TWI427332B - 具有變動節距的發光增強結構 - Google Patents

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Description

具有變動節距的發光增強結構
本發明係關於一種反射式顯示裝置之發光增強結構。該結構不但可增強顯示裝置之亮度，而且可減少莫氏(Moiré)圖案效應。
對於電泳顯示裝置，一個關注點通常為缺乏令人滿意之亮度。由於電泳顯示裝置通常具有高折射率組件，因此該類顯示裝置會發生全內反射。因為該組件之折射率(例如約1.5)高於顯示面板周圍之空氣(其折射率為約1)，所以來自顯示面板之一些散射光可藉由全內反射而反射回至顯示裝置。此全內反射現象會導致損失約30-50%之散射光，因而致使亮度降低。
發光增強結構可用來增強電泳顯示器之亮度。然而，當將發光增強結構應用於電泳顯示器上時，可能會出現莫氏效應，其會顯著影響所顯示之影像的品質。視顯示裝置之顯示單元之大小及形狀而定，可藉由對不同顯示裝置設計不同發光增強結構來避免莫氏效應。換言之，視各顯示裝置之顯示單元之大小及形狀(或其他等效重複圖案，諸如主動型矩陣底板)而定，各顯示裝置必須具有定製之發光增強結構以避免莫氏效應。該類方法顯然不合乎需要，因為其可能代價昂貴。
本發明係關於一種發光增強結構，其不但可增強顯示裝置之亮度，而且可減少莫氏效應，而與顯示裝置中之顯 示單元之大小及形狀無關。此外，本發明之發光增強結構具有其他優點：顯示裝置之亮度可以較一致之方式視光源之角度而改變。
本發明之第一態樣係關於一種包含柱及槽之發光增強結構，其中該槽具有三角形橫截面且該結構之節距有變動。本發明之此態樣有許多具體實例。在一個具體實例中，該三角形橫截面之頂角實質上相等。在一個具體實例中，該柱之頂面之寬度實質上相等。在一個具體實例中，該槽之三角形橫截面之敞開側(open side)寬度有變動。在一個具體實例中，該槽之表面在光學上為平坦的且視情況塗覆有金屬層。在一個具體實例中，該增強結構之厚度在約10μm至約200μm之範圍內。在一個具體實例中，該結構係由折射率為約1.4至約1.7之材料形成。在一個具體實例中，該結構具有一維構型。在另一具體實例中，該結構具有二維構型。在一個具體實例中，節距變化具有固定型式。在另一具體實例中，該同一固定型式對於至少20個槽不重複。在一個具體實例中，節距變化為隨機或假隨機的。在另一具體實例中，節距變化為隨機與固定型式之組合。
本發明之第二態樣係關於一種顯示裝置，其包含微杯(microcup)陣列及在該顯示裝置之觀察側上包含發光增強結構，其中該發光增強結構包含柱及槽，並且該槽具有三角形橫截面且該結構之節距有變動。本發明之此態樣有許多具體實例。在一個具體實例中，該三角形橫截面之頂角實質上相等。在一個具體實例中，該柱之頂面之寬度實質上相等。在一個具體實例中，該槽之三角形橫截面之敞開 側寬度有變動。在一個具體實例中，該槽之表面在光學上為平坦的且視情況塗覆有金屬層。在一個具體實例中，該微杯填充有電泳流體。在一個具體實例中，該顯示裝置進一步包含兩個電極層。在一個具體實例中，該電極層之一包含薄膜電晶體像素電極。在一個具體實例中，該電極層之一為圖案化分段電極層。
本發明之不規則性設計使每個柱以不同因子使光重定向，使得每個柱具有不同視角分布，其隨後被組合形成發光增強結構之較一致的變化視角。
I.定義
本申請案中所用之技術術語「全內反射」係指當光線以相對於表面之法線軸大於臨界角之角度照射介質邊界時發生的光學現象。此僅可在光自折射率較高之介質向折射率較低之介質行進時發生。
一般而言，當光線穿過具有不同折射率之材料之間的邊界時，光將在邊界表面被部分折射，且被部分反射。然而，若入射角大於臨界角，則光將停止穿過邊界，而是完全被反射回來。
臨界角係基於斯涅爾定律(Snell's law)之方程式計算：C=sin-1 (n2/n1)，其中n1及n2為兩種不同介質之折射率，其中n1為較高折射率且n2為較低折射率。
