TWI258024B - Method for sequential UV-writing fiber Bragg grating by real-time interferometric side-diffraction position monitoring - Google Patents
Method for sequential UV-writing fiber Bragg grating by real-time interferometric side-diffraction position monitoring Download PDFInfo
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Description
Ί258024 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明關於新的製造布拉格光纖光柵的方法，其可增加 製造長度較長且複雜的光纖光柵結構時的準確性，特別是對 於具有複雜的折射率變化形狀以及任意相位移結構之布拉 . 格光纖光柵而言係一種很重要的光通訊元件。 本發明可應用在密波長分波多工系統（DWDM )內對窄 頻濾波器的需求，以及相位移布拉格光纖光柵在DFB雷射 1系統中。 【先前技術】 近年來很多製造長度較長且結構複雜的光纖光柵的方 法持續被提出，包含移動光纖掃瞄光束法，以及連續寫入法 。在使用這兩種方法執行紫外光寫入時，都需要使用到氦氖 雷射干涉儀來追蹤光纖之位置。然而，在製造長度較長的光 纖光柵時，因爲干涉儀的干涉條紋的漂移以及對光柵週期估 計的不準確，造成在曝照時光纖位置產生累積性誤差，因而 對製程之影響甚鉅。 例如，中華民國專利第43 4,43 1號曾揭示一種用於波導 上寫入任意折射率擾動之方法，其直接用光束寫入移動之波 導且以單點寫入方式，係純粹藉由控制波導移動速度以改變 折射率沿著波導作變化，惟此方法僅適用在長週期光纖光柵 ，而不適用在週期較小的布拉格光纖光柵。 再者，美國專利第6,8 3 4,977號及第6,8 1 3,0 79號係揭 1258024 示使用連續的紫外光逐段重疊曝照之方式，經由相位光罩寫 入光纖中，並且使用干涉儀監控移動平台每個定位點的位置 ;然而使用干涉儀監控寫入光纖位置的方法會有前述累積性 誤差之問題產生，同時也需要針對寫入光束之週期事先作精 準的校正動作。 再者，美國專利第5，9 4 5，2 6 1號係利用紫外光曝照在光 纖上會產生螢光的原理，預先曝照一小段光柵，用偵測螢光 強度作回授系統，針對此預曝段之螢光反應來修正移動平台 位置，以接續成很長且沒有相位不連續之光柵。然而此方法 並不能任意插入相位移。美國專利第6,75 3，118號和第 6,801，689號都是利用回授系統補償逐段重複曝照之方式所 寫入光柵之缺陷，藉由寫入後的光柵頻譜響應來作修正量計 算。然而此方法不容易作即時監控，適用於寫入之後再修補 光柵。美國專利第5,8 3 0,622號是利用紫外光額外在指定位 置曝照以調整折射率，引進額外的相位移。然而這也是需要 二度掃瞄，較費時且不易逐段得到欲引入的相位移。 M.J.Coke，et al.，所發表之論文 ’ Mo ving Fibre/Phase Mask-scanning Beam Technique for Enhanced Flexibility in Producing Fibre Gratings with Uniform Phase Mask5 (ELECTRONICS LETTERS, V o 1.3 1 ? N o . 1 7 ? 1 4 8 8 ( 1 9 9 5 ) 1 490 ) ，係使用移動光纖或相位光柵之方式寫入光纖。然而此方法 所製作的光纖光柵長度會受限於相位光柵長度’而且因移動 速度的限制會影響寫入圖形的清晰度。
Adel Asseh，Heleg Storoy，et al.，所發表之論文 ’A 1258024
