TW439093B - Holding device - Google Patents

Holding device Download PDF

Info

Publication number
TW439093B
TW439093B TW087121179A TW87121179A TW439093B TW 439093 B TW439093 B TW 439093B TW 087121179 A TW087121179 A TW 087121179A TW 87121179 A TW87121179 A TW 87121179A TW 439093 B TW439093 B TW 439093B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
patent application
scope
ring
stop device
item
Prior art date
Application number
TW087121179A
Other languages
English (en)
Inventor
Peter Stauss
Jorg Kerschbaumer
Original Assignee
Unaxis Balzers Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Unaxis Balzers Ag filed Critical Unaxis Balzers Ag
Application granted granted Critical
Publication of TW439093B publication Critical patent/TW439093B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/70Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
    • H10P72/76Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches
    • H10P72/7604Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H10P72/7606Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by edge clamping, e.g. clamping ring

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Making Paper Articles (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
  • Sink And Installation For Waste Water (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

439093: kl B7 部十卑而只-τ消抡合H7'·印$ 五、發明説明 ( f ) Γ 本 發 明 偽 關 於 一 種 止 動 裝 置 例 如 * 在 真 空 設 備 中 所 ί | 使 用 之 止 動 裝 置 (S t 0 P d e v i ce)或固定裝置( HO 1 d i η g 1 1 d e V i c e )均是, 此外, 該止動裝置之作用, 例如, 可在一 請 t 先 1 中 間 室 内 從 一 蓮 輸 機 構 上 接 受 一 圓 盤 形 的 工 作 之 後 而 移 閱 讀 i 1 動 至 一 轉 運 位 置 内 在 該 位 置 内 則 在 一 下 端 位 置 内 設 一 面 I 之 \ 升 降 台 並 將 相 同 的 X 作 上 舉 至 一 操 作 位 置 内 > 其 中 該 升 ί王 意 1 事 1 降 台 則 在 升 降 蓮 動 過 程 中 可 達 到 一 上 端 位 置 内 0 在 操 作 項 再 1 位 置 内 工 件 之 上 倒 面 則 位 於 —· 處 理 室 内 並 可 實 施 一 次 操 填 本 \ 裝 I 作 步 驟 〇 於 操 作 結 束 之 後 該 升 降 台 可 將 該 工 件 降 低 而 再 頁 1 I 進 入 轉 蓮 位 置 内 > 在 該 處 該 工 作 再 被 蓮 輸 機 構 所 接 受 9 1 1 I 一 種 適 當 的 真 空 設 備 可 參 考 在 英 國 專 利 编 號 EP -A -C 34 3 1 i 5 3 0中所述。 1 訂 在 此 種 類 型 之 止 動 裝 置 中 則 期 望 其 止 動 軸 環 盡 可 能 精 1 確 地 被 定 心 * 工 件 則 被 放 置 在 轉 運 位 置 内 之 止 動 軸 環 上 1 1 » 而 茌 支 承 板 的 對 面 該 工 件 則 靠 接 在 操 作 操 作 位 置 内 I I > 在 該 位 置 上 工 件 刖 被 加 熱 或 冷 卻 C 因 而 r 在 支 承 板 之 1 1 邊 m 上 的 内 隙 應 保 持 最 小 y 而 對 止 動 軸 環 之 支 座 而 言 則 Γ 該 内 隙 有 其 必 要 性 > 工 件 之 操 作 9 諸 如 塗 層 ♦ 加 熱 或 冷 ί [ 卻 或 支 承 板 對 工 件 之 可 能 發 生 的 其 他 影 遒 均 應 保 持 均 勻。 1 1 „- 種 習 知 此 種 類 型 之 止 動 裝 置 則 如 在 英 國 專 利 编 號 1 | E P -A -0 4 5 2 7 7 9中 所 述 〇 在 該 裝 置 中 [L· 動 軸 環 構 成 支 1 I 承 板 並 包 圍 在 一 環 的 周 圍 由 於 可 能 在 兩 種 不 同 熱 膨 脹 1 1 的 部 件 之 間 則 必 須 保 持 一 定 的 徑 向 距 離 9 但 是 * 在 該 裝 I 置 之 結 構 中 並 未 提 供 對 -3 支 承 板 之 軸 绵 使 止 動 軸 環 之 精 確 1 1 i i 1 本紙張尺度1¾川中國1¾家標苹{「NS ) Λ4規格(210X297公漦) 43 90 93 A7 B7 經漭部中决找:i-^h-T"fr合作社印"- 五、發明説明 ( > ) ί 定 心 的 措 施 0 由 於 夾 緊 環 是 對 止 動 軸 環 定 心 1 同 樣 地 該 1 I 夾 緊 環 必 然 對 支 承 板 未 精 確 定 心 〇 1 ! 