TW487600B - Granular material processing apparatus - Google Patents

Description

487600 五、發明說明（1 ) 發明說明： [技術之領域] 本發明與一種粒子狀材料處理 體材料之粉碎、㈣體㈣與液之與粉采 等於滎狀物質等均勻分散等所用裝置=、或顏料、塗+ [發明之背景] 1 ° 一般此種粒子狀材料處理裝 ^ W ^ ? ^ ^ , A L，例如粉碎裝置或混合· 刀政裝置寺’知裝在旋轉體，落 <夕數加壓體配設於筒狀外秦 内，將孩加壓體以其離心力壓 v i万；外敢内壁面，夾進進入办 壓體與外殼内壁面間之被虛评你 t 、 後處理物，以執行粉碎等處理。^1 時需使被處理物不滯留於外磅由 外π又内—邯分，而使其均勻移重 於外殼内壁面全部。 本申請人爲了使被處理物均勻移動於外殼内壁面全面 提出以密狀連續配設多數環構件構成柱狀者（日本特開今 6-79192號公報、對應美國專利5 3 7 3 9 9 6號），在短時間孩 粉碎固體物質等，使其能在短時間内有效實施粒子狀材申 之各種處理。 然而例如以乾式粉砰處理被處理物時，該被處理物在夕j 殼内之動態極爲不佳，而有易滯留於外殼内一部分之书 ，丨t :故以鬲速旋轉加壓體攪拌粉粒體賦予離心力加壓使g 向外周方向移動，以控制被處理物之動態。但隨著前述办 ^體之回红开〉成之圓筒狀區，延設以兩端支撑該加壓體斥 轉軸’旋轉速度過快時隨著離心力之增大外殼内被處g 物足回旋〉瓦成大亂Ί。故尤其比重小之粉體或處理量j -4- iS $七0國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ;•裝·- . 经濟S智慧料產局員工消f合作社印製 五 發明說明（2 時，粒子狀材料將滯留上方 ^ , a & | 万而有不勿均勻賦予加壓體厭 ‘力·男斷中之粉碎能量之鬥 π 、，旧二 杈备 •^粒子狀材料時亦相同。 里里少 故僅依靠加壓體之轉動處理粒子狀材料者，即 與财述回旋流之關係等，將各種粒子狀材料之動態控慮 最適狀恐（均勻分散），實施粉碎等各種處理。 ' 本發明係-掃上述課題而創作，使外殼内動態控制 之粒子狀材料不致滯留於外殼内之一部分，而使其移動於 外殼内壁全面，可均勻供給因離心力之加壓體 ， 斷力寺能量’而能實施良好狀態之處理。而提供能控:“: 子狀材料I動怨，均勻分散粒子狀材料並將加壓體壓縮 戒剪斷力等能量均句供给該粒子狀材料，有效實施粉碎 多種處理能適正化之外殼内環境。 丨發明之概述] 爲解決上述課題本發明採用之技術方法，係將被連動 技於旋轉軸之旋轉體裝於形成於粒子狀材料處理室之外 内，將保持一定間隔相對分離之多數加壓體支撑於該旋 雒端緣側，由前述旋轉體之轉動帶動旋轉前述加壓體加 计汶内惻面以處理粒子狀材料之構造，其特徵爲於前述 $體回旋附帶形成之圓筒狀區，形成未延設前述旋轉軸 :>一空間區，使其能在該圓筒狀區内生成前述粒子狀材料 四旋流動中心。 本發明採用之其他技術方法，係將形成於粒子狀材料處 £：之外殼與被設於該外殼内之旋轉體，分別連動連接 力 等 連 壓 加 等 於 ("先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •5· '网0家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） 487600 A7 :.^:^¾IrM)財產局8工消費合作社印製 五、發明說明（3 ) 旋轉軸使其能轉動構成，並將保持一定間隔相對分離之多 數加壓體支撑於該旋轉體端緣側，由前述旋轉體之轉動^ 動旋轉前述加壓體加壓外殼内側面以處理粒子狀材料+構 造，其特徵爲以不同旋轉速度向同方向旋轉控制前述外殼 之轉動與旋轉體之轉動以構成。 < 本發明採用之其他技術方法，係將形成於粒子狀材料處 理1：(外殼與被設於該外殼内之旋轉體，分別連動連接於 旋轉軸使其能轉動構成，並將保持一定間隔相對分離之多 數加壓體支撑於該旋轉體端緣側，由前述旋轉體之轉動帶 動旋轉前述加壓體加壓外殼内側面以處理粒子狀材料之構 造’其特徵爲使該裝置之旋轉轴心橫向以單挑狀將前述加 昼體支撑於可述旋轉體，隨前述加壓體之回旋形成橫 筒狀區以構成。 Μ iA發明之最佳形熊： 以下依較佳實施形態例示之粒子狀材料處理裝置，詳細 説明本發明之實施形態。 第丨圖〜第3圖中，被裝在架台1〇1上之粒子狀材料處理裝 直丨，包括：殼體2，被裝在架台1〇1 :及外殼3，形成粒 卞狀忖料處理室。將主旋轉軸2〇1與内裝該主旋轉軸Μ〗之 $態嵌插之副旋轉軸202成爲—體嵌裝於殼體2，構成所謂 々層《旋轉轴機構。將供給軸封氣體G (連續處理時兼載氣） 辽供氣管205與連續供給被處理物時之供料管2〇6，分別以 嗲層管構造狀態配管於前述主旋轉軸2〇1内部。 刀 各旋轉軸201與202—端側，裝設被連動連接於未圖示驅 , * 裝--------訂·--------· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -6- Λ7 --——---___〆 五、發明說明（4 ) 動機構之皮帶盤203與2〇4,構成可分別獨立旋轉之構造。 皮帶盤203與204之旋轉控制，係由未圖示之控制裝置實旅 冋一方向或反方向個別控制及/或同步於任何一方之旋轉 速度之旋轉控制。此同步旋轉控制之旋轉軸2〇1與2〇2之旋 轉比率係將預先按被處理物種類、處理目的設定之旋轉比 率記憶於一定記憶機構，使其能任意選擇。反方向之旋轉 比率係延遲主旋轉軸20 1 (後述之旋轉體4 )之旋轉，加速副 旋轉軸202(後述之外殼3)之旋轉之約1:5爲大致標準値， 又同一方向之旋轉比率係加速主旋轉軸2〇1之旋轉，延遲 副旋轉軸202之旋轉之各約4:1〜18:1爲大致標準値，按每 被處理物對應處理時間之變異，將經常之旋轉速度增減變 化以一方塊（1次分處理）設定。 一方面、籍鑲套2 1 1以螺栓2 1 2將構成前述外殼3之圓筒 狀容器裝於副旋轉軸202之另一端側。又以螺帽2〇9將被裝 於前述容器3 0 1内之旋轉體4中心部可嵌裝於前述主旋轉轴 2() 1之另一端側。該旋轉體4形成從其中心部延伸與加墨體 5 t數同數量之臂部形狀。而前述容器301與前述旋轉體4 ♦別連動於旋轉軸202與201之轉動可旋轉構成。2〇7係細 农蓋，2 1 0係將被供給供料管206之被處理物供給外殼3内 4之供給口 ：又由供氣管2 0 5供給之轴封氣體G，藉主旋錄 軸20 1及貫穿設於被嵌合於主旋轉軸20 1之鑲套？ 1 3之多數 洪給路，從軸封部208排出外部。又驅動源馬達雖亦可個 別裝於各旋轉軸20 1、202，惟當亦可用1個馬達實施前述 步旋轉控制。 又笈义…七0同家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先聞讀背面之江意事頊再填寫本頁) 「裝· 訂： 48/ϋυυ Λ7

I I 訂 I Φ 請 閱 讀 背 © 之 注 意 事 填 · ί裳