Writing T c h n i q u e for Long Fiber Bragg Grating with Complex Reflectivity Profole’（ JOUNAL OF LIGHTWAVE TECHNOLOGY，V ο 1 · 1 5，N o . 8，1 4 1 9 ( 1 9 9 7 ) 1 4 2 3 )，係使用 逐段重複曝照之方式寫入光柵，並且使用干涉儀監控移動平 - 台每個定位點的位置，然而其所寫入之光束爲脈衝紫外光， . 脈衝雷射且會引進額外噪音問題。
Ingemar Petermann et al.，戶斤發表之論文 ’Fabrication of Advanced Fiber Bragg Gratings by use of Sequential Writing with a Continuous-wave Ultraviolet Laser Source’ (APPLIED OPTICS，Vol.41，No.6，1 05 1 ( 2002 ) 1 05 6 )係 使用逐段重複曝照之方式寫入光柵，並且使用干涉儀監控移 動平台每個定位點的位置，雖其所寫入之光束爲連續紫外光 ，然而使用干涉儀監控寫入光纖位置的方法會有累積性誤差 的問題，也需要針對寫入光束之週期事先作校正的動作。 【發明內容】 本發明提出一種即時監控光纖位置之布拉格光纖連續 寫入方法，其特徵在於藉由側向繞射干涉法，以決定每個定 位點之光纖光柵及寫入干涉光束之的相對相位，然後逐次寫 入。其中，透過減低或避免因監測光纖位置之長期掃描所生 累積誤差，或經由相似之設定製作所需參考布拉格光纖光柵 手段，可增加製造長度較長且複雜的光纖光柵結構時的準確 性，特別是對於具有複雜的折射率變化形狀以及任意相位移 結構之布拉格光纖光柵。在本發明中同時提出兩種類似裝置 之即時監控光纖位置之架構。其中，第一架構僅用於製造單 -7- 1258024 一週期均勻折射率分布之布拉格光纖光柵，第二架構可製作 具有任意折射率分佈形狀和任意相位移之布拉格光纖光柵。 本發明之其中一*目的爲製造單一週期均勻折射率分布 之布拉格光纖光柵之方法，其特徵在於藉偵測已曝照光栅區 段以作爲下一段寫入時之相位參考，步驟至少包括： (1 )偵測一段已曝照之光纖光柵區段； (2 )使偵測光束聚焦在該已曝照光纖之中，在相位匹配布 拉格條件下產生第一階布拉格繞射； (3 )採用光束結合器而使該繞射偵測光束與另一偵測光束 產生干涉及使用CCD攝影機記錄該干涉圖形； (4)將雷射UV光束分成兩道強度相同的光束進行干涉形 成週期性的UV強度圖形，將之寫入待曝照光纖而形成單一 FBG光柵區段； (5 )移動夾持待曝照光纖之移動平台，以一個給定之距離 移動，然後根據已曝照光柵區段之光柵相位測量結果，微調 壓電轉換器（PZT)平台；以及 (6 )重複前述步驟以逐次連接而形成長的布拉格光纖光柵。 其中，步驟（2 )之偵測光束係由He-Ne雷射光束透過 兩個球面透鏡（SL)而放大至約略3mm之光束直徑’然後經由 一偏光光束分光器將其分割爲偵測光束A及另一偵測光束 B ;步驟（3 )之最佳化干涉圖形係藉由調整兩個半波板求得’ 又繞射偵測光束與另一偵測光束’係經由一光束結合器將其 結合，透過第一半波板控制該兩道光束之強度比率 (intensity ratio )及第二半波板旋轉偵測光束B相對於偵 1258024 測光束A的偏振方向；步驟（4 )之雷射UV光束波 爲2 44 nm，另外半波板置於兩個千涉光束其中之一 上，亦可獲得供最後FBG之純粹波形調制（平坦化 折射率調制）·，步驟（5 )係以一倍頻（f r e q u e n c y d 之氬氣離子雷射發出一道CW 244-nm單一偏光紫 (UV )進入兩道光束干涉儀中，形成具有6.5 mm半 週期性強度分布之UV光束，將之寫入光纖中形成單 光柵區段。連接許多有部分重疊的、等間隔的、以及 態的FBG光柵區段，將可獲得具有精確之光柵相位 布拉格光纖光柵；步驟（6)中最後FBG之產生可達 光柵區段之連續寫入，光纖之掃描間距約1 mm，以 柵長度達80 mm以上。 