因 此 * 本 發 明 應 設 法 補 救 9 根 據 本 發 明 所 開 發 的 _- 種 請 ] 先 1 it 動 裝 置 則 具 有 諸 如 在 串 請 專 利 範 圈 中 各 項 之 特 待 m * 閱 # f 1 其 中 支 承 板 止 動 軸 環 及 夾 緊 環 均 利 用 與 所 提 及 各 部 件 dj 之 1 處 於 結 合 狀 態 之 定 心 裝 置 並 對 —^ 共 同 軸 線 而 定 心 » 而 且 意 1 1 事 1 > 所 提 及 各 部 件 之 不 同 熱 膨 m 亦 不 致 影 m 該 定 心 裝 置 之 項 再 f I 功 能 但 是 9 不 妨 礙 所 提 及 各 部 件 所 必 要 的 相 互 軸 向 4 % 本 1 裝 1 間 之 移 動 0 頁 1 1 一 種 曽 建 議 對 一 透 鏡 之 固 定 採 用 適 當 防 止 熱 膨 脹 的 非 1 I 敏 is£ 定 心 上 之 基 本 功 能 原 理 則 在 羅 馬 尼 亞 專 利 编 號 1 1 RU -C -2 0 4 7 1 97 中 説 明 9 其 中 在 一 外 殼 固 定 之 各 徑 向 小 1 訂 ! I 板 則 分 别 在 透 鏡 的 邊 框 上 之 各 適 當 徑 向 槽 内 相 接 合 » 在 該 固 定 裝 置 内 並 不 容 許 各 部 件 在 相 互 軸 向 内 移 動 0 1 1 根 據 本 發 明 所 能 逹 成 之 優 點 則 在 於 可 確 保 圓 盤 形 的 工 ! 1 件 可 在 支 承 板 上 之 同 心 定 位 * 而 且 * 由 於 夾 緊 環 對 支 承 1 1 板 之 精 確 定 位 t 因 而 使 工 件 之 遴 緣 廢 料 極 少 〇 此 種 止 動 Γ 裝 置 待 別 3-·Ά; 適 用 於 諸 如 儲 存 板 一 類 工 件 上 * 例 如 * 固 定 板 1 I > 磁 光 儲 存 板 雷 射 唱 Η (C D s ), 尤其是, 半導體晶片 1 i (S e讯 i - C 0 n d u C to Γ w a f e r) 〇 1 1 本 發 明 將 參 照 附 圖 並 以 實 例 方 式 詳 述 於 後 » 圖 式 簡 at» 卓 1 I 說 明 如 下 • I 1 第 1 圖 偽 根 據 本 發 明 之 止 動 裝 置 在 一 剖 開 部 分 之 透 視 1 分 解 圖 〇 -4 - I Γ 1 1 本紙张尺度il川中家標枣((’NS ) /\4規格(210X297公釐} 439093 A7 B7 經满部屮夾榀^l^d,消贽合作社印公
五、發明説明 ( ) 1 第 2 圖 僳 該 圖 的 右 側 為 根 據 本 發 明 之 止 動 裝 置 在 一 下 1 I 端 位 置 内 之 第 一 徑 向 剖 面 圖 9 在 該 下 端 位 置 内 工 件 則 可 1 1 能 被 轉 移 ♦ 而 在 該 圖 的 左 倒 為 根 據 本 發 明 之 相 同 止 動 裝 請 1 先 ! 置 並 在 上 JJU m 位 置 内 之 一 對 應 第 二 徑 向 之 剖 面 @ > 在 該 上 閱 讀 | 端 位 置 内 工 件 則 可 能 被 操 作 〇 背 1¾ 1 I 之 1 止 動 裝 置 (最重要者, 參考第2 圖右倒) 包 含 一 升 降 台1 注 意 1 事 1 該 升 降 台 構 成 在 實 質 對 —* 軸 線 2 之 旋 轉 對 稱 並 具 有 項 真 1 1 雙 指 管 (D 0 U b 1 e b r a c i η g f U b e ) 3 » 該 雙 撐 管 則 ϋ 在 國 中 填 寫 本 1 裝 I 未 繪 出 的 一 適 當 裝 置 之 肋 而 可 對 軸 線 2 平 行. 上 升 及 下 降 頁 1 I ? 而 其 内 管 3a m 承 載 一 基 板 4 * 一 支 承 板 5 則 被 固 定 在 1 1 該 基 板 上 * 其 外 管 3 b則 承 載 一 圓 環 6 » 在 其 外 緣 上 具 有 1 1 „· 牽 動 軸 環 (D r i vi ng C 〇 1 1 a r) 7 * 該 圆 環 6 m 包 圍 在 基 1 訂 板 4 的 周 圍 並 保 持 一 同 心 距 離 0 在 圓 環 6 之 下 面 利 用 包 1 圍 在 m 指 管 3 固 圍 之 一 金 屬 波 紋 管 (H e t a 1 b e 1 1 〇 w s ) 8 而 1 1 與 在 一 固 定 壁 9 内 —* 開 P 之 邊 m 氣 密 地 相 連 接 t 所 提 及 1 I 之 雙 撐 管 刖 在 該 開 P 内 被 引 導 9 支 承 板 5 則 按 照 該 装 置 1 I 所 設 想 之 真 空 室 而 被 加 熱 或 冷 卻 或 被 加 熱 及 冷 卻 其 形 Γ 狀 則 取 決 於 可 操 作 的 工 作 之 形 狀 〇 - 般 均 為 圖 中 所 示 之 1 I 圓 形 ) 當 妖 t 亦 可 能 為 其 他 的 形 狀 > 例 如 9 可 能 為 一 矩 1 1 形 T 在 該 支 承 板 之 中 心 内 則 與 一 導 入 氣 amt 腊 之 導 管 10相 連 I | 通 0 1 I 在 三 根 支 柱 11 上 > 其 各 位 置 構 成 一 等 邊 三 角 形 軸 線2 1 1 則 位 於 該 等 邊 角 形 的 中 心 内 各 支 柱 最 好 係 用 非 導 體 t 特 別 是 9 陶 瓷 材 料 製 -5 成 並 分 別 裝 設 在 壁 9 上 之 各 下 端 \ 1 1 1 I 本紙張尺度適川中國围家標卒(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) Λ 〇 -
