TWI461966B - 座標定位方法、座標定位裝置及包括該座標定位裝置的顯示器設備 - Google Patents

Description

座標定位方法、座標定位裝置及包括該座標定位裝置的顯示器設備

本發明大體上有關於一種座標定位裝置，且特別有關於一種用於顯示器設備的座標定位裝置。

用於定位物體的座標之各種座標定位裝置乃眾所皆知。一些座標定位裝置可偵測來自指向裝置之物體的座標，譬如筆、手指尖或專用裝置。因此，使用者可運用指向裝置來輸入資訊。

在用於定位物體座標之傳統座標定位裝置中所採用之常見技術包含機械按鈕、相交光束、聲表面波、電容感測及電阻材料。於這些技術中，採用相交光束的技術因不受顯示器面板大小限制，故具成本競爭性。

舉例而言，Yasuji Ogawa(小川　安治)的第7,414,617號美國專利係揭示一種用於產生座標之座標定位裝置。此裝置包括位於顯示器的左上角位置及右上角位置上的一對相機。

另一實例是，Susumu Fujioka(藤岡進)的第7,342,574號美國專利係揭示一種用於輸入包含座標數據的資訊的方法，此方法包括在顯示器的相應角落處提供至少兩相機。

於另一實例中，John L. Junkins(約翰L　江金)等人的第5,525,764號美國專利則揭示一種圖形輸入系統，其包括用於數位化物體的座標之至少兩個主要掃描雷射光。

然而，這些傳統座標定位裝置皆實施為具有至少兩光源及兩個偵測器(或兩個相機)。此外，由於每一光源及對應的偵測器安置於同一位置(例如，顯示器面板的一角落)，故而每一組光源和偵測器僅可形成物體的一個陰影。因此，傳統座標定位裝置不為人所欲地僅限於確定單個物體的座標或姿勢，從而應用受限。

鑒於上述，在此提供一種需要較低製造成本且可定位單個或多個物體之座標的座標定位裝置。此外，在此亦提供一種可應用於該座標定位裝置之座標定位方法。

於一態樣中，係提供一種座標定位裝置，其用於一顯示器設備，包括：一光源，其經配置以發光，其中該光源係包括一發光裝置；至少一反射器，其經配置以反射來自該光源之光；及一偵測器，其經配置以偵測由該至少一反射器所反射之光，其中該光源及該偵測器係安置於該座標定位裝置之同一邊緣上之不同位置處。

此外，亦提供一種顯示器設備，其包括該座標定位裝置及顯示器面板，其中該座標定位裝置係安置在該顯示器面板的周圍。

於另一態樣中，係提供一種座標定位方法，其用於具有光源、至少一反射器及偵測器之一座標定位裝置，該方法包括：於該光源與第一陰影之間獲得第一線，該第一陰影係由進入該座標定位裝置之物體所投射並顯現於該至少一反射器上；於該偵測器與第二陰影之間獲得第二線，該第二陰影係由該物體所投射並顯現於該至少一反射器上；及將該物體之座標定位於該第一線與第二線之相交點處。

於又另一態樣中，係提供一種座標定位方法，其用於具有第一光源、第二光源、至少一反射器及偵測器之一座標定位裝置，該方法包括：同時開啟該第一光源及該第二光源，俾以偵測由進入該座標定位裝置之物體所投射並顯現於該至少一反射器上之多個陰影；獲得多條線中的至少兩條線，其中該多條線當中每一者係位於該第一光源、該第二光源及該偵測器當中一者與所偵測到之該等陰影當中一者之間；及判定該物體之座標於該至少兩條線之一相交點處。

於再另一態樣中，係提供一種座標定位方法，其用於具有第一光源、第二光源、至少一反射器及偵測器之一座標定位裝置，該方法包括：同時開啟該第一及第二光源以偵測多個陰影，該多個陰影係由進入該座標定位裝置之至少兩物體所投射並顯現於該至少一反射器上；依據該多個陰影中之一第一群組陰影來獲得第一群組線；依據該多個陰影中不同於該第一群組陰影之第二群組陰影來獲得第二群組線；依據該第一群組線及該第二群組線來定位一群組的可能座標；依據該第二群組線及該群組的可能座標來獲得一第三群組線；及藉由該第三群組線來判定該至少兩物體之座標。

於更另一態樣中，係提供一種座標定位方法，其用於一具有第一光源、第二光源、至少一反射器及偵測器之一座標定位裝置，該方法包括：藉由輪流開啟該第一光源及第二光源以分別偵測第一群組陰影及第二群組陰影，該第一群組陰影及第二群組陰影係由進入該座標定位裝置的一或多個物體所投射並顯現於該至少一反射器上；依據該第一群組陰影來獲得第一群組線；依據該第二群組陰影來獲得第二群組線；依據該第一群組陰影及第二群組陰影之個別陰影數目及該第一群組線及第二群組線來判定該一或多個物體之一或多個座標。

下文在標題為"實施方式"的章節中描述了這些及其它特徵、方面及實施例。

圖1A是顯示座標定位裝置100之結構示意圖之一實施例；且圖1B是顯示顯示器設備110之結構示意圖之一實施例，顯示器設備110係採用圖1A之座標定位裝置100。如圖1A所示，座標定位裝置100可包含：一光源120，其經配置以發光；反射器130，其經配置以反射來自光源120之光；及一偵測器140，其經配置以偵測由反射器130所反射之光。光源120及偵測器140係可設置於座標定位裝置100之同一邊緣(譬如圖1A所示之頂部邊緣或右側邊緣等)上的不同位置處。於較佳之情況下，光源120與偵測器140之間的距離沿該邊緣的方向大於2公分。

光源120於較佳之情況下是不可見光源，且更於較佳之情況下，是紅外線(IR)光源。具體而言，光源120可包含經配置以發光的發光裝置，舉例而言，其可以是LED、IR LED或雷射光源。在另一實施例中，光源120可進一步包含光整形裝置，其經配置以整形自發光裝置發射的光。舉例而言，該光整形裝置可包含一或多個掃描鏡、一或多個透鏡或一或多個衍射光學元件，其經配置以將自發光裝置發射的光轉換為發散光。具體而言，於發光裝置實施為雷射光源之特定實施例中，光整形裝置於較佳之情況下可包含鮑威爾(Powell)透鏡或繞射光學元件，其可將自雷射光源發射的光轉換成發散光。

