TWI344155B - - Google Patents

Description

1344155 '九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關一種低微放射性污染物表面除污骏置，尤指一 種結構簡易、操作方便，可有效增進作業效率之除污裝置。 【先前技術】 當核設施除役時，用於盛裝放射性廢棄物之貯存裴置於移出除 鲁役現場之向幅射區域後，其表面可能已受放射性鬆散污染附著， 在移入貯存廠房前，需將表面之低微放射性污染去除，方邛進入 貯存廠房。 傳統之放射性廢棄物貯存裝置表面清潔方式，較簡便者，有 使工作人貞於旁侧直接手躲;亏布清洗純存裝置，賴該貯存 裝置僅具有極低微之放射性污染，但長久卫作於此種環境下，仍 有可能有大量之幅射劑量累積，對人體造成傷害。 藝較完備之方式’乃係以穿著防護裝備之工作人員直接清洗 者，此種方式雖能避免幅射污染傷害人體，但防護裝備之穿著極 為繁瑣’且穿著防縣備後之轉人員其動作上雜遲純，工作 效率不佳’财實際制上之顿與敝；_，如何能以簡便 之方式及低廉之成本’有效簡化作#程序、提昇卫作效率，乃為 一亟待思索之重要課題。 有鑑於習見之放射性廢棄物貯餘置表面_方式有上述之 缺點，發明人乃針對該些缺點研究改進之道，終於有本發明產生。 5 1344155 【發明内容】 本發明之主要目的在於提供-種低微放射性污雜表面除污 裝置’其可有賴化整體作業程序、提昇J1作效率。 本發明之另-目的在於提供—種低減雛科物表面除污 裝置’其結構極為簡易’無需花費過多成本，可有效降低使用成 本。 為達成上述目的及功效，其所採行的技術手段包括：一裝置 本體，中央設有-頂側開口之容置空間，於該容置空間周緣則環 設有-屏蔽空間層’以供儲置具隔離效果之液體，而該屏蔽空間 層周緣並設有-鏤空之非赌通道，以使該容置空間與外部連 通；-轉盤’設置於該裝置本體之容置空間底面上，以供承置待 處理之低微放射性污染物，並使其得麟該容置空間轉動。 為使本發_上述目的、功效及概可獲致更具體的瞭解， 茲依下列附圖說明如下。 【實施方式】 請參各圖所示，明顯可看出，本發明主要包括：震置本體i、 轉盤2及支架3等部份’其中魏置本心係設置於該支架3上 方，以形成-便於健之離地高度，於該裝置本體丨中央設有一 頂側開口之容置空間11，於該容置空間丄i周緣則環設有一屏 蔽空間層12 ’且該屏蔽空間層i 2厚度不小於3 q公分，以供 儲置適量具隔離效果之液體（如：水），而於該屏蔽空間層】2周 6 1344155 .，緣設有一鏤空之非遮蔽通道1 3 ’使該容置空間1 1得以與外部 連通’另於該裝置本體1之至少於二對側設有掛鉤i 4，以便於 受外部機具（如：吊車或堆高機）吊掛移行，而該屏蔽空間層1 2之底侧設有一排水閥15，可供更換洩放其内具隔離效果之液 體，轉盤2係設置於該裝置本體1之容置空間11底面上，其底 面設有複數滾輪2 1 (或其它具降低摩擦之裝置），使其得以自由 轉動。 * 實際應用時，待處理之放射性廢棄物貯存裝置4(一般多為 5 5加侖桶）係由頂側伸入裝置本體1之容置空間丄^並放置於 轉盤2上（為能有效增進空間利用效率，該容置空間i丄可為一 圓柱狀，而該轉盤2亦呈一相對之圓盤狀），工作人員作業時，將 身體貼於裝置本體1之屏蔽空闕1 2外側，以手持除污布清洗 該放射性廢棄物貯存裝置4表面，於清洗過程巾，可適當轉動該 籲放射性廢棄物貯存裝置4(利用該轉盤2而使該放射性廢棄物貯 存裝置4易於轉動）’以便於清洗作業之進行；而藉由該屏蔽空間 層1 2内之具隔離效果液體（水）之祕，可有效避免工作人員 受幅射污染之劑量，確保其健康與安全。 ’、’τ、σ以上所述，本發明之低微放射性污染物表面除污裝置確 可達成簡化操作程序、增進作業效率之功效，實為-具新穎性及 進y f生之發明’爰依法提出申請發明專利；惟上述說明之内容， 僅為本發明之較佳實施例說明，舉凡依本發明之技術手段與範鳴 7 1344155 ·.所延伸之變化、修飾、改變或等效置換者，亦皆應落入本發明之 專利申請範圍内。 【圖式簡單說明】 第一圖係本發明之構造分解圖。 第二圖係本發明之整體組合示意圖。 第三圖係本發明之俯視平面圖。 * 第四圖係本發明之應用情形示意圖。 【主要元件符號說明】 1 .....裝置本體 11.. ..容置空間 12.. ..屏蔽空間層 13.. ..非遮蔽通道 • 14....掛鉤 15.. ..排水閥 2 .....轉盤 21....滾輪 3.....支架 8

Claims (1)

1344155 .十、申請專利範圍·· 1· 一種低微放射性污染物表面除污裝置，其至少包括：一裝置本 體，中央設有一頂側開口之容置空間，於該容置空間周緣則環設 有一屏蔽空間層’以供儲置具隔離效果之液體，而該屏蔽空間芦 周緣並設有一鏤空之非遮蔽通道，以使該容置空間與外部連通； 一轉盤，設置於該裝置本體之容置空間底面上，以供承置待處理 之低微放射性污染物，並使其得以於該容置空間轉動。 籲2.如申請專利範圍第1項所述之低微放射性污染物表面除污妒 置，其中該裝置本體之屏蔽空間層厚度不小於3 〇公分。、 3. 如申請專利範圍第1或2項所述之低微放射性污染物表面除亏 裝置，其中該裝置本體至少於二對側設有掛鉤。 4. 如申請專利範圍第！或2項所述之低微放射性污染物表面除亏 裝置，其中s亥屏蔽空間層之底側設有一排水閥。 、 5. 如巾料纖圍第i或2項所述之低微放雜污染 裝置，其中該裝置本體之底側設有一支架。 ’、一 6. 如申巧專利範圍第丄或2項所述之低微放射性污 裝置’其中該容置空P⑽呈―圓柱狀，而鋪盤亦呈:除污 盤狀。 相對之圓 9