Α7 Β7 經滅部中决梂卒局只工消於合竹社印% 五、發明説明 ( i ) \ 1 位 置 内 因 而 各 支 柱 被 固 定 支 撐 在 該 壁 上 〇 支 柱 11分 別 1 I 被 m 入 及 過 圓 環 6 内 之 一 鑽 孔 並 從 該 鑽 孔 内 突 出 及 穿 1 1 過 在 基 板 4 内 設 有 一 導 襯 (圖中未繪出) 之 m 孔 内 » 因 而 請 1 先 i 該 鑽 孔 之 内 徑 在 適 當 的 高 度 上 顯 然 大 於 支 柱 1 1 之 直 徑 9 閱 | 在 支 柱 1 1 上 被 支 撐 之 定 心 銷 12則 反 而 構 成 較 大 幾 乎 為 最 背 1¾ 1 I 之 1 I 後 所 稱 之 鑽 孔 的 内 徑 或 兀 全 相 當 於 導 襯 之 直 徑 9 使 得 該 注 意 1 1 事 1 定 心 銷 可 在 相 同 的 纘 孔 内 於 軸 向 移 動 » 但 是 此 外 在 寅 項 再 1 1 質 上 為 無 間 隙 之 引 導 〇 大 約 在 半 的 高 度 上 則 在 該 定 心 銷 填. 寫 本 1 裝 I 1 2上 並 在 相 同 的 銷 釘 周 圍 固 定 一 止 動 環 1 3 其 下 倒 面 則 頁 1 1 構 成 在 基 板 4 的 對 面 對 定 心 銷 1 2 之 軸 向 移 動 性 的 有 限 度 ] 1 1 之 止 動 面 〇 1 1 在 止 動 環 之 上 側 而 上 則 放 置 止 推 環 14 該 止 推 環 則 1 訂 設 有 一 徑 向 » 即 在 該 環 之 中 心 對 面 方 向 之 槽 9 該 槽 可 容 1 纳 部 分 止 動 環 13 t 而 止 動 環 之 厚 度 略 大 於 該 槽 之 深 度 1 ί 1 其 寬 度 (或内徑) 刖 大 於 止 動 環 之 直 徑 * 該 止 動 環 則 向 1 I 上 伸 長 並 穿 過 一 徑 向 方 位 之 長 方 形 孔 > 利 用 該 孔 刖 定 心 1 1 銷 1 2可 在 其 方 向 角 内 在 實 質 上 可 寅 施 無 間 隙 的 移 動 9 使 丨 得 該 支 承 環 1 4利 用 三 個 定 心 銷 1 2在 實 質 上 不 能 旋 轉 並 在 1 I 軸 線 2 之 橫 向 被 固 定 而 不 能 移 動 〇 反 之 » 在 値 別 定 心 銷 1 1 ]2 及 支 承 璟 1 4 之 間 刖 可 能 限 制 其 徑 向 蓮 動 0 I 1 環 繞 在 支 承 板 5 周 圍 並 保 持 __. 點 距 離 之 支 承 環 14 在 其 i I 内 内 緣 上 構 成 在 各 定 心 銷 1 2之 方 向 角 位 董 内 三 個 朝 向 上 1 1 方 之 支 架 16 > 各 支 架 之 内 側 面 上 設 有 各 凸 出 部 分 以 供 可 I 靠 容 纳 諸 如 晶 Η 之 工 -G 件 17 之 用 〇 各 支 架 16被 裝 設 在 適 J ! 1 1 1 本纸張尺度適川中國囚家標举(rNS ) Λ4規格(210X297公嫠) A7 B7 43 90 93 五、發明説明() 當的槽18(第1圖)内,各槽則被埋入支承板5之外綠内 «各支架16亦在徑向内被隔開,支承板5之表面則由於
I 各槽18之關傺而稍微變小,此外,亦可能裝設更多或其 他的支架,或者,僅裝設唯一的支架,該支架則穿過支 承板或部分使支承板中斷並繞過支承板,例如,形成蹄 鐵形。 在定心銷1 2的外刨,但是,在相同的方位角位置内則 在壁9上固定各支撐定位銷19,在各定位銷上則支掙一 痼中間環2(1,而且,在該中間環之下倒面上構成槽21, 各槽則可分別容納該撐條定位銷1 9之各尖端,該中間環 略呈HL”形的横剖面並具有朝向内側之一凸緣,在該凸緣 之靜位置内一夾緊環22則靠接在該凸緣上,該夾緊環顯 著地向中間環2Q的内倒突出並在突出部分之下倒面上同 樣構成各徑向槽23,該徑向槽則適於分別容纳各定心銷 12之上端範圍,而且,亦同樣容許各定心銷随時在徑向 的運動,但是,在方位角之横向各定位銷之端部範圍則 在實質上為無間隙並分別在各槽23内相接合。夾緊環22 在其内倒面上刖構成略呈向上突出之内凸緣24,該内凸 緣則以略向下彎曲並配合工作形狀之圓形邊縳,如画中 所示。搭接在支架16上,然而,該内凸緣亦可構成痼別 的觸頭以代替封閉的邊緣,圍繞在凸緣周圍之外環上則 中間環2 Q承載一保護輪廓2 5 ,該輪廓則以其朝向内倒之 凸緣遮蓋在夾緊環22的上面,但是,内凸緣24則不在被 遮蓋的範圍内。 本紙张尺度適用中國S家標卒(CNS )糾規_格(2!〇X297公釐) (請先閱讀背而之注意事項再續寫本頁) -裝- '11 43 90 93 A7 B7 經濟部屮夾棉準局A-TiJli抡合竹社印5ί 五、發明説明 ( ί ) i ί 在 第 2 圖 左 倒 所 示 止 動 裝 置 之 下 端 位 置 内 可 藉 裝 載 機 1 I m 人 2 6之 J 助 將 工 件 1 7放 置 在 支 承 環 1 4 之 各 支 架 1 6上 並 對 1 1 支 承 板 5 定 心 〇 例 如 * 其 定 位 之 精 確 性 則 可 達 土 0 . 1 3公 請 先 1 厘 〇 妖 後 j 工 件 1 7 則 對 支 承 板 5 以 適 當 的 精 確 性 而 被 定 閱 讀 l 背 1 心 〇 於 裝 載 機 器 人 2 G 撒 退 之 後 則 可 開 始 升 降 台 1 之 升 程 面 之 1 蓮 動 〇 首 先 支 承 板 5 可 因 而 與 工 件 1 7 之 下 隹!1 面 相 接 觸 注 意 窜 ί 1 並 將 該 工 件 從 支 承 環 14之 各 支 架 1 6上 舉 起 9 緊 接 箸 基 板4 再 1 1 可 到 達 由 止 動 環 1 3 之 下 制 面 所 構 成 的 止 動 面 9 而 在 繼 續 寫 本 裝 之 升 程 蓮 動 中 各 定 心 銷 1 2 則 被 牽 動 0 由 於 止 推 環 1 4在 其 頁 1 I 靜 止 位 置 内 靠 接 在 各 止 動 環 1 3上 面 9 亦 因 而 使 該 止 推 環 1 I 開 始 被 上 舉 y 在 基 板 及 各 止 動 環 間 之 止 e£L 動 面 亦 可 調 整 9 1 1 當 支 承 板 使 工 件 到 逹 或 接 近 至 一 預 定 的 最 小 距 離 時 » 該 1 訂 1 I 支 承 環 已 準 備 被 牽 動 0 在 m 绩 升 程 蓮 動 之 運 行 中 則 各 定 銷 12分 別 嵌 入 在 夾 緊 1 1 環 2 2 之 下 倒 面 上 的 各 槽 23内 > 而 且 9 嵌 入 的 深 度 直 至 其 1 1 上 端 範 圍 實 際 上 在 方 位 角 内 為 無 間 隙 狀 態 下 被 容 納 ) 但 1 是 可 在 徑 向 移 動 > 因 而 夾 緊 環 2 2亦 可 對 支 承 板 5 定 心 1 1 在 各 定 心 銷 之 尖 端 快 要 達 到 各 對 應 槽 2 3的 底 部 之 前 t 則 ί Ι 工 件 1 7 之 表 面 衝 擊 在 夾 m 環 2 2 的 内 凸 緣 2 4之 邊 線 上 * 使 \ 1 得 該 夾 緊 環 從 其 靜 止 位 置 内 被 上 m 1 並 靠 接 在 X 件 1 7上 1 1 兩 者 均 在 其 位 置 内 被 固 在 支 架 16及 支 承 板 5 上 » 稍 後 1 I 不 久 * 驅 動 軸 環 7 則 到 達 中 間 環 2 0之 下 m 而 上 因 而 在 1 1 m m 的 升 程 蓮 動 中 該 中 間 環 亦 被 牽 動 〇 田 工 作 17被 放 置 I 時 > 實 際 上 僅 在 該 工 件 -ί 之 下 而 出 現 磨 擦 使 得 由 於 粒 子 1 1 1 1 f 本紙张尺度適川中园围家摞?(*- ( (’NS ) Λ4規格(2ΙΟΧ 297公釐} A7 43 90 93 B7 五、發明説明(7 ) 所産生污染之危機大為降低。 在止動裝置之上端位置(第2圖左倒)內工件1 7 B到逹 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