圖1C及1D是說明光整形裝置的整形效應之圖解之一特定實施例。於此實施例中，在出於圖解說明之目的而不限制本發明的前提下，圖1A的光源120的發光裝置係實施為發光二極體(LED) 181。參照圖1C，光整形裝置可包含安置在鄰近於LED 181處的一或多個第一類型的透鏡182，其經配置以藉由發散來自LED 181的光來擴大LED 181的掃描角度，俾以照射平面(例如，x-y平面)上之更多區域。參照圖1D，額外或另外之選擇為，光整形裝置可包含安置於鄰近於LED 180處的一或多個第二類型的透鏡183，其經配置以匯聚來自LED 181的光，俾以增加平面(例如，y-z平面)上之光亮度。

反射器130於較佳之情況下係實施為可漫射性反射來自光源的光之一漫射反射器。此外，於其它實施例中也可實施更多個反射器。

另一方面，舉例而言，偵測器140可包含影像感測器、相機或光二極體(photodiode)。

當物體(例如，手指、筆等)進入座標定位裝置100時，其會阻擋來自光源120的光及由反射器130反射的光，從而導致陰影顯現於反射器130上。然後，偵測器140可偵測物體的陰影，並可依據偵測器140所偵測到的陰影來定位物體的座標。

藉由將光源120及偵測器140安置在不同位置處，即使座標定位裝置100的光源及偵測器的總數目小於採用至少兩光源及至少兩偵測器的傳統技術中光源及偵測器的總數目，其仍然能夠定位進入其中的物體的座標，如在圖2及圖3A至3C之相關實施例中所詳細解釋。

此外，座標定位裝置100可更包含可連接到顯示器設備110(例如圖1B所示的顯示器設備)的一介面。

參照圖1B，顯示器設備110可包含顯示器面板170，待定位的物體可於其上移動；及座標定位裝置100，其設置於顯示器面板170周圍以偵測物體的座標。當物體在顯示器面板170上面或上方移動且因此進入座標定位裝置100時，其可阻擋來自光源120的光及由反射器130反射的光，從而導致陰影顯現於反射器130上。然後，座標裝置100的偵測器140可偵測物體的陰影。可依據所偵測到的陰影來對物體的座標進行定位。依據上述實施例，顯示器設備110可用作觸控顯示器設備。

圖2是顯示為進入圖1A之座標定位裝置100之物體定義其座標之步驟流程圖之一實施例。圖3A至3C是用於解釋如何可執行圖2之步驟的例示性圖解之一特定實施例。

首先參照圖3A，當進入座標定位裝置100的物體位於點"A"處(其譬如位於圖1B的顯示器面板170上面或上方)時，該物體之第一陰影P1可沿著從光源120延伸且通過座標"A"之第一線L1之方向而顯現於反射器130上，原因在於來自光源120並沿第一線L1方向之光遭到座標"A"處之物體阻擋。接下來，參照圖3B，第二陰影P2可沿著從偵測器140延伸通過座標"A"之第二線L2之方向而顯現於反射器130上，原因在於由反射器130所反射並沿第二線L2方向的光遭到座標"A"處的物體阻擋。因此，物體的座標"A"即為第一線與第二線L1及L2之相交點，如圖3C中所顯示。

同時參照圖2及3A至3C，用以定位物體之座標的流程可以步驟210來開始，其中可獲得第一線L1，其位於光源120與由物體投射且顯現於反射器130上的第一陰影P1之間。接下來，流程繼續進行到步驟220，其中可獲得第二線L2，其位於偵測器140與由物體形成且顯現於反射器130上的第二陰影P2之間。最後，可執行步驟230以將物體的座標定位於第一線與第二線L1及L2的相交點"A"處。

座標定位裝置100之一獨特技術特徵在於光源120及偵測器140係安置於不同位置處，而非如傳統技術中之相同位置處。如圖2及圖3A至3C所明白顯示，由於光源120及偵測器140安置於不同位置處，因此可形成物體之兩個陰影P1及P2而非一個陰影。座標定位裝置100能夠基於兩個陰影P1及P2來定位物體的座標。

圖4A是顯示的座標定位裝置400的結構示意圖之另一實施例；而圖4B是顯示採用圖4A的座標定位裝置400的顯示器設備410的結構示意圖之一實施例。

圖4A的座標定位裝置400與圖1A的座標定位裝置100不同之處僅在於其包含更多光源：第一光源421及第二光源422。類似地，座標定位裝置400亦包含：反射器430，其經配置以反射來自第一光源及第二光源421及422之光；及偵測器440，其經配置以偵測由反射器430所反射的光。此外，第一光源及第二光源421及422和偵測器440係安置在座標定位裝置400的同一邊緣(例如，圖4A所示的頂部邊緣或右側邊緣等)上的不同位置處。於較佳之情況下，第一光源421與偵測器440之間的距離沿該邊緣的方向係大於2公分。類似地，第二光源422與偵測器440之間的距離於較佳之情況下沿該邊緣的方向也大於2公分。

在這樣的實施方式下，即使座標定位裝置400的偵測器數目少於採用至少兩偵測器之傳統技術中之偵測器數目，也能夠依據一或多個物體所顯現於反射器430上並繼而由偵測器440所偵測到之陰影來獲得進入座標定位裝置400之一或多個物體之座標。

類似地，在圖4B中，顯示器設備410可包含顯示器面板470，待定位的物體可在其上移動，以及包含座標定位裝置400，其設置在顯示器面板470的周圍。當一或多個物體在顯示器面板470上面或上方移動時，該一或多個物體可阻擋來自第一光源及第二光源421及422的光及由反射器430反射的光，從而導致陰影顯現於反射器130上。接著，座標定位裝置400的偵測器440可偵測該一或多個物體的陰影。因此可依據所偵測到的陰影來對該一或多個物體的座標進行定位。

圖5係顯示為進入圖4A之座標定位裝置400之物體定位其座標之步驟流程圖之一實施例。圖6是用於解釋如何可執行圖5所示步驟之例示性圖解之一特定實施例。

參照圖5及圖6兩者，圖5之定位流程可以步驟510來開始，於此步驟中係同時開啟第一光源及第二光源421及422，俾使物體的三個陰影P1、P2及P3可顯現於反射器430上。隨後可由偵測器440偵測到三個陰影P1至P3。

接下來，於步驟520中，可獲得複數條線當中之至少兩者，其中此複數條線當中每一條線可得自於第一光源421、第二光源422及偵測器440當中一者以及所偵測到的陰影P1至P3中當中一者之間。具體而言，該複數條線可包含：第一線L1，其乃位於第二光源422與最鄰近於第一光源421的第一陰影P1兩者之間；第二線L2，其乃位於第一光源421與最鄰近於第二光源422的第三陰影P3兩者之間；及第三線L3，其乃位於位於偵測器440與所偵測到的陰影P1至P3當中除第一陰影及第三陰影P1及P3外之第二陰影P2兩者之間。綜言之，此至少兩條線可為線L1及L2、線L2及L3、線L1及L3、或線L1至L3。

