氣體管線62連接於氣體管線68，另一方面，於氣體管線66連接於切換閥50之排氣埠時，可將氣體管線64連接於氣體管線68。
作為一例，氣體供給源70可為用於搬送模組TM之動作之氣體。於氣體供給源70為用於搬送模組TM之動作之氣體之情形時，於搬送模組TM之維護時，可使閥80為關閉狀態。即，於搬送模組TM之維護時，該氣體可不供給至搬送模組TM及先導埠54。因此，切換閥52將氣體管線64連接於氣體管線68。藉此，自氣體供給源72對驅動部40供給氣體。
氣體管線68經由閥88而連接於分支部76。分支部76將氣體管線68分支而連接於氣缸41及45。於對氣體管線68供給氣體之情形時，分支部76將供給至氣體管線68之氣體分支，並供給至氣缸41及45。分支部76調整供給至氣體管線68之氣體之壓力及/或流量，並對氣缸41供給氣體。又，分支部76調整供給至氣體管線68之氣體之壓力及/或流量，並對氣缸45供給氣體。
切換閥56係切換是否將氣體管線66連接於驅動部40之閥。切換閥56具有先導埠58。切換閥56構成為於對先導埠58供給氣體時，將氣體管線66連接於驅動部40，另一方面，於不對先導埠58供給氣體時，不將氣體管線66連接於驅動部40。
可經由閥84而自氣體供給源74對先導埠58供給氣體。作為一例，氣體供給源74可為用於基板處理模組PM之動作之氣體。於氣體供給源74為用於基板處理模組PM之動作之氣體之情形時，可使閥84於基板處理模組PM之維護時為關閉狀態。即，於基板處理模組PM之維護時，該氣體不供給至基板處理模組PM及切換閥56。因此，切換閥56成為關閉狀態，氣體管線66不連接於驅動部40。
氣體管線66經由分支部78而連接於驅動部40。分支部78將氣體管線66分支而連接於氣缸41及45。於對氣體管線66供給氣體之情形時，分支部78將供給至氣體管線66之氣體分支，並供給至氣缸41及45。分支部78調整供給至氣體管線66之氣體之壓力及/或流量，並對氣缸41供給氣體。又，分支部78調整供給至氣體管線66之氣體之壓力及/或流量，並對氣缸45供給氣體。
其次，參照圖2至圖5，對本實施方式之閘閥GV之動作之一例進行說明。
＜將閥體30保持於打開位置＞ 圖2係表示閥體30位於打開位置時之閘閥GV之狀態之一例的圖。如圖2所示，於將閥體30保持於打開位置之情形時，於切換閥50中，氣體管線66連接於切換閥50之供氣埠，氣體管線62連接於排氣埠。藉此，若自氣體供給源70對氣體管線66供給氣體，則自氣體管線66對先導埠54供給氣體，藉由切換閥52，而將氣體管線62連接於氣體管線68。藉此，氣缸41之內部空間中位於較活塞42靠z2方向側之空間、及氣缸45之內部空間中位於較活塞46靠x2方向之空間連接於切換閥50之排氣埠。
另一方面，自氣體供給源70經由氣體管線66及分支部78而對氣缸41之內部空間中位於較活塞42靠z1方向側之空間、及氣缸45之內部空間中位於較活塞46靠x1方向之空間供給氣體。藉此，活塞42被朝向z2方向按壓，又，活塞46被朝向x2方向按壓。因此，閥體30保持於圖2所示之打開位置。
再者，於閥體30位於打開位置之情形時，保持閥體30之位置並不限定於圖示之位置。閥體30只要位於基板處理模組PM之內部空間10s與搬送模組TM之內部空間20s於空間上連結之位置即可。又，閥體30可位於搬送裝置22可通過開口部12對基板支持部11搬送基板W之位置。
＜使閥體30自打開位置向關閉位置移動＞ 圖3係概略性地表示使閥體30自打開位置向關閉位置移動時之閘閥GV之狀態之一例的圖。於使閥體30自打開位置向關閉位置移動之情形時，於切換閥50中，將氣體管線66連接於切換閥50之排氣埠，將氣體管線62連接於供氣埠。藉此，由於不自氣體供給源70對先導埠54供給氣體，故而藉由切換閥52，而將氣體管線64連接於氣體管線68。藉此，自氣體供給源72對氣缸41之內部空間中位於較活塞42靠z2方向側之空間、及氣缸45之內部空間中位於較活塞46靠x2方向之空間供給氣體。
另一方面，氣缸41之內部空間中位於較活塞42靠z1方向側之空間、及氣缸45之內部空間中位於較活塞46靠x1方向之空間經由氣體管線66而連接於排氣埠。藉此，活塞42被朝向z1方向按壓，又，活塞46被朝向x1方向按壓。藉此，閥體30向圖3中之z1方向及x1方向移動。