J 其操作位置,在該位置内工件之表而則可操作處理,例 如,可噴鍍一層鋁層或二氧化矽,浸蝕或其他處理,其 下側商則因而可在支承板5上被加熱或冷卻,因而,利 用導管10之氣體導入,刖可在支承板5及工件之下镅面 間産生氣墊,該氣墊則可確保均勻的熱傳遞。 具有支承板5之升降台1 ,則有各支架16之支承環14 以及具有保護輪鄆25之夾緊·環22和中間環20最好採用導 電材料,特別是金屬製成》使各部件互相被隔開之各定 心銷1 2則反而由絶緣材料,特別是陶瓷材料製成,如同 在基板4内之各導套,使得在前面所提及之各部分均互 相在電氣上互相絶緣並能保持在不同的電位上,在不同 的操作過程中此種電位可被利用並可控制在處理室内之 電場,陶瓷材料亦具有較小的滑動磨擦俱數(Coefficient of sliding),使得在導套或定心銷或兩者上之應用均為 有利,而且,陶瓷材料不易形成粒子,其甚小的熱膨脹 僳數則可確保能繼鑛保持尺寸之穩定性,即使在裝置之 熱負荷下亦然。利用It動裝置之旋轉對稱構造及同軸的 導绵结構則可顯箸地降低在電流上不受控制流動之危險 ,例如,在射頻偏壓(Rakio Freguency- Bias)上之應用 以及在測最及調整單元上之干擾場(Infer ference field) 等。 於操作過程完成之後〖!:動裝置則再被移至下端位置内 -9 - 本纸张尺度適用中國囤家標华(「奶)/\4规格(210'乂 297公斯> 439093 A7 ^"部中决樣^-^^只^消於"0私印"· 4 納 升控 Η 提固動用 大環脹及内板不由在各12動諸保 接 由及餐可以止供 重推膨14角基而,和及銷移中及 所 經械保而加。可 有止熱環位在隙移15提心上式20 26均機的因再換之 具,同承方。間偏孔所定環方環 人 動由要,必更備 ,5 不支在合面向形而各朝的間 器 蓮經需成不被設 琨板之對,接倒徑長,及向同中 機 的均所達而地空 出承件12是之的在之難琛徑相刖 載 有動,内,速真 差支部銷但隙夠可内困一在本 , 裝 所蓮且間可迅於 度凡些心,間足1214無任而基心 被 於種而時即而利 溫中這定隙無有銷環亦中脹在定 可 由各,載上易有 的置在各間為具心推長琛膨 -2 並 ,,生裝放容果 大裝可則的上均定It伸各熱變線 内 軸生産的被可敫 有之亦,夠質11各在向在的不軸 置 動産式皙僅件的 常明心的足實架則及徑。同持對 位 驅而方短件部生 通發定目持在支 ,以的小不保22 運 一低的在部各産 。中本互此保件各脹長23很於仍環 轉 成降單可多 ,所y)程據相達向部於膨伸槽樣由置緊 ) 於。構及簡動許時性it過根之欲徑有由之之各同則位夾 /)處回僅高極蓮。要待11作在22,在所 ,板向之亦置之及 ( 再撤置升以其量必種ah操則環變均之中基徑内脹位心14 明17後裝之而。料在此]1在,緊不22稱脹該在22膨觸中環 Μ 件向—動 1 術少進故之va於者夾持環所膨礙槽環熱接其承 明 工及lh台技亦其,置 U 由義及保緊與熱紡各緊之之而支 發 β 以 降制件高定裝性 意14中夾則之致於夾環間,如 ' 五 I - 1-- t -'- - - - ill*^. I I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙悵尺度適用中Κ®家標擎(rNS ) Λ4規格(hOX 297公漦) A7 43 90 93 B7 五、發明説明(9 ) 護輪廓2 5刖對與軸線2 —致之一固定軸線定心。 其實支承板,支承環及夾緊環亦可利用兩個定心元件
I J---r -----Hi έτ ---------- 丁 >v3 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在不受不同熱膨脹影蜜之方式中而被定心,只要由相同 的部件及軸線所確定的平面内包含之一角度关180度,而 所稱之部件,例如,刹用一定心元件構成朝向徑向之平 板可確保能防止對一垂直軸線之相互旋轉即可,然而最 好能同時提供如前面所逑之三痼定心元件以供支承環14 的支架之用,而該支架之位置必須精確地確定,若至少 提供三傾定心元件,各元件則對軸線保持相同距離,則 比較有利,雖然後者並非絶對必要,各定心元件之位置 最好能構成有規則的多角形,待別是三角形,軸線則位 於其中心内》根據所提及各同心部件成對定心之相同原 理,則可想像止推環可對支承板,而夾緊環可對止推環 ,然而,此種结構並不能導致一種緊密而結實及簡單的 構造。 本紙ίίί尺度进用中SS家標卑(CNS ) Λ4規格(210X 297公f ) 43 90 93 五、發明説明(w ) A7 經淖部中次榡準局^:工消合作社印聚 考符 號説明 1… ..升降台 ! 2… ..軸線 3… ..雙撐管 4… ..基板 5… ..支承板 3a… ...内管 3b… ...外管 6… ..圓環 7… ..牽動軸環 8… ..金屬波纹管 9… ..固定壁 10.. ...導管 11.. ..·支柱 12.. ...定心銷 13.* ...止動環 14,. ...止推軸環 15.. ...長孔 16,. ..支架 17.. …工件 18.. …槽 19.. ...支撐定位銷 2 0.. ...中間環 2 1.. ..槽 -12- J— U -ί I n Hi n m - - - 士^- - - - - n» T .-ff (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本纸張尺度適;fl中园丨玄家標率(C'NS ) Λ4規格(2丨OX 297公漦) 439093 A7 B7 五、發明説明(") 22.....夾緊環 2 3.....槽 j 24 . i ...内凹緣 2 5.....保護輪廓 26.....裝載機器人 ^13" 本紙張尺度適扣中國S家摞卑(rNS ) Λ4现格(210X 297公漦) J---Γ------^------1T (請先閱讀背面之注意事項再试寫本頁)