其中，實務上所有之順序係由LabVIEW軟體所 自動地控制所有的曝照過程。 關於上述之側向繞射位置監測方法，其偵測已曝 區段，可被應用在製備單一週期之具有強折射率調制 光柵。我們利用即時側向繞射位置監測方法，發展出 週期之具有強折射率調制之光纖光柵的製作方式，將 於做爲下一個本發明之另一目的中所述之所需要的 纖光柵之使用。 本發明之又一目的係藉偵測參考光柵以獲得即 繞射位置之監控，其特徵在於藉由偵測另一參考光柵 每一段寫入時之相位參考，其中，此裝置中所需之參 可由上一步驟製得或由藉用相位光罩寫入的方式製_ :長較佳 的路徑 的DC-〇 ub1e d) 外光束 局寬之 —FBG 高斯型 準之長 I 80個 使總光 完成以 照光柵 之光纖 此單一 可有助 參考光 時側向 以作爲 考光柵 ,。本發 -9- 1258024 明即時側向繞射位置之監控架構步驟至少包括： (1 )將一參考布拉格光纖光柵與一待曝照光纖平行排列， 此參考布拉格光纖光柵之折射率調變量較強且是均勻的； (2 )在決定每一紫外光重疊曝照的定位點時，將一偵測光 沿此參考光栅的布拉格角入射，此時會產生第一階布拉格繞 . 射光，將此第一階布拉格繞射光與另一參考光束進行干涉產 生干涉條紋； (3 )將移動平台移動一段預定的距離到下一個定位點附近 之後’使用一回授系統將移動平台移動前後的干涉條紋相位 分佈做比較來微調移動平台在此定位點的最後位置，直到相 位分佈在給定的誤差範圍內爲止； (4 )將紫外光曝照開關打開，曝照給定的時間之後將開關 關閉；以及 (5 )將移動平台移動至下一定位點，並重複步驟（3)到（4)。 其中’步驟（1 )之參考布拉格光纖光柵，係使用遮斷 連續紫外光雷射的方式來逐段接續光柵，而非習知之逐段重 複曝照之方式寫入光柵及使用干涉儀監控移動平台每個定 位點的位置，故其不需以脈衝紫外光作爲寫入之光束及誘發 額外噪音問題，亦沒有累積性誤差的問題；再者，步驟（3 ) 係利用一回授系統偵測在每一定位點之參考布拉格光纖光 柵的相位分佈，使得每一小段已寫入之光柵的相位銜接可以 連續，因此得以製作長度較長且沒有相位不連續狀況存在的 布拉格光纖光柵；並且在製作複雜折射率分佈形狀及有相位 移的布拉格光纖光柵時亦提供一很簡單的方式執行紫外光 -10- 1258024 寫入動作。其較諸習知技術或已知文獻所揭示之方法有容易 誘發累積性位置誤差的狀況，或是必須另外進行第二次曝照 以補償已存在之相位誤差的問題而言，顯然具有顯著的進步 與突破。 接續上述之發明目的，本發明之最後一目的係有關製作 參考光柵之方法，其特徵在於係透過類同於本發明製 造單一週期均勻折射率分布之布拉格光纖光柵之方法，藉由 偵測已曝照光柵區段以作爲下一段寫入時之相位參考而進 行，其中PZT平台被微調直至該已曝照光纖光柵在此一步驟 中係相同於前一步驟之相位分布狀態。 【實施方式】 有關本發明之技術內容及實施手段槪以下列之具體實 施例描述之。 實施._例1 — 藉偵測已曝照光柵區段以獲得即時側向繞射位 置之監控 關於即時側向繞射位置之監控在實施例1中，係透過偵 測一段已曝照之光纖光柵光柵區段來進行的。第一個實施例 之流程圖如第1 ( a)圖所表示著。首先，發出5-mW之線偏 振He-Ne雷射光束（01)，透過兩個球面透鏡（SL)放大至 光束直徑約3 mm左右；然後，經由一偏光光束分光器（P B S )將其分割爲偵測光束A及B。第一半波板（HWP)之功能爲 控制該兩道光束之強度比率（intensity ratio );第二半波板 (H W P)旋轉偵測光束B相對偵測光束A的偏振方向。接著， 偵測光束A被具有20cm焦距之球面透鏡（SL )聚焦在已曝 -11- 1258024 照光纖（04)之中。偵測光束A之第一階布拉格繞射產生在當 相位匹配布拉格條件sin 0 ! = Nbx λ/λΒ，其中^爲空氣中 偵測光束（〇 1 )之進入角度，λ β爲布拉格波長Λ β下已曝照光 纖（04)之有效折射率，及λ爲偵測光束（01)之波長。