術語「莫氏圖案」為藉由將具有重複圖案之一個層堆疊在亦具有重複圖案之另一層之頂部而產生的圖案。兩個重複圖案可能不同。舉例而言，當將微杯層置於TFT(薄膜 電晶體)層頂部上時莫氏圖案可能變得可見。
如本文中所用之術語「約」係指所列值之±15%。
II.顯示裝置
圖1說明一顯示裝置(100)。該裝置包含填充有顯示流體(102)之顯示單元(101)陣列。各顯示單元由隔離壁(103)包圍。顯示單元陣列被夾在兩個電極層(104及105)之間。
對於電泳顯示面板，顯示單元填充有電泳流體，該電泳流體包含分散於溶劑中之帶電顏料粒子。顯示流體可為包含一類或兩類粒子之系統。
在僅包含一類粒子之系統中，帶電顏料粒子分散於具對比色之溶劑中。視粒子之電荷及兩個電極層之電位差而定，帶電粒子將被吸引至該電極層之一(104或105)，從而使顯示面板在觀察側顯示粒子顏色或溶劑顏色。
在包含攜帶相反電荷且具有兩種對比色之粒子的系統中，基於該粒子所攜帶之電荷及兩個電極層之電位差，其將移至一個電極層或另一電極層，使顯示面板在觀察側顯示兩種對比色。在此情形中，粒子可分散於澄清溶劑中。
顯示單元亦可經液晶組成物填充。此外，應瞭解，本發明適用於所有類型之反射式顯示裝置。
對於分段顯示裝置，兩個電極層(104及105)分別為一個共同電極(例如ITO)及一個圖案化分段電極層。對於主動型矩陣顯示裝置，兩個電極層(104及105)分別為一個共同電極及一薄膜電晶體像素電極陣列。對於被動型矩陣顯示裝置，兩個電極層(104及105)為兩個線條圖案化 電極層。
該電極層通常形成於基底層(106)(諸如聚對苯二甲酸伸乙酯(PET))上。基底層(106)之厚度通常在約5μm至約175μm之間，更佳在約5μm至約50μm之間。基底層亦可為玻璃層。
顯示單元亦可為習知之有壁型或隔離型、微封裝型或微杯型。
對於美國專利第6,930,818號(其內容以全文引用之方式併入本文中)中所揭示之基於微杯之顯示裝置，經填充之顯示單元以聚合密封層密封。視所用材料之透明度及應用而定，可自密封層側或密封層側之相對側觀察此類顯示裝置。顯示單元亦可稱為「微杯」。
一般而言，術語「顯示單元」意欲指個別填充有顯示流體之微容器。「顯示單元」之實例包括(但不限於)微杯、微囊、微通道、其他隔離型顯示單元及其等效物。
III.發光增強結構
圖2a為本發明之發光增強結構(200)的橫截面視圖。存在有多個橫穿該結構之柱(202)及槽(203)。槽(203)與柱(202)呈交替順序。
該槽具有三角形橫截面(201)、頂角α及頂點A。槽之表面(204)在光學上為平坦的且可視情況塗覆有金屬層。在本申請案之上下文中，術語「槽(groove)」係指表面未經塗覆或經塗覆之一或多個槽。在本發明之一個具體實例中，該槽之表面較佳未經塗覆。柱(202)具有頂面(205)。
在本申請案之上下文中，術語「節距」(「p」)被定義 為在一個槽之三角形橫截面(201)之敞開側(206)之邊緣上的一點(P)與下一個槽之相應點(P')之間的距離。換言之，術語「節距」為槽(203)之三角形橫截面(201)之敞開側(206)之寬度(w1)與柱(202)之頂面(205)之寬度(w2)的總和。
在本發明之上下文中，當節距變動時，柱(202)之頂面(205)之寬度(w2)與槽之頂角α皆保持恆定。為達成該類構型，槽(203)之三角形橫截面(201)之敞開側(206)之寬度(w1)與槽(203)之深度(「d」)在不同槽之間可不同。
正如所述，在本發明之上下文中，要求柱(202)之頂面(205)之寬度(w2)與槽之頂角α保持恆定。然而，視所用之製造技術而定，發光結構中之此等兩個參數可具有微小變化。因此，當關於頂角α或柱之頂面之寬度(w2)時，術語「實質上恆定」或「實質上相等」意欲指該角度或寬度之變化在製造公差範圍內。
單一槽沿其縱軸之深度「d」實質上保持恆定。在一個具體實例中，單一槽沿其縱軸之深度「d」保持恆定。在另一具體實例中，視所用之製造方法及發光增強結構之大小而定，有可能的是單一槽之深度「d」可稍微變動，例如，在10cm至20cm之內變動5%，或者，在10cm至20cm之內變動3%。
然而，發光增強結構之總厚度(「t」)在整個結構中為一致的。該厚度在約10μm至約200μm之範圍內。