頁I Λ7 B7 五、 發明說明（6 上。 又各加壓體5包括：去a 1 t 轉軸心平行且等 鉍王旋轉軸2〇1之旋 寺距離垃置；4個粉碎環5〇1， 以等間隔配設之環體：及^ η 社々， 及…衣503 ’比粉碎環5(η小徑爲保 持。粉砰環501之間隔籍裝；^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ 述粉碎環n..，受離、、力传Γ太Γ „ ,, , s. 义離〜力使其本身旋轉碰接前述 H 環5()1可轉動構成’惟並不 :卜而以不轉動之構造或半圓形等任意形狀亦可， 要加壓體5本身對旋轉體4旋轉自如或搖動自如被支撑，㈣碰_述圓筒狀内壁3〇2，將被處理物 /、：. 土”〇2〈間，而能將因加壓體之壓縮力或剪斷 粉^能量賦予該被處理物即可。又裝配之加壓體; 粉碎環5 0 1之數量等，介丁 n/v , m 必然增減即可 ’不限於如圖示者，當依裝置大 第3圖係前述粉碎環5〇1之配置構造。如前述在鄰設粉碎 =()1 01間，藉裝前述滑環503使其恰好成爲分開粉 度2倍之間隔，並在一加昼體5之鄭接粉碎環训 •M) 1間對應之位置，分別配置其他2個加壓體5、5之粉 W)1、刈丨，加以設定：即若以靠第3圖⑷所示加壓 义支撑板40,（圖中左端）配置之粉碎環5(h爲基準，則在 賴，粉碎環5〇1厚度分位置配置第3圖(b)所示加她 足粉峥％ 3〇 1，同樣在僅錯開2個粉碎環5〇 1厚度分位置 ^圈（C)所示加壓體5之粉碎環501，以其回旋時對^ d問狀内璧302面之各加壓體5之粉碎環5〇1之回旋執道 圓隨夾 力或 小 碎 碎 配 述 成 ----·------^--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) #· •9- 4 &召同家標準（CNS)A4規格（210 X 297 公釐）

五、發明說明（ 相垃狀態，成爲分散加壓之構造。 入此日^粉碎環501分散加壓之構造，係使不被第3圖⑷所示 粕碎％ 50 1之回旋加壓之前述圓筒狀内壁3〇2面域爲，以第 3圖（b)與（c)所示粉碎環5〇1加壓之配置關係、即對前述圓 筒狀内壁302面之各加壓體5之各粉碎環5〇丨依序加壓複合 又加壓關係，形成連續之加壓面域，以消除粉碎環5〇丨未 加壓又面域，任何面域均以旋轉體4旋轉丨轉間至少丨個粉 碎環501加壓之配置關係構成。故粉碎環5〇ι之厚度及鄰接 粉碎環50 1間之間隔並不限於上述圖示者。又粉碎環5〇 1之 形狀除本圖示者外，可採用前述特開平6-79 192號公報（美 國專利第5373996號）所揭示之各種形狀。 又本貫施例之粒子狀材料處理裝置1，係舉橫置式者， 惟以g三者亦可，此時將前述皮帶盤2〇3、2〇4惻配置下 方，並將前述外殼3側配置上方。此時被處理物受加壓體5 離心力（作用向上方前述前蓋3〇4側移動後，爲了使其能 順楊向河迷2間區6移動，將前述保持板3〇3與内壁302會 合部（轉角部）加工成彎曲狀等爲宜。 如説明構成之本發明之實施例形態，係將被處理物供給 前述外殼3内’惟本發明之外殼3内設置前述空間區6，被 4汊物供給琢2間區6，無乾式、濕式之區別，又間歇處 理爲當然外亦可提供連續處理之裝置i。 即連續粉碎處理被處理物時，可從運轉中粒子狀材料處 理装直1之前述供料管206，對受前述加壓體5附帶產生之 離心力及加壓體5回旋流影響少之空間區6中心部，連續或 ~ 1 0 - 9 關家標準(CNS)A-l (210 ) -I---.---------裝·-------訂·--------· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 一洽¥智11._)^產局_工消費合作社印製 叫/600 Λ7

