TWI637814B - 珠擊處理裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種珠擊處理裝置，該裝置不會使投射效率降低且可以抑制投射材料往外部之飛散。

本發明的珠擊處理裝置係具備：箱櫃；收納於箱櫃內之滾筒，該滾筒具備能投入工件的開口，且能選擇性地配置於可供工件投入的工件投入位置、將工件由投射材料研掃的工件處理位置、及可供工件排出的工件排出位置；投射機，用以將投射材料投射於該滾筒內；以及蓋部，用以開閉滾筒之開口並且形成有投射材料之投射口，前述投射機即安裝在蓋部且從投射口投射投射材料；蓋部係設成當開啟滾筒之開口時使投射口配置於滾筒的開口之上方。

Description

珠擊處理裝置

本發明係關於一種珠擊處理裝置，尤其是關於一種藉由投射材料來研掃工件的珠擊處理裝置。(以研磨細粒衝擊工件表面之處理動作，本文中稱為「研掃」)

在下述專利文獻1、2中，有記載一種將被處理對象物(以下，稱為「工件」)投入滾筒(drum)內並一邊攪拌一邊藉由投射材料來研掃工件的所謂滾筒式之珠擊處理裝置。每個珠擊處理裝置係設置有：形成為具有開口的有底筒狀之滾筒；以及用以將投射材料投射出去之投射機。在專利文獻1所記載的珠擊處理裝置，係藉由滾筒在箱櫃(cabinet)之內部旋轉，使滾筒能選擇性地配置於工件投入位置、工件處理位置或工件排出位置。然後，在滾筒已配置於工件處理位置的狀態下，使滾筒以滾筒之圓筒軸為中心旋轉並在使滾筒內之工件攪拌的狀態下使投射材料從設置於箱櫃的投射機投射於滾筒內。藉此，投射材料就會碰撞於工件，並進行工件之研掃等之處理。

專利文獻2所記載的珠擊處理裝置，係在用以開閉滾筒之開口的蓋部設置有投射機，在該蓋部將滾筒 之開口關閉的狀態下，以滾筒之圓筒軸為中心使滾筒旋轉並在將滾筒內之工件攪拌的狀態下使投射材料從投射機投射於滾筒內。藉此，投射材料就會碰撞於工件，並進行工件之研掃等處理。

[先前技術文獻] [專利文獻]

專利文獻1：日本特開2011-194486號公報

專利文獻2：日本特開2011-110642號公報

然而，在專利文獻1所記載的珠擊處理裝置中，因滾筒在箱櫃內旋轉，為了避免滾筒在旋轉時與投射機干涉而需要在滾筒與投射機之間設置有空間。因此，會有滾筒內的工件與投射機之間的距離變長，且投射材料往工件之投射效率降低的問題。

相對於該專利文獻1，在專利文獻2所記載的珠擊處理裝置中，由於在開閉滾筒之開口的蓋部設置有投射機，所以滾筒內的工件與投射機之間的距離變得比較短，而能解決上面所述的專利文獻1之珠擊處理裝置所具有的問題。但是，該珠擊處理裝置的蓋部，係在將滾筒之開口開啟後的狀態下朝向滾筒之側壁的上方側移動。此時，會有投射材料從蓋部之投射機洩漏並飛散的可能性，而有必要抑制該投射材料之飛散的可能性。

本發明係為了解決上面所述之先前技術所具有的問題點而開發完成者，其目的在於提供一種不會使投射效率降低且可以抑制投射材料往外部之飛散的珠擊處理裝置。

為了達成上述目的，本發明係一種藉由投射材料來研掃工件的珠擊處理裝置，該珠擊處理裝置具備：箱櫃；收納於該箱櫃內之滾筒，該滾筒形成為具備有能投入工件之開口的有底筒狀，且能選擇性地配置於可供工件投入的工件投入位置、將工件由投射材料研掃的工件處理位置、及可供工件排出的工件排出位置；投射機，用以將投射材料投射於該滾筒內；以及蓋部，用以開閉滾筒之開口並且形成有投射材料之投射口，前述投射機即安裝在蓋部且從投射口投射投射材料；蓋部的投射口係配置成：以當開啟滾筒之開口時，從投射機通過投射口所洩漏出的投射材料會落下在滾筒的開口內的形態，使投射口位在滾筒的開口之上方並且在俯視觀看下位於滾筒之開口的內側；前述珠擊處理裝置還具有設置於箱櫃的蓋部之下端部之下方側的投射材料接收器，該投射材料接收器係對應蓋部之下端部開閉時的水平方向之移動範圍而設置。

依據如此所構成的本發明，由於在開閉滾筒之開口的蓋部安裝有投射機，所以滾筒內的工件與投射機之間的距離會變得比較短，而可以增進投射材料往工件的投射效率。又，由於開啟滾筒之開口時設置於蓋部的投射機之投射口係配置於滾筒之開口的上方，所以在蓋部移 動時從投射機通過投射口所洩漏出的投射材料會落下在滾筒之開口內，藉此，可以抑制投射材料飛散至珠擊處理裝置之外部。再者，依據本發明，就可以在蓋部開閉時投射材料從投射機洩漏出的情況下，利用對應蓋部之下端部開閉時的水平方向之移動範圍而設置的投射材料接收器來接收投射材料。

在本發明中，較佳為：蓋部係透過連桿臂(link arm)而安裝於箱櫃，該連桿臂之一端部係旋轉自如地安裝於蓋部，另一端部則旋轉自如地安裝於箱櫃，連桿臂之另一端部係在蓋部將滾筒之開口開啟後的狀態及關閉後的狀態之各個狀態下位於比一端部更靠上方側。