繞射偵 . 測光束Α及Β於光束結合器（BC)中以干涉角度Θ 2結合。一 部440x480之單色光CCD攝影機，其具有畫素寬度7.15 // m，用來紀錄由偵測光束A及B所產生之干涉圖形。藉由調 整此兩個半波板（HWP)可最佳化干涉圖形之可見度（ visibility)。一倍頻（frequency doubled)之氬氣離子雷射 發出一道CW 244-nm線偏振紫外光束（UV )進入干涉儀中 。該干涉UV光束是具6.5 mm半高寬的週期性強度分布高 斯光束，將其寫入待曝照光纖而形成單一 FBG光柵區段。 此長布拉格光纖光柵之獲得係連接許多有部分重疊的，等間 隔的（equally-spaced)，及高斯型態的F B G光柵區段，其 具有精確之光柵相位準。半波板（HWP)置於兩個干涉光束其 中之一的路徑上以獲得供最後FBG之純粹波形調制（平坦 丨 性DC-折射率調制）。移動平台（05) (translation stage)包 括一線性馬達平台及一具有次奈米級位置解析度的壓電轉 換器（PZT )平台。此精準之光纖位置對位之達成係透過移 動該移動平台（0 5 )’以一'個給疋之距離移動’然後根據已曝 照光柵光柵區段之光柵相位測量結果，仔細地微調該壓電轉 換器（PZT )平台。 第一階繞射偵測光束A之強度註記爲IA，及偵測光束B 之強度註記爲IB。在CCD之X-軸方向之干涉波紋強度分布 -12- 1258024 ，其垂直於兩道干涉光束之平分線，表示爲： 人⑴ ~ ^a *cos[A^*2sin(-^-) +J] 式⑴ 其中，k=2；r/A係波之向量，02爲干涉角度及（5爲此 兩道干涉光束間之相位差（phase difference)。干涉圖形Iint 係由傅利葉轉換（F 〇 u r i e ι· t r a n s f 〇 r m )而成，用以獲得相對 之空間性頻率頻譜。此頻譜然後被過濾以維持僅有正頻率部 分及爲逆傅利葉轉換（inverse- Fourier transform)回到原 ♦ 始之空間。偵測光纖光柵位置之相位5之分佈可由將處理之 數據取其相位角而得到。第1 ( b )圖顯示一典型的藉由CCD 攝影機及所得之相位分布取得週期性的圖形之結果。爲了產 生單一週期性FBG，PZT平台被微調直至該已曝照光纖（04) 光柵在此一步驟中係相同於前一步驟之相位分布狀態。此時 將UV光束之開關打開，以寫入一預定時間之光柵區段。實 務上，所有之順序係由Lab VIEW軟體所完成以自動地控制 所有的曝照過程。 舉例而言，此側向繞射位置監控方法，其偵測已曝照光 柵區段，已被應用在製備單一週期之具有強折射率調制之光 纖光柵。所用之光纖爲具光感性光纖（Fibercore PS 1 5 00 ) 於室溫下1 90 0 par之載氫約數日後。 UV光束之半高寬約6.5 mm且光纖之寫入的步距約1 mm。最後FBG之產生約經80個光柵區段連續寫入以使總光 柵長度約達8 0 mm。相同之側向繞射方法被用以測量製成之 光纖光柵沿著光纖軸心的折射率分佈圖形。第2圖中顯示此 -13- 1258024 測量結果。由圖可知該製成之光纖光柵之折射率調變之分佈 是很均勻的。第2圖內插圖顯示光反射頻譜，其布拉格波長 爲1 · 5 4 6 # m且並無明顯之相位誤差。如此之ρ b g可當作 參考光柵以利下一實施例之進行。 實Jfe—例2-藉偵測參考光柵以獲得即時側向繞射位置之監控 即時側向繞射位置監控之第2個實施例如第二個流程圖 所表示，其實驗設定條件包括一個參考光纖光柵及一待曝照 光纖，其係在移動平台（0 5)上平行地被夾持。第3 ( a )圖係 描述此系統之流程圖。比較第一個流程圖而言，其需預先製 備一個具有強而均勻折射率調制之參考光柵。該探側之參考 光纖光柵係適度地均勻地且具有一正弦折射率調制圖形n( X )如式（2 )之沿著其光纖軸向：
^7DC /7(X) = /7〇 +厶/?儒(7 + 办)） 式⑺ Λ