,rT Η 社 五、發明說明（8 ) 間歇供給被處理物，該被處理物得均勻供給外殼3内部， 受加壓體5之離心力作用，瞬間均勻分散至内壁3〇2全面。 又間歇處理時拆卸前述前蓋3〇4，從保持板3〇3開口部將被 處理物投入前述空間區6即可，被處理物極易投入，尤其 私置1爲&置者能均勻投入内壁3〇2，被投入之該被處理物 在裝上前述前蓋3〇4後，由前述粒子狀材料處理裝置丨之運 轉目坪間均勻被分散至前述圓筒狀内壁302全面，並由加壓 體5之回旋（攪拌作用），形成沿圓筒狀内壁3〇2面之回旋 流。 如此供給之被處理物，受加壓體5旋轉之離心力作用， 由被加壓於前述圓筒狀内壁302面之加壓體5之壓縮力·剪 歐力粉砰處理。即加壓體5轉動時粉碎環5〇丨受離心力向外 周方向搖動’將粉碎環5〇1外周面壓在圓筒狀内壁3〇2，雖 微少惟邊滑動邊沿前述内壁3〇2做與主旋轉軸2〇丨之旋轉反 万向足旋轉運動。由此内壁3〇2面與粉碎環5〇丨相擦，夾入 此間 < 被處理物，被處理物受粉碎環5 0 1之壓縮力·剪 ‘·:『力等粉砰能而被粉碎。此時由於加壓體5之回旋形成之 」4欢區’形成如述空間區$ ’故被粉碎變小之微粒子因 ’「用於其之離心力亦變小，致通過鄰接加壓體$之間隙及 件環5 0 1之間隙，移動至受加壓體5回旋影響少之空 κ 6 °故在外殼3内由於外殼3内附帶產生之被處理物回 父上與該被處理物之處理狀況作用於各被處理物（各個粉 #)足離心力差之共同作用，保持中心部生成之被處理物 乂 乂汁循環流動狀態，產生被處理物之均句分散與均勻供 丨.---^---------------訂·--------. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

^δ/ουο A? 五、發明說明（9 ) 給粉碎能等平衡良好之最佳循環環境，能對被處理物供給 ^碎％ ：)01又均勻粉碎能。因此能有效活用前述圓筒狀 區，例如裝置丨爲豎立僅由回旋處理時，被處理物亦受由 加壓體5回旋附帶離心力之作用移動至前述前蓋3〇4側，惟 被處理物並不滯留於外殼3内一部分，順暢移動至前述空 間區6 ’可使其重複均勻分散移動至外殼内壁302面全面， 说重·设將粉碎環50 1之粉碎能均勻供給被處理物，以均勻 为政最佳穩定狀態控制被處理物之動態，可獲得適宜之外 說内環境。 炫是明旋轉體4之轉動加上轉動外殼3運轉粒子狀材料處 理裝置1時之旋轉控制方法。此時被處理物在前述均勻分 政Η均勻供給粉碎能之平衡良好之最佳外殼3内環境下’ 更加受到因前述外殼3轉動之離心力作用之共同作用： 以不同旋轉速度向同一方向旋轉控制旋轉體4之轉動與 ⑴述外d j之轉動時’雖依被處理物之物性、處理目的之 不同’例如將前述外殼3之旋轉速度設定於〇.5 m/sec〜1二 nv s e c範圍内，將前述旋轉體4之旋轉速度設定於 m wc〜2 5 m/Sec範圍内，實施將前述旋轉體4之旋轉速度設 七4比前述外殼3之旋轉速度爲高速之旋轉控制。 因此被處理物與旋轉體4之離心力作用一同受外殼3之離 心力作用。故僅爲了被處理物之動態控制（使動態良好）， 择々提鬲旋轉體4之旋轉數至需要以上。更因受同一方向 四把’致被夾進前述内壁3〇2面與粉碎環5〇丨間時，容易防 止玫處理物之錯亂或起浪，或空氣氣泡增多，減少磨潰狀 -12- • I.---Ί I-----jm-裝---- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂丨 # '.^^〗智^.^產局_、工消費合作社印製 τ 、f卜口问囚家標準（CI\’S)A-i規格（210 X 297公釐） ^ / yj\j\j ^ / yj\j\j 凌-¾¾、工消&、合作社irj. A7 ---------B7 —______—— 五、發明說明（1〇 ) 〜此均勻壓緊供給壓縮力·剪斷力之粉碎能之環保。