接下來，在步驟530中，可確定物體的座標位於該至少兩條線L1及L2、線L2及L3、線L1及L3或線L1至L3之相交點"A"處，如圖6所示。

圖7係顯示為進入圖4A之座標定位裝置400之至少兩物體來定位其座標之步驟流程圖之一實施例。

如圖所示，圖5的流程以步驟510來開始，於此步驟中係同時開啟第一光源及第二光源421及422，並且可藉由偵測器440來偵測顯現於反射器430上之兩個物體的陰影。

須注意，於步驟710中，可形成並偵測到不同數目之兩個物體之陰影。一般而言，可在反射器430上顯現出6個陰影：由其中一個物體所投射的三個陰影，以及由另一物體所投射的三個陰影。然而，於一些情况下，6個陰影當中的一些陰影會碰巧重叠在一起，因此偵測器440可偵測到6個、5個或3個陰影，譬如圖8A至8C所示，其為分別顯示具有6個、5個及3個陰影之不同陰影配置之例示性圖解。

圖7之下述步驟是針對如圖8A所示之具有「6個陰影」的陰影配置來進行例示性描述，然其可藉由類推而輕易應用至如圖8B及8C所示之具有「5個陰影」及「3個陰影」之陰影配置。

定位流程繼而進入步驟720，於此步驟中係依據所偵測到的陰影(例如圖8A的P1至P6)中的第一群組陰影來獲得第一群組線。參照圖9A－其為解釋如何可執行步驟720之例示性圖解之一特定實施例，其中第一群組陰影係包含分別最鄰近於第一光源421及最鄰近於第二光源422的陰影P1及P6。此外，第一群組線亦可包含位於第一光源421與陰影P6兩者間之線L16，及包含位於第二光源422與陰影P1兩者間之線L21。

如圖9A中所明白顯示，兩個物體必須皆位於與第二光源422所在側相對的線L16的另一側(例如，圖7A中的左側)，否則會出現不同於陰影P6但比陰影P6更鄰近於第二光源422的陰影。類似地，兩個物體必須皆位於與第一光源421所在側相對的線L21的另一側(例如，圖7A中的右側)，否則會出現不同於陰影P1但比陰影P1更鄰近於第一光源421的陰影。

接下來，流程繼續進行到步驟730，其中依據不同於第一群組陰影的第二群組陰影來獲得第二群組線。參照圖9B－其為解釋如何可執行步驟730之例示性圖解之一特定實施例，此第二群組陰影係包含陰影P1及P6以外之中間陰影P2至P4。此外，第二群組線亦包含線LD2至LD5，其分別位於偵測器440與中間陰影P2至P5之間。

接下來，於步驟740中，可依據第一群組線及第二群組線來獲得兩個物體的一群組可能座標。參照圖9C─其為解釋如何可執行步驟740的例示性圖解，其中該等可能座標包含第一群組線L16與L21之第一相交點"E"，以及包含第一群組線L16及L21與第二群組線LD2至LD5之多個第二相交點"A"、"B"、"C"及"D"，而這些點全都位於線"P1-E-P6"上。第一相交點"E"及第二相交點"A"至"D"是可能的座標，因為兩物體當中至少一者必須位於該等可能座標當中中至少一座標上。

接下來，流程繼續進行至步驟750，於此步驟中係依據分別在步驟730及740中所獲得的該第二群組線LD2至LD5及該群組可能座標"A"至"E"來獲得第三群組線。

圖10係顯示圖7之步驟750之細節流程圖之一特定實施例。如圖所示，步驟750可以步驟1010來作開始，其乃用以確定第一群組線L16與L21的第一相交點"E"是否是兩個物體當中一者之位置，而此確定方式是藉由檢查該第一相交點"E"是否位於第二群組線LD2至LD5當中任一者上來進行。圖11A及11B是分別具有對應於否定及肯定確定結果的不同陰影配置之兩個例示性圖解。具體言之，如果確定結果是肯定的(是)，即第一相交點"E"位於第二群組線LD2至LD5中的一者上(例如，圖11A所示的LD3)，則確定第一相交點"E"是兩個物體中的一者的位置，並且步驟740的流程繼續進行到步驟1020，於其後可確定另一物體之位置。反之，如果確定結果為否定的("否")，即第一相交點"E"並不位於第二群組線LD2至LD5當中任一者上(如圖11B所示)，則可確定第一相交點"E"並非兩物體當中任一者之位置，並且步驟740之流程繼續進行至步驟1030，於其後可確定兩個物體之座標。

在步驟1020中，可獲得第三群組線，其包含不通過第一相交點"E"之至少兩條線。圖12A及12B是說明如何可執行步驟1020之圖解之一特定實施例。首先，參照圖12A，可删除位於座標"E"處由物體所產生之陰影，即圖11A中位於通過第一相交點"E"之線上的陰影P1、P6及P3。接下來，可繼而獲得包含不通過第一相交點"E"之線的第三群組線，此第三群組線(例如，如圖12B所示)可包含第一線L15，其位於第一光源421與剩餘陰影P2、P4及P5中最鄰近於第二光源422的陰影P5之間、第二線L22，其位於第二光源422與剩餘陰影P2、P4及P5中最鄰近於第一光源421的陰影P2之間，以及第三線LDC，其位於偵測器440與剩餘陰影P2、P4及P5中的中間陰影P4之間。因此，可完成圖7的步驟750中的定位第三群組線的流程。

另一方面，在確定第一相交點"E"不是兩個物體中的任一者的位置之後，此程序進入步驟1030，其中可初步估計兩個物體必須位於線"P1-E-P6"上，此線"P1-E-P6"係通過陰影P1、第一群組線L16與L21的相交點"E"，以及陰影P6。因此，在步驟1030中，可獲得第三群組線，其包含第一線，其從第一光源及第二光源421及422中的一者，通過上述的群組可能座標"A"至"E"當中一座標，並延伸至第二群組陰影P2至P5中的一個陰影，以及獲得第二線，其從第一光源及第二光源421及422中的另一者，通過上述的群組可能座標"A"至"E"當中另一座標，並延伸至第二群組陰影P2至P5中的另一陰影。

圖13是顯示圖10的步驟1030之細節流程圖之一特定實施例。如圖所示，步驟1030可以從步驟1030開始，以獲得來自第二相交點"A"至"D"當中兩相交點的所有可能組合。參照圖11B，該等可能組合中的每一者可包含分別位於第一群組線中的線L16及L21上的兩個點。因此，可獲得四種可能組合："A+C"、"A+D"、"B+C"及""B+D"。