依據如此所構成的本發明，由於連桿壁之另一端部，係在蓋部將滾筒之開口開啟後的狀態及關閉後的狀態之各個狀態下位於比一端部更靠上方側，所以蓋部即形成為從箱櫃被懸吊的狀態，並且在從箱櫃被懸吊後的範圍內移動以開閉滾筒之開口。如此，依據本發明，因開閉滾筒之開口的蓋部之移動範圍較小，故而可以用較小的動力來使蓋部可動，藉此，可以抑制成本。

在本發明中，較佳為：在箱櫃的投射材料接收器之附近且上方側，形成有連通投射材料接收器和箱櫃之內部的連通部。

依據如此所構成的本發明，由設置於箱櫃 的投射材料接收器所接收到的投射材料，可以透過連通部而往箱櫃之內部流動。從而，依據本發明，可以抑制投射材料從投射材料接收器溢出並飛散至珠擊處理裝置之外部，藉此，可以更進一步抑制投射材料往外部之飛散。

在本發明中，較佳為：在滾筒之外周壁設置有複數個貫通孔，前述珠擊處理裝置再具有以從滾筒之外部覆蓋此等複數個貫通孔的方式而設置的遮蔽構件，該遮蔽構件係具備有第一遮蔽部和第二遮蔽部的雙層結構，該第一遮蔽部係形成有複數個第一連通孔，該第二遮蔽部係在不重疊於該第一遮蔽部之第一連通孔的位置形成有複數個第二連通孔。

依據如此所構成的本發明，由於即便從投射機所投射出的投射材料通過滾筒之貫通孔，投射材料仍會碰撞於遮蔽構件之第一遮蔽部或第二遮蔽部，所以會使該投射材料之勢一邊衰減一邊通過第一遮蔽部之第一連通孔或第二遮蔽部之第二連通孔而使投射材料往箱櫃內之下部落下。從而，依據本發明，可以抑制從滾筒之貫通孔跑出至外部的投射材料跳回並從箱櫃往外部飛散。

在本發明中，較佳為：滾筒係具備外周壁及底壁，在滾筒之外側係設置有一體地覆蓋外周壁及底壁的滾筒殼體。

依據如此所構成的本發明，因從滾筒之貫通孔跑出至外部的投射材料，會碰撞於滾筒殼體而衰減，故而可以抑制藉由投射材料所引起的箱櫃之內部的磨損。 結果，依據本發明，可以減低運轉成本(running cost)。

在本發明中，較佳為：在遮蔽構件之外方側，係設置有覆蓋滾筒及遮蔽構件的滾筒殼體。

依據如此所構成的本發明，因從滾筒之貫通孔跑出至外部的投射材料，會碰撞於遮蔽構件進而碰撞於滾筒殼體，故而能更加衰減。從而，可以更抑制藉由投射材料所引起的箱櫃之內部的磨損。結果，依據本發明，可以更進一步減低運轉成本。

在本發明中，較佳為：在滾筒殼體之下方側形成有投射材料排出口，該投射材料排出口係在滾筒位於工件處理位置時，將滾筒殼體之內部的投射材料往滾筒殼體之外部排出。

依據如此所構成的本發明，從滾筒之貫通孔跑出至滾筒之外部的投射材料，會碰撞於滾筒殼體而衰減而從形成於滾筒殼體之下方側的投射材料排出口往箱櫃內之下部落下。結果，依據本發明，可以抑制從滾筒之貫通孔跑出至外部的投射材料跳回並從箱櫃往外部飛散。

在本發明中，較佳為：在蓋部形成有與蓋部之外部貫通的吸氣開口，並且在該吸氣開口之滾筒側係設置有抑制投射材料通過該吸氣開口通往蓋部之外部的保護器(protector)。

依據如此所構成的本發明，即便從投射機所投射出的投射材料，在滾筒內反射並往蓋部之吸氣開口飛散，仍能藉由保護器來抑制投射材料從吸氣開口往蓋部 之外部跑出。

在本發明中，較佳是再具有：投射材料槽，設置於投射機之上方側，用以貯藏投射材料；導入管，安裝於該投射材料槽，用以將投射材料供給至下方側；以及導入筒，設置於該導入管之下方側；在該導入筒形成有於與導入管對應的位置朝向上方側形成開口的投射材料導入口；該導入筒的投射材料導入口係設定成即便導入筒在蓋部開閉時移動仍可以接收從導入管所供給的投射材料的大小。

依據如此所構成的本發明，由於導入筒，係以即便是在已藉由蓋部之開閉而移動的情況下仍可以從投射材料槽之導入管接收投射材料的方式，設定有投射材料導入口之大小，所以可以抑制投射材料從導入管飛散至珠擊處理裝置之外部。

在本發明中，較佳為：導入筒係配合蓋部之開閉而移動，導入管係追隨該導入筒之移動而可動。

依據如此所構成的本發明，由於導入管，係追隨導入筒之移動，所以即便是在導入筒已藉由蓋部之開閉而移動的情況下仍可以將投射材料槽內之投射材料更確實地往導入筒供給。結果，依據本發明，可以更抑制投射材料從導入管飛散至珠擊處理裝置之外部。

在本發明中，較佳為：在導入管，係形成有追隨導入管而屈曲的關節部。

依據如此所構成的本發明，由於在導入 管，係形成有關節部，所以即便是在導入筒已藉由蓋部之開閉而移動的情況下，導入管仍可以不勉強地屈曲。藉此，因能減輕施加於導入管的負荷，故而與導入管由蛇腹(伸縮囊)式之軟管(hose)或橡膠之軟管所構成的情況相較，還可以改善導入管的耐久性。結果，依據本發明，可以更加減低運轉成本。