圖2b為發光增強結構(200)之三維視圖。
雖然圖2a及圖2b顯示一維構型，但本發明之發光增強結構亦可呈如圖3中所示之二維構型形式。在二維構型中，節距「p」可變，而柱之頂面之寬度保持恆定。注意到柱之頂面在X方向上之寬度w(X)可能不同於柱之頂面在Z方向上之寬度w(Z)。因此，柱之頂面區域可能呈正方形(當w(X)=w(Z)時)或矩形(當w(X)≠w(Z)時)形狀。然而，該結構中之所有柱具有相同大小之頂部區域。所有槽亦具有實質上相同大小之頂角α。槽深度可能在X及Z方向上不同。
發光增強結構係由折射率為約1.4至約1.7之材料形成。發光增強結構為透明的。
節距可能在約1%至約25%之間，較佳在約1%至約10%之間變動。在一個具體實例中，節距在發光增強結構內變化至少1μm，換言之，在發光增強結構內最寬節距與最窄節距之間的差異為至少1μm。
對於某些連續槽，變動節距可具有固定型式。然而，在一個具體實例中，同一型式對於至少20個槽不重複。舉例而言，槽1至25與槽26至50可具有相同變動節距型式。
在另一具體實例中，變動節距可能為完全隨機或假隨機的。
在另一具體實例中，變動節距可能為固定型式與隨機型式之組合。
當將發光增強結構置於顯示裝置之觀察側上時，本發明之此發光增強結構將有助於減少莫氏圖案。
IV.發光增強結構之尺寸
圖4a-4c說明本發明之發光增強結構之槽的尺寸。
在圖4a中，顯示該設計目的在於確保在發光增強結構(400)之頂面(407)與空氣之間的邊界處，入射角θ1 小於臨界角C1 (圖中未示)。
在此情形中，根據發光增強結構之材料的折射率：1.5以及在發光增強結構之頂面周圍之空氣的折射率：1，臨界角C1 為約42°。
如圖4a中所示，自表面(406)散射之光(402)(亦即圖3a至3c中之305)在槽(401)之傾斜表面(403)處被反射，且到達發光增強結構(400)之頂面(407)。為了使在發光增強結構之頂面處的入射角(θ1 )小於42°，槽(401)之頂角α較佳在5°至50°之範圍內，更佳在15°至30°之範圍內。因此，入射角θ1 將小於角度γ，此將減少頂面處全內反射的機會，且增加總體光學效率。角度γ為光(402)與表面(406)之法線軸(標記為Y)的交會處之角度。
來自光源之入射光(圖中未示)透射穿過發光增強結構並照射顯示裝置，且接著以散射特徵被反射。圖4a中之散射光402為此類反射光之實例。
圖4b顯示：槽(401)之傾斜表面(403)將藉由全內反射來反射入射光。該設計目的在於確保照射槽(401)之傾斜表面(403)之光將被反射，而不是透射穿過槽內之空間。可根據發光增強結構之材料的折射率與槽(401)之空間中所填充之物質的折射率來計算傾斜表面(403)與槽內空間之間的邊界處之臨界角(圖中未示)。若槽未經填充，則空氣之折射率為約1。在發光增強結構之材料的折射率為約1.5時，臨界角C2 將為約42°。當來自表面(407)之光 (408)的入射角θ2 大於42°時，照射傾斜表面(403)之光將朝向表面406被全內反射，此為此情形中所需，因為否則光將透射穿過槽中之空間。
可藉由在槽表面上塗覆金屬層來獲得反射性傾斜表面。然而，在本發明之一具體實例中，槽之表面未經塗覆。
圖4c顯示需要考慮之另一設計參數角度β。角度β為兩條線交會處之角度，一條為連接第一槽之頂點(A)與相鄰槽之基線(base)邊緣(B)的線，且另一條線為顯示裝置之表面(406)之法線軸(標記為Y)。相鄰槽之基線邊緣(B)最接近第一槽。
亦應注意在頂部觀察側上具有發光增強結構之顯示裝置中，顯示裝置之表面與發光增強結構之柱之頂面光學接觸。因此，顯示裝置之表面之法線軸Y亦為發光增強結構之柱之頂面的法線軸。
因為節距變動，所以可能使角度β大於發光增強結構(400)之頂面(407)與空氣之間的邊界處之臨界角C1(圖中未示)。因此，該結構之發光增強效應可能會被降低。然而，本發明之發光增強結構具有以下優點：增強效應將較少取決於入射光之角度。
V.具有發光增強結構之顯示裝置