其中η〇爲平均折射率，△ η〇爲折射率調制之調幅，Λ 爲光柵之週期，及4 ( X )敘述空間性的光柵相位。該UV 干涉週期可加以微調以匹配參考光纖光柵之週期，而且UV 干涉週期與參考光纖光柵之週期的微小差距只會造成中心 波長漂移。此光纖位置正確對位之達成係透過移動該移動平 台（〇5)，依一個給定距離而移動，然後根據已曝照光柵區段 之光柵相測量結果，仔細地微調該壓電轉換器（ΡΖΤ )平台 〇 當UV光束之開關打開時，即可將目前定位點所在的光 柵區段寫入持續一預定時間。第3 ( b )圖顯示此所有操作順 序之方塊圖。此方法主要的優點是即使當折射率調制小的時 -14- 1258024 候，此方法亦能製作長光纖布拉格光柵，及提供能輕易將任 一相位移插入之選擇性。 有關上述藉偵測參考光柵以獲得即時側向繞射位置之 監控方法，我們可透過兩個實例以映證其可行性。第一個實 - 例係製作一個窄頻（n a 1· 1· 〇 w b a η d )，高斯波形調制（G a u s s i ο η .apoidized )的FBG，其具有沿著光纖軸心有平坦化之DC折 射率調制。在此架構下，一具有均勻且強的折射率調制之參 考光纖將被偵測用以確認關於光柵相位之資訊。此UV光束 之半高寬約6.5 mm及此寫入光纖的步距約1 .2 mm。其經過 約5 8個光柵區段連續寫入而達到總光柵長度約7 0 mm之後 即產生最後之FBG。第4(a)圖表示已曝照FBG之反射及 透射光頻譜。此反射光頻譜具平頂狀且其側葉位準 (side-lobe)低於-20dB以下。此反射頻譜之3 dB頻寬約僅 0.0 7 n m。這樣一'個7 0 m m長之筒斯波形調制F B G的折射率 調制之峯値，經由模擬分析結果估計約2.5x1〇-5。 此實例證明即使在對側向繞射側量法其寫入之折射率 > 調制低於臨界値（threshold)之情形下，此架構亦具備製作 不具明顯相位誤差之長光纖布拉格光柵之可行性。 第二個實例係用以製作一個40 mm長，單一 7Γ相位移之 高斯波形調制FBG，其具有一個平坦化的DC折射率調制。 曝照期間寫入光束之步距約0.6 mm及最後FBG係可連接7〇 個FB G光柵區段而成。在製作過程中，在光纖光柵之中心 點插入7Γ的相位移。第4 ( b )圖表示曝照光纖之反射及透射 頻譜。如預期的，因爲7Γ相位移發生共振現象，在禁止頻帶 -15- 1258024 (stop-band )間存在一窄的透射峯値。此簡單之實施例證實 了以新的流程製作相位移FB G之可行性。 雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限 定本發明，任何熟悉本技藝之人士，在不脫離本發明之精神 與範圍內，當可做些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範 圍當視後附之申請專利範圍所界定者爲準。 【圖式簡單說明】 第1 ( a )圖表示藉偵測已曝照光柵區段以獲得即時側向繞 射位置之監控裝置架構圖。 第1(b)圖表示根據第1(a)圖實施，藉由C CD攝影機所 獲之典型干涉圖形及計算而得之相位分布。 第2圖表示根據該架構圖實施之折射率圖形及均勻的光 纖光柵之布拉格波長。 第3 ( a )圖表示藉偵測參考光柵以獲得即時側向繞射位置 之監控裝置架構圖。 第3 ( b )圖表示根據第3 ( a )圖實施之方法流程圖。 第4 ( a )圖表示實施藉偵測參考光柵以獲得即時側向繞射 位置之監控，其一個〇.〇7-nm高斯波形調制，長度 爲7 0mm長FBG之反射及透射波頻譜。 第4 ( b )圖表示實施藉偵測參考光柵以獲得即時側向繞射 位置之監控，其一個40mm長，7Γ相位移之高斯波 形調制FBG之反射及透射波頻譜。 1258024
SL 球 面 透 鏡 BC 光 束 結 合 器 PBS 偏 光 分 光 器 H WP 半 波 板 0 1 偵 測 光 束 (632.8 η 02 鏡 面 03 UV寫入光束（244 04 待 曝 照 光 纖 05 移 動 平 台 06 參 考 光 纖 光柵