依據本發明的珠擊處理裝置，就不會使投射效率降低且可以抑制投射材料往外部飛散。

10‧‧‧珠擊處理裝置

12‧‧‧箱櫃

14‧‧‧滾筒

15‧‧‧外周壁

16‧‧‧搬入搬出口

18‧‧‧開口

20‧‧‧蓋部

21‧‧‧下端部

23‧‧‧蓋側壁部

24‧‧‧處理側開口部

26‧‧‧滾筒底壁(底壁)

30‧‧‧旋轉機構

32‧‧‧貫通孔

34‧‧‧循環裝置

36‧‧‧箕斗升降機

38‧‧‧分離機

39‧‧‧上部螺旋輸送機

40‧‧‧投射材料槽

42‧‧‧投射機

43‧‧‧投射口

44‧‧‧導入筒

45‧‧‧上側導入筒

46‧‧‧導入管

47‧‧‧下側導入筒

48‧‧‧下部螺旋輸送機

49‧‧‧上側導入筒凸緣

50‧‧‧導管

51‧‧‧下側導入筒凸緣

52‧‧‧集塵裝置

53‧‧‧破碎物排出管

57‧‧‧吸氣開口

58‧‧‧吸氣開口

60‧‧‧保護器

62‧‧‧滾筒側構件

64‧‧‧蓋外方側構件

66‧‧‧端部

68‧‧‧突出部

69‧‧‧外側突出部

70‧‧‧壁部

71‧‧‧內側突出部

73‧‧‧密封構件

74‧‧‧側壁部

76‧‧‧凸緣

78‧‧‧網材

80‧‧‧角材

84‧‧‧滾筒側構件

86‧‧‧蓋外方側構件

88‧‧‧保護器

90‧‧‧連桿臂

92‧‧‧第一連桿臂

94‧‧‧第二連桿臂

96‧‧‧一端部

97‧‧‧一端部

98‧‧‧第一支架

100‧‧‧另一端部

101‧‧‧另一端部

104‧‧‧開閉用壓力缸

106‧‧‧連結臂

108‧‧‧基端部

110‧‧‧投射材料導入口

112‧‧‧流量調整裝置

114‧‧‧上側導入管

115‧‧‧下側導入管

118‧‧‧關節部

120‧‧‧遮蔽構件

124‧‧‧第一遮蔽部

126‧‧‧第二遮蔽部

128‧‧‧突出部

130‧‧‧遮蔽底部

132‧‧‧第一連通孔

134‧‧‧第二連通孔

136‧‧‧滾筒殼體

138‧‧‧底部

140‧‧‧殼體壁構件

142‧‧‧投射材料排出口

144‧‧‧端部

146‧‧‧上側抵接構件

148‧‧‧上壁部

150‧‧‧下側抵接構件

152‧‧‧下壁部

154‧‧‧上側接收部

156‧‧‧下側接收部

158‧‧‧投射材料接收器

160‧‧‧側壁

162‧‧‧底壁

164‧‧‧壁部

165‧‧‧連通部

L‧‧‧圓筒軸心

L2‧‧‧轉動軸

P1‧‧‧工件投入位置

P2‧‧‧工件處理位置

P3‧‧‧工件排出位置

第1圖係顯示本發明之實施形態的珠擊處理裝置之側視圖。

第2圖係顯示本發明之實施形態的珠擊處理裝置之前視圖。

第3圖係顯示本發明之實施形態的珠擊處理裝置之蓋部關閉後的狀態之滾筒等的剖視圖。

第4圖係顯示本發明之實施形態的珠擊處理裝置之蓋部開啟後的狀態之滾筒等的剖視圖。

第5圖係顯示本發明之實施形態的珠擊處理裝置之蓋部關閉後的狀態之導入筒等的剖視圖。

第6圖係顯示本發明之實施形態的珠擊處理裝置之蓋部開啟後的狀態之導入筒等的剖視圖。

第7A圖係顯示本發明之一實施形態的珠擊處理裝置 之滾筒的剖視圖。

第7B圖係沿著第7A圖之A-A線所觀察的剖視圖。

第8A圖係顯示本發明之實施形態的珠擊處理裝置之滾筒已配置於工件投入位置的狀態之剖視圖。

第8B圖係顯示滾筒從第8A圖之工件投入位置往工件處理位置移動後的狀態之剖視圖。

第8C圖係顯示在工件處理位置滾筒之開口關閉後的狀態之剖視圖。

第8D圖係顯示在工件處理位置滾筒之開口開啟後的狀態之剖視圖。

第8E圖係顯示滾筒從第8D圖之工件處理位置往工件排出位置移動後的狀態之剖視圖。

第9圖係從面垂直方向觀察本發明之實施形態的珠擊處理裝置之蓋部的概略圖。

第10A圖係沿著第9圖之B-B線所觀察的放大剖視圖。

第10B圖係沿著第9圖之C-C線所觀察的放大剖視圖。

以下，參照圖式，針對本發明之實施形態的珠擊處理裝置加以說明。

如第1圖及第2圖所示，珠擊處理裝置10，係具備：箱櫃12；收容於箱櫃12內的滾筒14；以及設置於滾筒14之開口18側的蓋部20。在箱櫃12，係設置有搬入搬出口16(參照第8A圖、第8E圖)，能從該搬入搬出口16進行工件之搬入搬出，又，設置有處理側開口部24(參 照第3圖)；該處理側開口部24，係貫通形成於滾筒14已配置於工件處理位置P2的狀態下之與滾筒14之開口18對應的位置。

