TW518423B - Reflection-reducing film - Google Patents
Reflection-reducing film Download PDFInfo
- Publication number
- TW518423B TW518423B TW90105264A TW90105264A TW518423B TW 518423 B TW518423 B TW 518423B TW 90105264 A TW90105264 A TW 90105264A TW 90105264 A TW90105264 A TW 90105264A TW 518423 B TW518423 B TW 518423B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- layer
- reflection film
- refractive index
- surface layer
- weight
- Prior art date
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 191
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 90
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 80
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 239000013522 chelant Substances 0.000 claims abstract description 18
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 27
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 24
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 24
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 20
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 18
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 15
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 12
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 9
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 9
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 claims 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 19
- 239000010408 film Substances 0.000 description 97
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 45
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 33
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 33
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 26
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 13
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 13
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 13
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 12
- 239000002585 base Substances 0.000 description 12
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 10
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 10
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 10
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 8
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 8
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 8
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 8
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 7
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- BPSIOYPQMFLKFR-VIFPVBQESA-N trimethoxy-[3-[[(2r)-oxiran-2-yl]methoxy]propyl]silane Chemical group CO[Si](OC)(OC)CCCOC[C@H]1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-VIFPVBQESA-N 0.000 description 7
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 6
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 6
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 6
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 6
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 4
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DJYUUADABNGYKH-UHFFFAOYSA-N [Ti].C(=C)CC(C)=O.C(=C)CC(C)=O.C(=C)CC(C)=O Chemical compound [Ti].C(=C)CC(C)=O.C(=C)CC(C)=O.C(=C)CC(C)=O DJYUUADABNGYKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K bismuth chloride Chemical compound Cl[Bi](Cl)Cl JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 4
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- BZPVBDKVTPBUHW-UHFFFAOYSA-N n-(2-oxopropyl)butanamide Chemical compound CCCC(=O)NCC(C)=O BZPVBDKVTPBUHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000413 hydrolysate Substances 0.000 description 3
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKDOZOFJAUITTD-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol;toluene Chemical compound CCCO.CC1=CC=CC=C1 OKDOZOFJAUITTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPJGYLSSECYURW-UHFFFAOYSA-K antimony(3+);tribromide Chemical compound Br[Sb](Br)Br RPJGYLSSECYURW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- DAMJCWMGELCIMI-UHFFFAOYSA-N benzyl n-(2-oxopyrrolidin-3-yl)carbamate Chemical compound C=1C=CC=CC=1COC(=O)NC1CCNC1=O DAMJCWMGELCIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N hydroxyl Chemical compound [OH] TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- LABTWGUMFABVFG-UHFFFAOYSA-N methyl propenyl ketone Chemical compound CC=CC(C)=O LABTWGUMFABVFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- JZWFDVDETGFGFC-UHFFFAOYSA-N salacetamide Chemical group CC(=O)NC(=O)C1=CC=CC=C1O JZWFDVDETGFGFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 2,2-diethylpropanedioate Chemical compound CCC(CC)(C([O-])=O)C([O-])=O LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-triallyloxy-1,3,5-triazine Chemical compound C=CCOC1=NC(OCC=C)=NC(OCC=C)=N1 BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUVMSYUGOKEMPX-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-] QUVMSYUGOKEMPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQLZINXFSUDMHM-UHFFFAOYSA-N Acetamidine Chemical compound CC(N)=N OQLZINXFSUDMHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- HGOVZRUEYKOQJE-UHFFFAOYSA-N C(#C)CC(C[Ti])=O Chemical compound C(#C)CC(C[Ti])=O HGOVZRUEYKOQJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSCYONSPQKIINZ-UHFFFAOYSA-N C(#C)CC(C[Zr])=O Chemical compound C(#C)CC(C[Zr])=O OSCYONSPQKIINZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSFJVFJYLFBBTI-UHFFFAOYSA-N C(C1CO1)OCCCC(C)O[Si](OCC)(C)C Chemical compound C(C1CO1)OCCCC(C)O[Si](OCC)(C)C NSFJVFJYLFBBTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUTDCINLIDGMBU-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C34)CC(CCC)=O Chemical compound C1(=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C34)CC(CCC)=O UUTDCINLIDGMBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVEUNABEXZEZMS-UHFFFAOYSA-N CCC(CC)(C1=CC=CC2=C1CC3=CC=CC=C32)C(=O)C Chemical compound CCC(CC)(C1=CC=CC2=C1CC3=CC=CC=C32)C(=O)C MVEUNABEXZEZMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000219112 Cucumis Species 0.000 description 1
- 235000015510 Cucumis melo subsp melo Nutrition 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-M Glycolate Chemical compound OCC([O-])=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- FJJCIZWZNKZHII-UHFFFAOYSA-N [4,6-bis(cyanoamino)-1,3,5-triazin-2-yl]cyanamide Chemical compound N#CNC1=NC(NC#N)=NC(NC#N)=N1 FJJCIZWZNKZHII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQMUEIHTLGKZQO-UHFFFAOYSA-N [Ti].C(C)(=O)CCC Chemical compound [Ti].C(C)(=O)CCC ZQMUEIHTLGKZQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSZVHVUMUSIKTC-UHFFFAOYSA-N acetic acid;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.CC(O)=O KSZVHVUMUSIKTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INNSZZHSFSFSGS-UHFFFAOYSA-N acetic acid;titanium Chemical compound [Ti].CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O INNSZZHSFSFSGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N aldehydo-D-glucose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C=O GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005083 alkoxyalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N aluminium triethoxide Chemical compound CCO[Al](OCC)OCC JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012296 anti-solvent Substances 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N but-2-ene Chemical group CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVFSYZFXJYAPQJ-UHFFFAOYSA-N butyl(oxo)tin Chemical group CCCC[Sn]=O BVFSYZFXJYAPQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 229910000071 diazene Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGUQDUKBUKFFRO-CIIODKQPSA-N dimethylglyoxime Chemical compound O/N=C(/C)\C(\C)=N\O JGUQDUKBUKFFRO-CIIODKQPSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 210000005069 ears Anatomy 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Substances O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIAUFEASXQPCFE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3-xylene Chemical compound O=C.CC1=CC=CC(C)=C1 OIAUFEASXQPCFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPSIAUXDGWYOFJ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;furan Chemical compound O=C.C=1C=COC=1 UPSIAUXDGWYOFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010413 gardening Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000003630 glycyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- YQDVBKMIBJKWOA-UHFFFAOYSA-N hydron;trimethoxy(propyl)silane;chloride Chemical compound Cl.CCC[Si](OC)(OC)OC YQDVBKMIBJKWOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002611 lead compounds Chemical class 0.000 description 1
- OHZZTXYKLXZFSZ-UHFFFAOYSA-I manganese(3+) 5,10,15-tris(1-methylpyridin-1-ium-4-yl)-20-(1-methylpyridin-4-ylidene)porphyrin-22-ide pentachloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Mn+3].C1=CN(C)C=CC1=C1C(C=C2)=NC2=C(C=2C=C[N+](C)=CC=2)C([N-]2)=CC=C2C(C=2C=C[N+](C)=CC=2)=C(C=C2)N=C2C(C=2C=C[N+](C)=CC=2)=C2N=C1C=C2 OHZZTXYKLXZFSZ-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910001509 metal bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N methanol;titanium Chemical compound [Ti].OC.OC.OC.OC ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940031826 phenolate Drugs 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007539 photo-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 239000013535 sea water Substances 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- WEQHQGJDZLDFID-UHFFFAOYSA-J thorium(iv) chloride Chemical compound Cl[Th](Cl)(Cl)Cl WEQHQGJDZLDFID-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBZYKBZMAMTNKW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrabromide Chemical compound Br[Ti](Br)(Br)Br UBZYKBZMAMTNKW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-] WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24628—Nonplanar uniform thickness material
- Y10T428/24669—Aligned or parallel nonplanarities
- Y10T428/24678—Waffle-form
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
- Y10T428/254—Polymeric or resinous material
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/28—Web or sheet containing structurally defined element or component and having an adhesive outermost layer
- Y10T428/2813—Heat or solvent activated or sealable