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Claims (1)
1258024 十、申請專利範圍： 1 . 一種即時監控光纖位置之布拉格光纖光柵連續寫入方 法，其特徵在於藉由側向繞射干涉法，以決定每個定位點 之光纖光柵及寫入干涉光束之間的相對相位，然後逐次寫 - 入。 2 .如申請專利範圍第1項之方法，更包括透過減低或避免因 監測光纖位置之長期掃描所生累積誤差，或經由相似之設 定製作所需參考布拉格光纖光柵手段爲步驟。 3 . —種利用紫外光連續寫入法製造單一週期均勻折射率分 布之布拉格光纖光柵之方法，其特徵在於藉偵測已曝照光 柵區段以作爲下一段光柵寫入時之相位參考，步驟至少包 括： (1 )形成一段已曝照之光纖光柵區段之後，將移動平台 > (0 5)移動一段預定的距離到下一個定位點附近； (2 )在決定下一個紫外光重疊曝照的定位點時，將一偵 測光沿此已曝照之光纖光柵區段的布拉格角入射，此時會 產生第一階布拉格繞射光，將此第一階布拉格繞射光與另 一參考光束進行干涉產生干涉條紋； (3 )使用一回授系統將移動平台（〇 5)移動前後的干涉條 紋相位分佈做比較來微調移動平台（0 5 )在此定位點的最 後位置，直到相位分佈在給定的誤差範圍內爲止； (4 )將紫外光曝照開關打開，曝照給定的時間之後將開 -18- 1258024 關關閉；以及 (5 )將移動平台（05)移動至下一定位點，並重複步驟（3) 到⑷。 4 .如申請專利範圍第3項之方法，其中步驟（3 )之最佳化 • 干涉圖形係藉由調整兩個半波板（HWP)求得，透過第一半 波板控制該兩道光束之強度比率及第二半波板旋轉偵測 光束B相對於偵測光束A的偏振方向。 5 .如申請專利範圍第3項之方法，其中待寫入之光纖爲一光 感性光纖，最後FBG之產生可藉著多個光柵區段之連續 寫入，以達成較長的總光柵長度。 6. 如申請專利範圍第3項之方法，所有之順序係由Lab VIEW 軟體所完成以自動地控制所有的曝照過程。 7. —種利用紫外光連續寫入法製造複雜的布拉格光纖光柵 之方法，其特徵在於藉由偵測另一參考光柵以作爲每一段 光柵寫入時之相位參考，步驟至少包括： (1 )將一參考布拉格光纖光柵與一待曝照光纖平行排 列，此參考布拉格光纖光柵之折射率調變量較強且是均勻 的； (2 )在決定每一^紫外光重疊曝照的疋位點時’將一^偵測 光沿此參考光柵的布拉格角入射，此時會產生第一階布拉 -19- 1258024 格繞射光，將此第一階布拉格繞射光與另一參考光束進行 干涉產生干涉條紋； (3 )將移動平台（05)移動一段預定的距離到下一個定位 點附近之後，使用一回授系統將移動平台（05)移動前後的 干涉條紋相位分佈做比較來微調移動平台（〇 5)在此定位 點的最後位置，直到相位分佈在給定的誤差範圍內爲止； (4 )將紫外光曝照開關打開，曝照給定的時間之後將開 關關閉；以及 (5 )將移動平台（05)移動至下一定位點，並重複步驟（3) 到（4) 〇 8 .如申請專利範圍第7項之方法，其中步驟（3 )係利用一 回授系統偵測在每一定位點之參考布拉格光纖光柵的相 位分佈，使得每一小段已寫入之光柵的相位銜接可以連 續。 9 .如申請專利範圍第7項之方法，其可用以製作一個具有任 意折射率分布形狀和任意相位移的布拉格光纖光柵。 1 〇.如申請專利範圍第7項之方法’其中待寫入之光纖爲一 光感性光纖，且其寫入之光源爲一紫外光。 1 1 .如申請專利範圍第1 0項之方法，其中紫外光波長較佳爲 244nm 〇 1258024 1 2 . —種製造如申請專利範圍第7項參考光柵之方g 在於係透過如申請專利範圍第3項之製造單一 折射率分布之布拉格光纖光柵之方法，藉由偵測 柵區段以作爲下一段寫入時之相位參考而進行， 平台被微調直至該已曝照光纖（04)光柵在此一 相同於前一步驟之相位分布狀態。 :，其特徵 週期均勻 已曝照光 其中PZT 步驟中係
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