滾筒14，係具有能投入工件的開口18，並且成為開口18之相反側的端部成為藉由滾筒底壁26所閉塞的有底筒狀。該滾筒14係以圓筒軸心L為中心而能藉由驅動馬達28(參照第3圖)所旋轉。又，滾筒14，係以與圓筒軸心L正交且沿著水平所設置的轉動軸L2為中心而能藉由旋轉機構30所轉動。滾筒14，係以旋轉軸L2為中心而轉動，並在箱櫃12內取得工件投入位置P1、工件處理位置P2及工件排出位置P3(參照第8A圖至第8E圖)。再且，在滾筒14之外周壁15的滾筒底壁26側及滾筒底壁26之一部分，係形成有複數個貫通孔32(參照第7A圖)。此等貫通孔32之大小，係形成為投射材料可以穿通並且工件無法穿通的大小。再者，轉動軸L2係安裝於後面所述的滾筒殼體136。

又，在箱櫃12之搬入搬出口16側，係設置有將從珠擊處理裝置10之外部所搬運來的工件往滾筒14內搬入之未圖示的工件投入裝置。該工件投入裝置，係具備：收容工件的箱狀之投入用箕斗(bucket)；以及用以使該投入用箕斗傾動的箕斗裝載機(bucket loader)。該箕斗裝載機，係為了使投入用箕斗往搬入搬出口16升降，並且使收容於投入用箕斗的工件從搬入搬出口16之上方往箱櫃12之內部之位於工件投入位置P1之位置(參照第8A圖)的滾 筒14之內部投入而傾動。

再且，在箱櫃12之搬入搬出口16側與工件投入裝置之間，係設置有未圖示的工件排出裝置。該工件排出裝置，係具備：搬出用振動給料機(vibrating feeder)之工件接收儲料槽(trough)，用以接收在工件排出時從位於工件排出位置P3之位置(參照第8E圖)的滾筒14之內部透過搬入搬出口16之下側所排出之已施予珠擊處理的工件；搬出用振動給料機，用以將該工件接收儲料槽內之工件往珠擊處理裝置10之外部搬出。

在箱櫃12之內部，係設置有循環裝置34。該循環裝置34，係具有：箕斗升降機(bucket elevator)36，安裝有將投射材料朝向上方撐起之未圖示的箕斗；分離機(separator)38，與箕斗升降機36之上部排出口連結；上部螺旋輸送機(screw conveyer)39及投射材料槽40，設置於分離機38之下方；以及導入管46，從投射材料槽40往安裝於投射機42之後面所述的導入筒44連接(參照第5圖)。又，在箱櫃12之下部，係設置有能使投射材料回收至箕斗升降機36側的下部螺旋輸送機48(參照第2圖)。

再且，箕斗升降機36及分離機38，係透過導管50來與集塵裝置52連接。該集塵裝置52係具備未圖示的抽吸風扇，藉此能抽吸排出未集在箱櫃12內之下部的較輕的粉塵等空氣中的雜物。

如第3圖所示，投射機42，係具備本體殼體54、以及收容於本體殼體54之內部之未圖示的葉輪的 離心式之投射機。本體殼體54，係形成為在側面觀察下呈大致梯形形狀(亦參照第5圖)，並且形成為該大致梯形形狀的上邊側端部和下邊側端部呈開口的角筒狀。然後，在本體殼體54之上邊側端部，係以透過密封材料來閉塞開口的方式安裝有殼體蓋56。又，本體殼體54之下邊側端部，係安裝於蓋部20之外側面。

蓋部20，係形成為大致呈矩形的大致呈板狀(參照第9圖)。在該蓋部20，係形成有投射口43，且通過該投射口43從投射機42使投射材料投射至滾筒14內部。

在蓋部20之滾筒14側面，係形成有複數個突出部68。此等的突出部68，係包含：蓋側壁部23，從該蓋部20之外緣往滾筒14側突出；外側突出部69，其對向於該蓋側壁部23且形成於滾筒14之圓筒軸心L側；密封構件73，其設置於蓋側壁部23與外側突出部69之間；以及一對內側突出部71，在圓筒軸心L之方向觀察下設置成環狀，且以從外側和內側包夾滾筒14之外周壁15的方式所配置。如此，滾筒14與蓋部29之一對內側突出部71的對向部分，係成為迷宮結構(labyrinth structure)。又，密封構件73，係抵接於形成有箱櫃12之處理側開口部24的壁部70。在此，因滾筒14和蓋部20之突出部68，係成為不接觸，故而滾筒14不會與蓋部20接觸，而能自轉。

又，如第10A圖及第10B圖所示，在蓋部20，係設置有吸氣開口57、58。在該吸氣開口57係設置 有保護器60，該保護器60係具備滾筒側構件62和蓋外方側構件64。滾筒側構件62，係形成大致呈矩形箱型且比吸氣開口57更大的尺寸，用以從蓋部20之背面側覆蓋吸氣開口57(參照第9圖)。再者，滾筒側構件62之下方側的端部66，係與吸氣開口57分離，並且開放成能與滾筒側構件62之內部連通。

保護器60之蓋外方側構件64，係形成具有與吸氣開口57大致同一尺寸之內部空間的大致呈角筒狀。在蓋外方側構件64之軸向的兩端部，係形成有朝向相對於側壁部74大致呈正交之方向延伸設置的凸緣76。再者，蓋部20側之凸緣76，係與蓋部20接合，並且在與蓋部20側之凸緣76為相反側的凸緣76，係安裝有網材(mesh member)78。