接下來，步驟760的流程進入步驟1320，於此步驟中係獲得針對該等可能組合"A+C"、"A+D"、"B+C"及"B+D"中的每一者的兩條相應線，而獲得方式是將第一光源及第二光源分別連連接通過該等可能組合中的每一者中的兩個點。圖14A及14B是依據特定實施例解釋如何可執行步驟1320的例示性圖解。參照圖14A(其圖解說明針對可能組合"A+C"的定位程序)，線L1A從第一光源421延伸通過第二相交點"A"，而線L2C則從第二光源422延伸通過第二相交點"C"。參照圖14B(其圖解說明針對可能組合"B+C"的定位程序)，線L1B從第一光源421且延伸通過第二相交點"B"，而線L2C則從第二光源422延伸通過第二相交點"C"。對於另外兩個可能組合"A+D"及"B+D"，可執行類似的定位流程，此處出於簡潔考慮故將其省略。

接下來，步驟1030的流程繼續進行至步驟1330，其中藉由檢查兩個相應線是否通過第二群組陰影P2至P5中的兩個陰影來驗證該等可能組合當中每一者。參照圖14A，對於可能組合"A+C"的線L1A及L2C而言，其並未延伸通過第二群組陰影P2至P5中的兩個陰影。反之，對於可能組合"B+C"的線L1B及L2C而言，其延伸通過第二群組陰影P2至P5中的兩個陰影P3及P4。對於另外的兩個可能組合"A+D"及"B+D"，可執行類似的驗證流程，此處出於簡潔考慮而將其省略。

接下來，步驟1030的流程進入步驟1340，其中可確定第三群組線的第一線及第二線就是通過第二群組陰影P 2至P5中的兩個陰影之可能組合所屬的兩條線。因此，可確定第一線是線L1B及L2C，從而可完成圖7的步驟750中定位第三群組線的流程。

再回來參照圖7，在定位第三群組線的步驟750之後，流程進入步驟760，於此步驟中可藉由第三群組線來定位兩個物體的座標。

最後，圖7的流程繼續進行至步驟760，其中可藉由第三群組線來確定兩個物體的座標。參照圖12B(其中獲得包含線L22、LD4及L15之第三群組線)，於確定第一相交點"E"是兩個物體中的一者的位置後，可確定兩個物體當中另一者之位置是位於第三群組線L22、LD4及L15當中至少兩條線之相交點"C"。另一方面，參照圖14B(其中獲得包含第一線及第二線L2C及L1B之第三群組線)，於確定第一相交點"E"不為兩個物體當中一者之位置後，則可確定至少兩物體的座標是兩個點"B"及"C"(分別位於第一線及第二線L2C及L1B上)之可能組合。

可輕易理解，並不限於以圖7所例示性顯示之順序來獲得第一、第二及第三群組線。舉例而言，於替代實施例中，圖7中的步驟720及730可互換順序，而利用相反的順序來獲得第一群組線及第二群組線。

此外，在上文實施例中，可藉由定位通過偵測器440的線來定位可能座標，然後藉由定位通過第一光源及第二光源421及422的線來對該等可能座標進行驗證。然而，於其它實施例中，可藉由獲得通過第一光源及第二光源421及422的線來定位多個可能座標，然後可藉由定位通過偵測器440的線來驗證該等可能座標。

此外，圖7所顯示說明之流程並不限於針對6個陰影之配置而已，其亦可應用於具有5或3個陰影的陰影配置。由於第二群組陰影中的陰影數目係依據陰影配置而有所差異，因此針對各種陰影配置所執行之流程主要是在第二群組中的線數目上不同。可輕易藉由類推來理解其它細節，此處出於簡潔考慮故將其省略。

圖15是顯示為進入圖4A的座標定位裝置400之至少兩物體定位其座標之步驟流程圖的另一實施例。

首先，可執行步驟1510以輪流開啟第一光源421及第二光源422；並且於開啟第一光源後，偵測由進入該座標定位裝置400的一或多個物體(譬如為兩個物體)所投射並顯現於反射器430上的第一群組陰影，以及於開啟第二光源後，偵測由進入該座標定位裝置400的該一或多個物體(譬如為兩個物體)所投射並顯現於反射器430上的第二群組陰影。舉例而言，首先可開啟第一光源421且同時關閉第二光源422，然後偵測器440可偵測第一群組陰影。接下來，可開啟第二光源422且同時關閉第一光源421，然後偵測器440可偵測第二群組陰影...等等。

在步驟1510中，可偵測到五種不同類型(後文稱為"類型1"至"類型5")的陰影配置，該等陰影配置在第一群組陰影及第二群組陰影中具有各種不同數目的陰影，並且具有不同數目的第一群組與第二群組兩者的共同陰影。下文提供一表格來總結不同類型之陰影配置。在此表格中，第一群組及第二群組中的陰影的數目分別標記為"N1"及"N2"。"類型1"是由單個物體所造成，而"類型2"至"類型5"當中每一者則由兩個物體所造成。"類型2"及"類型3"僅於共同陰影之數目上有所差異。

接下來，流程進入步驟1520及1530，此兩步驟可同時或依序執行，以分別依據第一群組陰影來定位第一群組線，以及依據第二群組陰影來定位第二群組線。於較佳之情況下，第一群組線及第二群組線可包含經初步估計為通過兩個物體之座標的線。舉例而言，第一群組線可包含位於第一光源與第一群組陰影中最鄰近於第二光源之一陰影之間的線，第二群組線則可包含位於第二光源與第二群組陰影中最鄰近於第一光源之一第二陰影之間的第二線。以下將針對特定類型之陰影配置之實施例來圖解說明第一群組線及第二群組線之細節。

接下來，流程繼續進行至步驟1540，其用以依據陰影配置之類型而藉由第一群組線及第二群組線來確定一或多個座標。換言之，可依據第一群組及第二群組中的每一者中的陰影數目來實現此確定。此外，由於"類型2"及"類型3"僅在共同陰影之數目方面有所不同，因此，如果第一群組陰影及第二群組陰影中的每一者中的陰影數目皆為4時，則可進一步依據第一群組及第二群組的共同陰影的數目來實現此確定。

圖16是針對類型1之陰影配置來顯示圖15所示步驟1520、1530及1540之細節流程圖之一特定實施例。於類型1中，第一群組陰影及第二群組陰影中當中每一者的數目皆為2。圖17A至17C是解釋如何可執行圖16所示步驟之例示性圖解之一特定實施例。