＜將閥體30保持於關閉位置＞ 圖4係概略性地表示閥體30位於關閉位置時之閘閥GV之狀態之一例的圖。閥體30自打開位置向z1方向及x1方向移動，如圖4所示，將開口部12關閉之後，切換閥50及52可繼續取與圖3相同之狀態。即，於切換閥50中，氣體管線66可連接於排氣埠。又，於切換閥52中，氣體管線64可連接於氣體管線68。藉此，閥體30移動至關閉位置之後，亦自氣體供給源72對氣缸41及45供給氣體。因此，於閥體30移動至關閉位置之後，即，於將閥體30保持於關閉位置時，藉由自氣體供給源72供給之氣體，而可於氣缸41及45中，對活塞42及46分別向z1方向及x1方向施加充分之壓力。藉此，由於閥體30被按壓至腔室34之內壁，故而可使基板處理模組PM之內部空間10s與搬送模組TM之內部空間20s於空間上隔離。
根據本實施方式，於將閥體30保持於關閉位置時，藉由自氣體供給源72供給之氣體，而閥體30向腔室34之內壁一面保持規定之壓力一面按壓。藉此，即便於基板處理模組PM之內部空間10s之壓力較搬送模組TM之內部空間20s之壓力高的情形時，亦可降低氣體自內部空間10s向內部空間20s之洩漏。
＜使閥體30自關閉位置向打開位置移動＞ 圖5係概略性地表示使閥體30自關閉位置向打開位置移動時之閘閥GV之狀態之一例的圖。於使閥體30自關閉位置向打開位置移動之情形時，於切換閥50中，將氣體管線66連接於切換閥50之供氣埠，將氣體管線62連接於排氣埠。藉此，若自氣體供給源70對氣體管線66供給氣體，則自氣體管線66對先導埠54供給氣體，藉由切換閥52，而將氣體管線62連接於氣體管線68。藉此，氣缸41之內部空間中位於較活塞42靠z2方向側之空間、及氣缸45之內部空間中位於較活塞46靠x2方向之空間連接於切換閥50之排氣埠。
另一方面，自氣體供給源70經由氣體管線66及分支部78而對氣缸41之內部空間中位於較活塞42靠z1方向側之空間、及氣缸45之內部空間中位於較活塞46靠x1方向之空間供給氣體。藉此，活塞42被朝向z2方向按壓，又，活塞46被朝向x2方向按壓。藉此，閥體30向圖5中之z2方向及x2方向移動。若閥體30自關閉位置向z2方向及x2方向移動而到達打開位置，則如圖2所示，閥體30保持於該打開位置。
圖6係概略性地表示另一例示性實施方式之閘閥GV之構成之圖。又，圖6表示閥體30位於打開位置時之閘閥GV之狀態之一例。圖6所示之閘閥GV代替圖2至圖5所示之閘閥GV中之切換閥50，而具有切換閥52-1及52-2。
切換閥52-1係切換是否將氣體管線62連接於氣體管線68之閥。又，切換閥52-2係切換是否將氣體管線64連接於氣體管線68之閥。切換閥52-1具有先導埠54-1。又，切換閥52-2具有先導埠54-2。先導埠54-1及54-2均連接於氣體管線66。
切換閥52-1係常閉型之閥。另一方面，切換閥52-2係常開型之閥。即，如圖6所示，若自氣體供給源70經由氣體管線66而對先導埠54-1及54-2供給氣體，則切換閥52-1將氣體管線62連接於氣體管線68，另一方面，切換閥52-2不將氣體管線64連接於氣體管線68。另一方面，於不自氣體供給源70經由氣體管線66而對先導埠54-1及54-2供給氣體之情形時，切換閥52-1不將氣體管線62連接於氣體管線68，另一方面，切換閥52-2將氣體管線64連接於氣體管線68。即，切換閥52-1及52-2構成為將氣體管線62及64之一者連接於氣體管線68。
藉此，圖6中所記載之閘閥GV與圖2至圖5中所記載之閘閥GV同樣地，可使閥體30自打開位置向關閉位置移動，而將閥體30保持於關閉位置，又，可使閥體30自關閉位置向打開位置移動，而將閥體30保持於打開位置。
根據以上所說明之實施方式，閘閥GV可使用可獨立於用於基板處理模組PM之動作之氣體及/或用於搬送模組TM之動作之氣體而控制的氣體(作為一例，為自氣體供給源72供給之氣體)來將閥體30保持於關閉位置。藉此，可提供即使於基板處理模組PM及/或搬送模組TM之維護時，亦使基板處理模組PM與搬送模組TM之間之洩漏減低的閘閥。
以上之各實施方式係以說明之目的而說明，可不脫離本發明之範圍及主旨地進行各種變化。