在蓋外方側構件64之側壁部74，係排列安裝有三個朝向同一方向延伸的角材(angle member)80。該角材係使正交於長邊方向的剖面形狀形成為大致呈L字狀，並且以不閉塞吸氣開口57的方式傾斜安裝於同一方向。

在吸氣開口58，亦同樣地設置有具備滾筒側構件84和蓋外方側構件86的保護器88。該保護器88，係相對於保護器60除了尺寸及設置於蓋外方側構件86內的角材89之根數不同以外，其餘是大致同等的結構。

如第1圖所示，在蓋部20，係安裝有複數個連桿臂90。該連桿臂90，係具備：第一連桿臂92，其 在蓋部20之上方側設置成左右一對；以及第二連桿臂94，其在蓋部20之下方側設置成左右一對。第一連桿臂92，係形成為沿著上下方向而延伸設置的長條狀，並且第一連桿臂92之長邊方向的一端部96，係旋轉自如地安裝於蓋部20之外側面之上方側所安裝的第一支架(bracket)98(參照第3圖及第4圖)。又，第一連桿臂92之長邊方向的另一端部100，係旋轉自如地安裝於箱櫃12的第一支架98之上方側的部位。

第二連桿臂94，係與第一連桿臂92同樣，形成為沿著上下方向而延伸設置的長條狀，並且第二連桿臂94之長邊方向的一端部97，係旋轉自如地安裝於裝設在蓋部20之外側面之下方側的第二支架102(參照第3圖及第4圖)。又，第二連桿臂94之長邊方向的另一端部101，係旋轉自如地安裝於箱櫃12的第二支架102之上方側的部位。

在蓋部20，係設置有開閉用壓力缸104。該開閉用壓力缸104，係沿著蓋部20之下面伸縮的構造，並且在前端部安裝有連結臂106。該連結臂106，係沿著大致垂直於蓋部20之下面的方向而形成為長條狀，並且基端部108固定於與第一連桿臂92之另一端部100對應的位置。然後，當開閉用壓力缸104收縮時，連結臂106就會以基端部108為中心朝向使前端部往下方側移動的方向轉動，藉此使蓋部20往開放滾筒14之開口的方向移動(參照第4圖)。在此即形成在蓋部20將滾筒14之開口18開啟的狀 態下，使蓋部20之投射口43配置於滾筒14之開口的上方的形態。

如第5圖所示，在蓋部20之投射機42，係安裝有導入筒44。該導入筒44，係具備上側導入筒45和下側導入筒47。上側導入筒45，係形成為以上下方向作為軸方向的大致呈圓筒狀，並且在上方側之端部形成有投射材料導入口110。該投射材料導入口110，係設定開口面積比下方側之端部的開口更大。而且，在上側導入筒45之下端部，係形成有上側導入筒凸緣49。

下側導入筒47係形成以上下方向作為軸方向的大致呈圓筒狀，並且以上端部連接於上側導入筒45之下端部且下端部連接於投射機42的本體殼體54之側面的方式屈曲。在此，在下側導入筒47之上端部，係形成有下側導入筒凸緣51，而該下側導入筒凸緣51即接合於上側導入筒凸緣49，且上側導入筒45和下側導入筒47連接。

在投射機42之上方側，係設置有投射機材料槽40。在該投射機材料槽40之下端部，係形成有往下方側開口的開口，並且在與該開口對應的位置安裝有導入管46。導入管46，係具備上側導入管114、下側導入管115及流量調整裝置112；貯藏於投射材料槽40且從投射材料槽40往下方側流動的投射材料之量係能藉由流量調整裝置112所調整。然後，通過流量調整裝置112的投射材料，係通過上側導入管114而往下方側流動。

在上側導入管114之下端部，係設置有下側 導入管115。該下側導入管115，係形成為以上下方向作為軸方向的大致呈圓筒狀。而且下側導入管115之上端部的開口，係設定為比下端部的開口更大。並且在上側導入管114與下側導入管115之間，係設置有關節部118。該關節部118，係用以將下側導入管115連接於上側導入管114之下端部，並且使下側導入管115相對於上側導入管114屈曲。在此，下側導入管115，係以追隨配合蓋部20之開閉而移動的導入筒44的方式屈曲(參照第6圖)。而且在下側導入管115之上端部的開口內，係插入有上側導入管114之下端部的一部分。更且，下側導入管115之下端部，係使其一部分插入於上側導入筒45之投射材料導入口110內。

如第7A圖所示，在滾筒14之外周壁15，係設置有遮蔽構件120。該遮蔽構件120，係對應滾筒14之外周壁15之形成有複數個貫通孔32的部位而設置。遮蔽構件120，係成為具備第一遮蔽部124及第二遮蔽部126的雙層結構，該第一遮蔽部124係形成為以滾筒14之圓筒軸心L為中心的圓筒狀，該第二遮蔽部126係沿著滾筒14之圓筒軸心L而形成為圓筒狀且設置於第一遮蔽部124之外側。第一遮蔽部124之沿著圓筒軸心L的長度，係設定成覆蓋滾筒底壁26之外方側之一部分的長度。並且，第二遮蔽部126之沿著圓筒軸心L的長度，係設定成覆蓋滾筒14之外周壁15中之形成有貫通孔32的部位之外方側的長度。在此，第二遮蔽部126，係藉由形成於滾筒14之外周 壁15的複數個突出部128之一部分所局部支撐。