- Y10T428/2817—Heat sealable
- Y10T428/2826—Synthetic resin or polymer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
518423 A7 _B7_ 五、發明說明(I ) 發明背景 (發明領域) 本發明係有關一種具有優良的抗液體性之防反射膜, 且更特定言之,有關經由在一透光性基材的上表面上形成 的防反射膜以賦予對抗液體例如自來水,汗水等的液體抗 性。 (先前技藝說明) 防反射膜已廣泛地用於儀表盤,而用在諸如CRT, LCD和電漿顯示器中作爲光學顯示表面。彼等防反射膜通 常係經由真空蒸發法,濺鍍法或濕式塗覆法而形成的。 此外也已知有在塑膠基材上形成多層所構成的防反射 膜。例如,日本專利公開第288202/1997號揭示一種防反 射膜,其包括一有透光性質的塑膠基材,一經塗佈在該基 材上的高折射率層,一經施加到該高折材率層上的防反射 層,及一在該防反射膜上形成的塗覆層。在這種防反射膜 中,該高折射率層包括作爲主要成分金屬烷氧化物,膠體 金屬氧化物及/或金屬鹵化物;該防反射層包括非晶態, 具有不大於1.36的折射率(nD)之含氟樹脂,且該塗覆層 包括作爲主成分的有機聚矽氧烷和具有表面活化能力的含 氟物質。此先前技藝提及該防反射膜具有優良的抗磨蝕性 ,抗刮性,黏著性和透光性。 從防反射的觀點來看,已知的防反射膜係令人滿意者 ,但從耐用性且特別者,抗液體性,的觀點來看,仍然不 能令人滿意,且會被其所打算長期使用時的各種液體所破 4 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項¾填寫本頁)
訂---- 祕·. 518423 A7 _ ___B7___ 五、發明說明(/ ) 壞而導致所謂膜剝離現象的發生。 亦即,經防反射膜的第一層(表面層)含有作爲主成 分的二氧化矽(Si02)來滿足硬度要求但其傾向於在與酸或 鹼接觸時會被溶解掉。該防反射膜會被,例如自來水中所 含的次氯酸鈉,汗水中所含的酸或鹼,及海水霧沫中所含 的鈉離子等所腐蝕。 於手機的情況中,於實用中,會發生因爲來自耳朵的 汗水之黏者導致防反射吴容易從液晶顯7^器剝掉之問題。 發明槪述 因此,本發明的一項目的爲提供一種防反射膜,其可 經由在透光性基材上塗佈一多層塗層而容易地形成且其展 現出優良的抗液體性。 本發明的另一目的爲提供一種防反射膜,其具有不眩 目(non-glaring)(防眩目)功能,其能夠只將透射過的影像 有效地模糊化。 本發明的另一項目的爲提供一種防反射膜其具有優良 耐光性特徵且能夠有效地防止該膜在長期使用之後剝離掉 〇 根據本發明,提供一種防反射膜,其係經由塗佈在一 有透光性質的基材之表面上而形成者,且其包括一在該基 材表面上形成的底層與一在該底層的上側之上形成的表面 層,其中: 該底層具有一 50至200毫微米的厚度;且 該表面層係由下面式(I)所表的矽烷化合物之可水解產 5 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項¾填寫本頁)
訂--------- •i·· 518423 A7 B7 ----- 五、發明說明(,) 物:
Rn_Si(x)4_n …-(I) 其中R爲經取代或未經取代的烷基或經取代或未經取 代的烯基’ X爲可水解基,且η爲1或2之數, 一金屬螯形化合物和二氧化矽溶膠所形成者,且具有 50至200毫微米之厚度。 本發明防反射膜包括至少兩層,亦即一在該基材表面 上形成的底層與一在該底層的上側之上形成的表面餍。不 過,可以在該底層與該表面層之間加上一有50至200毫微 米厚度的中間層。 於本發明中,一項特徵在於該表面層含有一上面式⑴ 矽烷化合物的可水解產物及一金屬螯形化合物。如此可以 經由濕式法形成的該防反射膜具有抗液體性。 至此要參照後文所述的實施例。一有包括矽酸乙酯( 四乙氧基矽烷)作爲主要成分的表面層之防反射膜(比較 實施例1)在浸沒於自來水,食鹽水溶液或人造汗水溶液 之中時會溶解掉。 相反地,具有由式(I )化合物水解產物和金屬鉗合化 合物形成的表面層1之防反射膜(實施例1至3)即使得 將彼等浸沒在這些液體中也不會溶解,且展現出顯著優良 的抗液體性。 此外,該表面層具有小折射率,這是一項顯著優良的 性質。 本發明在抗液體上的改良經認爲係源自式(I )砂院化 6 • — — III — — « — — — — — — I— (請先閱讀背面之注意事項髮寫本頁) _ 寫木 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 518423 A7 _B7_ 五、發明說明(牛)
合物(矽烷偶合劑)所具化學構造。亦即,該式(π化合 物具有2至3個鍵結到砂原子的可水解基(X),及1至2個 鍵結到矽原子的有機基(經取代或未經取代院基或嫌基R )〇 當該矽烷偶合劑經水解時,該2至3個可水解基會進 行水解形成二維或三維矽氧烷鍵(siloxane bond)。此處即爲 所認爲的該殘留住的一或兩個有機基(R)及彼等有機基(R) 與該砂氧院鍵之組合助成抗液體性的改良。再者,該金屬 螯形化合物係存在於本發明防反射膜的表面層上因而,於 表面層內導入交聯構造而進一步改良該表面層的抗液體性 〇 再者,矽烷偶合劑中的有機基(R)可改良對中間層或對 底層的黏著或緊密黏著性,改良對於摻合在表面層內的= 氧化矽細微粒子的介面之偶合程度。如此一來,於本發明 中使用矽烷偶合劑形成的該表面層可展現出針對自來水’ 人造汗水溶液與食鹽水溶液的優良抗液體性。 於本發明中,合意者爲該表面層內所含的二氧化矽溶 膠具有低達成或不大於1.44之折射率。在含有平均粒徑爲 5至200毫微米的二氧化矽溶膠之下,特別者,該表面層 所具折射率可以減低到不大於1.44。 於具有經由該表面層與該底層之間加上中間層所形成 的三層構造之防反射膜中,合意者爲該中間層含有金屬院 氧化物,矽烷偶合劑的水解產物及二氧化矽溶膠。 於本發明中,該中間層係由金屬烷氧化物與該矽烷偶 7 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公釐) ϋ «ϋ ϋ n ϋ n n >5^0 μμ a···!··· I 唇 < (請先閱讀背面之注意事項今填寫本頁) 518423 A7 _ _B7 五、發明說明(< ) 合劑的水解產物的形成者。如此一來,中間層展現出增強 的折射率,改良的膜強度及改良的抗液體性。再者,經摻 合著二氧化矽溶膠的中間層展現出對表面層與對中間層的 改良黏著性(黏合力)° 於本發明防反射膜中,合意者爲該表面層具有小於底 層所具者之折射率,例如,具有低到不大於I.44的折射率 。另外於具有中間層的三層構造式防反射膜中’合意者爲 該中間層具有高達不小於1.75的折射率且該底層具有介於 該表面層與該中間層所具折射率之間的折射率。 由於上述諸層所具厚度(每一層具有50至200毫微 米之厚度)所結合的折射率梯度,因而可以同時得到高透 光因數(通常,不小於97%)及低光反射性質(通常,不 大於3% )。 再者,於本發明中,從獲得對基材的優良黏著性及防 止光催化作用的觀點來看,合意者的透過矽烷偶合劑的水 解在基材表面上形成該底層。 另外,於具有包括中間層的三層構造之防反射膜中, 合意者爲將有50至1000毫微米且,特別者,1〇〇至500 毫微米的平均粒徑之細微粒子,予以分散在底層與表面層 之中。具有將細微粒子分散在其中的諸層之防反射膜展現 出優良的不眩目功能,不會使透射過的影像模糊而只將反 射影像有效地模糊,因而可以驚人地改良光學顯示器表面 的觀看容易性。 再者,於有三層構造的防反射膜中,中間層所具折射 8 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) I n n ϋ n n^OJe 1 n .^1 I I I ϋ I (請先閱讀背面之注意事項¾填寫本頁) 0. 518423 A7 ___B7___ 五、發明說明(b ) 率通常可經由將中間層與二氧化鈦(Ti〇2)成分摻合而改良 。不過,根據本案發明人所進行的硏究得知二氧化鈦成分 且,特別者,銳鈦礦型二氧化鈦,會引起防反射膜被光所 破壞。 二氧化鈦且,特別者,銳鈦礦型二氧化鈦常稱爲光學 催化劑或光反應性半導體,在用波長主要爲不長於400毫 微米的紫外線照射之下會形成電子-陽性電洞對而觸發光催 化反應。 若關於此點來說明時,由Ti02所代表的光-半導體金 屬氧化物在其被具有大於其能帶間隙(在價電子能帶與傳 導能帶(conduction band)之間的能量間隙)的能量之光照射 之時,會從價帶子帶敲出電子進入傳導能帶,且在價電子 帶中會形成具有正電荷的粒子(正電洞)。電子(e〇和正電 洞(P+)會部份滲移到氧化物粒子的表面上,電子會參與還 原反應而正電洞則參與氧化反應,如下面諸式所表者, 半導體+ hv->e_ + p+ …-⑴ 2e_+02—02- …_(2) p+ + H20—OH+H+ …-(3) P++OH—OH -…(4) 由上面反應(2)形成的超氧離子(〇2_)及由反應(3)和(4) 形成的羥基根(OH),都展現出強氧化力和功以氧化有機物 質。因此認爲該膜係由於這種氧化作用而劣化。 於實用中,當使用鈦烷氧化物的水解產物來形成防反 射膜中具有高折射率的層。不過,於此處,經由鈦烷氧化 9 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項 寫本頁
ϋ n ϋ ί I I n 一:°JI I ! ϋ I I ϋ _1 I ·% 518423 A7 ___B7_ 五、發明說明(1 ) 物的水解會容易地形成具有大光學活性的銳鈦礦型二氧化 鈦且,除此之外,還認爲鈦烷氧化物的水解產物不會充分 地固化且會促進光學活性。 亦即,當中間層如上文所述與二氧化鈦成分摻合時, 在下側的底層會易於被光學氧化作用所劣化且其結果,使 得該膜易於剝離。於本發明中,底層係插置於中間層與透 明基材之間且實質地不含有機樹脂成分以期遏止底層的光 學氧化且,因此,可以有效地防止膜被光所剝離。 圖式簡單說明 圖1爲闡示根據本發明具有三層構造的防反射膜所具 截面構造之斷面圖; 圖2爲闡示出根據本發明具有二層構造的防反射膜所 具截面構造之斷面圖; 圖3爲闡示出透過實施例2防反射膜的總透光因數分 布之圖解;且 圖4爲闡示出透過實施例2防反射膜的反射因數分布 之圖解。 發明之詳細說服 參照圖1,其中示範出本發明一防反射膜。此防反射 膜包括一透光性塑膠基材及在該基材上形成的三塗覆層: 一厚度爲50至200毫微米的表面層1,一厚度爲50至200 毫微米的中間層2及一厚度爲50至2〇0毫微米的底層3。 該表面層1具有不高於I·44的低折射率,該中間層2具有 不小於1.75的高折射率,且該底層3具有在該表面層1與 10 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -I I I I I I I — — — — — — — — — (請先閱讀背面之注意事項ST填寫本頁) 0. 518423 A7 __B7___ 五、發明說明(f ) 該中間層2所具折射率中間的折射率。 上述防反射膜可不具有該中間層2。參看圖2,其中示 範出本發防反射膜的另一例子’其爲在一基材4上面形成 包括一底層3和一表面層1的兩層。 圖1和2的防反射膜所具諸層厚度和折射率爲使彼等 都落於上述範圍之內且,因而展現出高度透光性質(通常 ,不小於97%)和低光線反射性質(通常,不大於3%) 〇 〔塑膠基材〕 有關塑膠基材1,沒有特別的限制,可以使用聚甲基 丙烯酸甲酯,聚碳酸酯,聚烯丙基二乙二醇碳酸酯 (polyallyl diglycol carbonate),或聚苯乙燦等從光學性質觀 點來看者,且可以使用透明者或用油溶性染料著色過者。 本發明更可以使用經用打底劑(primer)塗覆過的塑膠基材以 改良反射膜與基材之間相容性與黏著劑。 〔塗覆層〕 於本發明中,底層3,中間層2和表面層1係以此順 序形成在透光性基材的表面上。