圖16的流程可以步驟1610及1620來開始，此兩步驟為圖15之步驟1520及1530之特定範例，也可依序或同時執行。

首先，參照步驟1610及圖17A，可基於第一群組陰影P2及P3來獲得第一群組線，此第一群組線可包含線L13，其位於第一光源421與第一群組陰影P2及P3中最鄰近於第二光源422的陰影P3之間。此外，此第一群組線亦可包含線LD2，其位於偵測器440與第一群組陰影P2及P3當中最鄰近於第一光源421的陰影P2之間。

轉向圖16的步驟1620及圖17B，可基於第二群組陰影P1及P2來獲得第二群組線，此第二群組線包含線L21，其位於第二光源422與第二群組陰影P1及P2中最鄰近於第一光源421的陰影P1之間。此外，第二群組線亦可包含線LD2，其位於偵測器440與第二群組陰影P1及P2中最鄰近於第二光源422的陰影P2之間。

然後，流程繼續進行至步驟1630(其為圖15之步驟1540的特定範例)。參照圖16的步驟1620及圖17C，可確定物體的座標為位於第一群組線及第二群組線當中至少兩條線的相交點"A"處。

圖18是針對類型2的陰影配置來顯示圖15所示步驟1520、1530及1540之細節流程圖之一特定實施例。於類型2中，第一群組陰影及第二群組陰影中當中每一者之陰影數目皆為4，以及第一群組及第二群組兩者的共同陰影之數目為2。圖19A至19F是解釋如何可執行圖18所示步驟之例示性圖解之一特定實施例。

圖18的流程可以步驟1810及1820來作開始，步驟1810及1820是圖15的步驟1520及1530之特定範例，也可依序或同時執行。步驟1810及1820類似於圖16中的步驟1610及1620。

參照圖18的步驟1810及圖19A，可基於第一群組陰影P3至P6來獲得第一群組線，此第一群組線包含：第一線L16，其位於第一光源421與第一群組陰影P3至P6中最鄰近於第二光源422的第一陰影P6之間，及第三線LD3，其位於偵測器440與第一群組陰影P3至P6中最鄰近於第一光源421的陰影P3之間。

轉向圖18的步驟1820及圖19B，可基於第二群組陰影P1至P4來獲得第二群組線，此第二群組線包含：第二線L21，其位於第二光源422與第二群組陰影P1至P4中最鄰近於第一光源421的第二陰影P1之間；及第四線LD4，其位於偵測器440與第二群組陰影P1至P4中最鄰近於第二光源422的陰影P4之間。

接下來，可依序執行步驟1830、1840及1850，這些步驟全體作為圖15之步驟1540之特定範例。首先，參照步驟1830及圖19C及19D，確定第一群組線的第一線L16與第二群組線的第二線L21的第一相交點"E"是否是物體當中一者的位置，舉例而言，可藉由檢查第一相交點"E"是否位於第一群組的第三線(圖19C中的LD3及圖19D中的LD2)或第二群組線的第四線(圖19C及圖19D兩者中的LD4)中的任一者上來進行確定。接下來，參照圖18的步驟1840及圖19E，如果步驟1830的確定結果是肯定的("是")(如圖19C所示)，其意指第一相交點"E"是物體當中一者的位置，則可確定物體當中另一者的座標為位於不通過第一相交點"E"之至少兩條線(例如圖19E中的線L23、L15及LD4)之第二相交點"C"處。依據一範例，可在類似於圖10的步驟1020的步驟中獲得上述至少兩條線以定位第三群組線(例示性地顯示為圖12B中的線L15、L22及LD4)，此處出於簡潔考慮故省略細節。

接下來，參照圖18的步驟1850及圖19F，如果步驟1830的確定結果是否定的("否")(如圖19D所示)，其意指第一相交點"E"不為物體當中一者的座標，則可確定物體的座標位於第一群組線及第二群組線L16、L21、LD3及LD4的第三相交點"A"至"D"中的兩個相交點"B"及"C"處，其中相交點"B"及"C"分別位於第一相交點"E"與第二陰影P1之間及位於第一相交點"E"與第一陰影P6之間。

相較於圖5及7之實施例(於圖5及7中，第一光源及第二光源421及422係同時開啟，且可初步估計通過一或多個物體之座標之線僅包含第一群組線L16及L21)，於圖12的實施例中，乃可初步定位更多條通過物體之座標之線(即，第一群組線及第二群組線L16、L21、LD3及LD4)。因此，可省略圖7中用以定位一群組可能座標之步驟730及740，以及省略圖13中用以藉由定位兩個座標的可能組合來驗證上述的群組可能座標之步驟1310至1340。

從圖19A及19B須注意，由於在第一群組陰影P3至P6與第二群組陰影P1至P4兩者中存在共同陰影P3及P4，因此可透過額外地辨識共同陰影P3及P4，而以不同於圖18中的步驟1810及1820之順序來獲得第一群組及第二群組的線L16、L21、LD3及LD4。

圖20A至20C是解釋如何可執行流程的例示性圖解的特定實施例。首先參照圖20A，可基於第一群組陰影P3至P6來獲得第一群組線，其僅包含第一線L16。參照圖20B，可基於第二群組陰影P1至P4來獲得第二群組線，其僅包含第二線L21。接下來，參照圖20C，可進一步執行一步驟以透過額外地辨識第一群組陰影P3至P6及第二群組陰影及P1至P4的共同陰影P3及P4來定位第三線及第四線LD3及LD4。後續步驟類似於針對圖18的實施例所敘述之步驟，此處出於簡潔考慮故將其省略。

圖21是針對"類型3"之陰影配置來顯示圖15所示步驟1520、1530及1540之細節流程圖之一特定實施例。於類型3中，第一群組陰影及第二群組陰影中的陰影數目皆為4，且第一群組及第二群組的共同陰影的數目為3。圖22A至22C是用於解釋如何可執行圖21所示步驟之例示性圖解之一特定實施例。

圖21的流程可以步驟2110及2120來開始，其為圖15的步驟1520及1530之一特定範例，也可依序或同時執行。步驟2110及2120類似於圖16中的步驟1610及1620。

參照圖21的步驟2110及圖22A，可基於第一群組陰影P2至P5來獲得第一群組線，其包含：第一線L15，其位於第一光源421與第一群組陰影P2至P5當中最鄰近於第二光源422的第一陰影P5之間；及第三線LD2，其位於偵測器440與第一群組陰影P2至P5當中最鄰近於第一光源421的陰影P2之間。

轉向圖21的步驟2120及圖22B，可基於第二群組陰影P1至P4來獲得第二群組線，其包含：第二線L21，其通過第二光源422及第二群組陰影P1至P4當中最鄰近於第一光源421的第二陰影P1；及第四線LD4，其通過偵測器440及第二群組陰影P1至P4當中最鄰近於第二光源422的陰影P4。