在第一遮蔽部124之下端部和第二遮蔽部126之下端部，係安裝有遮蔽底部130。在該遮蔽底部130之中心部，係插入有滾筒底壁26。

如第7B圖所示，在第一遮蔽部124，係形成有複數個朝向板厚方向貫通的第一連通孔132。並且，在第二遮蔽部126，係形成有複數個朝向板厚方向貫通且形成於不與第一連通孔132重疊之位置的第二連通孔134。該第一連通孔132，係形成於第一遮蔽部124之遮蔽底部130側的一部分之範圍內，在本實施形態中係形成於從第一遮蔽部124之大致中央部(參照圖中鏈線A)至遮蔽底部130之間。同樣地，第二連通孔134，亦是形成於第二遮蔽部126之遮蔽底部130側的一部分之範圍內，在本實施形態中係形成於從與第二遮蔽部126之圖中鏈線A對應的位置至遮蔽底部130之間。

如第3圖及第4圖所示，在滾筒14及遮蔽構件120之外側，係設置有滾筒殼體136。該滾筒殼體136，係形成為以滾筒14之圓筒軸心L作為中心的有底筒狀，並且在底部138係鎖緊連結有滾筒底壁26。而且，在滾筒殼體136之外周部，係設置有殼體壁構件140。該殼體壁構件140，係藉由形成為大致呈板狀的複數個構件所形成，且能相對於滾筒殼體136裝卸。殼體壁構件140，係以從滾筒14之開口18的附近大致覆蓋滾筒底壁26的方式所配置。在此，在殼體壁構件140之下方側，係設置有用 以連通滾筒殼體136之內部和外部(箱櫃12之內部)的投射材料排出口142。並且，成為殼體壁構件140的複數個構件，係設定成單體且作業者可以搬運的大小。

在滾筒殼體136之上方側的端部144，係設置有上側抵接構件146。該上側抵接構件146，係往滾筒殼體136之外方側延伸設置。再且，設置有從箱櫃12的上壁部148之內側面往箱櫃12內部延伸設置的橡膠製之上側接收部154。上側抵接構件146，係在滾筒14配置於工件處理位置P2的狀態下，抵接於上側接收部154。

在滾筒殼體136的底部138之下方側的外側面，係設置有下側抵接構件150；該下側抵接構件150，係往滾筒殼體136之外方側延伸設置。並且，設置有從箱體12的下壁部152之內側面往箱櫃12內部延伸設置的橡膠製之下側接收部156。下側抵接構件150，係在滾筒14配置於工件處理位置的狀態下抵接於下側接收部156。藉由該結構，就能抑制從投射機42所投射出的投射材料從箱櫃12之搬入搬出口16往外部洩漏。

在蓋部20的下端部21之下方側，係設置有投射材料接收器158。該投射材料接收器158，係從箱櫃12的處理側開口部24之下方側的壁部164往外方側突出而設置。而且，投射材料接收器158，係具備：一對側壁160，以及底壁162，該底壁係用以連結該側壁160之下端部且隨著接近箱櫃12側而往下方側傾斜；與突出方向正交的方向之剖面係形成為大致呈U字狀。在此，投射材料接 收器158之突出量，係設為蓋部20開閉滾筒14之開口時之與蓋部20之下端部21的移動範圍對應的量。具體而言，在蓋部20將滾筒14之開口關閉後的狀態(參照第3圖)及蓋部20將滾筒14之開口開啟後的狀態(參照第4圖)之各個狀態下，投射材料接收器158，係以配置於蓋部20的下端部21之下方側的方式突出。

在箱櫃12之壁部164，係形成有連通部165。該連通部165，係配置於投射材料接收器158之附近且相對於投射材料接收器158之底壁162而配置於上方側，並且以連通箱櫃12之外側及內側的方式貫通壁部164而形成。

其次，針對上面所述之本實施形態的珠擊處理裝置10之動作加以說明。

如第8A圖所示，將工件搬入滾筒14內部時，係以滾筒14之開口18轉向上方側並從搬入搬出口16突出的方式，以轉動軸L2為中心往工件投入位置P1轉動。在此狀態下，藉由工件投入裝置從珠擊處理裝置10之外部搬入來的工件會往滾筒14之內部投入。

然後，當完成工件投入於滾筒14內部時，就如第8B圖所示，滾筒14係以轉動軸L2作為中心往滾筒14之開口18和投射機42對向的工件處理位置P2轉動。當滾筒14配置於工件處理位置P2時，就如第8C圖所示，蓋部20會關閉滾筒14之開口18。藉此，箱櫃12之內部，係藉由蓋部20、上側抵接構件146、上側接收部154、下 側抵接構件150及下側接收部156所密閉。在此狀態下，滾筒14係以圓筒軸心L為中心而自轉。藉此，能攪拌滾筒14內之工件。

滾筒14以圓筒軸心L為中心而自動，並且使投射機42、箕斗升降機36、下部螺旋輸送機48、集塵裝置52動作(參照第1圖)。藉此，投射材料會從箕斗升降機36經過分離機38及投射材料槽40並通過導入管46及導入筒44(參照第5圖)而投入於投射機42。然後，將投射材料從投射機42往滾筒14內之工件投入，而進行對工件施予珠擊處理。

已投射於滾筒14內的投射材料，係與在珠擊處理時所產生的粉塵或破碎物(鏽垢(scale))等一起藉由滾筒14之旋轉而從滾筒14之貫通孔32(參照第7A圖及第7B圖)排出至滾筒134之外部。所排出的投射材料等不用的材料，係透過遮蔽構件120及滾筒殼體136而匯集在箱櫃12之內部的下部，並藉由下部螺旋輸送機48集中於箕斗升降機36之下部。然後，藉由箕斗升降機36搬運至分離機38，且利用分離機38分離出能再使用的投射材料和粉塵及破碎物等。該被分離出的投射材料，係藉由上部螺旋輸送機39往投射材料槽40搬運並貯藏於投射材料槽40，並且通過導入管46及導入筒44而往投射機42供給以供再使用。再者，粉塵及破碎物等，係通過破碎物排出管53(參照第1圖)而往珠擊處理裝置10外部排出。再者，未集在箱櫃12之下部的較輕的粉塵等係能藉由集塵裝置52 抽吸排出。

