TWI233377B - Continuous coating apparatus - Google Patents

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TWI233377B
TWI233377B TW092108367A TW92108367A TWI233377B TW I233377 B TWI233377 B TW I233377B TW 092108367 A TW092108367 A TW 092108367A TW 92108367 A TW92108367 A TW 92108367A TW I233377 B TWI233377 B TW I233377B
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Applied Films Gmbh & Co Kg
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
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Description

1233377 玖、發明說明 ........ (發明說明應敘明··發明所屬之技術領域、先前技術、內容、實施方式及圖式簡單說明) 發明所屬之技術頜域 本發明涉及一種直通式塗層設備，其多個各別之處理 室須依序配置，使其中一處理室之具有出入口之壁鄰接於 相鄰之處理室之同樣具有一出入口之壁且該二個出入口藉 由一配置在該二壁之間之密封件而向外密封著。
先前技術
此種直通式塗層設備例如是一種濺鍍設備且過去通常 是用來在基板上產生多個層封包。目前該設備具有超過30 個相鄰配置之處理室且總長超過1 0 0米。各處理室之正側 之各壁中之各出入口用來使基板由一處理室被輸送至另一 處理室。爲了使各處理室相對於大氣壓力而被密封，則目 前在各別處理室之各壁之間須分別配置一圍繞該出入口之 密封件，以便在各處理室之各壁連接之後形成一完整之真 空密封式整体設備。 在上述之直通式塗層設備中缺點是：爲了在相鄰之處 理室之各壁之間更換各別之密封件，則需較大之耗費。例 如，若在此種設備之中央區中有一密封件未密封，則所有 連接於前面之處理室須由一側來拆除，以便可到達該有缺 陷之密封件。這在大的設備中會造成數星期之生產停頓， 此種密封件之未密封狀態因此會使經濟上蒙受重大損失。 發明內容 1233377 本發明之目的是提供一種上述形式之直通式塗層設備 ，使配置在各別處理室之間之密封件可儘可能快速且簡易 地被更換。 本發明中上述目的以下述方式達成：各出入口之一是 設置在密封部件中，該密封部件由相同側分別以第一支撐 面支撐在一處理室之壁上且以第二支撐面相對於相鄰處理 室之壁而支撐著，且在該二個支撐面和其支撐所用之壁之 間分別設有一環形之密封件，其緊靠各別之支撐面和壁。 上述之各密封部件可在其所密封之處理室未被隔開之 情況下被拆除，這是因爲其並非配置在各處理室之間而是 配置在處理室內部，因此在解開該固定各密封部件所用之 固定件之後各密封部件可由各別之壁而移動至該處理室之 內部方向中。各密封部件因此可由各別之處理室中移除而 更換各別之密封件。 若密封部件以環形板構成且其中一支撐面由密封部件 之正側所形成以及另一支撐面由密封部件之步級所形成時 ，則此種形式之密封部件特別簡單。 在本發明之另一形式中，若該密封部件在其二個支撐 面之每一面中分別具有0 -環之環形槽作爲密封件，則各密 封件可方便地在處理室外部進行拆解或安裝。各密封件因 此不需安裝在各處理室之壁中。反之，容易操控之各密封 部件可設有密封件。 若該密封部件以其由步級所形成之支撐面緊靠在一承 載面上，則該密封部件可齊平地配置在其所處之處理室之 1233377 若該密封部件由不銹鋼所構成，則整体設備可由成本 低之材料（例如，結構鋼）所製成。因此只須在良好之表面 特性持續地出現之處使用昂貴之材料即可。 本發明可有多種不同之實施形式。本發明以下將依據 圖式來描述。
第1圖顯示一種直通式塗層設備中二個處理室1，2之 二個相鄰之區域，其分別以壁3，4來相連。出入口 5由處 理室1連通至壁4中之出入口 6，使處理室丨，2可藉由出 入口 5，6而互相連接。各出入口 5，6可使未顯示之基板 由其中一處理室1或2輸送至另一處理室2或1。
爲了使二個壁3 ’ 4之間不會形成一種由二個處理室1 或2至大氣之連接，則處理室1中須設有一環形之密封部 件7。由於該步級8，則該密封部件7須具有二個指向同側 之支撐面9，10，其分別具有一槽11，12，槽中存在一以 0 -環構成之密封件1 3，1 4。壁3在密封部件7之區域中具 有一凹口 1 5而形成一承載面1 5。該密封部件7以其支撐 面9而緊靠該壁3之承載面16且同時以其支撐面10而緊 靠該壁4。該密封部件7在該位置中由螺栓1 7所固定，各 螺栓1 7分別經由壁4之鑽孔1 8且栓入壁3之螺紋孔1 9中 。密封件1 4因此位於鑽孔1 8及螺紋孔1 9之外部，使該處 理室2之大氣不會經由鑽孔1 8及各壁3，4之間之區域而 向外形成一種連接。該密封件1 3可防止該處理室1從旁向 外連接至密封環7之外側上，密封件1 4則除了經由鑽孔1 8 1233377 之連接之外可防止一經由出入口 5，6之向外至大氣之連接 〇 第1圖又顯示一活門閥2 0，其在劃線條之位置中藉由 一閉鎖元件21來封閉該出入口 5。該閉鎖元件21以一密 封環22而緊靠該密封部件7之平坦之密封面23。 圖式簡單說明 第1圖本發明中該直通式塗層設備之主要區域之切面 圖。