Claims (1)

  1. 43 9093 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 第871211*79號「止動裝置」專利案 (89年7月修正) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 六、申請專利範圍: 經濟部智慧財4局員工消費合作社印製 1. 一種止動裝置,其在真空設備內用於輸送特別是圓盤 形之工件(17),該止動裝置具有一可在下端位置及上 端位置間變換之升降台(1),在下端位置內可放置或移 除工件(17),而在上端位置內可操作該工件(17),該 升降台可上升或下降,另有一個支承板(5),基本上此 支承板(5)形狀相當該於工件(17)之形狀,此支承板(5) 特別是至少具有一圍繞垂直軸線(2)而接近旋轉對稱之 形式,另有一止推軸環(14)以便容納下端位置中之工 作(17),而在上端位置內則在支承板(5)上方裝設一可 垂直移動之夾緊環(22)以供固定工件(17)於上端位置 中之用,其特徵爲:該止動裝置欲使止推軸環(14)及 夾緊環(22)以軸線(2)爲中心,則至少在上端位置內須 具有與所稱同心部件相接合之定心裝置,該定心裝置 至少具有兩個分別與軸線(2>相隔開之定心元件,而此 二個定心元件並非同在—平面內,該定心元件實質上 在方位角內與所稱部件是無間隙的,而且可與至少兩 個部件在徑向及軸向中以移動方式接合,因而,另外 亦可確保各部件可相互對一垂直軸線旋轉。 2如申請專利範圍第1項之止動裝置,其中用作定心元 件之定心裝置至少具有三個圍繞在軸線(2)周圍之定心 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210Χ297公釐) 439093 ABCD 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 銷(1 2 ),各定心銷則被固定在各同心部件中之一部件 內而不能在徑向移動1該定心銷至少在上端位置內接 合在其餘各同心部件之徑向槽或溝內。 3. 如申請專利範圍第2項之止動裝置,其中各定心銷(12) 均與軸線(2)平行並與該軸線保持相同的距離。 4. 如申請專利範圍第2或3項之止動裝置,其中支承環 (14)可垂直移動,該支承環與升降台(1)在作用上相關 連,使該升降台開始之後此支承環即被其往上移動所 牽動。 5. 如申請專利範圍第4項之止動裝置,其中各定心銷(12) 在下端位置內被支撐在固定位置上並可在升降台U)內 於軸向移動,此外則在實質上爲無間隙地受到引導且 利用支承環(14)而至少在軸向徑向中心移動方式而進 行引導,而各定心銷對升降台(1)之向下運動及對止推 軸環(1 4 )之向上運動均受到一止動件之限制。 6. 如申請專利範圍第5項之止動裝置,其中支承環(14) 具有徑向之長孔(15)以便至少在方位(azimutal)角中 實質上可以無間隙方式容納定心銷(12)。 7. 如申請專利範圍第5項之止動裝置,其中各止動件均 利用一圍繞在定心銷(1 2 )周圍之止動環(1 3 )的上側面 或下側面而構成。 8. 如申請專利範圍第6項之止動裝置,其中各止動件均 利用一圍繞在定心銷(12)周圍之止動環(13)的上側面 諳先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· 峡! 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X29?公釐) 43 90 93 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 A8 B8 CS D8六、申請專利範圍 或下側面而構成。 9. 如申請專利範圍第2或3項之止動裝置,其中夾緊環 (22)在其下側面上具有徑向槽(23)’至少在操作位置 內各定心銷(1 2)之尖端則在方位角內實質上以無間隙 方式接合在徑向槽(23)中° 10. 如申請專利範圍第4項之止動裝置,其中夾緊環(22) 在其下側面上具有徑向槽(23>’至少在操作位置內各 定心銷(12)之尖端則在方位角內實質上以無間隙方式 接合在徑向槽(23)中《 11. 如申請專利範圍第5項之止動裝置,其中夾緊環(22) 在其下側面上具有徑向槽(23),至少在操作位置內各 定心銷(12)之尖端則在方位角內實質上以無間隙方式 接合在徑向槽(23)中。 U如申請專利範圍第6項之止動裝置,其中夾緊環(22) 在其下側面上具有徑向槽(23),至少在操作位置內各 定心銷(12)之尖端則在方位角內實質上以無間隙方式 接合在徑向槽(23)中。 ia如申請專利範圍第7項之止動裝置,其中夾緊環(22) 在其下側面上具有徑向槽(23),至少在操作位置內各 定心銷(12)之尖端則在方位角內實質上以無間隙方式 接合在徑向槽(23)中。 如申請專利範圍第9項之止動裝匱,其中夾緊環(22) 具有一朝向內側並與支架<16)搭接之內凸緣(24),其 (錆先閱讀背面之注^h項再填寫本頁) ,11. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2I0X297公嫠) 439093 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8六、申請專利範圍 具有向下彎曲之內邊緣。 15. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之止動裝置’其 中支承環(14)具有至少三個向上直立之支架(16)以供 容納工件(17)之用,各支架之位置至少在上端位置時 是位於各垂直槽(18)內,而各槽均分別埋入支承板(5) 之邊緣內。 16. 如申請專利範圍第4項之止動裝置,其中支承環(14) 具有至少三個向上直立之支架(16)以供容納工件(17) 之用,各支架之位置至少在上端位置時是位於各垂直 槽(18>內,而各槽均分別埋入支承板(5)之邊緣內。 17;如申請專利範圍第5項之止動裝置,其中支承環(14) 具有至少三個向上直立之支架(16)以供容納工件(17) 之用*各支架之位置至少在上端位置時是位於各垂直 槽(18)內,而各槽均分別埋入支承板(5)之邊緣內。 见如申請專利範圍第6項之止動裝置,其中支承環(14) 具有至少三個向上直立之支架(16)以供容納工件(17) 之用,各支架之位置至少在上端位置時是位於各垂直 槽(18)內,而各槽均分別埋入支承板(5)之邊緣內。 B如申請專利範圍第7項之止動裝置,其中支承環(14) 具有至少三個向上直立之支架(16)以供容納工件(17) 之用,各支架之位置至少在上端位置時是位於各垂直 槽(18>內•而各槽均分別埋入支承板(5)之邊緣內。 20.如申請專利範圍第9項之止動裝置,其中支承環(14) -4- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本莨) 訂 d 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) A4規格(210X297公釐) 439093 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8六、申請專利範圍 具有至少三個向上直立之支架(16)以供容納工件(17) 之用,各支架之位置至少在上端位置時是位於各垂直 槽(18)內,而各槽均分別埋入支承板(5)之邊緣內》 21.如申請專利範圍第14項之止動裝置,其中支承環(14) 具有至少三個向上直立之支架(16)以供容納工件(17) 之用,各支架之位置至少在上端位置時是位於各垂直 槽(18)內,而各槽均分別埋入支承板(5)之邊緣內。 2Z如申請專利範圍第1至3項中任一項之止動裝置,其 中夾緊環(22)在靜止位置中是位於中間環(20>上,夾 緊環(22)在升降台(1>之升程運動中由於與工件(17)接 觸而由靜止位置被上舉,該中間環則以位置固定之方 式被支撐著。 23·如申請專利範圍第4項之止動裝置,其中夾緊環(22) 在靜止位置中是位於中間環(20)上,夾緊環(22>在升 降台(1)之升程運動中由於與工件(17)接觸而由靜止位 置被上舉,該中間環則以位置固定之方式被支撐著。 24如申請專利範圍第5項之止動裝置’其中夾緊環(22> 在靜止位置中是位於中間環(20)上*夾緊環(22)在升 降台(1)之升程運動中由於與工件(17)接觸而由靜止位 置被上舉,該中間環則以位置固定之方式被支撐著。 25.如申請專利範圍第6項之止動裝置’其中夾緊環(22) 在靜止位置中是位於中間環(20)上’夾緊環(22)在升 降台(1)之升程運動中由於與工件(17)接觸而由靜止位 -5- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 蝮 本紙張尺度適用中國國家標卓(CNS ) Μ規格(―2丨0X.297公釐) 43 9093 ABCD 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 置被上舉,該中間環則以位置固定之方式被支撐著° 26如申請專利範圍第7項之止動裝置,其中夾緊環(22) 在靜止位置中是位於中間環(20)上,夾緊環(22)在升 降台(1)之升程運動中由於與工件(17)接觸而由靜止位 置被上舉,該中間環則以位置固定之方式被支撐著° 27.如申請專利範圍第9項之止動裝置,其中夾緊環(22) 在靜止位置中是位於中間環(20)上’夾緊環(22)在升 降台(1)之升程運動中由於與工件(17)接觸而由靜止位 置被上舉,該中間環則以位置固定之方式被支撐著。 28_如申請專利範圍第14項之止動裝置,其中夾緊環(22) 在靜止位置中是位於中間環(20)上,夾緊環(22)在升 降台(1)之升程運動中由於與工件(17)接觸而由靜止位 置被上舉,該中間環則以位置固定之方式被支撐著》 2ft如申請專利範圔第15項之止動裝置,其中夾緊環(22) 在靜止位置中是位於中間環(20)上,夾緊環(22)在升 降台(1)之升程運動中由於與工件(Π)接觸而由靜止位 置被上舉,該中間環則以位置固定之方式被支撐著。 