如已說明過者,該中間層 2可視需要予以省略掉。 有關塗覆方法,較佳者係採用浸塗法以容易地形成薄 膜。經塗佈的薄膜通常係在約70至約140°C的溫度下熱處 理且經固定以賦予其靭性。 要施加的組成物及溶劑係經選擇成使底下的底層1不 會在施加中間層2之時被溶解或破壞且使得底下的中間層 11 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項巧填寫本頁) 寫太 0. 518423 A7 ______B7___ 五、發明說明(1 ) 2或底層1不會在施加表面層之時被溶解或破壞。 〔底層〕 底層3係經稱爲中間折射率層者且,根據本發明,具 有一通常爲50至200毫微米及,特別者,60至90毫微米 ,的厚度。 若更有需要時,該底層3具有一通常在1.60至1.75 之間折射率。 該底層3應該含有膠體金屬氧化物以完成該中間折射 率。有關金屬氧化物溶膠,其例子可爲二氧化鈦溶膠(二 氧化鈦溶膠),氧化鋁溶膠,氧化锆溶膠,和氧化銻溶膠 。不過,於彼等之中,從調整折射率,在有機溶劑中的分 散性,塗覆溶液的安定性及對塑膠基材的黏著性等觀點來 看,合意者爲使用二氧化鈦溶膠。該底層3更含有黏合劑 用以將細微粒子黏合及固著在被分散狀態。有關該黏合劑 ,其例子除了所謂的有機樹脂之外,可爲例如,上文提及 的式(I )矽烷偶合劑,其能夠壓制因光學活性所引起的二 氧化鈦劣化,且其中特別者爲環氧基矽烷偶合劑;不過’ 該黏合劑並沒有限制。經由使用環氧基矽烷偶合劑固化的 塗覆層更可達成在形成中間層2或表面層1之時賦予對抗 溶劑的優良抗性之優點。 有關環氧基矽烷偶合劑,可以使用有下面式(Π)者’ CH2-CH-CH2-0-R-Si(0R1)3 (Π ) \/ 其中R爲伸烷基,且R1爲烷基或烷氧基烷基。其一 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ϋ n I n ϋ n n^ov t n ϋ 1 ϋ 1 ϋ Λ— I (請先閱讀背面之注意事項C填寫本頁) _ 讎· 518423 A7 __B7____ 五、發明說明(/0 ) 代表性例子爲r -縮水甘油氧基丙基三甲氧基砂院(τ _ glycidoxypropyltrimethoxysilane) 〇 爲了加速該矽烷偶合劑的水解,可以使用礦酸例如乙 酸或鹽酸的稀水溶液。 此外,如同表面層1者,底層3可以含有金屬螯形化 合物’藉此將交聯構造導到底層3之內以展現出優良的黏 著性’抗溶劑及膜強度。摻合量較佳者爲以固體成分爲基 準之〇至20重量%。 另外,於本發明中,宜於將底層3摻合平均粒徑爲50 至1000毫微米且,特別者,100至500毫微米之細微粒子 。經由將底層3與表面層1摻合有此等粒徑的細微粒子, 該防反射膜展現出增強的不眩目功能,可以有效地只模糊 被反射的影像,而不會模糊透射過的影像。任何種類的細 微粒子都可以使用而沒有限制,只要彼等都具有優良的透 明性即可。不過,從耐光性的觀點來看,宜於使用無機細 微粒子。另外’從容易取得性,化學安定性和膜硬度等觀 點來看,特別較佳者爲二氧化矽溶膠。細微粒子的摻合量 較佳者係在以固體成分爲基準的0.01至10重量%。 可以使用有機溶劑作爲形成底層所用塗覆組成物所用 的溶劑。該有機溶劑可與膠體金屬氧化物或黏合劑相容, 且對其沒有特別的限制。有關溶劑,可以使用醇,酮,酯 或芳烴。具體例子爲甲醇,丙醇,甲基乙基酮,甲基異丁 基酮,乙酸異丁酯和甲苯。 經由使用彼等溶劑,將總固體成分的濃度調整到總重 13 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) 一 , — lllli I 訂· — II--— II (請先閱讀背面之注意事項^寫本頁) 邇 518423 A7 ____Β7___ 五、發明說明(i丨) 量的0.1至20重量%。 對於底層3的組成沒有特別限制,只要其含有呈經穩 定分散狀態的上述金屬氧化物細微粒子且可形成密實均勻 塗層即可。不過,從不眩目功能的觀點來看,一般而言, 底層3的組成中含有以固體成分爲基準其量爲20至9〇重 量%的金屬氧化物細微粒子及其量爲10至80重量%的黏 合劑(矽烷偶合劑),且含有在上述範圍內(0.01至1〇重 量%)的有上述粒徑之細微粒子。 具有上述組成的底層3實質地不包含有機樹脂成分且 ,因而,展現出不論後文要說明的中間層2所具組成爲何 即具有之優良耐光性。例如,即使該中間層2含有二氧化 鈦成分,該底層3也可以有效地防止被光學劣化,有效地 消除如膜剝離掉之不方便性。 (中間層) 中間層2係配置在底下層(底層)與表面層之間者, 且稱爲高折射率層。根據本發明,該中間層係經形成爲通 常維持50至200毫微米且,特別較佳者50至90毫微米之 厚度。 合意者,該中間層2要具有通常在1.75至2.30範圍 內之折射率。含有二氧化矽溶膠的中間層2展現出改良的 對表面層1之黏著性。 合意者,該中間層2含有金屬烷氧化物,其本身會進 行水解而形成金屬氧化物且,除此之外,會形成密實膜。 合意者,該金屬烷氧化物係用下面的式(瓜)表出者, 14 1^張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) '' > ϋ mB§ ϋ ϋ n I n 一·^t i_i ϋ ϋ n ϋ ϋ I m (請先閱讀背面之注意事項"填寫本頁) 518423 A7 __B7__ 五、發明說明(\V) M(OR)m ----(ΙΠ ) 其中M爲金屬,R爲有1至5個碳原子的烴基,且m 爲金屬Μ的原子價(3或4)。 金屬Μ的較佳例子包括鈦,鋁,鉻和錫,且,特別者 爲鈦。 金屬烷氧化物的具體例子包括甲氧化鈦,乙氧化鈦, 正丙氧化鈦,異丙氧化鈦,正丁氧化鈦,異丁氧化鈦,乙 氧化鋁,異丙氧化鋁,丁氧化鋁,第三丁氧化鋁,第三丁 氧化錫,乙氧化锆,正丙氧化锆,異丙氧化锆及正丁氧化 锆。 中間層2可含有金屬鹵化物以期增加折射率。有關金 屬鹵化物,可以使用金屬氯化物或金屬溴化物。更具體而 言,可以使用三氯化銻,四氯化鍩,三氯化鉍,四溴化鈦 ,四氯化鍺,三溴化銻,和五氯化鉅。從高折射率,在有 機溶劑內的分散及塗覆溶液的穩定性等觀點來看,宜於使 用三氯化銻,三氯化鉍或三溴化銻。 該中間層2可以更含有熱固性樹脂作爲黏合劑。有關 熱固性樹脂,其例子可爲酚-甲醛樹脂,呋喃-甲醛樹脂, 二甲苯-甲醛樹脂,酮-甲醛樹脂,尿素甲醛樹脂,三聚氰 胺-甲醛樹脂,醇酸樹脂,不飽和聚酯樹脂,環氧樹脂,雙 順丁烯二醯亞胺樹脂,三烯丙基三聚氰酸酯樹脂,熱固性 丙烯酸系樹脂,矽酮樹脂和胺基甲酸酯樹脂。這些樹脂可 用其中單一種或其中兩種或更多種的組合來使用。上述用 爲黏合劑的熱固性樹脂具有展現出對光學活性所引起的氧 15 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項¾填寫本頁) 寫太 訂--------- ·· 518423 A7 ___^___ 五、發明說明(A ) 化作用之抗拒性之優點。 再者,其中可包含矽烷偶合劑以改良在黏合劑與水解 形成的金屬氧化物之間的介面處之黏著性。 有關矽烷偶合劑,可以使用由上述式(· T所表者或由 下面式(IV)所表者,
Rn_Si(OR )4-n ----(IV) 其中η爲烷基,胺烷基或烯基,R1爲烷基或烷氧基烷 基,且η爲1至3的數,例如甲基三甲氧基矽烷或乙烯基 三甲氧基矽烷。 即使對於形成中間層2所用的塗覆組成物也可以使用 有機溶劑作爲其溶劑。有機溶劑的種類及塗覆溶液的濃度 都和對於底層3所述者相同。 對於中間層2的組成沒有特別限制,只要其含有上述 諸成分,呈穩定狀態且形成密實且均勻的膜即可。不過, 一般而言,該中間層2含有以固體成分爲基準其量爲50至γ 90重量%之金屬烷氧化物,其量爲5至50重量%的金屬 鹵化物,其量爲0至20重量%的黏合劑,其量爲0.0001 至20重量%的矽烷偶合劑及其量爲0至20重量%的二氧 化矽溶膠。 (表面層) 表面層1爲一低折射率層,其根據本發明係經形成爲 保有通常爲50至200毫微米,且特別較佳者,70至110 毫微米之厚度。 合意者,該表面層1具有通常爲1.29至1.44之折射 16 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -^1 _1 ϋ n I n n 一-ov « n ϋ n n I n I · (請先閱讀背面之注意事項¾填寫本頁) 寫太 518423 A7 ___B7_ _____ 一 五、發明說明) 率。 該表面層1含有’作爲黏合劑的矽烷偶合劑其本身可 進行水解而形成具有抗酸性,抗鹼性及抗電解質性之砂質 膜。 有關矽烷偶合劑’可以使用上文提及的式(I )所表化 合物
Rn_Si(X)4-n -…(I) 其中R爲經取代或未經取代的烷基或經取代或未經取 代的烯基,X爲可水解基,且η爲1或2之數。 有關R基,可以使用烷基例如甲基,乙基或丙基,或 烯基例如乙儲基。該院基或烯基可含有鹵素原子取代基例 如氯,或官能基例如氫硫基,胺基,(甲基)丙烯醯基或 含環氧乙烷環之基。 有關可水解基(X),其例子可爲烷氧基、烷氧基烷氧基 、醯氧基和鹵素原子。 其具體例子包括乙烯基三氯矽烷、乙烯基三(Θ-甲氧 基乙氧基)矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽 烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基三甲 氧基矽烷、τ_縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、0-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、縮水甘油氧基丙基 甲基二乙氧基矽烷、T_胺基丙基三乙氧基矽烷、安基 丙基甲基二甲氧基矽烷、N-(/3-胺基乙基_胺基丙基三 甲氧基矽烷、苯胺基丙基三甲氧基矽烷、T_(N_苯乙烯 基甲基胺基乙基胺基)丙基三甲氧基矽烷鹽酸鹽、7-氯 17 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS〉A4規石(210 X 297公董) -ϋ 1 i ϋ— n -ϋ n I I n ϋ ·ϋ II ϋ I · (請先閱讀背面之注意事項巧填寫本頁) 寫士 518423 A7 ____B7_ 五、發明說明(6) 丙基三甲氧基矽烷、r-氫硫基丙基三甲氧基矽烷、甲基三 甲氧基矽烷、甲基三氯矽烷、和二甲基二氯矽烷。 爲了減低表面層1的折射率及增加表面層1的膜強度 ,合意者爲該表面層含有具有低折射率的二氧化矽溶膠且 ,特別者,具有不大於1.44的折射率及5至200毫微米的 粒徑之有內部腔洞的二氧化矽溶膠。 該表面層更含有金屬螯形化合物以期增加密度、強度 和硬度。 有關該金屬螯形化合物,可以使用含有二配位基的鈦 、锆、鋁、錫、鈮、鉬、或鉛之化合物。二配位基爲具有 配位數2之螯形合劑,亦即,具有配位在金屬中的兩個原 子且通常形成能夠與〇、N或S原子構成5-至7-員環之螯 形化合物。 二配位基的例子包括乙醯丙酮基、乙基乙醯丙酮基、 二乙基丙二酸根基、二苯甲醯基甲酸根基、柳酸根基、乙 醇酸根基、兒茶酚基、柳醛基、氧乙醯苯基、雙酚根基、 焦袂康酸根基(pyromeconato)、氧萘醌基、氧憩醌基、草酚 酮根基(tropolonato)、binokitilato、甘胺酸根基、araninato 、琶酮根基(anthroninato)、D比陡甲酸根基(picolinato)、胺 基酚根基、乙醇胺根基、氫硫基乙胺根基、8-氧喹啉根基 、柳醛亞胺根基(salicylaldiminato)、苯甲脂根基 (benzoynoxymato)、柳醛目弓根基(salicylaldoxymato)、氧基 苯根基、苯基偶氮萘酸根基(phenylazonaphtholato)、冷-亞 硝基-α-萘甲酸根基、重氮胺基苯根基、縮脲根基、二苯 18 I 1 ϋ n n n n n^OJβ ϋ .Li ϋ ·1 ϋ ϋ 1 (請先閱讀背面之注意事項^填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 518423 A7 ______Β7____ 五、發明說明(士) 基卡腙根基、二苯基硫卡腙根基、雙胍根基(biguanidato) 和二甲基乙二肟根基,不過,對於二配位基並沒有限制。 