珠擊處理結束時，停止投射機42之動作，且如第8D圖所示，蓋部20會開啟滾筒14之開口18。然後，如第8E圖所示，滾筒14係以轉動軸L2為中心而往工件排出位置P3轉動，且滾筒14之開口18朝向裝置下方側並從箱櫃12之搬入搬出口16突出。藉此，使滾筒14內之工件就往工件排出裝置之工件接收儲料槽移動，並用搬出用振動給料機等設備往珠擊處理裝置10之外部搬出，且結束一系列的作業。

其次，說明藉由本實施形態之珠擊處理裝置10所產生的作用功效。

在本實施形態的珠擊處理裝置10中，如第3圖所示，由於在開閉滾筒14之開口18的蓋部20設置有投射機42，所以滾筒14內的工件與投射機42之間的距離變得比較短，且可以增進投射材料往工件的投射效率。而且，在開啟滾筒14之開口18時設置於蓋部20的投射機42之投射口43，係配置於滾筒14之開口18的上方。從而，在蓋部20移動時從投射機42通過投射口43所洩漏掉的投射材料，即落下在滾筒14之開口18內部。換句話說，可以抑制投射材料飛散至珠擊處理裝置10之外部。藉此，不會使投射效率降低且可以抑制投射材料往外部之飛散。

再且，在蓋部20將滾筒14之開口18開啟後的狀態及關閉後的狀態之各個狀態下，連桿臂90之另一端部100、101係位於比一端部96、97更靠上方側。從而， 蓋部20，係形成為從箱櫃12被懸吊的狀態，並且在從箱櫃12被懸吊之範圍內移動以開閉滾筒14之開口18。換句話說，開閉滾筒14之開口18的蓋部20之移動範圍係較小。更且，在開閉蓋部20時，雖然當連桿壁90成為水平時，使連桿臂90旋轉的旋轉負荷就會成為最大，但是本實施形態的連桿壁90，係在開閉蓋部20時不會成為水平。結果，因可以用較少的動力來使蓋部20可動，故而可以將使蓋部20可動的裝置小型化，更且可以減少消耗能量。藉此，可以抑制成本及運轉成本。

更且，在蓋部20開閉時投射材料從投射機42洩漏掉的情況下，可以用與蓋部20的下端部21之移動範圍對應的投射材料接收器158來接收投射材料。換句話說，可以更抑制投射材料飛散至珠擊處理裝置10之外部。藉此，可以更抑制投射材料往珠擊處理裝置10之外部的飛散。

更甚者，用設置於箱櫃12之外部的投射材料接收器158所接收到的投射材料，係可以透過連通部165而往箱櫃12之內部流動。從而，可以抑制投射材料從投射材料接收器158溢出並飛散至珠擊處理裝置10之外部。而且，不需要作業者回收積留於投射材料接收器158的投射材料的作業。

而且，由於即便從投射機42所投射出的投射材料通過滾筒14之貫通孔32，投射材料仍會碰撞於遮蔽構件120之第一遮蔽部124或第二遮蔽部126，所以可 以一邊使該投射材料之撞擊勢衰減一邊通過第一遮蔽部124之第一連通孔132或第二遮蔽部126之第二連通孔134，並使投射材料往箱櫃12內之下部落下。從而，可以抑制從滾筒14之貫通孔32跑出至外部的投射材料跳回並從箱櫃12往外部飛散。藉此，可以更加抑制投射材料往珠擊處理裝置10之外部的飛散。

更且，因從滾筒14之貫通孔32跑出至外部的投射材料，會碰撞於遮蔽構件120進而碰撞於滾筒殼體136而能更衰減，故而可以更加抑制藉由投射材料所引起的箱櫃12之內部的磨損。藉此，可以更減低運轉成本。更且，藉由設置有滾筒殼體136，滾筒殼體136就成為所謂的隔音壁而可以使工件之研掃時的噪音減低。

再且，從滾筒14之貫通孔32跑出至滾筒14之外部的投射材料，會碰撞於滾筒殼體136而衰減並使投射材料從形成於滾筒殼體136之下方側的投射材料排出口142往箱櫃12內之下部落下。從而，可以抑制從滾筒14之貫通孔32跑出至外部的投射材料跳回並從箱櫃12往外部飛散。

再且，由於滾筒殼體136之殼體壁構件140，係形成為可裝卸，並且組合複數個被設定成作業者可以搬運之大小的構件，所以即便是在由於投射材料碰撞而磨損掉的情況下仍能容易交換。換句話說，可以改善保修性。

更且，即便從投射機42所投射出的投射材 料，在滾筒14內反射並往蓋部20之吸氣開口57、58飛散，仍能藉由保護器60、88來抑制投射材料從吸氣開口57、58往蓋部20之外部跑出。藉此，可以更加抑制投射材料往珠擊處理裝置10之外部的飛散。

再且，由於導入筒44，係以即便是在藉由蓋部20之開閉而移動的情況下仍可以從投射材料槽40之導入管46接收投射材料的方式來設定投射材料導入口110之大小，所以可以抑制投射材料從導入管46飛散至珠擊處理裝置10之外部。藉此，可以更抑制投射材料往珠擊處理裝置10之外部的飛散。