30. 如申請專利範圍第22項之止動裝置,其中此中間環(2 0) 在其靜止位置中之支撐是利用各垂直之支撐螺栓(19) 而達成,而各螺栓則圍繞在軸線(2)的周圍且其尖端分 別在各徑向槽(21)中接合於中間環的下側面上,使得 各螺栓同時以軸線(2 )爲中心。 31. 如申請專利範圍第22項之止動裝置,其中此中間環(20) -6- (請先閱讀背面之注項再填寫本頁) 訂 螋! 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4规格(210X297公釐) A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 在其靜止位置中之支撐是利用各垂直之支撐螺检(19) 而達成,而各螺桂則圍繞在軸線(2)的周圍且其尖端分 別在各徑向槽(21)中接合於中間環的下側面上,使得 各螺栓同時以軸線(2 )爲中心。 汶如申請專利範圍第30項之止動裝置,其中此中間環(2〇) 在其靜止位匱中之支撐是利用各垂直之支撐螺检(19) 而達成,而各螺栓則圍繞在軸線(2)的周圍且其尖端分 別在各徑向槽(21)中接合於中間環的下側面上,使得 各螺栓同時以軸線(2)爲中心。 33如申請專利範圍第22項之止動裝置,其中升降台(1)具 有一牽動具,在升降台之升程運動時該牽動具可牽動 上述之中間環(20)。 災如申請專利範圍第30項之止動裝置,其中升降台(1)具 有一牽動具,在升降台之升程運動時該牽動具可牽動 上述之中間環(2 0 )。 35如申請專利範圍第31項之止動裝置,其中升降台(1)具 有一牽動具,在升降台之升程運動時該牽動具可牽動 上述之中間環U0)。 36如申請專利範圍第1至3項中任一項之止動裝置,其 中支承板(5)*支承環(14)及夾緊環(22 >均採用導電性 材料製成,且至少在上端位置內互相隔開並在電性上 被絕緣- 37·如申請專利範圍第4項之止動裝置,其中支承板(5), -7- 本紙張尺度適用中國國家橾率(CNS ) A4規格(210X297公羞) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本莨) 訂 蝮 經濟.那智慧財產局員工消費合作社印製 經·濟部智慧財產局員工消費合作社印製 439093 8 A〇 B8 C8 __ D8六、申請專利範圍 支承環(14)及夾緊環(22 >均採用導電性材料製成,且 至少在上端位置內互相隔開並在電性上被絕緣。 3&如申請專利範圍第5項之止動裝置|其中支承板(5), 支承環(14)及夾緊環(22)均採用導電性材料製成,且 至少在上端位置內互相隔開並在電性上被絕緣》 39如申請專利範圍第6項之止動裝置,其中支承板(5), 支承環(14)及夾緊環(22)均採用導電性材料製成,且 至少在上端位置內互相隔開並在電性上被絕緣。 4Q如申請專利範圍第7項之止動裝置,其中支承板(5), 支承環(14)及夾緊環(22)均採用導電性材料製成,且 至少在上端位置內互相隔開並在電性上被絕緣。 41.如申請專利範圍第9項之止動裝置,其中支承板(5), 支承環(14)及夾緊環(22)均採用導電性材料製成,且 至少在上端位置內互相隔開並在電性上被絕緣。 42如申請專利範圍第14項之止動裝置,其中支承板(5), 支承環(14)及夾緊環(22)均採用導電性材料製成,且 至少在上端位置內互相隔開並在電性上被絕緣》 43如申請專利範圍第15項之止動裝置,其中支承板(5), 支承環(14)及夾緊環(22 >均採用導電性材料製成,且 至少在上端位置內互相隔開並在電性上被絕緣。 44如申請專利範圍第22項之止動裝置,其中支承板(5), 支承環(14)及夾緊環(22)均採用導電性材料製成,且 至少在上端位置內互相隔開並在電性上被絕緣。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、iT 本紙張尺度適用中國固家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 439093 8 οο δ 8 ABCD 經濟部智慧財4局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 45如申請專利範圍第30項之止動裝置,其中支承板(5), 支承環(丨4)及夾緊環(22)均採用導電性材料製成,且 至少在上端位置內互相隔開並在電性上被絕緣。 妮如申請專利範圍第31項之止動裝置,其中支承板(5), 支承環(14)及夾緊環(22)均採用導電性材料製成,且 至少在上端位置內互相隔開並在電性上被絕緣。 47如申請專利範圍第33項之止動裝置,其中支承板(5), 支承環(14)及夾緊環(22)均採用導電性材料製成,且 至少在上端位置內互相隔開並在電性上被絕緣》 期如申請專利範圍第31項之止動裝置,其中至少在上 端位置內上述之保護輪廓(25)是與支承板(5),止推軸 環(14)及夾緊環(22)相隔開並在電性上被絕緣》 49如申請專利範圍第33項之止動裝置,其中至少在上 端位置內上述之保護輪廓(25)是與支承板(5),止推軸 環(14)及夾緊環(22)相隔開並在電性上被絕緣。 5Q如申請專利範圍第36項之止動裝置,其中至少在上 端位置內上述之保護輪廓(25)是與支承板(5),止推軸 環(14)及夾緊環(22)相隔開並在電性上被絕緣。 51如申請專利範圍第2或3項之止動裝置,其中各定心 銷(12)是配置在一規則之多邊形之各角隅點內 氐如申請專利範圍第4項之止動裝置,其中各定心銷(12) 是配置在一規則之多邊形之各角隅點內》 53如申請專利範圍第5項之止動裝置,其中各定心銷(12) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ^! 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > Α4規格{ 210X297公釐} ABCD 43 90 93 六、申請專利範圍 是配置在一規則之多邊形之各角隅點內。 54如申請專利範圍第6項之止動裝置,其中各定心銷U2) 是配置在一規則之多邊形之各角隅點內。 55如申請專利範圍第7項之止動裝置,其中各定心銷(12) 是配置在一規則之多邊形之各角隅點內。 56如申請專利範圔第9項之止動裝匱,其中各定心銷(12) 是配置在一規則之多邊形之各角隅點內。 57.如申請專利範圍第14項之止動裝置,其中各定心銷(1 2 ) 是配置在一規則之多邊形之各角隅點內。 58如申請專利範圍第15項之止動裝置,其中各定心銷(1 2 ) 是配置在一規則之多邊形之各角隅點內3 99.如申請專利範圍第22項之止動裝置,其中各定心銷(1 2 ) 是配置在一規則之多邊形之各角隅點內。 6Q如申請專利範圍第30項之止動裝置,其中各定心銷(12) 是配置在一規則之多邊形之各角隅點內。 61.如申請專利範圍第31項之止動裝置,其中各定心銷(12) 是配置在一規則之多邊形之各角隅點內。 位如申請專利範圍第33項之止動裝置,其中各定心銷(12) 是配置在一規則之多邊形之各角隅點內。 6S如申請專利範圍第36項之止動裝置,其中各定心銷(12) 是配置在一規則之多邊形之各角隅點內。 64如申請專利範圍第48項之止動裝置,其中各定心銷(12) 是配置在一規則之多邊形之各角隅點內。 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨OX29?公釐) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本f ) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 43 9093 A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 65如申請專利範圍第2或3項之止動裝置,其中各定心 銷(1 2 )係由陶瓷材料所構成。 66如申請專利範圍第4項之止動裝置,其中各定心銷Π2) 係由陶瓷材料所構成。 67如申請專利範圍第5項之止動裝置,其中各定心銷(12) 係由陶瓷材料所構成。 68如申請專利範圍第6項之止動裝置,其中各定心銷(12) 係由陶瓷材料所構成。 69.如申請專利範圍第7項之止動裝置,其中各定心銷(12) 係由陶瓷材料所構成。 7Q如申請專利範圍第9項之止動裝匱,其中各定心銷(12) 係由陶瓷材料所構成。 71如申請專利範圍第14項之止動裝置,其中各定心銷(1 2 ) 係由陶瓷材料所構成。 72如申請專利範圍第15項之止動裝置,其中各定心銷(12) 係由陶瓷材料所構成。 7¾如申請專利範圍第22項之止動裝置,其中各定心銷(1 2 ) 係由陶瓷材料所構成° 74如申請專利範圍第3〇項之止動裝置,其中各定心銷(12) 係由陶瓷材料所構成。 75如申請專利範圍第31項之止動裝置,其中各定心銷(12) 係由陶瓷材料所構成。 76.如申請專利範圍第33項之止動裝置,其中各定心銷(12) -1 1 - (請先間讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨0X297公釐) 43 90 93 AS Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 係由陶瓷材料所構成。 77如申請專利範圍第36項之止動裝置,其中各定心銷(1 2 ) 係由陶瓷材料所構成D 78_如申請專利範圍第48項之止動裝置,其中各定心銷(12) 係由陶瓷材料所構成。 79如申請專利範圍第51項之止動裝置,其中各定心銷(12) 係由陶瓷材料所構成。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2】0x297公釐)
TW087121179A 1997-12-23 1998-12-18 Holding device TW439093B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH295197 1997-12-23