圖5展示顯示裝置之觀察側上的發光增強結構之橫截面視圖。如圖所示，圖2a之發光增強結構已被旋轉180°，且柱(202)之頂面(205)現與顯示裝置之基底層(106)光學接觸，此意謂在頂面(205)與基底層(106)之間不存在氣隙。此可用諸如Norland®光學黏著劑之光學黏著材 料達成。
槽(203)內之空間通常填充空氣。該空間亦可能呈真空狀態。或者，槽(203)中之空間可填充低折射率材料，其折射率低於形成發光增強結構之材料的折射率。
VI.發光增強結構之製造
發光增強結構可以許多不同方式製造。
在一個具體實例中，發光增強結構可單獨製造，且接著層壓於顯示裝置之觀察側上。舉例而言，可如圖6a中所示藉由壓印來製造發光增強結構。可在高於基底層(601)上所塗覆之可壓印組成物(600)之玻璃轉移溫度的溫度下進行壓印過程。通常用可呈滾筒、板或帶狀物形式之模具完成壓印。可壓印組成物可包含熱塑性材料、熱固性材料或其前驅物。更特定言之，可壓印組成物可包含多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯、多官能乙烯醚、多官能環氧化物或者其寡聚物或聚合物。此類材料之玻璃轉移溫度(或Tg)通常在約-70℃至約150℃，較佳約-20℃至約50℃之範圍內。壓印過程典型地在高於Tg之溫度下進行。經加熱之模具或該模具所壓向之經加熱外殼基底可用於控制壓印溫度及壓力。模具通常由諸如鎳之金屬形成。
模具較佳係用鑽石車削(diamond turning)技術製造。舉例而言，模具可用鑽石車削技術在稱為滾筒之圓柱形胚料上來製造。滾筒表面典型地具有硬銅，不過亦可使用其他材料。模具(滾筒)上之圖案與預期之發光增強結構相反。換言之，滾筒將顯示與發光增強結構之槽相對應之尖銳突出的圖案。滾筒上之圖案係以連續方式環繞滾筒圓周 形成。在一個具體實例中，滾筒表面上之刻痕係用一種稱為螺紋切削(thread cutting)之技術來產生。在螺紋切削過程中，當鑽石切削機沿旋轉滾筒之橫向方向移動時，在滾筒上切削出單一連續刻痕。若欲製造之模具具有恆定節距，則在模具製造期間，滾筒將以恆定速度移動。一典型鑽石車削機將對切削機穿入滾筒之深度、切削機相對滾筒之水平及垂直角度，以及切削機之橫向速度提供獨立控制。
如圖6a所示，模具形成槽(603)，且在可壓印組成物硬化期間或之後脫除。
可藉由冷卻、溶劑蒸發、輻射、熱或濕氣交聯來實現可壓印組成物之硬化。
用於形成發光增強結構之材料的折射率較佳大於約1.4，更佳介於約1.5與約1.7之間。
發光增強結構可按原樣使用或進一步塗覆有金屬層。
如圖6b所示，接著在槽(603)之表面(606)上沈積金屬層(607)。適用於此步驟之金屬可包括(但不限於)鋁、銅、鋅、錫、鉬、鎳、鉻、銀、金、鐵、銦、鉈、鈦、鉭、鎢、銠、鈀、鉑及鈷。鋁一般較佳。金屬材料必須具有反射性，且其可使用諸如濺鍍、蒸發、滾筒轉移塗覆、無電極電鍍或其類似技術之各種技術沈積於槽之表面(606)上。
為了便於僅在預定表面(亦即槽之表面606)上形成金屬層，在金屬沈積之前，可在不欲沈積金屬層之表面上塗覆可剝離遮罩層。如圖6c所示，可剝離遮罩層(604)被塗覆於各槽開口之間的表面(605)上。可剝離遮罩層不被塗 覆於槽之表面(606)上。
可藉由印刷技術，諸如柔性印刷(flexographic printing)、無水印刷(driographic printing)、電子照相印刷(electrophotographic printing)、石版印刷(lithographic printing)、凹版印刷、感熱式印刷、噴墨印刷或網版印刷，實現可剝離遮罩層之塗覆。該塗覆亦可藉由涉及使用脫模層之轉移塗覆技術來實現。可剝離遮罩層之厚度較佳在約0.01μm至約20μm，更佳在約1μm至約10μm之範圍內。
為了便於剝離，該層較佳係由水溶性材料或水分散性材料形成。亦可使用有機材料。舉例而言，可剝離遮罩層可由可再分散之微粒材料形成。可再分散之微粒材料之優勢在於，無需使用增溶劑即可容易地移除塗覆層。術語「可再分散之微粒」係來源於以下觀測結果：材料中大量粒子之存在將不會降低乾燥塗層之剝離能力，且相反，其存在實際上會提高塗覆層之剝離速度。