再且，由於導入管46，係追隨導入筒44之移動，所以即便是在導入筒44由於蓋部20之開閉而移動的情況下仍可以將投射材料槽40內之投射材料更確實地往導入筒44供給。換句話說，可以更抑制投射材料從導入管46飛散至珠擊處理裝置10之外部。藉此，可以更加抑制投射材料往珠擊處理裝置10之外部的飛散。

更且，由於在導入管46，係形成有關節部118，所以即便是在導入筒44由於蓋部20之開閉而移動的情況下，導入管46仍可以不勉強地屈曲。藉此，因能減輕施加於導入管46的負荷，故而與導入管46由蛇腹式之軟管或橡膠之軟管所構成的情況相較，還可以改善導入管46的耐久性。藉此，可以減低運轉成本。

再者，在本實施形態中，雖然導入管46，係藉由關節部118來追隨導入筒44，但是並不限於此，亦 可使用蛇腹(伸縮囊)式之軟管來追隨導入筒44。

再者，雖然蓋部20，係成為由蓋部20、第一連桿臂92、第二連桿臂94及箱櫃12所構成的四連桿機構所開閉的結構，但是並不限於此，亦可僅由單體的連桿臂來開閉。

以上，雖然已針對本發明之實施形態加以說明，但是本發明並非被限定於上述，只要在未脫離其主旨的範圍內，當然除了上述以外仍能做各種變化來實施。

Claims (11)

1. 一種珠擊處理裝置，係藉由投射材料來研掃工件者，該珠擊處理裝置具備：箱櫃；滾筒，收納於該箱櫃內，形成為具備有能投入工件之開口的有底筒狀，且能選擇性地配置於可供工件投入的工件投入位置、將工件由投射材料研掃的工件處理位置、以及可供前述工件排出的工件排出位置；投射機，用以將投射材料投射於該滾筒內；以及蓋部，用以開閉前述滾筒之開口並且形成有投射材料之投射口，前述投射機係安裝於該蓋部且從前述投射口投射投射材料；前述蓋部的投射口係配置成：以當開啟前述滾筒之開口時，從前述投射機通過前述投射口所洩漏出的投射材料會落下在前述滾筒的開口內的形態，使前述投射口位在前述滾筒的開口之上方並且在俯視觀看下位於前述滾筒之開口的內側；前述珠擊處理裝置還具有設置於前述箱櫃的前述蓋部之下端部之下方側的投射材料接收器，該投射材料接收器係對應前述蓋部之下端部開閉時的水平方向之移動範圍而設置。
2. 如申請專利範圍第1項所述之珠擊處理裝置，其中，前述蓋部係透過連桿臂而安裝於前述箱櫃，該連桿臂之一端部係旋轉自如地安裝於前述蓋部，而另一端部 則旋轉自如地安裝於前述箱櫃，前述連桿臂之另一端部係在前述蓋部將前述滾筒之開口開啟的狀態及關閉的狀態之各個狀態下位於比前述一端部更靠上方側。
3. 如申請專利範圍第1項所述之珠擊處理裝置，其中，在前述箱櫃的前述投射材料接收器之附近且上方側，係形成有連通前述投射材料接收器和前述箱櫃之內部的連通部。
4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之珠擊處理裝置，其中，在前述滾筒之外周壁設置有複數個貫通孔，前述珠擊處理裝置再具有以從前述滾筒之外部覆蓋此等複數個貫通孔的方式而設置的遮蔽構件，該遮蔽構件係具備有第一遮蔽部和第二遮蔽部的雙層結構，該第一遮蔽部係形成有複數個第一連通孔，該第二遮蔽部係在不重疊於該第一遮蔽部之第一連通孔的位置形成有複數個第二連通孔。
5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之珠擊處理裝置，其中，前述滾筒係具備外周壁及底壁，而在前述滾筒之外側係設置有一體地覆蓋外周壁及底壁的滾筒殼體。
6. 如申請專利範圍第4項所述之珠擊處理裝置，其中，在前述遮蔽構件之外方側，係設置有覆蓋前述滾筒及前述遮蔽構件的滾筒殼體。
7. 如申請專利範圍第5項所述之珠擊處理裝置，其中，在前述滾筒殼體之下方側形成有投射材料排出口，該 投射材料排出口係在前述滾筒位於工件處理位置時，將前述滾筒殼體之內部的投射材料往前述滾筒殼體之外部排出。
8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之珠擊處理裝置，其中，在前述蓋部係形成有與蓋部之外部貫通的吸氣開口，並且在該吸氣開口之前述滾筒側係設置有抑制前述投射材料通過該吸氣開口通往前述蓋部之外部的保護器。
9. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之珠擊處理裝置，其中，再具有：投射材料槽，設置於前述投射機之上方側，用以貯藏前述投射材料；導入管，安裝於該投射材料槽，用以將前述投射材料供給至下方側；以及導入筒，設置於該導入管之下方側；在該導入筒係形成有於與前述導入管對應的位置朝向上方側形成開口的投射材料導入口；該導入筒的投射材料導入口係設定成即便前述導入筒在前述蓋部開閉時移動仍可以接收從前述導入管所供給的前述投射材料的大小。
10. 如申請專利範圍第9項所述之珠擊處理裝置，其中，前述導入筒係配合前述蓋部之開閉而移動，前述導入管係追隨該導入筒之移動而可動。
11. 如申請專利範圍第10項所述之珠擊處理裝置，其中，在前述導入管係形成有追隨前述導入管而屈曲的關節部。