接下來，如圖22C中所圖解說明執行步驟2130，其是圖15的步驟1540的特定範例。在類似於圖18的步驟1850及圖19F的步驟2130及圖22C中，可確定物體的座標在第一群組線與第二群組線L15、L21、LD2及LD4的相交點"A"至"D"當中的兩個相交點"B"及"C"處，其中相交點"B"及"C"分別位於第一相交點"E"與第二陰影P1之間及位於第一相交點"E"與第一陰影P5之間。

由圖22A及22B須注意到，由於在第一群組陰影P3至P6及第二群組陰影P1至P4中存在共同陰影P2、P3及P4，因此可藉由額外地辨識共同陰影P2至P4，而獲得除第一群組線L15及LD2和第二群組線L21及LD4以外的不同線。圖23A至23C是用於解釋如何可執行流程之例示性圖解之三個不同實施例。

參照圖23A，在偵測到第一群組陰影及第二群組陰影P3至P6及P1至P4之後，可辨識其中的共同陰影P2至P4。接下來，可分別在偵測器440與共同陰影P2至P4中最鄰近於第一光源及第二光源421及422的陰影P2及P4之間獲得線LD2及LD4。此外，亦可分別在共同陰影P2至P4中的中間陰影P3與第一光源及第二光源421及422之間獲得線L13及L23。因此，繼而可將物體的座標定位在線LD2、LD4、L13及L23的相交點處。

參照圖23B，在偵測到第一群組陰影及第二群組陰影P3至P6及P1至P4之後，可獲得線L15及L21，其分別位於第一光源421與第一群組中當最鄰近於第二光源422的陰影P5之間及位於第二光源422與最鄰近於第一光源421的陰影P1之間。此外，可辨識第一群組陰影及第二群組陰影的共同陰影P2至P4，繼而可獲得線LD2及LD4，其分別位於偵測器440與共同陰影P2至P4中的最鄰近於第一光源及第二光源421及422的陰影P2及P4之間。因此，繼而可將物體的座標定位於線L15、L21、LD2及LD4的相交點處。

參照圖23C，類似於圖23B，在偵測到第一群組陰影及第二群組陰影P3至P6及P1至P4之後，可獲得線L15及L21。此外，可辨識第一群組陰影及第二群組陰影的共同陰影P2至P4，繼而可獲得線L13及L23，其分別位於共同陰影P2至P4中的中間陰影P3與第一光源及第二光源421及422之間。因此，繼而可將物體的座標定位在線L15、L21、L13及L23的相交點處。

圖24是針對類型4的陰影配置來顯示圖15所示步驟1520、1530及1540之細節流程圖之一特定實施例。於類型4中，第一群組陰影及第二群組陰影當中每一者之陰影數目皆為3。圖25A至25C是用於解釋如何可執行圖24所示步驟之一例示性圖解之特定實施例。

上述流程可由步驟2410及2420來開始，其可同時或依序執行。參照圖24的步驟2410及圖25A，可獲得第一線LD3，其位於偵測器440與第一群組陰影P3至P5(未顯示)及第二群組陰影P1至P3兩者之共同陰影P3之間。此外，參照步驟2420及圖25B，可獲得第二線L21及第三線L22，其位在第二光源422與第二群組陰影P1至P3當中不為共同陰影P3之陰影P1及P2之間。另一選擇為，可於第一光源421與第一群組陰影P3至P5當中不為共同陰影P3之陰影P4及P5之間獲得第二線及第三線。最後，參照步驟2430及圖25C，可確定物體的座標位於第一線至第三線LD3、L21及L22之相交點"B"及"C"處。

圖26是針對"類型5"的陰影配置來顯示圖15所示步驟1520、1530及1540之細節流程圖之一特定實施例。於類型5中，第一群組陰影及第二群組陰影中的陰影數目分別是4及3。圖27A至27G是用於解釋如何可執行圖26的步驟之一例示性圖解之特定實施例。可輕易將圖26及圖27A至27G中所圖解說明的流程類推至第一群組及第二群組中分別具有3個及4個陰影的類型5的陰影配置。圖26類似於針對類型2之陰影配置的圖18，不同之處主要在於用以初步定位通過物體座標之線的步驟2610、2620及2622。

圖26的流程可以步驟2610及2620來開始，這些步驟2610及2620是圖15的步驟1520及1530的特定範例，也可依序或同時執行。步驟2610及2620類似於圖16中的步驟1610及1620。

參照圖26的步驟2610及圖27A，可基於第一群組陰影P2至P5來獲得第一群組線，此第一群組線包含第一線L15，其位於第一光源421與第一群組陰影P3至P6當中最鄰近於第二光源422的第一陰影P5之間。

轉向圖26的步驟2620及圖27B，可基於第二群組陰影P1至P3來獲得第二群組線，此第二群組線包含第二線L21，其位於第二光源422與第二群組陰影P1至P4當中最鄰近於第一光源421的第二陰影P1之間。

轉向圖26的步驟2622及圖27C，可獲得第三線LD2及第四線LD3，此第三線LD2及第四線LD3分別位於偵測器440與第一群組陰影及第二群組陰影P2至P5及P1至P3兩者的共同陰影P2及P3之間。

接下來，可依序執行步驟2630、2640及2650，這些步驟全體作為圖15的步驟1540的特定範例。首先，參照步驟2630及圖27D及圖27E，確定第一線L15與第二線L21的第一相交點"E"是否為物體當中一者的座標。舉例而言，可藉由檢查第一相交點"E"是否位於第一群組線的第三線(圖27D及圖27E兩者中的LD2)或第二群組線的第四線(圖27D及圖27E兩者中的LD3)中的任一者上來進行確定。

接下來，參照圖26的步驟2640及圖27F，如果步驟1830的確定結果是肯定的("是")(如圖27D所示)，其意指第一相交點"E"是物體當中一者的座標，則可確定物體當中另一者的座標是位在不通過第一相交點"E"的至少兩條線(例如，圖27F中的線L22、L14及LD3)的第二相交點"C"處。依據一範例，可在類似於圖10的步驟1020的步驟中獲得上述至少兩條線以定位第三群組線(其例示性地顯示為圖12B中的線L15、L22及LD4)，此處出於簡潔考慮故省略細節。

接下來，參照圖26的步驟2650及圖27G，如果步驟2630的確定結果是否定的("否")(如圖27E所示)，其意指第一相交點"E"不是物體當中一者之位置，則可確定物體的座標是位在第一群組線及第二群組線L15、L21、LD2及LD3的第三相交點"A"至"D"當中兩個相交點"B"及"C"處，其中相交點"B"及"C"分別位於第一相交點"E"與第二陰影P1之間，及位於第一相交點"E"與第一陰影P5之間。