可再分散之微粒由經由陰離子性、陽離子性或非離子性官能基表面處理成具有親水性之粒子組成。其尺寸以微米計，較佳在約0.1μm至約15μm之範圍內，且更佳在約0.3μm至約8μm之範圍內。已發現在此等尺寸範圍內之粒子可在厚度<15μm之塗覆層上形成適當的表面粗糙度。可再分散之微粒之表面積可在約50m2 /g至約500m2 /g之範圍內，較佳在約200m2 /g至約400m2 /g之範圍內。可再分散之微粒之內部亦可經改質以具有在約0.3ml/g至約3.0ml/g之範圍內，較佳在約0.7ml/g至約2.0ml/g之範圍內的孔隙體積。
市售之可再分散微粒可包括(但不限於)微粉化二氧化矽粒子，諸如Grace Davison,Columbia,MD,USA之Sylojet系列或Syloid系列之微粉化二氧化矽粒子。
奈米尺寸之無孔水再分散性膠態二氧化矽粒子(諸如LUDOX AM)亦可與微米尺寸之粒子一起使用，以提高塗覆層之表面硬度及剝離速率。
經表面處理成具有足夠親水性之其他有機及無機粒子亦適合。可藉由無機及有機表面改質實現表面改質。表面處理使粒子於水中具有可分配性，及在塗覆層中具有可再濕潤性。
在圖6d中，顯示一金屬層(607)沈積於整個表面上，包括槽之表面(606)及各槽之間的表面(605)。適合金屬材料為上文所述之金屬材料。金屬材料必須具有反射性，且可用先前所述之各種技術來沈積。
圖6e顯示在移除上面塗覆有金屬層607之可剝離遮罩層(604)之後的結構。視可剝離遮罩層所用之材料而定，此步驟可使用水性或非水性溶劑進行，該溶劑為諸如水、MEK、丙酮、乙醇或異丙醇，或其類似溶劑。可剝離遮罩層亦可藉由機械方式移除，諸如刷洗、使用噴嘴，或使用黏著層將其剝落。在移除可剝離遮罩層(604)之同時，亦移除沈積於可剝離遮罩層上之金屬層(607)，僅在槽之表面(606)上留下金屬層(607)。
圖6f及圖6g展示沈積金屬層之替代方法。在圖6f中，首先在包括槽之表面(606)及各槽之間的表面(605)之整個表面上沈積金屬層(607)。圖6g顯示沈積有金屬層 (607)的槽之膜層壓有塗覆一黏著層(616)之膜(617)。當槽之膜自塗覆黏著層(616)之膜(617)分層(分離)時，可便利地剝落表面(605)頂部之金屬層(607)。塗覆黏著劑之膜上的黏著層(616)之厚度較佳在約1μm至約50μm之範圍內，且更佳在約2μm至約10μm之範圍內。
接著將包含槽(未經塗覆或塗覆有金屬層)之發光增強結構層壓於如上文所述之一顯示單元層上。
如上所述之方法皆適用於一維發光增強結構與二維發光增強結構。
對於二維形式，顯示單元可使用已形成之發光增強結構作為光遮罩藉由自對準之方法來形成。該方法描述於2008年11月25日申請之美國第12/323,300號中，其內容以全文引用之方式併入本文中。
儘管已參考特定具體實例描述了本發明，但熟習此項技術者應瞭解，可在不背離本發明之真實精神及範疇的情況下作出各種改變且可用等效形式進行替代。此外，可作出許多修改以使特定狀況、材料、組成物、方法、一或多個方法步驟適合於本發明之目標、精神及範疇。所有該等修改意欲屬於隨附申請專利範圍之範疇內。
100‧‧‧顯示裝置
101‧‧‧顯示單元
102‧‧‧顯示流體
103‧‧‧隔離壁
104‧‧‧電極層
105‧‧‧電極層
106‧‧‧基底層
200‧‧‧發光增強結構
201‧‧‧三角形橫截面
202‧‧‧柱
203‧‧‧槽
204‧‧‧表面
205‧‧‧頂面
206‧‧‧敞開側
A‧‧‧頂點
α‧‧‧頂角
d‧‧‧深度
P‧‧‧點
P'‧‧‧點
p‧‧‧節距
t‧‧‧厚度
w1‧‧‧寬度
w2‧‧‧寬度
X‧‧‧方向
Z‧‧‧方向
w(X)‧‧‧寬度
w(Z)‧‧‧寬度
400‧‧‧發光增強結構
401‧‧‧槽
402‧‧‧光
403‧‧‧傾斜表面
406‧‧‧表面
407‧‧‧表面
408‧‧‧光
θ1 ‧‧‧入射角
θ2 ‧‧‧入射角
B‧‧‧邊緣
β‧‧‧角度
γ‧‧‧角度
Y‧‧‧法線軸
600‧‧‧可壓印組成物
601‧‧‧基底層
603‧‧‧槽