較佳的金屬螯形化合物係由式(V)所表者, M(Li)k(X)m-k ----(V) 其中Μ爲欽、銷、銘、錫、妮、組、或給,Li爲一配 位基,X爲單價基且,較佳者爲,可水解基,m爲金屬M 的價數、且k爲在金屬m所具價數範圍內不小於1之數。 具體而言,可以使用下列諸化合物。 鈦螯形化合物爲例如二乙氧基·一(乙_基丙酮基 (acetonato)鈦、三正丙氧基·一(乙醯丙酮基)鈦、三異丙氧 基·一(乙醯丙酮基)鈦、三正丁氧基·一(乙醯丙酮基)鈦、 三第二丁氧基·一(乙醯丙酮基)鈦、三第三丁氧基·—(乙 醯丙酮基)鈦、二乙氧基·雙(乙醯丙酮基)鈦、二正丙氧基 •雙(乙醯丙酮基)鈦、二異丙氧基·雙(乙醯丙酮基)飲、二 正丁氧基·雙(乙醯丙酮基)鈦、二第二丁氧基·雙(乙醯丙 酮基)鈦、二第三丁氧基·雙(乙醯丙酮基)鈦、一乙氧基· 三(乙醯基丙酮基)鈦、一正丙氧基·三(乙醯基丙酮基)鈦、 一異丙氧基·三(乙醯基丙酮基)鈦、一正丁氧基·三(乙_ 基丙酮基)鈦、一第二丁氧基·三(乙醯基丙酮基)鈦、一第 三正丁氧基·三(乙醯基丙酮基)鈦、四(乙醯基丙酮基)鈦、 三乙氧基·一(乙基乙醯基丙酮基)鈦、三正丙氧基·—(乙 基乙醯丙酮基)鈦、三異丙氧基·一(乙基乙醯丙酮基)鈦、 三正丁氧基·一(乙基乙醯丙酮基)鈦、三第二丁氧基._( 乙基乙醯丙酮基)鈦、三第三丁氧基·一(乙基乙醯丙酮基) 19 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項¾填寫本頁) 寫太 -1^ ·1111111 β. 518423 A7 _B7_ 五、發明說明() 鈦、二乙氧基·雙(乙基乙醯丙酮基)鈦、二正丙氧基·雙( 乙基乙醯丙酮基)鈦、二異丙氧基·雙(乙基乙醯丙酮基)鈦 、二正丁氧基·雙(乙基乙醯丙酮基)鈦、二第二丁氧基· 雙(乙基乙醯丙酮基)鈦、二第三丁氧基·雙(乙基乙醯丙酮 基)鈦、一乙氧基·三(乙醯基丙酮基)鈦、一正丙氧基·三( 乙醯基丙酮基)鈦、一異丙氧基·三(乙醯基丙酮基)鈦、一 正丁氧基·三(乙醯基丙酮基)鈦、一第二丁氧基·三(乙醯 基丙酮基)鈦、一第三正丁氧基·三(乙醯基丙酮基)鈦、四( 乙醯基丙酮基)鈦、一(乙醯丙酮基)三(乙醯基丙酮基)鈦、 雙(乙醯丙酮基)雙(乙醯基丙酮基)鈦和三(乙醯丙酮基)一(乙 醯基丙酮基)鈦;以及三乙氧基·一(乙醯基丙酮基)锆、三 正丙氧基·一(乙醯丙酮基)锆、三異丙氧基·一(乙醯丙酮 基)锆、三正丁氧基·一(乙醯丙酮基)锆、三第二丁氧基· 一(乙醯丙酮基)锆、三第三丁氧基·一(乙醯丙酮基)鍩、二 乙氧基·雙(乙醯丙酮基)锆、二正丙氧基·雙(乙醯丙酮基) 锆、二異丙氧基·雙(乙醯丙酮基)锆、二正丁氧基·雙(乙 醯丙酮基)锆、二第二丁氧基·雙(乙醯丙酮基)锆、二第三 丁氧基·雙(乙醯丙酮基)锆、一乙氧基·三(乙醯基丙酮基) 锆、一正丙氧基·三(乙醯基丙酮基)锆、一異丙氧基·三( 乙醯基丙酮基)锆、一正丁氧基·三(乙醯基丙酮基)锆、一 第二丁氧基·三(乙醯基丙酮基)锆、一第三正丁氧基·三( 乙醯基丙酮基)锆、四(乙醯基丙酮基)锆、三乙氧基·一(乙 基乙醯基丙酮基)锆、三正丙氧基·一(乙基乙醯丙酮基)锆 、三異丙氧基·一(乙基乙醯丙酮基)锆、三正丁氧基·一( 20 —— — — — — II *1111111 (請先閱讀背面之注意事項,填寫本頁) ·· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 518423 A7 _____Β7_ 五、發明說明(d ) 乙基乙醯丙酮基)锆、三第二丁氧基·一(乙基乙醯丙酮基) 锆、三第三丁氧基·一(乙基乙醯丙酮基)銷、二乙氧基· 雙(乙基乙醯丙酮基)銷、二正丙氧基·雙(乙基乙醯丙酮基) 锆、二異丙氧基·雙(乙基乙醯丙酮基)銷、二正丁氧基· 雙(乙基乙醯丙酮基)銷、二第二丁氧基·雙(乙基乙醯丙酮 基)锆、二第三丁氧基·雙(乙基乙醯丙酮基)銷、一乙氧基 •三(乙醯基丙酮基)锆、一正丙氧基·三(乙醯基丙酮基)锆 、一異丙氧基·三(乙醯基丙酮基)銷、一正丁氧基·三(乙 醯基丙酮基)銷、一第二丁氧基·三(乙醯基丙酮基)锆、一 第三正丁氧基·三(乙醯基丙酮基)銷、四(乙醯基丙酮基)锆 、一(乙醯丙酮基)三(乙醯基丙酮基)锆、雙(乙醯丙酮基)雙( 乙醯基丙酮基)銷和三(乙醯丙酮基)一(乙醯基丙酮基)锆; 以及二乙氧基·一(乙醯基丙酮基)鋁、一乙氧基·雙(乙醯 基丙酮基)鋁、二異丙氧基·一(乙醯基丙酮基)鋁、一異丙 氧基·雙(乙醯基丙酮基)鋁、一異丙氧基·雙(乙基乙醯基 丙酮基)鋁、一乙氧基·雙(乙基乙醯基丙酮基)鋁、二乙氧 基·一(乙醯基丙酮基)鋁與二異丙氧基·一(乙醯基丙酮基) 鋁。 即使是形成表面層1所用的塗覆組成物也可以使用有 機溶劑作爲溶劑。有機溶劑的類別和塗覆溶液的濃度相同 於參照底層3所說明者。 對於表面層1的組成沒有特別的限制只要其含有上述 諸成分呈穩定狀態且形成密實且均勻的膜即可。不過,一 般而言,合意者,該表面層1的組成含有以固體成分爲基 21 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) W I ϋ n n ϋ n l 一 I I I n ϋ 1 I (請先閱讀背面之注意事項,填寫本頁) 寫士 _· 518423 A7 _______B7__ 五、發明說明(J) 準其量爲30至95重量%的矽烷偶合劑,其量爲5至60重 量%的具有低折射率之二氧化矽溶膠粒子,及其量爲〇·1 至20重量%的金屬螯形化合物。 另外,於本發明中,合意者該表面層1也摻合著具有 50至1000毫微米,且,特別者,1〇〇至500毫微米的平均 粒徑之細微粒子,如上文對底層3所述者。在底層3與表 面層1都摻合著具有此等粒徑的細微粒子之下,該防反射 膜展現出增強的不眩目功能且可以有效地只將反射影像模 糊而不會使透射影像模糊。任何種類的細微粒子都可以使 用,只要彼等具有優良的透明性即可,如參照底層3所說 明過者。較佳者爲使用無機粒子,特別是二氧化矽溶膠作 爲該細微粒子。於上文所提用來調整折射率的具有低折射 率之二氧化矽溶膠中,可以使用平均粒徑落於上述範圍內 的細微粒子。爲了增強不眩目功能,合意者爲摻合入以固 體成分爲基準其量爲0.01至10重量%的該等細微粒子。 (塗覆操作) 爲了形成本發明防反射膜,重要者爲將具有濕潤性質 的塗覆組成物施加到要塗覆的表面上且要儘可能防止諸層 之間的溶解所引起及溶劑所引起的影響以將光學性質保持 在良好的水平。 下面要附加地說明者爲可保持此種關係且用於諸實施 例中的組成物。 首先’底層1的塗覆組成物所用的溶劑合意者爲醇, 其展現出對塑膠基材4的可濕潤性且具有可使溶膠分散在 22 尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱~ (請先閱讀背面之注意事項^填寫本頁)
訂--------- 518423 A7 ___ B7____ 五、發明說明(,) 其內的範圍內之相當小的溶解性質。 更合意者,底層1中的黏合劑具有三維的密集且堅硬 之構造,使其不會被中間層2或表面層1的塗覆組成物所 影響。於此意義中,合意者爲使用環氧矽烷偶合劑。 中間層2的塗覆組成物應該不會不利地影響到已形成 的底層1,且所形成的中間層2不會被底層1的塗覆組成 物所影響。 從鬆驰對底層3和表面層1的應力和震動之觀點來看 ,合意者爲對中間層2使用可固化樹脂黏合劑。該樹脂黏 合劑會進一步鬆驰由表面層1的塗覆組成物中所含溶劑引 起的不良效應。 經由考慮耐用性,抗污染性等之下,呈最後形成的膜 狀態之表面層1塗覆組成物主要是由含有很少有機成分的 無機物質所構成,如同底層1 一般。 就表面層1主要是由無機物質所形成之事實而言且在 考慮對中間層2的濕潤性之下,表面層丨的塗覆組成物係 使用醇溶劑例如丙醇作爲溶劑。 本發明防反射膜不只限於具有上文提及的層構造者。 例如’一般而言,合意者爲在塑膠基材4與底層3之 間更加裝一底塗層(undercoated layer)。有關該底塗層,可 以使用熱固型塗覆層或用紫外線或電子束固化的類型之塗 覆層。 熱固型塗覆層爲砂酮類型,異氰酸酯類型或環氧類型 者。另一方面,可用紫外線或電子束固化的類型之塗覆層 23 本紙張尺度適用中國國家標準“S)A4規格(210 X 297""^--- I -^1 ϋ ϋ n I n n · ϋ 1 ϋ ϋ ai-i ϋ ϋ I (請先閱讀背面之注意事項,填寫本頁) 寫太 518423 A7 _________ 五、發明說明(W ) 可爲胺基甲酸酯丙烯酸酯類型,環氧丙烯酸酯類型或經共 聚合的丙烯酸酯類型。 此外,可以形成覆蓋塗層以保護表面層1。有關該覆 蓋塗層,其例子可爲有機基聚矽氧烷材料或含氟樹脂塗覆 層以賦予抗磨蝕性及抗刮擦性。 有關聚矽氧烷塗覆層,其例子爲在側鏈上具有矽烷醇 基,烷氧基,乙醯基,苯基,聚醚基或全烷基的甲基聚矽 氧烷或二甲基聚矽氧烷。 有關含氟樹脂,可以使用全氟非晶態含氟樹脂及,特 別者,在側鏈上具有環氧構造的全氟非晶態含氟樹脂。 在透光性塑膠基材4的背面上可以形成一黏著劑層。 有關該黏著劑,可以使用丙烯酸類型,橡膠類型或矽酮類 型中之一者。 〔實施例〕 至此,要藉由實施例更詳細地說明本發明,不過本發 明不受限於彼等實施例。 於諸實施例中,係根據下文所述方法進行測量。 (1) 總透光因數: 總透光因數係使用Nippon Bunko Co·所製的檢驗儀V-550,在750至400毫微米波長範圍內以1000毫微米/分 的掃描速率測量的。 (2) 反射因數: 反射因數也是使用上述檢驗儀在類似條件下測量。 (3) 抗液體性: 24 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ' (請先閱讀背面之注意事項«填寫本頁)
訂--------- 讎· 518423 A7 ____ΕΓ__ 五、發明說明(/ ) 抗液體性係以下文所述方式檢驗。將防反射膜在室溫 下浸在下列檢驗液體中19至72小時:自來水,鹼性和酸 性人造汗水溶液及含有5重量%食鹽的食鹽水溶液。從浸 漬後該等防反射膜的表面所呈狀況,以下面基準評估其抗 性: 〇:在膜的表面狀態上沒有察覺有變化。 △:察覺出膜有溶解痕跡。 X:膜有顯著地溶解。 (4)觀看光學顯示器表面的容易性 Φ觀看透射光的容易性 將該反射膜黏貼在個人電腦的CRT表面上,並根據下 列基準評估觀看圖像的容易性: 1·圖像的生動性與黏貼防反射膜之前者相同。 2·與黏貼防反射膜之前者比較之下,圖像看起來稍白 且稍微模糊。 3·與黏貼防反射膜之前者比較之下,圖像看起來泛白 且模糊。 ②眩目性 將樣品防反射膜黏貼在個人電腦的CRT表面上,並在 其背面放置一玻璃板以根據下述基準評估表面是否變得眩 巨。 1·反射影像模糊得使其幾乎不能用肉眼辨識。 2·反射影像稍微可辨識。 3·反射影像淸楚地可辨識。 25 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -— — — — III ^ « — — — — III — (請先閱讀背面之注意事項¾填寫本頁) 518423 A7 _B7_ *—·— .........丨丨丨 丨 ———! " 丨丨 __ 丨一 ' 五、發明說明(力) (5)耐光性: 耐光性係經由進行下列黏著檢驗予以評估: 檢驗機器: Suga Shikenki Co·所製造的