10:腔室 10s:內部空間 11:基板支持部 12:開口部 20:腔室 20s:內部空間 22:搬送裝置 30:閥體 32:O形環 34:腔室 40:驅動部 41:氣缸 42:活塞 43:墊圈 44:軸 45:氣缸 46:活塞 47:墊圈 48:軸 50:切換閥 52:切換閥 52-1:切換閥 52-2:切換閥 54:先導埠 54-1:先導埠 54-2:先導埠 56:切換閥 58:先導埠 60:氣體管線 62:氣體管線 64:氣體管線 66:氣體管線 68:氣體管線 70:氣體供給源 72:氣體供給源 74:氣體供給源 76:分支部 78:分支部 80:閥 82:閥 84:閥 88:閥 CT:控制部 GV:閘閥 LM:承載器模組 LP1~LP3:負載埠 LLM1,LLM2:加載互鎖模組 PM(PM1~PM6):基板處理模組 PS:基板處理系統 TM:搬送模組 W:基板
圖1係概略性地表示基板處理系統PS之一例之圖。 圖2係概略性地表示閘閥GV之構成之一例之圖。 圖3係概略性地表示閘閥GV之狀態之一例之圖。 圖4係概略性地表示閘閥GV之狀態之一例之圖。 圖5係概略性地表示閘閥GV之狀態之一例之圖。 圖6係概略性地表示閘閥GV之構成之一例之圖。
10:腔室
10s:內部空間
11:基板支持部
12:開口部
20:腔室
20s:內部空間
22:搬送裝置
30:閥體
32:O形環
34:腔室
40:驅動部
41:氣缸
42:活塞
43:墊圈
44:軸
45:氣缸
46:活塞
47:墊圈
48:軸
50:切換閥
52:切換閥
54:先導埠
56:切換閥
58:先導埠
60:氣體管線
62:氣體管線
64:氣體管線
66:氣體管線
68:氣體管線
70:氣體供給源
72:氣體供給源
74:氣體供給源
76:分支部
78:分支部
80:閥
82:閥
84:閥
88:閥
GV:閘閥
PM:基板處理模組
TM:搬送模組

Claims (7)

  1. 一種閘閥，其係於具有設置有第1開口部之第1腔室之真空處理裝置中將上述第1開口部開閉之閘閥，且具備： 閥體，其用以將上述第1開口部開閉； 驅動部，其使上述閥體移動，以至少取上述閥體關閉上述第1開口部之位置即關閉位置及上述閥體打開上述第1開口部之位置即打開位置； 第1氣體管線及第2氣體管線；以及 第1切換閥，其將上述第1氣體管線及上述第2氣體管線之一者連接於上述驅動部；且 上述驅動部係 藉由自上述第1氣體管線或上述第2氣體管線供給之氣體之壓力而使上述閥體自上述打開位置移動至上述關閉位置， 藉由自上述第2氣體管線供給之氣體之壓力而將上述閥體保持於上述關閉位置。
  2. 如請求項1之閘閥，其中上述第1切換閥具有： 常閉閥，其切換是否自上述第1氣體管線對上述驅動部供給氣體；及 常開閥，其切換是否自上述第2氣體管線對上述驅動部供給氣體。
  3. 如請求項2之閘閥，其中上述驅動部具有使上述閥體移動之氣缸， 上述第1切換閥切換將上述第1氣體管線連接於上述氣缸還是將上述第2氣體管線連接於上述氣缸。
  4. 如請求項1至3中任一項之閘閥，其進而具備連接於上述驅動部之第3氣體管線，且 上述驅動部藉由自第3氣體管線供給之氣體之壓力而將上述閥體保持於上述打開位置。
  5. 如請求項4之閘閥，其具備第2切換閥，該第2切換閥切換對上述第1氣體管線供給氣體還是對上述第3氣體管線供給氣體。
  6. 如請求項1至5中任一項之閘閥，其中供給至上述第1氣體管線之氣體、供給至上述第2氣體管線之氣體、及供給至上述第3氣體管線之氣體係壓縮空氣。
  7. 一種驅動方法，其係於具有設置有第1開口部之第1腔室之真空處理裝置中將上述第1開口部開閉之閘閥的驅動方法，且 上述閘閥具備： 閥體，其用以將上述第1開口部開閉； 驅動部，其使上述閥體移動，以至少取上述閥體關閉上述第1開口部之位置即關閉位置及上述閥體打開上述第1開口部之位置即打開位置； 第1氣體管線及第2氣體管線；以及 第1切換閥，其將上述第1氣體管線及上述第2氣體管線之一者連接於上述驅動部； 上述驅動方法包含以下步驟： 上述驅動部藉由自上述第1氣體管線或上述第2氣體管線供給之氣體之壓力而使上述閥體自上述打開位置移動至上述關閉位置；及 藉由自上述第2氣體管線供給之氣體之壓力而將上述閥體保持於上述關閉位置。
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