Claims (1)

  1. ¢2^3377 . 1合、'申請專利範圍 第92 1 08 3 6 7號「直通式塗層設備」專利案 (9 2年1 2月修正） 1. 一種直通式塗層設備，其具有多個分開之處理室（1，2 ) 各處理室須依序配置使其中一處理室U)之具有出入口（5) 之壁（3)鄰接於相鄰之處理室（2)之同樣具有一出入口（6) 之壁（4)且該二個出入口（5，6)藉由一配置在該二壁（3， 4 )之間之密封件而向外密封著，其特徵爲：該出入口（ 5 ) 設在一密封部件（7 )中，該密封部件（7 )由相同側以第一 支撐面（9)而支撐在其中一處理室（1)之壁（3)上且同時以 第二支撐面（10)而支撐在相鄰之處理室（2)之壁（4)上’ 在該二個支撐面（9，10)及支撐其之各壁（3，4)之間分別 設有一緊靠各支撐面（9，1 0 )及各壁（3，4 )之環形密封件 (13， 14)° 缉 2.如申請專利範圍第1項之直通式塗層設備，其中該密封 、·:f 部件（7)以環形板構成且其中一支撐面（1〇)由該密封部件 % ( 7 )之正側所構成且另一支撐面（9 )由該密封部件（7 )之步 i 級（8 )所形成。 修3.如申請專利範圍第1或2項之直通式塗層設備，其中該 正 ¥ 密封部件（7 )在其二個支撐面（9，1 0 )之每一支撐面中分 否 ^ 別具有一環形槽（1 1 ’ 1 2 )’其以〇 -環作爲密封件（1 3，1 4 ) 更 Μ 。 w 4.如申請專利範圍第1或2項之直通式塗層設備，其中該 工裙謂操貝 y ·· "*-**- m (7 )以其由步級（8 )所形成之支撐面（9 )而緊靠在 承載面（1 6 )上，該承載面（1 6 )由凹口（ 1 5 )而形成在容納 該密封部件（7 )所用之處理室之壁（3 )中。 5.如申請專利範圍第1項之直通式塗層設備’其中該密封 部件（7)藉由螺栓（17)而固定在壁（3，4)上且與具有該密 封部件（7 )之處理室（1 )相鄰接之該處理室（2 )之壁（4 )中 之這些螺栓（17)由另一處理室（1)之由一密封件（14)(其 緊靠相鄰之處理室）所圍繞之區域內部導引至該密封部件 (7)之螺紋孔（19)中。
    6.如申請專利範圍第1或5項之直通式塗層設備，其中該 密封部件（7 )與各螺栓（1 7 )(其由相鄰之處理室（2 )向內連 通至該密封部件（7 )中）一起形成該二個相鄰之處理室（1 ，2 )所用之連接件。
    7. 如申請專利範圍第1項之直通式塗層設備，其中該密封 部件（7 )在其所在之處理室（1 )中是一圍繞該出入口（ 5 )所 用之密封面（2 3 )以用於一配置在該處理室（1 )中之活門閥 (2 0 )(其用來使該出入口（ 5 )封閉）之閉鎖元件（2 1 )中。 8. 如申請專利範圍第 7項之直通式塗層設備，其中該密封 部件（7 )由不銹鋼構成。 ~2 -
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