604‧‧‧可剝離遮罩層
605‧‧‧表面
606‧‧‧表面
607‧‧‧金屬層
616‧‧‧黏著層
617‧‧‧膜
圖1說明一顯示裝置。
圖2a展示本發明之發光增強結構。
圖2b顯示該發光增強結構之三維視圖。
圖3顯示一替代性「二維」設計。
圖4a-4c說明該發光增強結構之尺寸。
圖5展示在觀察側上具有發光增強結構之顯示裝置。
圖6a-6g說明塗覆有金屬層之發光增強結構之形成。
200‧‧‧發光增強結構
201‧‧‧三角形橫截面
202‧‧‧柱
203‧‧‧槽
204‧‧‧表面
205‧‧‧頂面
206‧‧‧敞開側
A‧‧‧頂點
α‧‧‧頂角
d‧‧‧深度
P‧‧‧點
P'‧‧‧點
p‧‧‧節距
t‧‧‧厚度
w1‧‧‧寬度
w2‧‧‧寬度

Claims (15)

  1. 一種顯示裝置組件，其包含i)顯示裝置，其包含填充有顯示流體的顯示單元，並且在該顯示單元之上有基板層，而該基板層係在該顯示裝置的觀察側上，以及ii)在該顯示裝置之觀察側上之發光增強結構，該發光增強結構包含柱與槽呈交替順序，其中(a)每個柱具有含有一寬度的平坦頂面；(b)每個槽具有一三角形橫截面和一頂角，其中該三角形橫截面具有含有一寬度的一敞開側，並且(c)該發光增強結構具有變動的節距，其中該節距為槽之三角形橫截面之敞開側之寬度與柱之頂面之寬度的總和，並且在該顯示裝置之觀察側上的該基板層係光學接觸在該發光增強結構中之柱的平坦頂面，從而，來自光源的入射光透射穿過該發光增強結構並照射該顯示裝置，且接著以散射特徵被反射。
  2. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置組件，其中該發光增強結構係由折射率為約1.4至約1.7之材料形成。
  3. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置組件，其中該柱與槽係被排置為一維構型。
  4. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置組件，其中該柱與槽係被排置為二維構型。
  5. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置組件，其中該節距變化具有固定型式。
  6. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置組件，其中該節距變化為隨機或假隨機的。
  7. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置組件，其中該節距變化為隨機與固定型式之組合。
  8. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置組件，其中該槽之頂角實質上相等。
  9. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置組件，其中該柱之平坦頂面之寬度實質上相等。
  10. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置組件，其中該槽之三角形橫截面之敞開側的寬度有變動。
  11. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置組件，其中該槽之每個表面在光學上為平坦的且視情況塗覆有一金屬層。
  12. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置組件，其中該顯示流體為電泳流體。
  13. 如申請專利範圍第12項之顯示裝置組件，其中顯示單元陣列被夾層在兩個電極層之間。
  14. 如申請專利範圍第13項之顯示裝置組件，其中該電極層之一包含薄膜電晶體像素電極。
  15. 如申請專利範圍第13項之顯示裝置組件，其中該電極層之一為圖案化分段電極層。
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