Ultraviolet-ray Long-Life Fadometer, U48_B(H)。 檢驗內容物:溫度,63°C ±3°C (空盤溫度(blank panel temperature)) 濕度: 正常溫度 照射時間: 400小時 在上述諸條件下照射過的檢驗樣品係經由正交聯帶檢 驗(cross-cut tape testing)就黏著性予以評估。亦即,將樣 品的表面分割保留1毫米間隙而形成各具一毫米邊長的 100個方格。接著,將賽珞粉(cellophane)黏著膠帶用力壓 貼於其上面並沿180度方向一次地從表面剝開,再計算殘 留方格數目作爲黏著指數。 〔實施例1〕 於厚度爲2毫米的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)板上面 依下面的順序塗覆兩層以製備兩層式防反射膜。 底層(80毫微米厚度): 製備具有下列組成的塗覆溶液。 環氧矽烷偶合劑(r-縮水甘油氧基 丙基三甲氧基矽烷) 2.5重量。/〇 26 I 1 1 ϋ n n I n^OJ« ϋ ϋ ·ϋ n ϋ n I I <請先閱讀背面之注意事項^填寫本頁) 寫太 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 518423 A7 B7 五、發明說明(4 ) 乙酸 氧化鈦溶膠(Ti〇2溶膠) 鈦螯合物 丙醇 0.6重量% 2.5重量% 0.05重量% 94.35重量% 將該PMMA浸於上述溶液中,並在100°C下熱處理 120分鐘而形成保有80毫微米厚度之底層。 表面層(100毫微米厚度): 製備具有下列組成的塗覆溶液。 環氧矽烷偶合劑(r-縮水甘油氧基 丙基三甲氧基矽烷) 乙酸 50毫微米Si02溶膠(nD=1.34) 鈦螯合物 丙醇 註:nD意指折射率 將其上面已形成底層的該PMMA浸於上述溶液中,並 在100°C下熱處理120分鐘而形成保有1〇〇毫微米厚度之 表面層。 〔實施例2〕 於厚度爲2毫米的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)板上面 27 1.5重量% 0.2重量% 0.9重量% 0.1重量% 97.3重量% (請先閱讀背面之注意事項兩填寫本頁)
— — — — — — — — — ·. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 518423 A7 B7 五、發明說明(yS ) 依下面的順序塗覆三層以製備三層式防反射膜 底層(80毫微米厚度): 製備具有下列組成的塗覆溶液。 環氧矽烷偶合劑(r-縮水甘油氧基 丙基三甲氧基矽烷) 乙酸 二氧化鈦溶膠(Ti02溶膠) 鋁螯合物 丙醇 2.5重量% 0.6重量% 2.5重量% 0.05重量% 94.35重量% 將該PMMA浸於上述溶液中,並在10CTC下熱處理 120分鐘而形成保有80毫微米厚度之底層。 中間層(72毫微米厚度): 製備具有下列組成的塗覆溶液。 四異丙氧化鈦 氯化鉍 環氧矽烷偶合劑(r-縮水甘油氧基 丙基三甲氧基矽烷) 乙酸 si〇2溶膠 丙醇 7.4重量% 1.6重量% 0.006重量% 0.001 重量。/〇 0.4重量% 90.593 重量% I I I n I n n )_OJ· n ϋ ϋ I I an ·ϋ I (請先閱讀背面之注意事項¾填寫本頁) 寫女 28 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 518423 A7 ------21--- 五、發明說明(J) 將其上面已形成底層的該PMMA浸於上述溶液中,並 在100°c下熱處理120分鐘而形成保有72毫微米厚度之中 間層。 袠面層(100毫微米厚度): 製備具有下列組成的塗覆溶液。 環氧矽烷偶合劑(r-縮水甘油氧基 丙基三甲氧基矽烷) 1.5重量% 乙酸 1.2重量% 50毫微米Si02溶膠(nD=1.34) 0·9重量% 鈦螯合物 0.007重量% 丙醇 96.39重量% 將其上面已形成底層和中間層的ΡΜΜΑ浸於上述溶液 中,並在100°C下熱處理120分鐘而形成保有1〇〇毫微米 厚度之表面層。 〔實施例3〕 於厚度爲2毫米的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)板上面 依下面的順序塗覆三層以製備三層式防反射膜。 底層(80毫微米厚度): 29 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項¾填寫本頁) 寫太 _銳 ·. 518423 A7 B7 五、發明說明(>Ί ) 製備具有下列組成的塗覆溶液。 環氧矽烷偶合劑(r-縮水甘油氧基 丙基三甲氧基矽烷) 乙酸 二氧化鈦溶膠(Ti02溶膠) 丙醇 1.9重量% 0.4重量% 2.4重量% 95.3重量% 將該PMMA浸於上述溶液中,並在l〇〇°C下熱處理 120分鐘而形成保有80毫微米厚度之底層。 中間層(72毫微米厚度): 製備具有下列組成的塗覆溶液。 四異丙氧化鈦 氯化鉬 三聚氰胺-甲醛樹脂 甲苯 丙醇 7.4重量% 1.6重量% 0.4重量% 40.9重量% 49.7重量% 將其上面已形成底層的該PMMA浸於上述溶液中,並 在l〇〇°C下熱處理120分鐘而形成保有72毫微米厚度之中 間層。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -tmaf 1 1 n n —Bi i 一:OJt a·· I I mhb I m·· m·· <請先閱讀背面之注意事項^填寫本頁) 寫士 518423 A7 B7 五、發明說明(J ) 表面層(100毫微米厚度): 製備具有下列組成的塗覆溶液。 環氧砂院偶合劑(θ -(3,4-環氧基環 己基)乙基三甲氧基矽烷) 3.6重量% 乙酸 3.1重量% 50毫微米Si02溶膠(nD=1.34) 0.9重量% 鈦螯合物 0.2重量% 丙醇 92.2重量% 將其上面已形成底層和中間層的PMMA浸於上述溶液 中,並在l〇〇°C下熱處理120分鐘而形成保有1〇〇毫微米 厚度之表面層。 表1顯示出實施例1和2所得防反射膜所測得之抗液 體性結果。圖3和4顯示出所得防反射膜測得的光線透射 因數與反射因數之結果。 〔比較實施例1〕 於厚度爲2毫米的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)板上面 依下面的順序塗覆三層。 底層(80毫微米厚度): 製備具有下列組成的塗覆溶液。 31 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) I ^1 1 -ϋ n n n n 一:I .1 n (請先閱讀背面之注意事項耳填寫本頁) 寫太 %· 518423 A7 B7 五、發明說明( 環氧矽烷偶合劑(r-縮水甘油氧基 丙基三甲氧基矽烷) 乙酸 二氧化鈦溶膠(Ti02溶膠) 丙醇 1.95重量% 0.45重量% 2.40重量% 95.20重量% 將該PMMA浸於上述溶液中,並在100°C下熱處理 120分鐘而形成保有80毫微米厚度之底層。 中間層(72毫微米厚度): 製備具有下列組成的塗覆溶液。 四異丙氧化鈦 氯化銻 甲基異丁基酮 丙醇 甲基三甲氧基矽烷 正丁基化三聚氰胺樹脂 7.49重量% 1.69重量% 40.93重量% 49.38重量% 0.08重量% 0.43重量% 將其上面已形成底層的該PMMA浸於上述溶液中,並 在l〇〇°C下熱處理120分鐘而形成保有72毫微米厚度之中 間層。 表面層(100毫微米厚度广· 32 (請先閱讀背面之注意事項,填寫本頁) 寫太
-ϋ n n n n I 一棒OJI n ϋ I 1 el an I m 0. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 518423 4.42重量% 4.20重量% 0.28重量% 90.99重量% 0.01重量% 項 寫女 A7 B7 I、發明說明U。) 製備具有下列組成的塗覆溶液 矽酸乙酯(四乙氧基矽烷) 乙酸 垣氧砂院偶合劑(7"-縮水甘油氧基 丙基三甲氧基矽烷) 丙醇 300 毫微米 Si02 溶膠(nD=1.34) 將其上面已形成底層和中間層的PMMA浸於上述涪液 中,並在100°C下熱處理120分鐘而形成保有1〇〇毫微米 厚度之表面層。 表1顯示出上面比較實施例1所得防反射膜所測得之 抗液體性結果。 ^1 ^1 ϋ 1 n n n I n ϋ ϋ n I ϋ ϋ I (請先閱讀背面之注意事項却填寫本頁) _· 實施例1 實施例2 實施例3 比較實施例1 自來水 19小時 〇 〇 〇 Δ 28小時 〇 〇 〇 X 48小時 〇 〇 〇 72小時 〇 〇 〇 人造鹼性汗水 19小時 〇 〇 〇 X 28小時 〇 〇 〇 膜失去 33 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 518423 五、發明說明(Μ ) A7 _B7 48小時 〇 〇 〇 72小時 〇 〇 〇 人造酸性汗水 19小時 〇 〇 〇 〇 28小時 〇 〇 〇 Δ 48小時 〇 〇 〇 X 72小時 〇 〇 〇 膜失去 含5重量°/〇食鹽 的NaCl溶液 19小時 〇 〇 〇 X 28小時 〇 〇 〇 膜失去 48小時 〇 〇 〇 72小時 〇 〇 〇 〔實施例4〕 於厚度爲2毫米的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)板上面 依下面的順序塗覆三層以製備三層式防反射膜。 底層(80毫微米厚度): 製備具有下列組成的塗覆溶液。 環氧矽烷偶合劑(r-縮水甘油氧基 丙基三甲氧基矽烷) 1.950重量% 0.05N HC1 0.450 重量% 34 ·ϋ I ϋ n n n n J,J· n ·ϋ an n n ϋ ϋ I ^ i (請先閱讀背面之注意事項翔填寫本頁) 寫太 »· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 518423 A7 B7 2.400重量% (固體成分) 95.189 重量% 0.011重量% 五、發明說明(β) 二氧化鈦溶膠(Ti02溶膠) 丙醇 300毫微米Si02溶膠 將該PMMA浸於上述溶液中,並在100X:下熱處理 120分鐘而形成保有80毫微米厚度之底層。 中間層(72毫微米厚度): 製備具有下列組成的塗覆溶液。 (請先閱讀背面之注意事項翔填寫本頁)
四異丙氧化鈦 氯化鉍 甲苯 丙醇 甲基三甲氧基矽烷(矽烷偶合劑) 正丁基化三聚氰胺樹脂 7.492重量% 1.692重量% 40.925 重量% 49.375 重量% 0.083重量% 0.350重量% « — — — — — — I — ^ _· 將其上面已形成底層的該PMMA浸於上述溶液中,並 在l〇〇°C下熱處理120分鐘而形成保有72毫微米厚度之中 間層。 表面層(100毫微米厚度): 製備具有下列組成的塗覆溶液。 35 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 518423 A7 __Β7 五、發明說明(v)) 環氧矽烷偶合劑(r-縮水甘油氧基 丙基三甲氧基矽烷) 4.667重量% 0.05N HC1 4.175重量% 50毫微米Si02溶膠(nD=1.34) 0.750 Mm% 丙醇 (固體成分) 90.369 重量% 300毫微米Si02溶膠 0.011重量% (固體成分) (請先閱讀背面之注意事項兩填寫本頁)