而 ^由ί粒子狀材料處理裝置1爲橫向配置，能以更佳之穩 走狀心乙制被處理物之動態，可將更能均勻分散化之粉碎 環501之粉碎能重複供給被處理物，尤其以濕式處理比重 J之粘或處理量少之粒子狀材料時，亦不致於將被處理 物滯留於外殼3内一部分之情形。 、不同旋轉速度向同一方向旋轉控制前述外殼3之轉 1力入旋#寸組4之轉動之方法，運轉粒子狀材料處理裝置i 時’與上述相反、實施將前述外殼3之旋轉速度設定爲比 钉述捉轉4之旋轉速度爲高速之旋轉控制。此時旋轉體4 又旋轉速度爲，比不旋轉前述外殼3者，以低速旋轉控制 ' * 口此了 ’肖除例如將必要以上粉碎能供給被處理物， 或擾亂被處理物之回旋流等，起因I轉速度過大之問題， 而可保持循環流動狀態。 收上述外奴3與旋轉體4同—方向或反方向之旋轉控制， 4以一疋對應比率分別轉動操作前述外殼3與前述旋轉體4 *以是兩者轉動同步之旋轉控制設定，又對應各種被處 4扨爻物性及處理目的，以〜定記憶機構記憶此等旋轉比 卡、例如可連續實施間歇處理時，在投入被處理物之過 ，泛外殼3與旋轉體4上昇至任音旋轉速度（即相對逯度 ())，在處理過程將旋轉體4變化至任意旋轉速度後，使 兩者同步增減旋轉，在排扭過程減速或停止外殼3之旋 轉’與旋轉體4之（低速）旋轉_同，隨需要由高轉子接頭 之吸力排泄之一連串步驟爲1塊記憶。如此不僅含粉粒 ------Ί3- ;”士 ㈣家鮮（cns)m· (2ΗΓΓ^— -y，公釐） I J . --------訂---------' (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 4^/600

• i局3工消货合作社印製 五、發明說明（11 ) 骨豆材料足粉碎處理，不同2種以上粉粒體材料之混合粉碎 或均勻分散、粉粒體材料與液體之混合分散、或顏料塗料 等於漿狀物質等均勾分散處理、各種粒子狀材料之各種處 理知作，從此等設足選擇任意者即可，可防止操作失誤 等，有效實施穩定之產品調製。 此外構成前述各加壓體5之前述粉碎環5〇丨之配置構造， 因一加壓體5之粉碎環501與其他加壓體5之粉碎環5〇1之回 旋軌迴，分別對前述内壁面3〇2相位狀態分散加壓之構造 表配’故能如前述被處理物（被粉碎成小之微粒子）通過鄰 接加壓體5之間隙及鄰接粉碎環5〇丨之間隙，順利移動至受 加壓體5回旋影響少之空間區6。 而且使各粉碎環5 〇 1之回旋軌道以相位狀態分散加壓之 構造’係以一加壓體5之粉碎環5〇丨加壓之面域與另一加壓 體5足粉碎環50 1加壓之面域之複合加壓關係，形成對前述 内璧面3 02連續之加壓面域。換言之、構成另一加壓體5之 粉砰環’ 0 1必須加壓一加壓體5之粉碎環5 〇丨未加壓之前述 内望面302之構造。故能實施第3圖（a)所示粉碎環501之回 旋執迢與第3圖（b)所示粉碎環5〇1之回旋軌道與第3圖（c)所 士粉坪環5 〇 1之回旋軌道，分別不重疊之有效加壓，如將 此粉碎環5〇 1全部以密接狀配設於一支支軸5〇2，能在圓 向狀内壁3全域由粉碎環5 〇 1進行加壓。又因被處理物能從 前述各粉碎環5〇1、501之間移動於前述空間區6，故豎立 i r6 了使被處理物在容器3内回旋，不必使旋轉體4之 旋轉速度更爲高速將該被處理物移動至上方之必要，能在 __ -14- 木ϋ丨54’卜同同家標準（CNS)A4規格（2】〇 x 297公釐） ϋ· I I H τβ I ϋ ϋ n ϋ I · H ϋ n I ϋ H ϋ 一I n I ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ I - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 487600 A7 B7 五、發明說明（12 W逑外级3内對被處理物有效供粉碎能。 •又汉各加壓體5之粉碎環5〇丨數為丨，構成將其等回旋軌 災相位狀怨分散加壓之構造，或使一加壓體5之粉碎環Μ 1 又厚度il酉己置間㉟各不相同等亦可，又加壓體5之配 亦可任意設定。 &如此被處理之粉粒體材料，連續處理時藉前述高轉子接 項306排泄，間歇處理時拆卸前述排泄用栓（排泄口）如7排 ;世〇 乾式連、續粉砰處理時，藉供氣管205從供給口 20丨連績將 我氣供給空間區6，該載氣隨著加壓體5之回旋於前述 U區6内形成回旋流（渦流）向旋轉軸心方向（前蓋3⑽方向 =動’藉高轉子接頭3〇6經連接於此之前述配管排泄 =。前述被粉碎移動至空間區6之微粒子與前述載氣渦 丨过同被排泄系外，以被連接於前述配管之袋瀘器等氣· +離裝置(省略圖示)與載氣分_ •回收。又隨 飞 々機構亦可。 迷接 叫歇處理時以停止外殼3轉動狀態，僅以 1.、 、 , J 一 m / s e c 以 &逑旋轉前述旋轉體4，自動排泄外殼3内被虑” ^ ‘· ·、亦有因處理後被處理物物性而不易排泄之 „ \ h形，此 。時由外邵吸收排泄，或拆卸前蓋304與保持 1宏 -，、…， 、又3〇3，刮 空 系 流 吸 下 此 情 i:——l·------φ Μ--------訂---------Λφ. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 可 出 工消費合作ΰ,」η}· 各發明為使其能在該圓筒狀區内生成前迷粒子" iJ 反中心’將無前述旋轉軸2〇 1延設等空間區6 才枓 ::Γ迷加喽體5之回旋形成之圓筒狀區，並由 圯成於 之 隨 離 〜丐士闷國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 487600 A? -;s;v,^ru.)^4:局P、工消赀合作社印製 五、發明說明（13 心力作用與外殼3内回旋流保持於 、ft 1亍之循環流重妒令 用之協同作用，以控制粒子狀材料 理，連續處理亦以實施。且不僅間歇處 又因構成使前述外殼3亦可轉動，以不同旋轉速度向同 方向旋轉控制外殼3之轉動與旋轉體4之轉動，即能個別調 整加壓體5與外殼3之各離心力作用，且可將外殼3内粒子 狀材料爲同方向良好之循環流動狀態回旋流控制其動態。 …又此種粒子狀材料處理裝置1爲橫向以單挑狀將前述加 2 支撑於A述旋轉體，隨前述加壓體之回旋形成橫向圓 筒狀區’即可對外殼内壁3Q2面均勾分散粒子狀材料供給 加壓體5離心力作用，且可構成能有效利用隨加壓體5之回 k 成之圓闾狀區，而可形成空間區6。 故即使以乾式或濕式處理外殼3内動態控制困難之粒子 欢材料時’亦不致使該粒子狀材料滯留於外殼3内一部 使其移動至外殼3内壁全面，能以依離心力之加壓體5 \ i!纟泪力或男斷力等能均勻供給，可實旅良好狀恐 < 處 让’以控制粒子狀材料之動態，均勻分散粒子狀材料，並 將加璺體5之壓縮力或剪斷力等能均勻供給該粒子狀材料 (得以平衡之最佳穩定狀態控制，而能達成殼體6内環續 :二 4 ΐ 化。 丨凌業上之可利用性] 浓衣發明，不致使該粒子狀材料滯留於外殼内一部分， 芬動至外殼3内壁全面，能以依離心力之加壓縮力或剪_ 々f能均勻供給，有用於以乾式或濕式處理粒子狀材料。 -1 6 - 闷网家i?icXS)A4規格(210 X 297 ^ «) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 487600 Λ7 B7 -rVv Μ -¾ 五、發明說明（14 圖式之簡單説明: 第1圖係粒子狀材料處理裝置之整體斷面圖。 第2圖係拆卸粒子狀材料處理裝置前蓋狀態惻面圖 第3圖係加壓體之粉碎環配設狀態説明圖。 圖號説明· 1 ...粒子狀材料處理裝置 2 …殼體（Housing) 3 ...外殼（Casing) 4 ...旋轉體 5 ...加壓體 6 ... 2間區 101.. .架台 201.. .主旋轉軸 202.. .副旋轉軸 203、204...皮帶盤 2 0 5 ...供氣管 2 06...供料管 2 0 7 ...軸承蓋 2 0 8 ...軸封部 209.. .螺帽 2 1 0...供給口 21 1、213 ...鑲套 2 1 2、3 0 5 ...螺栓 3 () 1 ...容器 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) # Ιΐ 社 17- V:··:,:::、义家標準（CNS)A4 規格（2]〇χ297 公釐） 487600 Λ7 _ 五、發明說明（15 ) 302.·.圓筒狀（外殼）内壁 303.. .保持板 304.. .前蓋 306.. .高轉子接頭 307· ·.排泄用栓（排泄口） 401.. .支撑板 502.. .支軸 501.. .粉碎環 503.. .滑環 I---·---------------訂·-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 3.)时產局g'工消費合作社印製 8 卜ϋ i 3 $七闷3家標準（Cns)A4規格（21ϋ X 297公Ϊ )

Claims (1)

1. ABCD 1. 一種粒子狀材料處理裝置，其係將被連動連接於旋轉抽 之旋轉體裝於形成於粒子狀材料處理室之外殼内，將保 持一定間隔相對分離之多數加壓體支撐於該旋轉體端緣 側’由前述旋轉體之轉動帶動旋轉前述加壓體加壓外殼 内側面以處理粒子狀材料之構造，其特徵為於前述加壓 體回旋附帶形成之圓筒狀區，形成未延設前述旋轉軸等 之空間區’使其能在該圓筒狀區内生成前述粒子狀材料 之回旋流動中心。 2.如申請專利範圍第1項之粒子狀材料處理裝置，其中將 W述外殼連動連接於旋轉軸使其能轉動構成，並分別個 別旋轉控制前述外殼之轉動與旋轉體之轉動以構成。 3· —種粒子狀材料處理裝置，其係將形成於粒子狀材料處 理室之外殼與被設於該外殼内之旋轉體，分別連動連接 於旋轉軸使其能轉動構成，並將保持一定間隔相對分離 之多數加壓體支撐於該旋轉體端緣側，由前述旋轉體之 轉動帶動旋轉前述加壓體加壓外殼内側面以處理粒子狀 材料之構造，其特徵為以不同旋轉速度向同方向旋轉控 制前述外殼之轉動與旋轉體之轉動以構成。 4·如申請專利範圍第3項之粒子狀材料處理裝置，其中前 述旋轉控制係將前轉體之轉動設定為比前述外殼之 轉動為高速。 : ί i 5·如申請專利範圍第f g項之粒子狀材料處理裝置，其中 隨前述加壓體之回旋爭:成圓筒狀區以構成。 6. —種粒子狀材料處理裝置，其係將形成於粒子狀材料 487600 A8 B8 C8 D8 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 理1：又外殼與被設於該外殼内之旋轉體，分別連動連接 於旋轉軸使其能轉動構成，並將保持一定間隔相對分離 之多數加壓體支撐於該旋轉體端緣側，由前述旋轉體之 轉動帶動旋轉前述加壓體加壓外殼内側面以處理粒子狀 材料之構造’其特徵為使該裝置之旋轉軸心橫向以單挑 狀將前述加壓體支撐於前述旋轉體，隨前述加壓體之回 旋形成橫向圓筒狀區以構成。 