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW439093B true TW439093B (en) 2001-06-07

Family

ID=4245321

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW087121179A TW439093B (en) 1997-12-23 1998-12-18 Holding device

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6511543B1 (zh)
EP (1) EP1042787B1 (zh)
JP (1) JP4297609B2 (zh)
AT (1) ATE290252T1 (zh)
DE (1) DE59812627D1 (zh)
TW (1) TW439093B (zh)
WO (1) WO1999034414A1 (zh)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10600623B2 (en) 2018-05-28 2020-03-24 Applied Materials, Inc. Process kit with adjustable tuning ring for edge uniformity control
TWI695413B (zh) * 2016-01-26 2020-06-01 美商應用材料股份有限公司 用於處理基板的裝置及用於該裝置的基板邊緣環的升降解決方案
US10991556B2 (en) 2017-02-01 2021-04-27 Applied Materials, Inc. Adjustable extended electrode for edge uniformity control
US11043400B2 (en) 2017-12-21 2021-06-22 Applied Materials, Inc. Movable and removable process kit
US11075105B2 (en) 2017-09-21 2021-07-27 Applied Materials, Inc. In-situ apparatus for semiconductor process module
US11101115B2 (en) 2019-04-19 2021-08-24 Applied Materials, Inc. Ring removal from processing chamber
US11289310B2 (en) 2018-11-21 2022-03-29 Applied Materials, Inc. Circuits for edge ring control in shaped DC pulsed plasma process device
US11935773B2 (en) 2018-06-14 2024-03-19 Applied Materials, Inc. Calibration jig and calibration method
US12009236B2 (en) 2019-04-22 2024-06-11 Applied Materials, Inc. Sensors and system for in-situ edge ring erosion monitor
US12094752B2 (en) 2016-01-26 2024-09-17 Applied Materials, Inc. Wafer edge ring lifting solution

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6589352B1 (en) * 1999-12-10 2003-07-08 Applied Materials, Inc. Self aligning non contact shadow ring process kit
KR100803858B1 (ko) 2006-09-21 2008-02-14 현대자동차주식회사 헬리컬기어 가공용 고정장치
WO2010101191A1 (ja) * 2009-03-03 2010-09-10 東京エレクトロン株式会社 載置台構造、成膜装置、及び、原料回収方法
KR102118069B1 (ko) * 2009-12-31 2020-06-02 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 웨이퍼 엣지 및 경사면 증착을 수정하기 위한 쉐도우 링
WO2012133585A1 (ja) * 2011-03-29 2012-10-04 東京エレクトロン株式会社 プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法
CN104862660B (zh) * 2014-02-24 2017-10-13 北京北方华创微电子装备有限公司 承载装置及等离子体加工设备
GB201419210D0 (en) * 2014-10-29 2014-12-10 Spts Technologies Ltd Clamp assembly
US10658222B2 (en) 2015-01-16 2020-05-19 Lam Research Corporation Moveable edge coupling ring for edge process control during semiconductor wafer processing
CN106356327A (zh) * 2016-11-18 2017-01-25 上海华力微电子有限公司 减少晶圆背面生长的装置
US9947517B1 (en) 2016-12-16 2018-04-17 Applied Materials, Inc. Adjustable extended electrode for edge uniformity control
WO2019103722A1 (en) 2017-11-21 2019-05-31 Lam Research Corporation Bottom and middle edge rings
CN118398464A (zh) 2018-08-13 2024-07-26 朗姆研究公司 可更换和/或可折叠的用于等离子鞘调整的并入边缘环定位和定心功能的边缘环组件
JP7134104B2 (ja) * 2019-01-09 2022-09-09 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の載置台
TWM588883U (zh) * 2019-05-10 2020-01-01 美商蘭姆研究公司 半導體製程模組的中環
CN115315775A (zh) 2020-03-23 2022-11-08 朗姆研究公司 衬底处理系统中的中环腐蚀补偿
CN116349002A (zh) * 2020-10-05 2023-06-27 朗姆研究公司 用于等离子体处理系统的可移动边缘环
US20220108908A1 (en) * 2020-10-06 2022-04-07 Applied Materials, Inc. Shadow ring kit for plasma etch wafer singulation process
US20220178021A1 (en) * 2020-12-08 2022-06-09 Skytech Co., Ltd. Wafer fixing mechanism and wafer pre-cleaning machine using the wafer fixing mechanism
TWI745240B (zh) * 2021-02-22 2021-11-01 天虹科技股份有限公司 晶圓承載固定裝置及應用該晶圓承載固定裝置的薄膜沉積設備
CN113430504B (zh) * 2021-08-26 2021-11-09 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 一种晶圆便捷升降夹紧的化学气相沉积设备
CN114260724A (zh) * 2021-12-20 2022-04-01 山西平阳重工机械有限责任公司 加工不锈钢超薄垫片的辅具及方法
CN114247614B (zh) * 2021-12-28 2022-09-27 上海轩田工业设备有限公司 一种灌胶柔性旋转夹紧机构
US12371790B2 (en) * 2022-08-17 2025-07-29 Sky Tech Inc. Wafer carrier with adjustable alignment devices and deposition equipment using the same
US20240071803A1 (en) * 2022-08-31 2024-02-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Methods and systems for dry etching