訂· -------- 將其上面已形成底層和中間層的PMMA浸於上述溶液 中,並在100°C下熱處理120分鐘而形成保有100毫微米 厚度之表面層。 對如此所得防反射膜評估其觀看透射光的容易性而得 1之結果並且更評估其眩目性而得1之結果。 〔實施例5〕 以如實施例4之相同方式製備防反射膜但將底層與表 面層中所用的具有300毫微米粒徑之Si02溶膠改換成具有 120毫微米粒徑之Si02溶膠,且將添加量改成分別爲 0.0022重量%(底層)和0.0024重量%(表面層)。 對如此所得防反射膜評估其觀看透射光的容易性而得 1之結果並且更評估其刺目性而得1之結果。不過,有關 其光線透射性質和防反射性質,實施例5的防反射膜比實 36 "" _ — .__ — .___- ---------- ---------- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 518423 A7 _B7__ 五、發明說明(h) 施例4的防反射膜較爲優良。 〔實施例6〕 以如實施例4之相同方式製備防反射膜但將底層所用 的具有300毫微米粒徑之Si02溶膠之添加量改成爲0.0022 重量%並將表面層所用的具有300毫微米粒徑之Si02溶膠 改換成具有120毫微米粒徑之Si02溶膠且將其量改爲 0.0024 重量%。 對如此所得防反射膜評估其觀看透射光的容易性而得 1之結果並且更評估其眩目性而得1之結果。不過,有關 其光線透射性質和防反射性質,實施例6的防反射膜比實 施例4的防反射膜較爲優良。 〔實施例7〕 以如實施例4之相同方式製備防反射膜但使用聚碳酸 酯板(PC)取代PMMA板。 所得結果與實施例4相同。 〔實施例8〕 &如實施例5之相同方式製備防反射膜但使用聚碳酸 酯板(PC)取代PMMA板。 所得結果與實施例5相同。 〔實施例9〕 37 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 x 297公釐) -B— H ϋ n n n n^-OJ« ϋ ϋ 1 (請先閱讀背面之注意事項Θ填寫本頁) 寫太 518423 A7 _____B7 五、發明說明(< ) 以如實施例6之相同方式製備防反射膜但使用聚碳酸 酯板(PC)取代PMMA板。 所得結果與實施例6相同。 〔比較實施例2〕 經由在已於其一表面上形成粗糙性的PMMA的兩側面 上蒸發防反射片材而製備呈單一構造之防反射膜。 對如此所得防反射膜評估其觀看透射光的容易性而得 3之結果並且更評估其眩目性而得3之結果。 表2顯示出實施例4至6與比較實施例2中所得防反 射板對於波長550毫微米的光線之光透射因數與混濁度 (haze)之値。 表2 實施例4實施例5實施例6比較實施例2 透光因數(%) 94.2 99.2 98.6 88.4 混濁度 2.18 0.13 0.34 8.77 〔實施例1〇〕 於厚度爲2毫米的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)板上面 依下面的順序塗覆三層以製備三層式防反射膜。 底層(80毫微米厚度): 製備具有下列組成的塗覆溶液。 38 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) I ^1 ·ϋ ϋ n ϋ n n^OJβ ϋ 1 ·1 (請先閱讀背面之注意事項期填寫本頁) 518423 A7 B7 五、發明說明( 環氧矽烷偶合劑(r-縮水甘油氧基 丙基三甲氧基矽烷) 0.05 N HC1 二氧化鈦溶膠(Ti〇2溶膠) 丙醇 1.950重量% 0.450重量% 2.400重量% (固體成分) 95.200 重量% 將該PMMA浸於上述溶液中,並在l〇(TC下熱處理 120分鐘而形成保有80毫微米厚度之底層。 中間層(72毫微米厚度): 製備具有下列組成的塗覆溶液。 四異丙氧化鈦 氯化鉍 甲苯 丙醇 甲基三甲氧基矽烷(矽烷偶合劑) 正丁基化三聚氰胺樹脂 7.492重量% 1.692重量% 40.925 重量% 49.375 重量% 0.083重量% 0.433重量% 將其上面已形成底層的該PMMA浸於上述溶液中,並 在100°C下熱處理120分鐘而形成保有72毫微米厚度之中 間層。 39 (請先閱讀背面之注意事項#|填寫本頁) Λ 訂— 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 518423 五、發明說明(νΊ) 表面層(1〇〇毫微米厚度): 製備具有下列組成的塗覆溶液。 環氧砂院偶合劑(^ -縮水甘油氧基 丙基三甲氧基矽烷) 0.05Ν HC1 丙醇 120 毫微米 Si02 溶膠(nD=1.34) A7 B7 4.698重量% 4.202重量% 90.989 重量% 0.011重量% (固體成分) 將其上面已形成底層和中間層的PMMA浸於上述溶液 中,並在l〇〇°C下熱處理120分鐘而形成保有1〇〇毫微米 厚度之表面層。 對如此所得防反射膜利用黏著檢驗評估其耐光性。 100方格中殘留方格數爲100(100/100),由此可知該防反射 膜具有優良的耐光性。 〔實施例11〕 以如實施例10之相同方式製備防反射膜但將實施例 10所含諸層的塗料配方依下面所述方式予以更改。 底層(80毫微米厚度): 環氧矽烷偶合劑(r-縮水甘油氧基 丙基三甲氧基矽烷) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1.150 重量°/〇 I a-—· n I n emm§ immm n w 、· am aaiM I I I 1 t# (請先閱讀背面之注意事項#(填寫本頁) 寫士 518423 A7 B7 五、發明說明( 0.05 N HC1 二氧化鈦溶膠(Ti〇2溶膠) 丙醇 0.27重量% 3.2重量% (固體成分) 95.38重量% 中間層(72毫微米厚度): 四丁氧化鈦 氯化銻 甲苯 丙醇 甲基三甲氧基矽烷(矽烷偶合劑) 正丁基化三聚氰胺樹脂 7.14重量% 1.61重量% 41.15重量% 49.64重量% 0.11重量% 0.35重量% (請先閱讀背面之注意事項#(填寫本頁)
表面層(100毫微米厚度): 環氧矽烷偶合劑(r-縮水甘油氧基 丙基三甲氧基矽烷) 0.05 N HC1 120 毫微米 Si02 溶膠(nD=1.34) 丙醇 4.12重量% 3.68重量% 1.24重量% (固體成分) 90.96重量% 對如此所得防反射膜利用黏著檢驗評估其耐光性 41 -ϋ ϋ n -ϋ ·ϋ n 一-OJI n I ϋ ϋ I ϋ ϋ (·. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公釐) 518423 A7 B7 五、發明說明(3 ) 100方格中殘留方格數爲100(100/100),由此可知該防反射 膜相實施例10所得防反射膜一般具有優良的耐光性。 [符號說明] 1 2 3 4 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 表面層 中間層 底層 基材 42 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
Claims (1)
- A8B8C8D8 518423 六、申請專利範圍 1·一種防反射膜,其係經由塗佈在一有透光性質的基 材之表面上而形成者,且其包括一在該基材表面上形成的 底層與一在該底層的上側之上形成的表面層,其中: 該底層具有一 50至200毫微米的厚度;且 該表面層係由下面式(I)所表的矽烷化合物之可水解產 物: Rn-Si(X)“ ……(I) 其中R爲經取代或未經取代的烷基或經取代或未經取 代的烯基,X爲可水解基,且η爲1或2之數, 及一金屬螯形化合物和二氧化矽溶膠所形成者,且具 有50至200毫微米之厚度。 2-如申請專利範圍第1項之防反射膜,其中在該表面 層中的二氧化矽溶膠之折射率爲1.29〜1.44。 3. 如申請專利範圍第2項之防反射膜,其中在該低折 射率層中的二氧化矽溶膠具有一內部腔及5至200毫微米 之粒徑。 4. 如申請專利範圍第1項之防反射膜,其中在該金屬 螯形化合物爲含有二配位基的鈦、锆、鋁、錫、鈮、鉬、 或鉛之化合物。 5. 如申請專利範圍第1項之防反射膜,其中在該表面 層之折射率爲1.29〜1·44,且該底層具有大於該表面層所具 者之折射率。 6. 如申請專利範圍第1項之防反射膜,其中在該底層 與該表面層之間裝有一有50至200毫微米的厚度之中間層 _ 1 ^紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) : " (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 518423 - 彳(年月曰修正/更士./補戈Γ D8 六、申請專利範圍 0 (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) 7. 如申請專利範圍第6項之防反射膜,其中該中間層 之折射率大於該表面層之折射率,且該底層具有一在該表 面層與該中間層所具折射率之中間的折射率。 8. 如申請專利範圍第7項之防反射膜,其中該表面層 之折射率爲1.29〜1.44,且該中間層之折射率爲1.75〜2.30 〇 9. 如申請專利範圍第6項之防反射膜,其中該中間層 含有金屬烷氧化物、矽烷偶合劑的水解產物和二氧化矽溶 膠。 10. 如申請專利範圍第7項之防反射膜,其中該細微粒 子具有50至1000毫微米之平均粒徑,且係經分散在該表 面層與該底層之內者。 11. 如申請專利範圍第10項之防反射膜,其中該細微 粒子爲二氧化矽溶膠粒子。 12. 如申請專利範圍第6項之防反射膜,其中該中間層 含有二氧化鈦成分,且該底層實質地不含有機樹脂成分。 13. 如申請專利範圍第12項之防反射膜,其中該底層 含有矽烷偶合劑的水解產物作爲黏合劑。 2 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000062621 | 2000-03-07 | ||
| JP2000308275 | 2000-10-06 | ||
| JP2001019097A JP2002221602A (ja) | 2001-01-26 | 2001-01-26 | 耐液性に優れた反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW518423B true TW518423B (en) | 2003-01-21 |
Family
ID=27342601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW90105264A TW518423B (en) | 2000-03-07 | 2001-03-07 | Reflection-reducing film |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6620493B2 (zh) |
| KR (1) | KR100676405B1 (zh) |
| TW (1) | TW518423B (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102574735A (zh) * | 2009-10-20 | 2012-07-11 | 福美化学工业株式会社 | 生产防反射强化玻璃的方法 |
| CN103842856A (zh) * | 2011-08-01 | 2014-06-04 | 福美化学工业株式会社 | 防反射膜和防反射板 |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7125926B2 (en) * | 2001-03-21 | 2006-10-24 | Daikin Industries, Ltd. | Surface treatment agent comprising inorganic-organic hybrid material |
| JP4069369B2 (ja) | 2002-09-25 | 2008-04-02 | 信越化学工業株式会社 | 反射防止膜及び反射防止膜の製造方法 |