於以下說明中，係對上述實施例及傳統技術中的座標定位裝置間之比較作詳細說明，以展現由上述實施例中的座標定位裝置所提供之優勢。

在傳統座標定位裝置中，需要至少兩光源及兩個偵測器。反之，上述實施例中的座標定位裝置可實施為具有僅一個或兩個光源及僅一個偵測器，因此所需製造成本較低。

此外，傳統座標定位裝置僅可確定單一物體之座標或姿勢。原因在於每一光源及其對應的偵測器係安置在同一位置處(例如，顯示器面板的相同角落處)，因此僅可投射物體的一個陰影。反之，圖1A及4A之實施例之座標定位裝置中的每一光源及偵測器可安置於不同位置處，因此可形成更多個陰影。結果，上述實施例的座標定位裝置能夠定位單個或多個物體的座標，從而比傳統座標定位裝置具有更廣泛的應用。

100．．．座標定位裝置

110．．．顯示器設備

120．．．光源

130．．．反射器

140．．．偵測器

170．．．顯示器面板

181．．．發光二極體

182．．．透鏡

183．．．透鏡

400．．．座標定位裝置

410．．．顯示器設備

421．．．第一光源

422．．．第二光源

430．．．反射器

440．．．偵測器

470．．．顯示器面板

A~E．．．相交點

L1~L3．．．線

L13、L14、L15、L16、L21、L22、L23．．．線

L1A、L1B、L2C．．．線

LD1~LD5．．．線

P1~P6．．．陰影

圖1A係顯示一坐標定位裝置之結構示意圖之一實施例；

圖1B係顯示採用圖1A之坐標定位裝置之顯示器設備之結構示意圖之一實施例；

圖1C及1D係說明光整形裝置之整形效應之圖式之一實施例；

圖2係顯示用以定位進入圖1A之坐標定位裝置之物體之坐標之步驟流程圖之一實施例；

圖3A至3C係用於解釋如何可執行圖2所示步驟之範例圖之一特定實施例。

圖4A係顯示坐標定位裝置之結構示意圖之另一實施例；

圖4B係顯示採用圖4A之坐標定位裝置之顯示器裝置之結構示意圖之一實施例；

圖5係顯示用以定位進入圖4A之坐標定位裝置之物體之坐標之步驟流程圖之一實施例；

圖6係用於解釋如何可執行圖5所示步驟之範例圖之一特定實施例；

圖7係顯示用以定位進入圖4A之坐標定位裝置之至少兩個物體之坐標之步驟流程圖之一實施例；

圖8A至8C係分別顯示具有6個、5個及3個陰影之不同陰影配置之範例圖；

圖9A及9B係解釋如何可執行圖7所示步驟之範例圖之一特定實施例；

圖10係顯示圖7之另一步驟之細節流程圖之一特定實施例；

圖11A及11B係具有分別對應於否定及肯定判定之不同陰影配置之兩範例圖；

圖12A及12B係例示性說明如何可執行圖10中之步驟1020之圖式之一特定實施例；

圖13係顯示圖10所示步驟之細節流程圖之一特定實施例；

圖14A及14B係解釋如何可執行圖13所示步驟之範例圖之一特定實施例；

圖15係顯示定位進入圖4A之坐標定位裝置之至少兩物體之坐標之步驟流程圖之一實施例；

圖16係針對第一類型之陰影配置顯示圖15之步驟細節流程圖之一特定實施例；

圖17A至17C係用於解釋如何可執行圖16所示步驟之範例圖之一特定實施例；

圖18係針對第二類型之陰影配置來顯示圖15所示步驟之細節流程圖之一特定實施例；

圖19A至19F係用於解釋如何可執行圖18所示步驟之範例圖之一特定實施例；

圖20A至20C係用於解釋定位第一群組線及第二群組線之範例圖之一替代實施例。

圖21係針對第三類型之陰影配置來顯示圖15所示步驟之細節流程圖之一特定實施例；

圖22A至22C係用於解釋如何可執行圖21所示步驟之範例圖之一特定實施例；

圖23A至23C係用於解釋定位第一群組線及第二群組線之範例圖之三個不同特定實施例；

圖24係針對第四類型之陰影配置來顯示圖15所示步驟之細節流程圖之一特定實施例；

圖25A至25C係用於解釋如何可執行圖24所示步驟之範例圖之一特定實施例；

圖26係針對第四陰影配置來顯示圖15所示之步驟1520、1530及1540之細節流程圖之一特定實施例；及

圖27A至27G係用於解釋如何可執行圖26所示步驟之範例圖之一特定實施例。

100．．．座標定位裝置

120．．．光源

130．．．反射器

140．．．偵測器

Claims (26)

1. 一種座標定位裝置，其用於一顯示器設備，包括：一光源，其經配置以發光，其中該光源係包括一發光裝置；至少一反射器，其經配置以反射來自該光源之光；及一偵測器，其經配置以偵測由該至少一反射器所反射之光，其中該光源及該偵測器係安置於該座標定位裝置之同一邊緣上之不同位置處，其中依據該物體所顯現於該至少一反射器上並由該偵測器所偵測之陰影來對進入該座標定位裝置之物體之座標進行定位。
2. 如請求項1所述之座標定位裝置，其中該光源與該偵測器之間的距離沿該邊緣之方向實質上大於2公分。
3. 如請求項1所述之座標定位裝置，更包括另一光源，其安置於一與該光源之位置及該偵測器之位置不同之位置處。
4. 如請求項3所述之座標定位裝置，其中該另一光源與該偵測器之間的距離沿該邊緣之方向實質上大於2公分。
5. 如請求項1所述之座標定位裝置，其中該至少一反射器當中每一者為一漫射反射器，其經配置以漫射方式反射來自該光源之光。
6. 如請求項1所述之座標定位裝置，更包括可連接至該顯示器設備之一介面。
7. 如請求項1所述之座標定位裝置，其中該發光裝置係包括 紅外線發光二極體及雷射光源當中之一者。
8. 如請求項7所述之座標定位裝置，其中該光源更包括一光整形裝置，其經配置以整形從該發光裝置所發射之光。
9. 如請求項8所述之座標定位裝置，其中該光整形裝置係包含一或多個掃描鏡、一或多個透鏡、或一或多個繞射光學元件。
10. 如請求項1所述之座標定位裝置，其中該偵測器係包括影像感測器、相機或光二極體(Photodiode)。
11. 一種顯示器設備，其包括如請求項1項所述之座標定位裝置及一顯示器面板，其中該座標定位裝置係設置於該顯示器面板之周圍。
12. 一種座標定位方法，其用於具有光源、至少一反射器及偵測器之一座標定位裝置，該方法包括：於該光源與第一陰影之間獲得第一線，該第一陰影係由進入該座標定位裝置之物體所投射並顯現於該至少一反射器上；於該偵測器與第二陰影之間獲得第二線，該第二陰影係由該物體所投射並顯現於該至少一反射器上；及將該物體之座標定位於該第一線與第二線之相交點處。
13. 一種座標定位方法，其用於具有第一光源、第二光源、至少一反射器及偵測器之一座標定位裝置，該方法包括： 同時開啟該第一光源及該第二光源，俾以偵測由進入該座標定位裝置之物體所投射並顯現於該至少一反射器上之多個陰影；獲得多條線中的至少兩條線，其中該多條線當中每一者係位於該第一光源、該第二光源及該偵測器當中一者與所偵測到之該等陰影當中一者之間；及判定該物體之座標於該至少兩條線之相交點處。
14. 如請求項13所述之座標定位方法，其中該多條線包括：第一線，其位於該第一光源與所偵測到的該等陰影中最鄰近於該第二光源之第一陰影之間；第二線，其位於該第二光源與所偵測到的該等陰影中最鄰近於該第一光源之第二陰影之間；及第三線，其位於該偵測器與所偵測到之該等陰影中不為該第一陰影及第二陰影之一陰影之間。
15. 一種座標定位方法，其用於具有第一光源、第二光源、至少一反射器及偵測器之一座標定位裝置，該方法包括：同時開啟該第一及第二光源以偵測多個陰影，該多個陰影係由進入該座標定位裝置之至少兩物體所投射並顯現於該至少一反射器上；依據該多個陰影中之一第一群組陰影來獲得第一群組線；依據該多個陰影中不同於該第一群組陰影之第二群組陰影來獲得第二群組線； 依據該第一群組線及該第二群組線來定位一群組可能座標；依據該第二群組線及該群組可能座標來獲得一第三群組線；及藉由該第三群組線來判定該至少兩物體之座標。
16. 如請求項15所述之座標定位方法，其中該第一群組線包含：位於該第一光源與該多個陰影中最鄰近於該第二光源之一陰影兩者之間的一條線；及位於該第二光源與該多個陰影中最鄰近於該第一光源之一陰影兩者之間的一條線。
17. 如請求項15所述之座標定位方法，其中該第二群組線當中之每一條線係位於該偵測器與該第二群組陰影當中之一陰影之間。
18. 如請求項17所述之座標定位方法，其中該等可能座標係包含該第一群組線之第一相交點及該第一群組線與第二群組線之多個第二相交點。
19. 如請求項18所述之座標定位方法，其中依據該第二群組線及該群組可能座標來獲得該第三群組線係包括：藉由檢查該第一相交點是否位於該第二群組線當中任一條線上來判定該第一相交點是否為該至少兩物體當中一者之位置；及若為肯定的，則獲得當中包含不通過該第一相交點之至少兩條線之該第三群組線； 若為否定的，則獲得當中包含下述各線之該第三群組線：第一線，其從該第一光源及第二光源中當中一者延伸通過該等第二相交點當中一者至該第二群組陰影當中一者；及第二線，其從該第一光源及第二光源中的另一者延伸通過該等第二相交點當中另一者至該第二群組陰影當中另一者。
20. 如請求項19所述之座標定位方法，其中藉由該第三群組線來判定該至少兩物體之座標為位於該群組可能座標中之兩個座標處係包括：若該第一相交點被判定為該兩物體當中一者之位置，則判定該至少兩物體當中另一者之座標為位於該第三群組線當中至少兩條線之相交點處；及若該第一相交點被判定不為該兩物體當中一者之位置，則判定該至少兩物體之座標為位於該第一線及該第二線上之兩點之可能組合。
21. 如請求項20所述之座標定位方法，其中獲得該第三群組線係包括：由該多個第二相交點來獲得兩點之多個可能組合；藉由將該第一及第二光源分別連接通過該可能組合當中每一者中之兩點來獲得該等可能組合當中每一者之兩條相應線；針對每一可能組合來檢查該兩條相應線是否通過該第二群組陰影當中兩陰影；及判定該第三群組線為包含通過該第二群組陰影當中兩 陰影之兩條相應線。
22. 一種座標定位方法，其用於一具有第一光源、第二光源、至少一反射器及偵測器之一座標定位裝置，該方法包括：藉由輪流開啟該第一光源及第二光源以分別偵測第一群組陰影及第二群組陰影，該第一群組陰影及第二群組陰影係由進入該座標定位裝置的一或多個物體所投射並顯現於該至少一反射器上；依據該第一群組陰影來獲得第一群組線；依據該第二群組陰影來獲得第二群組線；依據該第一群組陰影及第二群組陰影之個別陰影數目及該第一群組線及第二群組線來判定該一或多個物體之一或多個座標。
23. 如請求項22所述之座標定位方法，其中判定該一或多個物體之該一或多個座標係更依據該第一群組陰影及第二群組陰影之共同陰影數目。
24. 如請求項22所述之座標定位方法，其中該第一群組線係包含一第一線，其位於該第一光源與該第一群組陰影當中最鄰近於該第二光源之一第一陰影之間，以及該第二群組線係包含一第二線，其位於該第二光源與該第二群組陰影當中最鄰近於該第一光源之一第二陰影之間。
25. 如請求項24所述之座標定位方法，其中當該第一群組陰影及第二群組陰影當中每一者中的陰影數目為2時，則判定該一或多個物體之該一或多個座標係包括：將物體 的該座標定位於該第一群組線及第二群組線當中至少兩條線之一相交點處。
26. 如請求項24所述之座標定位方法，其中當該第一群組陰影及第二群組陰影當中每一者的數目皆為4時，則判定該一或多個物體之該一或多個座標係包括：藉由檢查一第一相交點是否位於一第三線或一第四線當中任一條線上來判定該第一相交點是否為該等物體當中一者之座標，其中該第一相交點為該第一線與第二線的相交點，該第三線係位於該偵測器與該第一群組陰影當中最鄰近於該第一光源之一陰影兩者之間，以及該第四線係位於該偵測器與該第二群組陰影當中最鄰近於該第二光源之一陰影兩者之間；若為肯定的，則判定該等物體中的另一者之座標為位於不通過該第一相交點之多條線之一第二相交點處；及若為否定的，則判定該等物體之座標係分別位於該第一群組線與第二群組線之多個相交點當中兩相交點處，該兩相交點係分別位於該第一相交點與該第二陰影之間及位於該第一相交點與該第一陰影之間。