7.如申請專利範圍第2項之粒子狀材料處理裝置，其中以 不同旋轉速度向同方向或反方向旋轉控制前述外殼之轉 動與旋轉體之轉動以構成。 8·如申請專利範圍第7項之粒子狀材料處理裝置，其中前 述同方向旋轉控制係將前述旋轉體之轉動設定為比前述 外殼之轉動為高速以構成，而前述反方向旋轉控制係將 月述外殼之轉動設定為比前述旋轉體之轉動為高速以構 成。 9·如申請專利範圍第2至8項中任一項之粒子狀材料處理裝 置’其中前述旋轉控制係將前述外殼之轉動與旋轉體之 轉動以一定對應比率構成可同步旋轉。 10.如申請專利範圍第2至8項中任一項之粒子狀材料處理裝 置’其中前述旋轉控制係預先設定多數前述外殼與前述 旋轉體之旋轉對應比率，具有記憶該設定值之記憶^ 構，構成可對應處理之粒子狀材料選擇前述設定值之構 造。 11·如申請專利範圍第2至8項中任一項之粒子狀材料處理裝 -2- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNs ) A4規格（210 X 297公釐） --- I —J. I II---I 丨 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ’1T 經濟部中夬榡隼局員工消費合作杜印製 A8 B8 ___ C8 __________ D8 六、申請專利範圍 置，其中於前述圓筒狀區，形成未延設前述旋轉軸等之 空間區’使其能在該圓筒狀區内生成前述粒子狀材料之 回旋流動中心。 12·如申請專利範圍第i或2項之粒子狀材料處理裝置，其中 構成使其能由供給路與前述旋轉體對面之外殼側設置之 排泄路，連續供給排泄前述粒子狀材料，且對前述空間 區供給粒子狀材料。 13. 如申請專利範圍第丨2項之粒子狀材料處理裝置，其中將 則述供給路與排泄路配置於前述加壓體之回旋軸心上。 14. 如申請專利範圍第13項之粒子狀材料處理裝置，其中將 岫述粒子狀材料之供給排泄，以構成可開閉之前述旋轉 體對面外殼部，由該開閉體之開閉操作將粒子狀材料供 給前述空間區，並由設於該開閉體之排泄口排泄粒子狀 材料。 15·如申請專利範圍第i至8項中任一項之粒子狀材料處理裝 置’其中設置多數前述加壓體包括：支軸，被支撐於前 述旋轉體；與環體，加壓於前述外殼内壁面被裝配於該 支轴，並將前述環體構成一加壓體之環體與另一加壓體 之環體分別以相位狀態分散加壓於外殼内壁面配設而 成。 16·如申請專利範圍第η項之粒子狀材料處理裝置，其中前 述環體之分散加壓構造，係以一加壓體之環體加壓之面 域與另一加壓體之環體加壓之面域之複合加壓關係，形 成對外殼内壁面連續之加壓面域。 ----3- 本紙張尺度適用中咖家標準（CNS )〜祕（21Qx297公慶） ----Γ-----0-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 487600 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 17.如申請專利範圍第1至8項中任一項之粒子狀材料處理裝 置，其中構成以前述旋轉體側為下側並以該旋轉體對應 之外殼壁面側為上側，豎置前述處理裝置之構造。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印策 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4現格（210 X 297公釐）