| JP2005212745A (ja) * | 2004-02-02 | 2005-08-11 | Toyota Motor Corp | レーダ装置ビーム経路内用成形品 |
| US20050208230A1 (en) * | 2004-03-16 | 2005-09-22 | Fuji Photo Film, Co., Ltd. | Antireflection film, production process of the same, polarizing plate and image displaying apparatus |
| FR2909187B1 (fr) | 2006-11-23 | 2009-01-02 | Essilor Int | Article d'optique comportant un revetement anti-abrasion et anti-rayures bicouche, et procede de fabrication |
| US20090181256A1 (en) * | 2008-01-14 | 2009-07-16 | Guardian Industries Corp. | Methods of making silica-titania coatings, and products containing the same |
| WO2013061428A1 (ja) | 2011-10-26 | 2013-05-02 | フクビ化学工業株式会社 | 透明樹脂基板 |
| JP5976523B2 (ja) | 2011-12-28 | 2016-08-23 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
| JP6382800B2 (ja) | 2012-05-29 | 2018-08-29 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ポリマー発泡体及び中間体を含む吸収性物品 |
| EP2674450A1 (en) | 2012-06-11 | 2013-12-18 | 3M Innovative Properties Company | Nanosilica coating for retarding dew formation |
| JPWO2014034720A1 (ja) | 2012-08-31 | 2016-08-08 | 日本電気硝子株式会社 | 防眩・反射防止部材及びその製造方法 |
| JP5976575B2 (ja) * | 2012-08-31 | 2016-08-23 | 富士フイルム株式会社 | 低屈折率膜形成用硬化性組成物、光学部材セットの製造方法及び硬化性組成物の製造方法 |
| WO2016117474A1 (ja) | 2015-01-20 | 2016-07-28 | 旭硝子株式会社 | 化学強化ガラス及び化学強化ガラスの製造方法 |
| EP3359207A4 (en) | 2015-10-05 | 2019-05-08 | 3M Innovative Properties Company | ABSORBENT ARTICLE WITH A FLEXIBLE POLYMER FOAM AND INTERMEDIATE PRODUCTS |
| PL3617165T3 (pl) * | 2017-04-27 | 2022-08-22 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Powlekane warstewką niskorefleksyjną przezroczyste podłoże, urządzenie do konwersji fotoelektrycznej, ciecz powlekająca do tworzenia warstewki niskorefleksyjnej na powlekanym warstewką niskorefleksyjną przezroczystym podłożu oraz sposób wytwarzania powlekanego warstewką niskorefleksyjną przezroczystego podłoża |
| CN107540243A (zh) * | 2017-09-27 | 2018-01-05 | 广东星弛光电科技有限公司 | 一种兼具防眩光和减反射玻璃的制作工艺 |
| FR3075093B1 (fr) * | 2017-12-18 | 2019-12-20 | Saint-Gobain Glass France | Article comprenant un revetement fonctionnel et une couche de protection temporaire en resine polyfuranique |
| JP7457645B2 (ja) * | 2018-03-09 | 2024-03-28 | 株式会社有沢製作所 | 積層体及びその製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1293655C (en) * | 1985-04-30 | 1991-12-31 | Takashi Taniguchi | Anti-reflection optical article and process for preparation thereof |
| WO1998029352A1 (en) * | 1996-12-25 | 1998-07-09 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Thin film for optics, composition for the formation thereof, and ultraviolet-absorbing and heat-reflecting glass made by using the same |
| US6210858B1 (en) * | 1997-04-04 | 2001-04-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anti-reflection film and display device using the same |
| US6129980A (en) * | 1997-07-11 | 2000-10-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anti-reflection film and display device having the same |
| US6051665A (en) * | 1998-05-20 | 2000-04-18 | Jsr Corporation | Coating composition |
-
2001
- 2001-03-06 US US09/798,933 patent/US6620493B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-07 TW TW90105264A patent/TW518423B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-03-07 KR KR1020010011783A patent/KR100676405B1/ko not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102574735A (zh) * | 2009-10-20 | 2012-07-11 | 福美化学工业株式会社 | 生产防反射强化玻璃的方法 |
| CN103842856A (zh) * | 2011-08-01 | 2014-06-04 | 福美化学工业株式会社 | 防反射膜和防反射板 |
| CN103842856B (zh) * | 2011-08-01 | 2015-12-02 | 福美化学工业株式会社 | 防反射膜和防反射板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20010031317A1 (en) | 2001-10-18 |
| KR20010089191A (ko) | 2001-09-29 |
| KR100676405B1 (ko) | 2007-01-31 |
| US6620493B2 (en) | 2003-09-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW518423B (en) | Reflection-reducing film | |
| TWI618735B (zh) | 低折射層及包含彼之抗反射膜 | |
| CN108431639B (zh) | 抗反射膜 | |
| CN113272136A (zh) | 防反射构件、以及具备该防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品 | |
| CN104023977B (zh) | 透明树脂基板 | |
| CN103842856B (zh) | 防反射膜和防反射板 | |
| US20100271699A1 (en) | Coating composition for antireflection and antireflection film prepared by using the same | |
| JP2005181543A (ja) | 反射防止フィルム | |
| JPWO2004070436A1 (ja) | 低反射処理物品の製造方法、低反射層形成用溶液および低反射処理物品 | |
| KR20120067990A (ko) | 반사 방지 부재 및 그 제조 방법 | |
| CN115570910B (zh) | 转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体 | |
| JP2011136490A (ja) | ハードコート膜付基材およびハードコート膜形成用塗布液 | |
| JP2009160755A (ja) | 透明被膜付基材 | |
| JP2010271479A (ja) | 光学製品及び眼鏡プラスチックレンズ | |
| JP2002221602A (ja) | 耐液性に優れた反射防止膜 | |
| CN108780163B (zh) | 层叠体、层叠体的制造方法及防反射膜的制造方法 | |
| JP2013136222A (ja) | ハードコート膜付基材および該ハードコート膜形成用塗布液 | |
| JP5703619B2 (ja) | 塗料組成物、及びそれを用いた反射防止部材の製造方法 | |
| KR20180120189A (ko) | 적층 필름 | |
| JP4253447B2 (ja) | 耐久性を有する反射防止膜 | |
| JP6152630B2 (ja) | 光学フィルム | |
| JP2005181545A (ja) | 反射防止フィルム | |
| JP5577865B2 (ja) | 防曇性レンズ | |
| JP2016071157A (ja) | 低屈折率膜形成用組成物、低屈折率膜および低屈折率膜付きフィルム並びにタッチパネル | |
| JP2008185956A (ja) | 反射防止膜および反射防止膜付き透明基材 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
| MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |