TWD123706S1 - 電漿處理裝置用微波導入天線 - Google Patents

電漿處理裝置用微波導入天線

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TWD123706S1
TWD123706S1 TW096303319F TW96303319F TWD123706S1 TW D123706 S1 TWD123706 S1 TW D123706S1 TW 096303319 F TW096303319 F TW 096303319F TW 96303319 F TW96303319 F TW 96303319F TW D123706 S1 TWD123706 S1 TW D123706S1
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antenna
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slot
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plasma
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山下潤
田才忠
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東京威力科創股份有限公司
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Abstract

【物品用途】;本創作的物品是一種電漿處理裝置用微波導入天線,其用途主要是利用電漿對半導基板進行氧化膜、氮化膜及、氮氧化膜的形成、蝕刻以及成膜的電漿處理裝置用的微波導入用天線。;【創作特點】;本物品係為一圓盤狀的縫隙天線;該縫隙天線係形成有複數個貫通表面,且呈一對(一組)L字狀的縫隙(開口部);該縫隙是在外側同心圓狀地以外側與中心側的縫隙數為3:1,且等間隔的圖案形成兩列(兩層);使用時,如使用狀態參考圖所示,藉由未圖示的高頻電源所產生的微波,通過導波管,傳送到天線部,天線部是由:遲波板與縫隙天線所形成;微波係傳播經遲波板,且透過本物品(縫隙天線)的縫隙,於頂板的表面形成共振區域(表面波形成區域);其結果,微波會均勻地自該縫隙被導入到真空室內,在真空室內產生穩定且均勻的電漿;藉此對半導體基板施行電漿處理;綜上所述,本創作確為一理想美觀之設計。
TW096303319F 2006-12-15 2007-06-14 電漿處理裝置用微波導入天線 TWD123706S1 (zh)

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