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2047197C1 (ru) * 1983-11-28 1995-10-27 Степин Юрий Александрович Объектив в оправе
EP0452779B1 (en) * 1990-04-20 1996-03-27 Applied Materials, Inc. Physical vapor deposition clamping mechanism
US5094885A (en) * 1990-10-12 1992-03-10 Genus, Inc. Differential pressure cvd chuck
KR100243784B1 (ko) * 1990-12-05 2000-02-01 조셉 제이. 스위니 웨이퍼의 전방부 모서리와후방부에서의 증착을 방지하는 cvd웨이퍼 처리용 수동 실드
US5352294A (en) * 1993-01-28 1994-10-04 White John M Alignment of a shadow frame and large flat substrates on a support
US5860640A (en) * 1995-11-29 1999-01-19 Applied Materials, Inc. Semiconductor wafer alignment member and clamp ring
US5863340A (en) * 1996-05-08 1999-01-26 Flanigan; Allen Deposition ring anti-rotation apparatus

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI695413B (zh) * 2016-01-26 2020-06-01 美商應用材料股份有限公司 用於處理基板的裝置及用於該裝置的基板邊緣環的升降解決方案
US12094752B2 (en) 2016-01-26 2024-09-17 Applied Materials, Inc. Wafer edge ring lifting solution
US11393710B2 (en) 2016-01-26 2022-07-19 Applied Materials, Inc. Wafer edge ring lifting solution
US10991556B2 (en) 2017-02-01 2021-04-27 Applied Materials, Inc. Adjustable extended electrode for edge uniformity control
US11887879B2 (en) 2017-09-21 2024-01-30 Applied Materials, Inc. In-situ apparatus for semiconductor process module
US11075105B2 (en) 2017-09-21 2021-07-27 Applied Materials, Inc. In-situ apparatus for semiconductor process module
US11043400B2 (en) 2017-12-21 2021-06-22 Applied Materials, Inc. Movable and removable process kit
US10790123B2 (en) 2018-05-28 2020-09-29 Applied Materials, Inc. Process kit with adjustable tuning ring for edge uniformity control
US11201037B2 (en) 2018-05-28 2021-12-14 Applied Materials, Inc. Process kit with adjustable tuning ring for edge uniformity control
US10600623B2 (en) 2018-05-28 2020-03-24 Applied Materials, Inc. Process kit with adjustable tuning ring for edge uniformity control
US11728143B2 (en) 2018-05-28 2023-08-15 Applied Materials, Inc. Process kit with adjustable tuning ring for edge uniformity control
US11935773B2 (en) 2018-06-14 2024-03-19 Applied Materials, Inc. Calibration jig and calibration method
US12148645B2 (en) 2018-06-14 2024-11-19 Applied Materials, Inc. Calibration jig and calibration method
US11289310B2 (en) 2018-11-21 2022-03-29 Applied Materials, Inc. Circuits for edge ring control in shaped DC pulsed plasma process device
US12334311B2 (en) 2018-11-21 2025-06-17 Applied Materials, Inc. Circuits for edge ring control in shaped dc pulsed plasma process device
US11101115B2 (en) 2019-04-19 2021-08-24 Applied Materials, Inc. Ring removal from processing chamber
US12009236B2 (en) 2019-04-22 2024-06-11 Applied Materials, Inc. Sensors and system for in-situ edge ring erosion monitor

Also Published As

Publication number Publication date
EP1042787A1 (de) 2000-10-11
DE59812627D1 (de) 2005-04-07
JP2002500439A (ja) 2002-01-08
WO1999034414A1 (de) 1999-07-08
EP1042787B1 (de) 2005-03-02
US6511543B1 (en) 2003-01-28
ATE290252T1 (de) 2005-03-15
JP4297609B2 (ja) 2009-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW439093B (en) Holding device
JP5549441B2 (ja) 保持体機構、ロードロック装置、処理装置及び搬送機構
EP0953409B1 (en) Wafer surface machining method and apparatus
TWI738901B (zh) 用於電漿處理系統中的載體板
US6379095B1 (en) Robot for handling semiconductor wafers
TW550710B (en) A wafer boat with arcuate wafer support arms
CN102903657B (zh) 热处理装置及朝该热处理装置输送基板的基板输送方法
TW200845267A (en) High temperature anti-droop end effector for substrate transfer
WO2008018285A1 (fr) Appareil de transfert de substrat, appareil de traitement de substrat, bras de transfert de substrat et procédé de transfert de substrat
TW463279B (en) Rotary driving mechanism for specimen supporting table and specimen supporting mechanism
JP3272729B2 (ja) ウェーハカセットの移送装置
TW536741B (en) Substrate processing equipment and method and covering member for use therein
WO2007040062A1 (ja) 基板処理装置および半導体装置の製造方法
US6682295B2 (en) Flatted object passive aligner
TW569286B (en) Method and apparatus for wafer exchange employing stacked robot blades
TW561571B (en) A wafer holder, wafer support member, wafer boat and heat treatment furnace for wafer
JPS61278149A (ja) ウエハ位置決め装置
US20070177963A1 (en) End effector for transferring a wafer
TWI623477B (zh) 用以運送晶圓狀物件之設備及方法
EP4006956A1 (en) Process chamber of epitaxial growth apparatus
JP2003258063A (ja) 基板処理装置
TWI897108B (zh) 平衡裝置及包含其的基板處理設備
JPS61184842A (ja) ウエハの位置決め装置
JP3713926B2 (ja) 焼き嵌め方法及びその装置、ならびに冷やし嵌め方法及びその装置
TWI800289B (zh) 傳輸裝置及應用其的真空系統

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees