TWI856514B - 光學元件 - Google Patents
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Abstract
本申請案是有關於一種光學元件。本申請案的光學元件可恰當地維持液晶胞的胞間隙,在上部基板與下部基板之間具有極佳的黏著性,且可防止在高溫及高壓熱壓反應處理之後出現擠壓黑斑。
Description
本申請案是有關於一種光學元件。
本申請案主張基於日期為2022年2月11日的韓國專利申請案第10-2022-0018465號的優先權權益,所述韓國專利申請案的揭露內容全文併入本案供參考。
為達成使用撓性基板的液晶膜胞(liquid crystal film cell)的長期穩定性及大面積可擴展性(large-area scalability),重要的是在上部基板與下部基板之間維持胞間隙(cell gap),且在上部基板與下部基板之間賦予黏著力(adhesion force)。
在非專利文獻1中揭露一種技術,所述技術用於在一個基板上形成呈具有胞間隙高度的柱或壁形式的有機膜圖案,並使用黏著劑將其固定至相對的基板。然而,在此種技術中,黏著劑必須僅位於柱表面或壁表面上,但將黏著劑微壓印(micro stamping)於柱表面或壁表面上的技術具有高的製程難度;控制黏著劑厚度及面積頗為困難;當層疊上部基板及下部基板時,黏著劑將很有可
能被推出;並且存在黏著劑可能污染至配向膜(alignment film)或液晶中的風險。
[先前技術文獻]
[非專利文獻]
「用於撓性液晶顯示器(liquid crystal display,LCD)的兩個塑膠基板的緊密結合(Tight Bonding of Two Plastic Substrates for Flexible LCDs)」,《資訊顯示協會(Society for Information Display,SID)討論會文摘(Symposium Digest)》,38,第653-656頁(2007)
為在上部基板與下部基板之間維持液晶胞的胞間隙並確保貼附力(attachment force),可考慮在下部基板上形成間隔件及配向膜,且在上部基板上形成具有液晶定向力及黏著力的壓敏黏著劑層,隨後進行層疊。然而,當液晶胞應用於使其在高溫及高壓下結合於一起的熱壓反應處理(autoclave process)時,存在表現出擠壓黑斑(pressing black spot)的問題。本申請案的一目的是提供一種光學元件,所述光學元件恰當地維持液晶胞的胞間隙,在上部基板與下部基板之間具有極佳的黏著性,且即使在高溫及高壓熱壓反應處理之後亦不表現出擠壓黑斑。
本申請案是有關於一種光學元件。所述光學元件可包括液晶
胞。圖1例示性地示出液晶胞的結構。液晶胞可包括上部基板、下部基板以及位於上部基板與下部基板之間的包含液晶化合物的液晶層。上部基板可包括第一基層(10a)及壓敏黏著劑層(10c)。上部基板可更包括位於第一基層(10a)與壓敏黏著劑層(10c)之間的第一電極層(10b)。下部基板可包括第二基層(20a)及間隔件(20c)。下部基板可更包括位於第二基層(20a)與間隔件(20c)之間的第二電極層(20b)。另外,下部基板可更包括位於間隔件(20c)上的配向膜(20d)。可存在液晶層(30),在液晶層(30)中,液晶化合物填充於上部基板與下部基板之間的空間中。
作為第一基層及第二基層,舉例而言,可使用例如玻璃膜、結晶或非晶矽膜或石英或氧化銦錫(indium tin oxide,ITO)膜等無機膜、或者聚合物膜。
在一個實例中,就實施撓性組件而言,第一基層及第二基層中的每一者可為聚合物膜。作為聚合物膜,可使用以下材料,但並非僅限於此:三乙醯纖維素(triacetyl cellulose,TAC);環烯烴共聚物(cyclo olefin copolymer,COP),例如降冰片烯衍生物;聚(甲基丙烯酸甲酯)(poly(methyl methacrylate),PMMA);聚碳酸酯(polycarbonate,PC);聚乙烯(polyethylene,PE);聚丙烯(polypropylene,PP);聚乙烯醇(polyvinyl alcohol,PVA);二乙醯纖維素(diacetyl cellulose,DAC);聚丙烯酸酯(polyacrylate,PAC);聚醚碸(poly ether sulfone,PES);聚醚醚酮(polyetheretherketon,PEEK);聚苯碸(polyphenylsulfone,PPS);
聚醚醯亞胺(polyetherimide,PEI);聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylenenaphthatlate,PEN);聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethyleneterephtalate,PET);聚醯亞胺(polyimide,PI);聚碸(polysulfone,PSF);聚芳酯(polyarylate,PAR);或者非晶氟樹脂及類似材料。在第一基層及第二基層中,亦可根據需要存在由金、銀或矽化合物(例如二氧化矽或一氧化矽)形成的塗層或者例如減反射層等功能層。
在一個實例中,作為第一基層及第二基層,亦可應用光學各向異性膜(optically anisotropic film)。具有此種光學各向異性的膜通常在機械性質上亦為各向異性,且利用此種各向異性,可提供具有優越的耐久性及類似性質的液晶胞或光學元件。
在一個實例中,第一基層及第二基層可各自為對於為550奈米(nm)的波長具有為4,000奈米或大於4,000奈米的面內相位差值(in-plane phase difference value)的聚合物膜。面內相位差值可具體為5,000奈米或大於5,000奈米、6,000奈米或大於6,000奈米、7,000奈米或大於7,000奈米、8,000奈米或大於8,000奈米、或9,000奈米或大於9,000奈米,且可為50,000奈米或小於50,000奈米、40,000奈米或小於40,000奈米、30,000奈米或小於30,000奈米、20,000奈米或小於20,000奈米、18,000奈米或小於18,000奈米、16,000奈米或小於16,000奈米、15,000奈米或小於15,000奈米、或12,000奈米或小於12,000奈米。由此,可有利於提供無例如彩虹現象(rainbow phenomenon)等光學缺陷的液晶胞。
在本說明書中,面內相位差是根據以下方程式A的物理量。
[方程式A]Rin=d×(nx-ny)
在方程式A中,Rin是面內相位差,nx是膜在慢軸方向(slow axis direction)上的折射率(refractive index),ny是膜在快軸方向(fast axis direction)上的折射率,且d是膜的厚度。nx及ny分別意指膜的nx軸線及y軸線的折射率。x軸線意指平行於膜的面內慢軸的方向,y軸線意指平行於膜的面內快軸的方向,其中x軸線與y軸線可在平面內彼此正交。
適用於基層的膜的具體種類並無特別限制,只要其表現出處於上述範圍內的面內相位差即可。舉例而言,可應用因拉伸而被賦予光學各向異性的各向異性聚合物膜。所述聚合物膜可由例如以下來例舉:聚烯烴膜,例如聚乙烯膜或聚丙烯膜;環烯烴聚合物(COP)膜,例如聚降冰片烯膜;聚氯乙烯膜;聚丙烯腈膜;聚碸膜;聚丙烯酸酯膜;聚(乙烯醇)(poly(vinyl alcohol),PVA)膜;纖維素酯系聚合物膜,例如三乙醯纖維素(Triacetyl cellulose,TAC)膜;聚酯膜;或者聚碳酸酯膜;或者由形成所述聚合物的單體之中的二或更多種單體形成的共聚物膜;以及類似膜。
在一個實例中,作為所述膜,可應用例如聚(對苯二甲酸乙二醇酯)(poly(ethylene terephthalate),PET)膜等聚酯膜。亦即,表現出處於上述範圍內的面內相位差的膜在工業中是已知的,且
在聚合物膜的情形中,此種膜即使在機械性質方面亦因在製造製程中的拉伸或類似技術而表現出不對稱性,且表現出在光學上大的各向異性。工業中已知的此種延遲膜的代表性實例是拉伸聚酯膜,例如拉伸聚(對苯二甲酸乙二醇酯)(poly(ethylene terephthalate),PET)膜。
當各向異性膜被同時應用於第一基層及第二基層時,所述基板可被設置成使得其慢軸彼此平行或彼此垂直。
在一個實例中,例如PET膜等聚酯膜可用作所述膜,但在本申請案中可用作基板的膜的類型並非僅限於此。
在一個實例中,第一基層及第二基層可各自具有為約10微米(μm)至約1,000微米的厚度。作為另一實例,基層可各自具有為20微米或大於20微米、40微米或大於40微米、60微米或大於60微米、80微米或大於80微米、100微米或大於100微米、120微米或大於120微米、或140微米或大於140微米的厚度,且可為900微米或小於900微米、800微米或小於800微米、700微米或小於700微米、600微米或小於600微米、500微米或小於500微米、或約400微米或小於400微米。當第一基層及第二基層的厚度滿足以上範圍時,可有利於在藉由將液晶胞與外基板進行層疊來製造光學元件時減少例如褶皺等外觀缺陷。
壓敏黏著劑層可存在於第一基層的內側表面上。在本說明書中,液晶胞中所包括的構成的「內側表面」可意指面對液晶層的表面。由於使用此種壓敏黏著劑層,可賦予於上部基板與下部基
板之間的黏著性增大,以使得在用於支撐上部基板與下部基板之間的液晶組成物的結合製程期間或在後續製程中不會發生液晶胞的分離。另外,壓敏黏著劑層對於卷至卷加工性(roll-to-roll processability)及防止液晶組成物流動可為有利的。
在本說明書中,用語「壓敏黏著劑組成物層」可意指藉由塗佈或固化壓敏黏著劑組成物而形成的層。用語「壓敏黏著劑組成物的固化」可意指藉由包含於壓敏黏著劑組成物中的組分的物理或化學作用或反應來在壓敏黏著劑組成物中構建交聯結構。可藉由實行例如室溫維護(maintenance at room temperature)、水分施加(moisture application)、熱施加(heat application)、活性能量射線照射(active energy ray irradiation)或者一起實行前述製程中的二或更多種製程來引發固化,且在每一情形中,呈固化被引發的類型的壓敏黏著劑組成物可被稱為例如室溫固化壓敏黏著劑組成物、水分固化壓敏黏著劑組成物、熱固化壓敏黏著劑組成物、活性能量射線固化壓敏黏著劑組成物或混合固化壓敏黏著劑組成物。
壓敏黏著劑層可為光學透明的。對於可見光區(例如,為380奈米至780奈米的波長),壓敏黏著劑層可具有為約80%或大於80%、85%或大於85%、90%或大於90%、或者95%或大於95%的平均透射率。
壓敏黏著劑層可為液晶定向壓敏黏著劑層。壓敏黏著劑層可為例如垂直定向壓敏黏著劑層或水平定向壓敏黏著劑層。在本說明書中,「垂直定向壓敏黏著劑」可意指在對相鄰液晶化合物
賦予垂直定向力的同時具有能夠結合上部基板與下部基板的貼附力的壓敏黏著劑。在本說明書中,「水平定向壓敏黏著劑」可意指在對相鄰液晶化合物賦予水平定向力的同時具有能夠結合上部基板與下部基板的貼附力的壓敏黏著劑。相鄰液晶化合物相對於垂直定向壓敏黏著劑的預傾角(pretilt angle)可處於為80度至90度、85度至90度或約87度至90度的範圍內,且相鄰液晶化合物相對於水平定向壓敏黏著劑的預傾角可處於為0度至10度、0度至5度或0度至3度的範圍內。根據本申請案的一個實例,壓敏黏著劑層可為垂直定向壓敏黏著劑層。
在本說明書中,預傾角可意指在未施加電壓的狀態下,由液晶化合物的指向矢(director)相對於與液晶定向壓敏黏著劑或配向膜水平的平面形成的角度。在本說明書中,液晶化合物的指向矢可意指液晶層的光軸(optical axis)或慢軸(slow axis)。作為另外一種選擇,當液晶化合物具有棒形狀時,液晶化合物的指向矢可意指長軸方向,且當液晶化合物具有盤形狀時,可意指平行於盤平面的法線方向的軸線。
當壓敏黏著劑層是垂直定向壓敏黏著劑層時,壓敏黏著劑層可具有為16毫牛/米(mN/m)或小於16毫牛/米的表面能。表面能的下限可為例如5毫牛/米或大於5毫牛/米。當壓敏黏著劑層是水平定向壓敏黏著劑層時,表面能可大於16毫牛/米。表面能的上限可為例如50毫牛/米或小於50毫牛/米。表面能可使用液滴形狀分析儀(Drop Shape Analyzer,克呂士(KRUSS)的DSA100
產品)進行量測。具體而言,將具有已知表面張力的去離子水滴加於壓敏黏著劑的表面上以獲得接觸角的製程被重複5次,藉此獲得所得五個接觸角值的平均值,且同樣將具有已知表面張力的二碘甲烷(diiodomethane)滴加於其上以獲得接觸角的製程被重複5次,藉此獲得所得五個接觸角值的平均值。然後,可藉由使用所獲得的去離子水及二碘甲烷的接觸角的平均值、透過歐文斯-溫特-拉貝爾-卡爾貝爾方法(Owens-Wendt-Rabel-Kaelble method)用數值(斯特羅姆(Strom)值)取代溶劑的表面張力來獲得表面能。樣品的表面能(γ面(γsurface))可藉由考量非極性分子之間的分散力及極性分子之間的相互作用力(γ面=γ分散+γ極性(γsurface=γdispersion+γpolar))來計算,其中表面能γ面中的極性項(polar term)(γ極性(γpolar))的比率可被定義為表面的極性(polarity)。
壓敏黏著劑層的厚度可例如處於為3微米至15微米的範圍內。當壓敏黏著劑層的厚度處於以上範圍內時,可有利於在確保上部基板與下部基板之間的貼附力的同時,將當用於製造液晶胞時壓敏黏著劑的例如擠壓或擁擠(crowding)等缺陷最小化。
作為壓敏黏著劑層,可適宜地使用在工業上被稱為所謂的光學透明黏著劑(optically clear adhesive,OCA)的各種類型的壓敏黏著劑。壓敏黏著劑可不同於在結合欲貼附對象之後固化的光學透明樹脂(optically clear resin,OCR)型黏著劑,乃因其是在結合欲貼附對象之前固化。
壓敏黏著劑層可包含矽酮壓敏黏著劑。在矽酮壓敏黏著
劑的情形中,壓敏黏著劑組成物可包含固化矽酮(silicone)化合物來作為壓敏黏著劑樹脂。包含固化矽酮(silicone)化合物來作為壓敏黏著劑樹脂的壓敏黏著劑組成物可被稱為矽酮(silicone)組成物。矽酮壓敏黏著劑可包含固化矽酮(silicone)化合物的固化產物來作為壓敏黏著劑樹脂。在使用矽酮壓敏黏著劑的情形中,其由於與液晶的表面能差異而可適合於相對於液晶表現出垂直定向力,且其在防止液晶污染方面亦可為有利的。固化矽酮化合物的類型並無特別限制,且舉例而言,可使用熱固化矽酮化合物或紫外線固化矽酮化合物。
在一個實例中,固化矽酮化合物可為加成固化矽酮化合物(addition-curing silicone compound)。
具體而言,加成固化矽酮化合物可由(1)分子中含有二或更多個烯基的有機聚矽氧烷及(2)分子中含有二或更多個矽鍵合氫原子的有機聚矽氧烷來例舉,但並非僅限於此。
此種矽酮化合物可例如在存在例如鉑等觸媒的情況下藉由加成反應而形成固化產物。
(1)有機聚矽氧烷在一個分子中包含至少兩個烯基來作為構成矽酮固化產物的主要組分。此時,烯基的具體實例包括乙烯基、烯丙基、丁烯基、戊烯基、己烯基或庚烯基以及類似基團,且通常應用前述者中的乙烯基,但並非僅限於此。在(1)有機聚矽氧烷中,如上所述的烯基的鍵合位置並無特別限制。舉例而言,烯基可鍵合至分子鏈的端部及/或分子鏈的側鏈。另外,在(1)有機
聚矽氧烷中,除了上述烯基以外亦可包含的取代基的類型可包括:烷基,例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基或庚基;芳基,例如苯基、甲苯基、二甲苯基或萘基;芳烷基,例如苄基或苯乙基;鹵素取代烷基,例如氯甲基、3-氯丙基或3,3,3-三氟丙基;以及類似基團,且通常應用前述者中的甲基或苯基,但並非僅限於此。
(1)有機聚矽氧烷的分子結構並無特別限制,其亦可具有任何形狀,例如直鏈(linear)形狀、支鏈(branched)形狀、環狀(cyclic)形狀、網狀(reticulated)形狀或者部分為支鏈的直鏈(linear with partially branched)形狀。通常應用此類分子結構之中具有直鏈分子結構的一種,但並非僅限於此。
(1)有機聚矽氧烷的更具體的實例可包括在分子鏈兩端用三甲基矽氧烷基團封端的二甲基矽氧烷-甲基乙烯基矽氧烷共聚物、在分子鏈兩端用三甲基矽氧烷基團封端的甲基乙烯基聚矽氧烷、在分子鏈兩端用三甲基矽氧烷基團封端的二甲基矽氧烷-甲基乙烯基矽氧烷-甲基苯基矽氧烷共聚物、在分子鏈兩端用二甲基乙烯基矽氧烷基團封端的二甲基聚矽氧烷、在分子鏈兩端用二甲基乙烯基矽氧烷基團封端的甲基乙烯基聚矽氧烷、在分子鏈兩端用二甲基乙烯基矽氧烷基團封端的二甲基矽氧烷-甲基乙烯基矽氧烷共聚物、在分子鏈兩端用二甲基乙烯基矽氧烷基團封端的二甲基矽氧烷-甲基乙烯基矽氧烷-甲基苯基矽氧烷共聚物、包含由R1 2SiO2/2表示的矽氧烷單元及由R1 2R2SiO1/2表示的矽氧烷單元以及由SiO4/2表示的矽氧烷單元的有機聚矽氧烷共聚物、包含由
R1 2R2SiO1/2表示的矽氧烷單元及由SiO4/2表示的矽氧烷單元的有機聚矽氧烷共聚物、包含由R1R2SiO2/2表示的矽氧烷單元及由R1SiO3/2表示的矽氧烷單元或由R2SiO3/2表示的矽氧烷單元的有機聚矽氧烷共聚物、以及前述材料中的二或更多者的混合物,但並非僅限於此。此處,R1是除烯基以外的烴基,具體而言為:烷基,例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基或庚基;芳基,例如苯基、甲苯基、二甲苯基或萘基;芳烷基,例如苄基或苯乙基;鹵素取代烷基,例如氯甲基、3-氯丙基或3,3,3-三氟丙基;以及類似基團。另外,此處,R2是烯基,其具體而言可為乙烯基、烯丙基、丁烯基、戊烯基、己烯基或庚烯基以及類似基團。
在加成固化矽酮組成物中,(2)有機聚矽氧烷可用於與(1)有機聚矽氧烷進行交聯。在(2)有機聚矽氧烷中,氫原子的鍵合位置並無特別限制,其可例如鍵合至分子鏈的端部及/或側鏈。此外,在(2)有機聚矽氧烷中,除與矽鍵合的氫原子以外亦可包含的取代基的種類並無特別限制,其可例如包括如在(1)有機聚矽氧烷中所提及的烷基、芳基、芳烷基或鹵素取代烷基以及類似基團,在該些基團之中,通常應用甲基或苯基,但並非僅限於此。
(2)有機聚矽氧烷的分子結構並無特別限制,且亦可具有任何形狀,例如直鏈形狀、支鏈形狀、環狀形狀、網狀形狀或部分為支鏈的直鏈形狀。通常應用此類分子結構之中具有直鏈分子結構的一種,但並非僅限於此。
(2)有機聚矽氧烷的更具體的實例可包括在分子鏈兩端
用三甲基矽氧烷基團封端的甲基氫聚矽氧烷、在分子鏈兩端用三甲基矽氧烷基團封端的二甲基矽氧烷-甲基氫共聚物、在分子鏈兩端用三甲基矽氧烷基團封端的二甲基矽氧烷-甲基氫矽氧烷-甲基苯基矽氧烷共聚物、在分子鏈兩端用二甲基氫矽氧烷基團封端的二甲基聚矽氧烷、在分子鏈兩端用二甲基氫矽氧烷基團封端的二甲基矽氧烷-甲基苯基矽氧烷共聚物、在分子鏈兩端用二甲基氫矽氧烷基團封端的甲基苯基聚矽氧烷、包含由R1 3SiO1/2表示的矽氧烷單元、由R1 2HSiO1/2表示的矽氧烷單元及由SiO4/2表示的矽氧烷單元的有機聚矽氧烷共聚物、包含由R1 2HSiO1/2表示的矽氧烷單元及由SiO4/2表示的矽氧烷單元的有機聚矽氧烷共聚物、包含由R1HSiO2/2表示的矽氧烷單元及由R1SiO3/2表示的矽氧烷單元或由HSiO3/2表示的矽氧烷單元的有機聚矽氧烷共聚物、以及前述材料中的二或更多者的混合物,但並非僅限於此。此處,R1是除烯基以外的烴基,其具體而言可為:烷基,例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基或庚基;芳基,例如苯基、甲苯基、二甲苯基或萘基;芳烷基,例如苄基或苯乙基;鹵素取代烷基,例如氯甲基、3-氯丙基或3,3,3-三氟丙基;以及類似基團。
(2)有機聚矽氧烷的含量並無特別限制,只要其被以可實行適宜的固化的程度包含即可。舉例而言,如上所述,可以對於(1)有機聚矽氧烷中所含有的每一個烯基有0.5至10個與矽鍵合的氫原子的量含有(2)有機聚矽氧烷。在此種範圍內,可充分實行固化,且可確保耐熱性。
加成固化矽酮組成物亦可以適宜的比率包含自改善儲存穩定性、處置性質及可加工性(workability)的視角來看所需的適宜添加劑。
在另一實例中,矽酮組成物可包含例如(a)含烷氧基的矽氧烷聚合物及(b)含羥基的矽氧烷聚合物來作為縮合固化矽酮組成物(condensation-curing silicone composition)。
(a)矽氧烷聚合物可為例如由以下式I表示的化合物。
[式I]R1 aR2 bSiOc(OR3)d
在式I中,R1及R2各自獨立地表示氫原子或者經取代或未經取代的單價烴基,R3表示烷基,其中當存在多個R1、R2及R3時,所述多個R1、R2及R3各自可彼此相同或不同,且a及b各自獨立地表示為0或大於0且小於1的數,a+b表示大於0且小於2的數,c表示大於0且小於2的數,d表示大於0且小於4的數,且a+b+c×2+d為4。
在式I的定義中,單價烴可為例如具有1至8個碳原子的烷基、苯基、苄基或甲苯基以及類似基團,其中具有1至8個碳原子的烷基可為甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、戊基、己基、庚基或辛基以及類似基團。此外,在式1的定義中,單價烴基可經例如鹵素、胺基、巰基、異氰酸酯基、縮水甘油基、縮水甘油氧基或脲基等已知的取代基取代。
在式I的定義中,R3的烷基的實例可包括甲基、乙基、
丙基、異丙基或丁基以及類似基團。在該些烷基之中,通常應用甲基或乙基以及類似基團,但並非僅限於此。
在式I的聚合物中,可使用支鏈矽氧烷聚合物或第三交聯矽氧烷聚合物。此外,在此(a)矽氧烷聚合物中,羥基可保持處於不損害本申請案的目標的範圍內,具體而言,處於不抑制脫醇反應(dealcoholization reaction)的範圍內。
(a)矽氧烷聚合物可例如藉由對多官能烷氧基矽烷或多官能氯矽烷以及類似材料進行水解及縮合來生產。此項技術中具有通常知識者可容易地依據所期望的(a)矽氧烷聚合物來選擇適宜的多官能烷氧基矽烷或多官能氯矽烷,且亦可容易地控制使用所述多官能烷氧基矽烷或所述多官能氯矽烷的水解反應及縮合反應的條件。同時,在(a)矽氧烷聚合物的生產中,端視目的而定,亦可以組合方式使用適宜的單官能烷氧基矽烷。
作為(a)矽氧烷聚合物,舉例而言,可使用可商業購得的有機矽氧烷聚合物,例如信越矽酮(Shin-Etsu Silicone)的X40-9220或X40-9225,或GE東麗矽酮(GE Toray Silicone)的XR31-B1410、XR31-B0270或XR31-B2733。
作為縮合固化矽酮組成物中所含有的(b)含羥基的矽氧烷聚合物,舉例而言,可使用由以下式II表示的化合物。
在式II中,R4及R5各自獨立地表示氫原子或者經取代或未經取代的單價烴基,其中當存在多個R4及R5時,所述多個R4及R5可彼此相同或不同,且n表示5至2,000的整數。
在式II的定義中,單價烴基的具體類型可包括例如與以上式1的情形相同的烴基。
(b)矽氧烷聚合物可例如藉由對二烷氧基矽烷及/或二氯矽烷以及類似基團進行水解及縮合來生產。此項技術中具有通常知識者可容易地根據所期望的(b)矽氧烷聚合物來選擇適宜的二烷氧基矽烷或二氯矽烷,且亦可容易地控制使用所述二烷氧基矽烷或所述二氯矽烷的水解反應及縮合反應的條件。作為上述(b)矽氧烷聚合物,可使用可商業購得的雙官能有機矽氧烷聚合物,例如GE東麗矽酮的XC96-723、YF-3800或YF-3804以及類似材料。
根據本申請案,藉由在為110℃的溫度下控制壓敏黏著劑層的儲存彈性模數及正切δ值,可防止在高溫及高壓熱壓反應之後出現擠壓黑斑。在本說明書中,正切δ(tanδ)值為G"/G'(G'為儲存彈性模數,且G"為損耗彈性模數(loss elastic modulus))。儲存彈性模數(G')可意指壓敏黏著劑的彈性,且損耗彈性模數(G")可意指壓敏黏著劑的黏度。隨著儲存彈性模數的增大,可稱壓敏黏著劑是硬(hard)的且具有高彈性,且隨著損耗彈性模數的增大,可稱壓敏黏著劑是軟(soft)的且具有高黏度。由於壓敏黏著劑同時具有彈性與黏度,因此彈性及黏度可被表示為損耗係數tan δ值,其為損耗彈性模數對儲存彈性模數的比率,其中若tan δ值小於1,
則可稱其具有高彈性特性,而若tan δ值大於1,則可稱其具有高黏度特性。
在一個實例中,壓敏黏著劑層在為110℃的溫度及為1弧度/秒(rad/sec)的頻率下的儲存彈性模數可為18,000帕或大於18,000帕。壓敏黏著劑層在為110℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下的儲存彈性模數可為100,000帕或小於100,000帕。壓敏黏著劑層的儲存彈性模數可具體為19,000帕或大於19,000帕、19,500帕或大於19,500帕、20,000帕或大於20,000帕、20,500帕或大於20,500帕、21,000帕或大於21,000帕、21,500帕或大於21,500帕、22,000帕或大於22,000帕、22,500帕或大於22,500帕、23,000帕或大於23,000帕、23,500帕或大於23,500帕、24,000帕或大於24,000帕、24,500帕或大於24,500帕、25,000帕或大於25,000帕、30,000帕或大於30,000帕、35,000帕或大於35,000帕、40,000帕或大於40,000帕、45,000帕或大於45,000帕、或50,000帕或大於50,000帕,且可為90,000帕或小於90,000帕、85,000帕或小於85,000帕、80,000帕或小於80,000帕、75,000帕或小於75,000帕、70,000帕或小於70,000帕、65,500帕或小於65,500帕、60,000帕或小於60,000帕、55,000帕或小於55,000帕、50,000帕或小於50,000帕、45,500帕或小於45,500帕、40,000帕或小於40,000帕、35,500帕或小於35,500帕、30,000帕或小於30,000帕、25,000帕或小於25,000帕、25,500帕或小於25,500帕、24,000帕或小於24,000帕、23,500帕或小於23,500帕、23,000帕或小於23,000帕、
22,000帕或小於22,000帕、21,000帕或小於21,000帕、或20,000帕或小於20,000帕。當壓敏黏著劑層在為110℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下的儲存彈性模數處於以上範圍內時,可防止在高溫及高壓熱壓反應之後出現擠壓黑斑。
在一個實例中,壓敏黏著劑層在為25℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下可具有為10,000帕或大於10,000帕的儲存彈性模數。壓敏黏著劑層在為25℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下可具有為1,100,000或小於1,100,000的儲存彈性模數。壓敏黏著劑層的儲存彈性模數可具體為30,000帕或大於30,000帕、35,000帕或大於35,000帕、50,000帕或大於50,000帕、100,000帕或大於100,000帕、150,000帕或大於150,000帕、200,000帕或大於200,000帕、250,000帕或大於250,000帕、300,000帕或大於300,000帕、350,000帕或大於350,000帕、400,000帕或大於400,000帕、500,000帕或大於500,000帕、600,000帕或大於600,000帕、700,000帕或大於700,000帕、800,000帕或大於800,000帕、900,000帕或大於900,000帕、或1,000,000帕或大於1,000,000帕,且可為900,000帕或小於900,000帕、800,000帕或小於800,000帕、700,000帕或小於700,000帕、600,000帕或小於600,000帕、500,000帕或小於500,000帕、450,000帕或小於450,000帕400,000帕或小於400,000帕、350,000帕或小於350,000帕、300,000帕或小於300,000帕、250,000帕或小於250,000帕、200,000帕或小於200,000帕、150,000帕或小於150,000帕、100,000帕或小於100,000帕、或50,000帕或小
於50,000帕。當壓敏黏著劑層在為25℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下的儲存彈性模數處於以上範圍內時,在液晶胞的製造期間壓敏黏著劑的例如擠壓(pressing)或推動(pushing)等缺陷被最小化,同時上部基板與下部基板之間的黏著性得到確保,由此可有利於確保極佳的電光特性(electro-optical characteristic)及外觀均勻性(appearance uniformity)。
在一個實例中,壓敏黏著劑層在為110℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下的正切δ值可為0.32或小於0.32。壓敏黏著劑層在為110℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下的正切δ值可為0.1或大於0.1。壓敏黏著劑層的正切δ值可具體為0.31或小於0.31、0.30或小於0.30、0.29或小於0.29、0.28或小於0.28、0.27或小於0.27、0.26或小於0.26、0.25或小於0.25、0.24或小於0.24、0.23或小於0.23、或0.22或小於0.22,且可為0.12或大於0.12、0.14或大於0.14、0.16或大於0.16、0.18或大於0.18、0.20或大於0.20、0.22或大於0.22、0.24或大於0.24、0.26或大於0.26、0.28或大於0.28、0.30或大於0.30。當壓敏黏著劑層在為110℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下的正切δ值處於以上範圍內時,可防止在高溫及高壓熱壓反應之後出現擠壓黑斑。
在一個實例中,壓敏黏著劑層在為25℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下可具有為2.0或小於2.0的正切δ值。壓敏黏著劑層在為25℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下可具有為0.1或大於0.1的正切δ值。壓敏黏著劑層的正切δ值可具體為0.1或大於
0.1、0.2或大於0.2、0.3或大於0.3、0.4或大於0.4、0.5或大於0.5、0.6或大於0.6、0.7或大於0.7、0.8或大於0.8、0.9或大於0.9、1.0或大於1.0、1.1或大於1.1、1.2或大於1.2、1.3或大於1.3、1.4或大於1.4、或1.5或大於1.5,且可為2.0或小於2.0、1.9或小於1.9、1.8或小於1.8、1.7或小於1.7、1.6或小於1.6、1.5或小於1.5、1.4或小於1.4、1.3或小於1.3、1.2或小於1.2、1.1或小於1.1、1.0或小於1.0、0.9或小於0.9、0.8或小於0.8、0.7或小於0.7、0.6或小於0.6、0.5或小於0.5、或0.45或小於0.45。當壓敏黏著劑層在為25℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下的正切δ值處於以上範圍內時,在液晶胞的製造期間壓敏黏著劑的例如擠壓或推動等缺陷被最小化,同時上部基板與下部基板之間的黏著性得到確保,由此可有利於確保極佳的電光特性及外觀均勻性。
已知一種控制壓敏黏著劑層的儲存彈性模數及正切δ值的方法,且在本申請案中,所述控制儲存彈性模數及正切δ值的方法並無特別限制。在一個實例中,可藉由適宜地調節壓敏黏著劑及/或壓敏黏著劑組成物的觸媒或交聯劑且適宜地調節壓敏黏著劑的固化條件來控制壓敏黏著劑層的儲存彈性模數及正切δ值。以下內容僅是用於提供本申請案的壓敏黏著劑的示例性條件,但本申請案的範圍並非僅限於此。
在一個實例中,壓敏黏著劑及/或壓敏黏著劑組成物可更包含用於固化的觸媒。作為觸媒,舉例而言,可使用鉑系觸媒。可
慮及壓敏黏著劑層的所期望物理性質來調節觸媒的含量。相對於100重量份的壓敏黏著劑樹脂,可以為0.1重量份或大於0.1重量份、0.5重量份或大於0.5重量份、或1重量份或大於1重量份的量包含所述觸媒,且可以為1.5重量份或小於1.5重量份、1.3重量份或小於1.3重量份、或1.1重量份或小於1.1重量份的量包含所述觸媒。
根據本申請案的實例,在除觸媒含量以外的其他條件相同的情形中,隨著觸媒含量的增加,儲存彈性模數趨於降低,且正切δ值亦趨於降低。
在一個實例中,壓敏黏著劑及/或壓敏黏著劑組成物可更包含交聯劑。作為交聯劑,舉例而言,可使用矽烷化合物。矽烷化合物可為例如由式1或式2表示的化合物。相對於100重量份的壓敏黏著劑樹脂,可以為1重量份或大於1重量份、2重量份或大於2重量份、3重量份或大於3重量份、4重量份或大於4重量份、5重量份或大於5重量份、7重量份或大於7重量份、10重量份或大於10重量份、12重量份或大於12重量份、或15重量份或大於15重量份的量包含所述交聯劑,且可以為20重量份或小於20重量份、19重量份或小於19重量份、18重量份或小於18重量份、17重量份或小於17重量份、16重量份或小於16重量份、15重量份或小於15重量份、13重量份或小於13重量份、11重量份或小於11重量份、9重量份或小於9重量份、7重量份或小於7重量份、5重量份或小於5重量份、或3重量份或小於3重量份的
量包含所述交聯劑。
在式1中,R1至R8可各自獨立地為具有1至4個碳原子的烷基。具體而言,在式1中,R1至R8可各自獨立地為具有1至3個碳原子的烷基,或者具有1至2個碳原子的烷基。根據本申請案的一個實例,R1至R8可各自為甲基。
在式2中,R1是具有10至30個碳原子的烷基,且R2至R4各自獨立地為具有1至4個碳原子的烷基。在式2中,R1可為具有10或大於10、12或大於12、14或大於14、16或大於16、或18或大於18個碳原子的烷基。在式2中,R1可為具有30或小於30、28或小於28、26或小於26、24或小於24、22或小於22、20或小於20、或18或小於18個碳原子的烷基。烷基可為直鏈烷基。在式2中,R2至R4可各自獨立地為具有1至4個碳原子的烷
基、具有1至3個碳原子的烷基、或具有1至2個碳原子的烷基。根據本申請案的一個實例,R2至R4可各自為甲基。
在一個實例中,用於提供壓敏黏著劑層的固化溫度可處於例如約140℃至180℃的範圍內。用於提供壓敏黏著劑的固化時間可為例如3分鐘至15分鐘。具體而言,壓敏黏著劑層可藉由將壓敏黏著劑組成物塗佈於離型膜(release film)上且然後在以上條件下對其進行固化來提供。根據本申請案的實例,在除固化時間以外的其他條件相同的情形中,隨著固化時間的增加,儲存彈性模數趨於增大,且正切δ值趨於減小。根據本申請案的實例,在除固化溫度以外的其他條件相同的情形中,隨著固化溫度的升高,儲存彈性模數趨於增大,且正切δ值趨於減小。
液晶胞的上部基板及下部基板可藉由壓敏黏著劑層進行貼附。具體而言,上部基板的壓敏黏著劑層與下部基板的間隔件可進行貼附。當在下部基板的間隔件上形成配向膜時,對應於配向膜的間隔件的區可貼附至上部基板的壓敏黏著劑層。
液晶化合物可藉由施加電壓來切換其定向狀態。作為液晶化合物,可使用能夠藉由施加外部作用而改變配向方向的液晶化合物。在本說明書中,用語「外部作用」可意指可能影響液晶層中所包含的材料的行為的所有外部因素,例如外部電壓或類似因素。因此,不具有任何外部作用的狀態可意指未施加外部電壓或類似因素的狀態。
可慮及本申請案的目的來適宜地選擇液晶化合物的類型
及物理性質。在一個實例中,液晶化合物可為向列(nematic)液晶或層列(smectic)液晶。向列液晶可意指棒狀液晶分子在液晶分子的長軸方向上平行排列(儘管其位置不存在規則性)的液晶。層列液晶可意指棒狀液晶分子規則地排列以形成層狀結構且在長軸方向上規則地平行排列的液晶。根據本申請案的一個實例,液晶化合物可為向列液晶化合物。
作為向列液晶化合物,可選擇具有為例如約40℃或大於40℃、50℃或大於50℃、60℃或大於60℃、70℃或大於70℃、80℃或大於80℃、90℃或大於90℃、100℃或大於100℃、或者約110℃或大於110℃的清亮點(clearing point)者、或者具有處於以上範圍內的相變點(phase transition point)(即,向列相上向各向同性相的相變點)者。在一個實例中,清亮點或相變點可為約160℃或小於160℃、150℃或小於150℃、或者約140℃或小於140℃。
液晶化合物可為非反應性液晶化合物。非反應性液晶化合物可意指不具有可聚合基團的液晶化合物。可聚合基團可由丙烯醯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯基、甲基丙烯醯氧基、羧基、羥基、乙烯基或環氧基及類似基團來例舉,但並非僅限於此,且可包括稱為可聚合基團的官能基。
液晶化合物可具有為正數或負數的介電常數各向異性。可慮及本申請案的目的來適宜地選擇液晶化合物的介電常數各向異性的絕對值。用語「介電常數各向異性(△ε)」可意指液晶的水平介電常數(ε//)與垂直介電常數(ε⊥)之間的差(ε//-ε⊥)。在
本說明書中,用語水平介電常數(ε//)意指在施加電壓使得液晶的指向矢與由所施加電壓產生的電場的方向實質上水平的狀態下,沿電場的方向量測的介電常數值,且垂直介電常數(ε⊥)意指在施加電壓使得液晶的指向矢與由所施加電壓產生的電場的方向實質上垂直的狀態下,沿電場的方向量測的介電常數值。液晶分子的介電常數各向異性可處於5至25的範圍內。
可慮及本申請案的目的來適宜地選擇液晶化合物的折射率各向異性(△n)。在本說明書中,用語「折射率各向異性」可意指液晶化合物的超常折射率(extraordinary refractive index)(ne)與尋常折射率(ordinary refractive index)(no)之間的差(ne-no)。液晶化合物的折射率各向異性可為例如0.01至0.3。折射率各向異性可為0.01或大於0.01、0.05或大於0.05、或者0.07或大於0.07,且可為0.3或小於0.3、0.2或小於0.2、0.15或小於0.15、或者0.13或小於0.13。
液晶層可更包含二色性染料。二色性染料可控制液晶層的透光率可變性質。在本說明書中,用語「染料」可意指能夠在可見光區內的範圍中的至少一部分或全部範圍內(例如,在400奈米至700奈米的波長範圍內)強烈地吸收光及/或使光變形的材料,且用語「二色性染料」可意指能夠在可見光區的範圍中的至少一部分或全部範圍內各向異性吸收光的材料。
包含液晶化合物及二色性染料的液晶層可為GHLC層(客體主體液晶層(guest host liquid crystal layer))。在本說明書
中,「GHLC層(客體主體液晶層(guest host liquid crystal layer))」可意指如下功能層:二色性染料依據液晶化合物的排列而排列於一起,以分別相對於二色性染料的配向方向及垂直於配向方向的方向表現出各向異性光吸收特性。舉例而言,二色性染料是光的吸收率隨偏振方向變化的物質,其中若在長軸方向上偏振的光的吸收率大,則其可被稱為p型染料,且若在短軸方向上的偏振光的吸收率大,則其可被稱為n型染料。在一個實例中,當使用p型染料時,在染料的長軸方向上振動的偏振光可能被吸收,且在染料的短軸方向上振動的偏振光可能較少被吸收而被透射。在下文中,除非另外指明,否則二色性染料被假定為p型染料。
作為二色性染料,舉例而言,可選擇及使用已知具有能夠藉由所謂的客體主體效應根據液晶化合物的定向狀態而配向的性質的已知染料。此種二色性染料的實例包括偶氮染料、蒽醌染料、次甲基染料、偶氮次甲基染料、部花青染料、萘醌染料、四嗪染料、伸苯基染料、四萘嵌苯染料(quaterrylene dye)、苯並噻二唑染料、二酮吡咯並吡咯染料、方酸菁染料(squaraine dye)或吡咯亞甲基染料及類似染料,但可應用於本申請案中的染料並非僅限於此。
作為二色性染料,可使用具有為5或大於5、6或大於6、或者7或大於7的二色性比率(dichroic ratio)的染料,所述二色性比率即藉由將平行於二色性染料的長軸方向的偏振光的吸收率除以平行於與長軸方向垂直的方向的偏振光的吸收率而獲得的值。染料可在處於可見光區的波長範圍內(例如,處於約380奈米至
700奈米或約400奈米至700奈米的波長範圍內)的波長中的至少一部分或者任一波長中滿足二色性比率。二色性比率的上限可為例如20或小於20、18或小於18、16或小於16、或者14或小於14左右。
可慮及本申請案的目的來適宜地選擇液晶層中的二色性染料的含量。舉例而言,液晶層中的二色性染料的含量可為0.2重量%或大於0.2重量%。二色性染料的含量具體而言可為0.5重量%或大於0.5重量%、1重量%或大於1重量%、2重量%或大於2重量%、或者3重量%或大於3重量%。二色性染料的含量的上限可為例如10重量%或小於10重量%、9重量%或小於9重量%、8重量%或小於8重量%、6重量%或小於6重量%、或者5重量%或小於5重量%。當液晶層中的二色性染料的含量過小時,可能難以表現出所期望的透射率可變特性,且當液晶層中的二色性染料的含量過大時,存在沈澱的風險。因此,二色性染料的含量處於以上範圍內可為有利的。
液晶層的厚度並無特別限制,且舉例而言,液晶層的厚度可為約0.01微米或大於0.01微米、0.05微米或大於0.05微米、0.1微米或大於0.1微米、0.5微米或大於0.5微米、1微米或大於1微米、1.5微米或大於1.5微米、2微米或大於2微米、2.5微米或大於2.5微米、3微米或大於3微米、3.5微米或大於3.5微米、4微米或大於4微米、4.5微米或大於4.5微米、5微米或大於5微米、5.5微米或大於5.5微米、6微米或大於6微米、6.5微米或大
於6.5微米、7微米或大於7微米、7.5微米或大於7.5微米、8微米或大於8微米、8.5微米或大於8.5微米、9微米或大於9微米、或者9.5微米或大於9.5微米。液晶層的厚度的上限並無特別限制,其可一般為約30微米或小於30微米、25微米或小於25微米、20微米或小於20微米、或者15微米或小於15微米。
液晶胞可根據所施加的電壓來切換液晶層的定向狀態。在一個實例中,在無電壓被施加至液晶胞的狀態下,液晶層可具有第一定向狀態,且在電壓被施加至液晶胞的狀態下,液晶層可具有不同於第一定向狀態的第二定向狀態。第一定向狀態及/或第二定向狀態可由水平定向狀態、垂直定向狀態、扭曲定向狀態、傾斜定向狀態、混合定向狀態及類似定向狀態來例舉。
在本說明書中,「水平定向狀態」是液晶層中的液晶化合物的指向矢實質上平行於液晶層的平面進行排列的狀態,其中,舉例而言,由所述指向矢相對於液晶層的平面而形成的角度可例如處於約-10度至10度或-5度至5度的範圍內,或者可形成近似約0度。
在本說明書中,「垂直定向狀態」是液晶層中的液晶化合物的指向矢實質上垂直於液晶層的平面進行排列的狀態,其中,舉例而言,由所述指向矢相對於液晶層的平面而形成的角度可例如處於約80度至100度或85度至95度的範圍內,或者可形成近似約90度。
在本說明書中,「扭曲定向狀態」可意指螺旋結構,在所
述螺旋結構中,液晶層中的液晶化合物的指向矢沿假想的螺旋軸線而扭曲以形成層並進行定向。扭曲定向狀態可以垂直定向狀態、水平定向狀態或斜置定向狀態(oblique orientational state)實施,亦即,垂直扭曲定向模式是各別液晶化合物在垂直定向狀態下沿螺旋軸線而扭曲以形成層的狀態;水平扭曲定向模式是各別液晶化合物在水平定向狀態下沿螺旋軸線而扭曲以形成層的狀態;並且斜置扭曲定向模式是各別液晶化合物在斜置定向狀態下沿螺旋軸線而扭曲以形成層的狀態。
在本說明書中,「混合定向狀態」可意指以下一種定向狀態:在所述定向狀態中,傾角沿液晶層的厚度方向逐漸增大或減小,所述傾斜角是由液晶層中的液晶化合物的指向矢相對於液晶層的平面形成的角度。
在一個實例中,第一定向狀態可為扭曲定向狀態。亦即,液晶層可藉由施加外部能量而在扭曲定向與不同於扭曲定向的定向狀態之間切換。
在一個實例中,液晶層可在扭曲定向狀態與垂直定向狀態之間切換。在一個實例中,液晶層可在未施加電壓的狀態下處於垂直定向狀態,且可在施加電壓的狀態下處於扭曲定向狀態。扭曲定向可為水平扭曲定向。
液晶層可更包含手性摻雜劑。當液晶層包含手性劑時,可實施扭曲定向狀態。液晶層中所可包含的手性劑(chiral agent)(或手性摻雜劑(chiral dopant))可無特別限制地使用,只要其可誘導
所期望的旋轉(扭曲(twisting))而不使液晶性(例如,向列規則性)劣化即可。用於在液晶化合物中誘導旋轉的手性劑需要在分子結構中至少包括手性(chirality)。手性劑可由例如以下來例舉:具有一個或者二或更多個不對稱碳(asymmetric carbon)的化合物;在雜原子上具有不對稱點(asymmetric point)的化合物,例如手性胺或手性亞碸;或者具有軸向不對稱(axially asymmetric)及光學活性位點(optically active site)的化合物,例如疊烯類(cumulene)或聯萘酚(binaphthol)。手性劑可為例如具有為1,500或小於1,500的分子量的低分子量化合物。作為手性劑,亦可使用可商業購得的手性向列液晶,例如可自默克有限公司(Merck Co.,Ltd.)商業購得的手性摻雜劑液晶S811或者巴斯夫(BASF)的LC756。
可選擇手性摻雜劑的施加率,以使得可達成所期望的節距(P)。一般而言,手性摻雜劑的含量(重量%)可藉由方程式100/(HTP×P)來計算。HTP表示手性摻雜劑的螺旋扭曲力(helical twisting power),其中單位可為微米-1(μm-1)。P可為處於扭曲定向狀態的液晶的節距,其中單位可為微米。液晶層的節距(P)可藉由使用楔形胞(wedge cell)的量測方法來量測,且具體而言,可藉由在D.波多斯基(D.Podolskyy)等人的「使用「條紋-楔形」格朗讓-喀諾劈胞準確量測膽甾型節距的簡單方法(Simple method for accurate measurements of the cholesteric pitch using a“stripe-wedge”Grandjean-Cano cell)」(液晶(Liquid Crystals),第35卷,第7期,2008年7月,789-791)中闡述的方法來量測。HTP值可
藉由使用上述楔形胞(wedge cell)的量測方法來量測。作為另外一種選擇,HTP值一般可自液晶及手性摻雜劑的供應商提供。可參照以上方法在慮及所期望節距的情況下確定手性摻雜劑的含量。
在一個實例中,處於扭曲定向狀態的液晶的節距(單位:微米)可處於15微米至50微米的範圍內。所述節距可具體為16微米或大於16微米、17微米或大於17微米、18微米或大於18微米、19微米或大於19微米、或20微米或大於20微米,且可為50微米或小於50微米、45微米或小於45微米、40微米或小於40微米、35微米或小於35微米、或30微米或小於30微米。
液晶胞的上部基板可更包括位於第一基層(10a)與壓敏黏著劑層(10c)之間的第一電極層(10b)。第一電極層(10b)可接觸第一基層(10a)的內側表面。壓敏黏著劑層(10c)可接觸第一電極層(10b)的內側表面。液晶胞的下部基板可更包括位於第二基層(20a)與間隔件(20c)之間的第二電極層(20b)。第二電極層(20b)可接觸第二基層(20a)的內側表面。間隔件(20c)可接觸第二電極層(20b)的內側表面。
第一電極層及第二電極層可用於提供外部作用(例如,電場)的施加,以使液晶層中所包含的材料透射或阻擋入射光。在一個實例中,第一電極層及/或第二電極層可包含導電聚合物、導電金屬、導電奈米線或例如氧化銦錫(ITO)等金屬氧化物以及類似材料,但並非僅限於此。上部第一電極層及/或上部第二電極層可藉由例如沈積導電聚合物、導電金屬、導電奈米線或例如氧化銦錫
(ITO)等金屬氧化物來形成。
液晶胞的下部基板可更包括配向膜(20d)。配向膜(20d)可存在於間隔件(20c)上。亦即,間隔件(20c)的頂表面部分及/或側表面部分可接觸配向膜。間隔件(20c)的下表面部分可接觸第二電極層(20b)。由於上部基板中所包括的壓敏黏著劑層可具有液晶定向,因此上部基板可不包括配向膜。亦即,在第一電極層(10b)及/或壓敏黏著劑層(10c)的內側表面上可不包括配向膜。
在本說明書中,第一基層、第一電極層及壓敏黏著劑層的組合可被稱為上部基板,且第二基層、第二電極層、間隔件及配向膜的組合可被稱為下部基板。在液晶胞中,上部基板可能除壓敏黏著劑層以外不包括單獨的配向膜,且下部基板可包括配向膜。
配向膜與液晶層可彼此接觸。配向膜可為垂直配向膜或水平配向膜。在本說明書中,「水平配向膜」可意指包含向存在於相鄰液晶層中的液晶化合物賦予水平定向力的定向材料的層。在本說明書中,「垂直配向膜」可意指包含向存在於相鄰液晶層中的液晶化合物賦予垂直定向力的定向材料的層。相鄰液晶化合物可相對於垂直配向膜具有處於80度至90度、85度至90度或約87度至90度的範圍內的預傾角,且相鄰液晶化合物可相對於水平配向膜具有處於0度至10度、0度至5度或0度至3度的範圍內的預傾角。與壓敏黏著劑層不同,配向膜可能不具有用於結合上部基板與下部基板的黏著力。在一個實例中,在圖1所示液晶胞的狀態下,配向膜可相對於第一基層具有接近零的剝離力。
配向膜可為摩擦配向膜(rubbing alignment film)或光配向膜(photo-alignment film)。配向膜的定向方向在摩擦配向膜的情形中可為摩擦方向,且在光配向膜的情形中可為欲照射的偏振光的方向,其中此種配向方向可藉由使用吸收型線性偏振器的偵測方法來確認。具體而言,藉由在液晶層中所包含的液晶化合物水平定向的狀態下在液晶層的一側上設置吸收型線性偏振器並且在以360度旋轉偏振器的同時量測透射率,可確認定向方向。當在以上狀態下用光照射液晶層的所述一側或吸收型線性偏振器且同時自另一側量測亮度(透射率)時,若吸收軸線或透射軸線與液晶配向膜的定向方向一致,則透射率趨於低,其中定向方向可藉由反映所施加的液晶化合物的折射率各向異性或類似性質的模擬(simulation)來確認。已知一種根據液晶層的模式來確認定向方向的方法,且在本申請案中,可藉由此種已知方法來確認配向膜的定向方向。
配向膜可包含選自由以下組成的群組的一或多者:已知藉由摩擦定向而表現出定向能力的材料,例如聚醯亞胺(polyimide)化合物、聚(乙烯醇)(poly(vinyl alcohol))化合物、聚(醯胺酸)(poly(amic acid))化合物、聚苯乙烯(polystylene)化合物、聚醯胺(polyamide)化合物及聚氧乙烯(polyoxyethylene)化合物;或者已知藉由光照射表現出定向能力的材料,例如聚醯亞胺(polyimide)化合物、聚醯胺酸(polyamic acid)化合物、聚降冰片烯(polynorbornene)化合物、苯基馬來醯亞胺共聚物
(phenylmaleimide copolymer)化合物、聚乙烯基肉桂酸酯(polyvinylcinamate)化合物、聚偶氮苯(polyazobenzene)化合物、聚乙烯醯亞胺(polyethyleneimide)化合物、聚乙烯醇(polyvinylalcohol)化合物、聚醯胺(polyamide)化合物、聚乙烯(polyethylene)化合物、聚苯乙烯(polystylene)化合物、聚伸苯基鄰苯二甲醯胺(polyphenylenephthalamide)化合物、聚酯(polyester)化合物、氯甲基化聚醯亞胺(chloromethylated polyimide,CMPI)化合物、聚乙烯基肉桂酸酯(polyvinylcinnamate,PVCI)化合物及聚甲基丙烯酸甲酯化合物,但並非僅限於此。
間隔件(20c)可維持上部基板與下部基板之間的間隙。液晶層可存在於其中上部基板與下部基板之間不存在間隔件的區中。
間隔件可為圖案化間隔件。間隔件可具有柱形狀(column shape)或分隔壁形狀(partition wall shape)。在一個實例中,間隔件可具有分隔壁形狀。當間隔件具有分隔壁形狀時,在維持液晶胞的高度及改善液晶胞的物理剛性方面可為有利的。分隔壁可將下部基板與上部基板之間的空間分隔成二或更多個空間。在其中不存在間隔件的區中,存在於下部部分中的其他膜或其他層可被暴露出。舉例而言,在其中不存在間隔件的區中,第二電極層可被暴露出。配向膜可覆蓋間隔件及在其中不存在間隔件的區中被暴露出的第二電極層。在其中上部基板與下部基板結合於一起的液晶胞中,存在於下部基板的間隔件上的配向膜與上部基板的壓敏黏
著劑層可彼此接觸。
液晶化合物及上述添加劑(例如,二色性染料、手性劑及類似材料)可存在於上部基板與下部基板之間的其中不存在間隔件的區中。間隔件的形狀並無特別限制,其可無限制地應用,以具有例如圓形狀、橢圓形狀或其他多邊形形狀的多面體。
間隔件可包含可固化樹脂。可固化樹脂的類型並無特別限制,其中舉例而言,可使用熱固性樹脂或例如可紫外固化樹脂(ultraviolet curable resin)等光固化樹脂。作為熱固性樹脂,可使用例如矽酮樹脂、矽樹脂、弗蘭樹脂(fran resin)、聚胺基甲酸酯樹脂、環氧樹脂、胺基樹脂、苯酚樹脂、脲樹脂、聚酯樹脂或三聚氰胺樹脂及類似材料,但並非僅限於此。作為可紫外固化樹脂,通常可使用丙烯酸聚合物,例如聚酯丙烯酸酯聚合物、聚苯乙烯丙烯酸酯聚合物、環氧丙烯酸酯聚合物、聚胺基甲酸酯丙烯酸酯聚合物或聚丁二烯丙烯酸酯聚合物、矽酮丙烯酸酯聚合物或烷基丙烯酸酯聚合物及類似材料,但並非僅限於此。
間隔件可藉由圖案化製程來形成。舉例而言,間隔件可藉由微影製程(photolithography process)來形成。微影製程可包括在基層或電極層上施加可固化樹脂組成物且然後藉由圖案遮罩用紫外射線對其進行照射的製程。圖案遮罩可被圖案化成紫外透射區及紫外阻擋區。微影製程可更包括清洗用紫外射線照射的可固化樹脂組成物的製程。用紫外射線照射的區被固化,且未用紫外射線照射的區保持處於液相,以使其藉由清洗(washing)過程被移
除,由此其可被圖案化成分隔壁形狀。在微影製程中,可對圖案遮罩實行離型處理(release treatment),以便在紫外照射之後容易地分離樹脂組成物與圖案遮罩,或者亦可在由樹脂組成物形成的層與圖案遮罩之間放置離型紙(release paper)。
間隔件的寬度(線寬)、間距(節距)、厚度及面積可在不損害本申請案的目的的範圍內適宜地選擇。舉例而言,間隔件的寬度(線寬)可處於10微米至500微米的範圍內,或者可處於10微米至50微米的範圍內。間隔件的間距(節距)可處於10微米至1000微米的範圍內,或者可處於100微米至1000微米的範圍內。相對於第二基層的總面積的100%,間隔件的面積可為約5%或大於5%,且可為50%或小於50%。當間隔件的面積處於以上範圍內時,可有利於在充分確保上部基板與下部基板之間的貼附力的同時確保極佳的電光性質。間隔件的厚度的範圍可例如介於1微米至30微米或3微米至20微米。
所述光學元件可更包括結合至液晶胞的兩側的外基板。液晶胞與外基板的結合可藉由黏著劑層來實行。在一個實例中,如圖2中所示,光學元件可依序包括第一外基板(101)、第一黏著劑層(301)、液晶胞(200)、第二黏著劑層(302)及第二外基板(102)。
可藉由高溫及高壓熱壓反應製程實行將外基板貼附至液晶胞。在此種熱壓反應製程中,由於壓敏黏著劑層的熔化(melting)不均勻性、異物、具有以下欲闡述的偏振器的基層的收縮及膨脹、以及類似因素,壓力可能局部地施加至包括所述黏著劑層的液晶
胞,但此種壓力可能在熱壓反應之後表現出擠壓黑斑。根據本申請案,藉由控制液晶胞中所包含的壓敏黏著劑層的在110℃下的儲存彈性模數及正切δ值,壓敏黏著劑層較少變形,且即使當施加局部壓力時,間隔件亦難以穿透壓敏黏著劑層的內部,以使得可防止擠壓黑斑。
第一外基板及第二外基板可各自獨立地為無機基板或塑膠基板。眾所習知的無機基板可用作所述無機基板,而無任何特別限制。在一個實例中,具有極佳透光率的玻璃基板可用作所述無機基板。作為玻璃基板的實例,可使用鈉鈣玻璃基板、一般強化玻璃基板、硼矽酸鹽玻璃基板或無鹼玻璃基板及類似基板,但並非僅限於此。作為聚合物基板,可使用以下材料,但並非僅限於此:纖維素膜,例如三乙醯纖維素(TAC)或二乙醯纖維素(DAC);環烯烴共聚物(COP)膜,例如降冰片烯衍生物;丙烯酸膜,例如聚丙烯酸酯(PAC)或聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA);聚碳酸酯(PC)膜;聚烯烴膜,例如聚乙烯(PE)或聚丙烯(PP);聚乙烯醇(PVA)膜;聚醯亞胺(PI)膜;碸系膜,例如聚碸(PSF)膜、聚苯碸(PPS)膜或聚醚碸(PES)膜;聚醚醚酮(PEEK)膜;聚醚醯亞胺(PEI)膜;聚酯系膜,例如聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)膜或聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜;或者氟樹脂膜;以及類似材料。在第一外基板及第二外基板中的每一者中,亦可根據需要存在由金、銀或矽化合物(例如二氧化矽或一氧化矽)形成的塗層或者例如減反射層等功能層。
在一個實例中,第一外基板及/或第二外基板可為玻璃基板。
第一外基板及第二外基板可各自具有為約0.3毫米或大於0.3毫米的厚度。在另一實例中,厚度可為約0.5毫米或大於0.5毫米、1毫米或大於1毫米、1.5毫米或大於1.5毫米、或者約2毫米或大於2毫米,且亦可為約10毫米或小於10毫米、9毫米或小於9毫米、8毫米或小於8毫米、7毫米或小於7毫米、6毫米或小於6毫米、5毫米或小於5毫米、4毫米或小於4毫米、或者約3毫米或小於3毫米。
第一外基板及第二外基板可為平的基板或者可為具有彎曲表面形狀的基板。舉例而言,第一外基板與第二外基板可同時為平的基板、同時具有彎曲表面形狀、或者任一者可為平的基板且另一者可為具有彎曲表面形狀的基板。另外,此處,在同時具有彎曲表面形狀的情形中,相應的曲率或曲率半徑可相同或不同。在本說明書中,曲率或曲率半徑可以工業上已知的方式來量測,且例如可使用例如二維(two-dimensional,2D)輪廓雷射感測器(profile laser sensor)、色象共焦線感測器(chromatic confocal line sensor)或三維(three-dimensional,3D)量測共焦顯微鏡(measuring confocal microscopy)等非接觸式裝置來量測。使用此種裝置量測曲率或曲率半徑的方法是已知的。
在第一外基板及第二外基板中,兩個曲率均可具有相同的符號。換言之,第一外基板與第二外基板可在相同的方向上彎
折。亦即,在以上情形中,第一外基板的曲率中心與第二外基板的曲率中心二者存在於第一外基板及第二外基板的上部部分及下部部分的相同部分中。當第一外基板與第二外基板在相同的方向上彎折時,第一外基板與第二外基板可藉由黏著劑層更高效地結合,且在結合之後,可更有效地防止第一外基板及第二外基板與液晶胞及/或偏振器的結合力劣化。
第一黏著劑層的一側可接觸第一外基板。當在第一外基板與液晶胞之間未更包括另一部件(例如,以下欲闡述的第一偏振器)時,第一黏著劑層的另一側可接觸液晶胞,且當更包括另一部件時,第一黏著劑層的另一側可接觸另一部件。第二黏著劑層的一側可接觸第二外基板。當在第二外基板與液晶胞之間未更包括另一部件(例如,以下欲闡述的第二偏振器)時,第二黏著劑層的另一側可接觸液晶胞,且當更包括另一部件時,第二黏著劑層的另一側可接觸另一部件。
所述光學元件可更包括位於第一外基板與液晶胞之間的第一偏振器以及位於第二外基板與液晶胞之間的第二偏振器。圖2例示性地示出包括第一偏振器(401)及第二偏振器(402)的光學元件。具體而言,第一偏振器可位於第一黏著劑層與液晶胞之間,且第二偏振器可位於第二黏著劑層與液晶胞之間。
當光學元件更包括第一偏振器及第二偏振器時,光學元件可更包括位於第一偏振器與液晶胞之間的第三黏著劑層以及位於第二偏振器與液晶胞之間的第四黏著劑層。圖2例示性地示出
包括第三黏著劑層(303)及第四黏著劑層(304)的光學元件。第三黏著劑層的一側可接觸第一偏振器,且另一側可接觸液晶胞。第四黏著劑層的一側可接觸第二偏振器,且另一側可接觸液晶胞。在一個實例中,當偏振器的保護膜形成於第一偏振器的面對第三黏著劑層的一側上時,第三黏著劑層的一側可接觸保護膜。在一個實例中,當偏振器的保護膜形成於第二偏振器的面對第四黏著劑層的一側上時,第四黏著劑層的一側可接觸保護膜。
在本說明書中,用語偏振器意指具有偏振功能的膜、片材或組件。偏振器是能夠自在多個方向上振動的入射光提取在一個方向上振動的光的功能組件。
第一偏振器及第二偏振器可各自為吸收型偏振器或反射型偏振器。在本說明書中,吸收型偏振器意指相對於入射光顯示出選擇性透射及吸收特性的組件。偏振器可透射例如來自在多個方向上振動的入射光的在任一方向上振動的光,且可吸收在其他方向上振動的光。在本說明書中,反射型偏振器意指相對於入射光顯示出選擇性透射及反射特性的組件。偏振器可透射例如來自在多個方向上振動的入射光的在任一方向上振動的光,且可反射在其他方向上振動的光。
作為吸收型偏振器,舉例而言,可使用其中碘被染色於例如聚(乙烯醇)(PVA)拉伸膜等聚合物拉伸膜上的偏振層、或者使用在定向狀態下聚合的液晶作為主體且使用根據液晶的定向進行排列的二色性染料作為客體的客體-主體型偏振層,但其並非僅限
於此。
作為反射型偏振器,舉例而言,可使用被稱為所謂的雙亮度增強膜(Dual Brightness Enhancement Film,DBEF)的反射性偏振層、或者藉由塗佈例如溶致性液晶(Lyotropic liquid crystal,LLC)等液晶化合物而形成的反射性偏振層,但其並非僅不限於此。
偏振器可為線性偏振器。在本說明書中,線性偏振器意指其中選擇性透射的光是在任一方向上振動的線性偏振光且選擇性吸收或反射的光是在垂直於線性偏振光的振動方向的方向上振動的線性偏振光的情形。在吸收型線性偏振器的情形中,光透射軸線與光吸收軸線可彼此垂直。在反射型線性偏振器的情形中,光透射軸線與光反射軸線可彼此垂直。
保護膜、減反射膜、延遲膜、表面處理層及類似組件可分別另外形成於第一偏振器及第二偏振器的一側或兩側上。延遲膜可為例如1/4波板(wave plate)或1/2波板。對於具有為550奈米的波長的光,1/4波板可具有處於約100奈米至180奈米、100奈米或150奈米的範圍內的面內延遲值。對於具有為550奈米的波長的光,1/2波板可具有處於約200奈米至300奈米或250奈米至300奈米的範圍內的面內延遲值。延遲膜可為例如拉伸聚合物膜或液晶聚合膜。作為偏振器的保護膜,可使用由已知材料形成的膜。作為此種材料,舉例而言,可使用具有極佳的透明度、機械強度、熱穩定性、水分障壁性質或各向同性性質以及類似性質的熱塑性樹脂。此種樹脂的實例可由以下來例舉:纖維素樹脂,例如三乙
醯纖維素(triacetyl cellulose,TAC);聚酯樹脂;聚醚碸樹脂;聚碸樹脂;聚碳酸酯樹脂;聚醯胺樹脂;聚醯亞胺樹脂;聚烯烴樹脂;(甲基)丙烯酸樹脂;環狀聚烯烴樹脂,例如降冰片烯樹脂;聚芳酯樹脂;聚苯乙烯樹脂;聚乙烯醇樹脂;或者其混合物;以及類似材料。第一保護膜與第二保護膜可為由相同材料形成的膜或由不同材料形成的膜。作為用於貼附偏振器、延遲膜、保護膜及類似組件的黏著劑,可例舉丙烯酸黏著劑、異氰酸酯系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、明膠系黏著劑、乙烯系聚酯、乳膠系聚酯或水系聚酯、以及類似材料,但並非僅限於此。
第一偏振器及第二偏振器可各自對於波長為550奈米的光具有處於40%至50%的範圍內的透射率。透射率可意指偏振器對於波長為550奈米的光的單一透射率。可使用例如光譜儀(V7100,由佳司科(Jasco)製造)來量測偏振器的單一透射率。舉例而言,在其中將偏振器樣品(無上部保護膜及下部保護膜)安裝於元件上的狀態下將空氣設定為基線(base line),且在其中偏振器樣品的軸線與參考偏振器的軸線在垂直方向上及水平方向上對準的狀態下量測每一透射率之後,可計算出單一透射率。
第一偏振器的光透射軸線與第二偏振器的光透射軸線可彼此垂直。具體而言,由第一偏振器的光透射軸線與第二偏振器的光透射軸線形成的角度可處於80度至100度或85度至95度的範圍內。當第一偏振器的光透射軸線與第二偏振器的光透射軸線彼此垂直時,端視第一偏振器與第二偏振器之間的分離距離而定,可
能發生漏光(light leakage)及類似現象。
第一黏著劑層至第四黏著劑層可各自具有為10微米或大於10微米的厚度。第一黏著劑層至第四黏著劑層的厚度可各自為50微米或大於50微米、100微米或大於100微米、150微米或大於150微米、200微米或大於200微米、250微米或大於250微米、300微米或大於300微米、350微米或大於350微米、或380微米或大於380微米,且可為2,000微米或小於2,000、1,800微米或小於1,800微米、1,600微米或小於1,600微米、1,400微米或小於1,400微米、1,200微米或小於1,200微米、1,000微米或小於1,000微米、或800微米或小於800微米。當黏著劑層的每一厚度處於以上範圍內時,可有利於藉由使外基板的結合製程中的缺陷最小化來確保光學元件的結構穩定性及均勻的外觀特性。
在一個實例中,第一黏著劑層及第二黏著劑層的厚度可各自為400微米或大於400微米、500微米或大於500微米、600微米或大於600微米、或700微米或大於700微米。由此,可有利於藉由使外基板的結合製程中的缺陷最小化來確保光學元件的結構穩定性及均勻外觀特性。
在一個實例中,第三黏著劑層及第四黏著劑層的厚度可各自為380微米或小於380微米。由此,第一偏振器與第二偏振器之間的分離距離被最小化,藉此所述分離距離可減少漏光,且同時確保光學元件的結構安全性。
第一黏著劑層至第四黏著劑層可各自具有由一個黏著劑
層形成的單層式結構,或者可為由二或更多個子黏著劑層形成的層疊體(laminate)。可慮及黏著劑層的所期望厚度來控制子黏著劑層的厚度及數目。在一個實例中,具有由一個片材形成的單層式結構的黏著劑層的厚度或者所述子黏著劑層的厚度可處於100微米至500微米或300微米至400微米的範圍內。
作為一個實例,第一黏著劑層至第四黏著劑層的儲存彈性模數(storage modulus)可各自處於1百萬帕至100百萬帕的範圍內。作為另一實例,第一黏著劑層至第四黏著劑層的儲存彈性模數可各自為2百萬帕或大於2百萬帕或4百萬帕或大於4百萬帕,且可為100百萬帕或小於100百萬帕、80百萬帕或小於80百萬帕、60百萬帕或小於60百萬帕、40百萬帕或小於40百萬帕、或20百萬帕或小於20百萬帕。儲存彈性模數可為在為25℃的溫度及為1赫茲的頻率下量測的值。
作為一個實例,第一黏著劑層至第四黏著劑層可各自具有處於0.1百萬帕至100百萬帕的範圍內的楊氏模數(Young’s modulus,E)。作為另一實例,第一黏著劑層至第四黏著劑層的楊氏模數(E)可各自為0.2百萬帕或大於0.2百萬帕、0.4百萬帕或大於0.4百萬帕、0.6百萬帕或大於0.6百萬帕、0.8百萬帕或大於0.8百萬帕、1百萬帕或大於1百萬帕、5百萬帕或大於5百萬帕、或者約10百萬帕或大於10百萬帕,且可為約95百萬帕或小於95百萬帕、80百萬帕或小於80百萬帕、75百萬帕或小於75百萬帕、70百萬帕或小於70百萬帕、65百萬帕或小於65百萬帕、60百萬
帕或小於60百萬帕、55百萬帕或小於55百萬帕、或者約50百萬帕或小於50百萬帕。舉例而言,楊氏模數(E)可以美國材料試驗協會(American Society for Testing Materials,ASTM)D882中所規定的方式進行量測,且可使用例如萬能試驗機(universal testing machine,UTM)等可以由相關標準提供的形式切割膜並量測應力-應變曲線(stress-strain curve)(可同時量測力與長度)的設備進行量測。當光學元件中所包括的黏著劑層的楊氏模數處於以上範圍內時,可更有利於確保光學元件的極佳耐久性。當黏著劑層是由至少二或更多個子黏著劑層形成的層疊體時,子黏著劑層中的每一者可滿足以上楊氏模數範圍。
作為一個實例,第一黏著劑層至第四黏著劑層可各自具有為2,000百萬分點/開(ppm/K)或小於2,000百萬分點/開的熱膨脹係數。在另一實例中,熱膨脹係數可為約1,900百萬分點/開或小於1,900百萬分點/開、1,700百萬分點/開或小於1,700百萬分點/開、1,600百萬分點/開或小於1,600百萬分點/開、或者約1,500百萬分點/開或小於1,500百萬分點/開,或可為約10百萬分點/開或大於10百萬分點/開、20百萬分點/開或大於20百萬分點/開、30百萬分點/開或大於30百萬分點/開、40百萬分點/開或大於40百萬分點/開、50百萬分點/開或大於50百萬分點/開、60百萬分點/開或大於60百萬分點/開、70百萬分點/開或大於70百萬分點/開、80百萬分點/開或大於80百萬分點/開、90百萬分點/開或大於90百萬分點/開、100百萬分點/開或大於100百萬分點/開、200
百萬分點/開或大於200百萬分點/開、300百萬分點/開或大於300百萬分點/開、400百萬分點/開或大於400百萬分點/開、500百萬分點/開或大於500百萬分點/開、600百萬分點/開或大於600百萬分點/開、700百萬分點/開或大於700百萬分點/開、或者約800百萬分點/開或大於800百萬分點/開。黏著劑層的熱膨脹係數可例如根據ASTM D696的規定來量測,其中熱膨脹係數可藉由以由相關標準提供的形式對其進行切割並量測每單位溫度的長度變化來計算,且可藉由例如熱機械分析(thermo-mechanic analysis,TMA)等已知方法來量測。當光學元件中所包括的黏著劑層的熱膨脹係數處於以上範圍內時,可更有利於確保光學元件的極佳耐久性。當黏著劑層是由至少二或更多個子黏著劑層形成的層疊體時,子黏著劑層中的每一者可滿足熱膨脹係數的範圍。
第一黏著劑層至第四黏著劑層可各自為熱塑性聚胺基甲酸酯(thermoplastic polyurethane,TPU)黏著劑層、聚醯胺黏著劑層、聚酯黏著劑層、乙烯乙酸乙烯酯(ethylene vinyl acetate,EVA)黏著劑層、丙烯酸黏著劑層、矽酮黏著劑層或聚烯烴黏著劑層。根據本申請案的一個實例,第一黏著劑層至第四黏著劑層可各自為熱塑性聚胺基甲酸酯黏著劑層。
所述光學元件可更包括環繞液晶胞的側表面的外層。圖2例示性地示出包括外層(501、502)的光學元件。在所述光學元件中,液晶胞的頂部面積可小於第一外基板或第二外基板的頂部面積。此外,液晶胞的頂部面積可小於光學元件中所包括的第一黏著
劑層至第四黏著劑層的頂部面積。
在一個實例中,液晶胞可藉由黏著劑層及外層來包封。在本申請案中,用語包封(encapsulation)可意指利用黏著劑層及外層來覆蓋液晶胞的頂表面。在一個實例中,當光學元件包括第一黏著劑層及第二黏著劑層時,液晶胞可藉由第一黏著劑層、第二黏著劑層及外層來包封。在一個實例中,當光學元件包括第一黏著劑層、第二黏著劑層、第三黏著劑層及第四黏著劑層時,液晶胞可藉由第三黏著劑層、第四黏著劑層及外層來包封。藉由此種包封結構,光學元件的耐久性及耐候性大幅改善,且因此,其可穩定地應用至例如天窗等戶外應用。
外層可包含例如熱塑性聚胺基甲酸酯(TPU)黏著劑、聚醯胺黏著劑、聚酯黏著劑、乙烯乙酸乙烯酯(EVA)黏著劑、丙烯酸黏著劑、矽酮黏著劑或聚烯烴黏著劑。在一個實例中,外層可由與黏著劑層的材料相同的材料形成。
本申請案亦是有關於一種用於製造光學元件的方法。所述光學元件的製造方法可包括對依序包括第一外基板、第一黏著劑層、液晶胞、第二黏著劑層及第二外基板的層疊體實行熱壓反應處理的步驟。液晶胞可藉由熱壓反應處理來包封。除非在光學元件的製造方法中另外指明,否則光學元件中所闡述的內容可同等適用。
層疊體可更包括環繞液晶胞的側表面的外層。
在製造更包括第一偏振器及第二偏振器的光學元件的情
形中,可對依序包括第一外基板、第一黏著劑層、第一偏振器、第三黏著劑層、液晶胞、第二偏振器、第四黏著劑層、第二黏著劑層及第二外基板的層疊體實行熱壓反應處理。
當光學元件更包括除液晶胞及偏振器以外的其他組件時,層疊體可更在所期望位置處包括除液晶胞及偏振器以外的其他組件。
熱壓反應處理可藉由對層疊體進行加熱及/或加壓來實行。
熱壓反應製程的條件並無特別限制,且其可例如依據所施加黏著劑層的類型而在適宜的溫度及壓力下實行。典型熱壓反應製程的溫度為約80℃或大於80℃、90℃或大於90℃、100℃或大於100℃,且壓力為2個大氣壓(atmosphere,atm)或大於2個大氣壓,但並非僅限於此。製程溫度的上限可為約200℃或小於200℃、190℃或小於190℃、180℃或小於180℃、或者170℃或小於170℃左右,且製程壓力的上限可為約10個大氣壓或小於10個大氣壓、9個大氣壓或小於9個大氣壓、8個大氣壓或小於8個大氣壓、7個大氣壓或小於7個大氣壓、或者6個大氣壓或小於6個大氣壓左右。
所述光學元件可為透射率可變元件(transmittance-variable device)。透射率可變元件可在為不同透射率的至少兩種狀態之間切換。在一個實例中,透射率可變元件可為能夠在透明模式狀態與黑色模式狀態之間切換的元件。
在透明模式狀態下的透射率可變元件可具有為至少10%
或大於10%、15%或大於15%、20%或大於20%、25%或大於25%、30%或大於30%、35%或大於35%、40%或大於40%、45%或大於45%、50%或大於50%、55%或大於55%、60%或大於60%、65%或大於65%、70%或大於70%、75%或大於75%、或80%或大於80%左右的透射率。在另一實例中,在透明模式下的透射率亦可為100%或小於100%、95%或小於95%、90%或小於90%、或85%或小於85%左右。然而,在透射模式下的透射率越高,則越有利,因此上限並無特別限制。
在黑色模式狀態下,透射率可變元件的透射率可為60%或小於60%、55%或小於55%、50%或小於50%、45%或小於45%、40%或小於40%、35%或小於35%、30%或小於30%、25%或小於25%、20%或小於20%、15%或小於15%、10%或小於10%、或5%或小於5%。在另一實例中,在黑色模式下的透射率亦可為0%或大於0%、5%或大於5%、10%或大於10%、15%或大於15%、20%或大於20%、或25%或大於25%左右。然而,在黑色模式下的透射率越低,則越有利,因此在黑色模式狀態下的透射率的下限並無特別限制。
透射率可為例如直光透射率(straight light transmittance)。直光透射率是在與入射方向相同的方向上透射的光對入射於元件上的光的比率的百分數。舉例而言,若所述元件呈膜或片材的形式,則透射率可被定義為在平行於膜或片材的表面的法線方向的方向上入射的光之中在平行於法線方向的方向上透射過所述元件
的光的百分數。
透射率可為對於可見光區(例如,約400奈米至700奈米或約380奈米至780奈米的範圍)中的任一波長的透射率、對於整個可見光區的透射率、對於整個可見光區的透射率之中的最大透射率或最小透射率、或者在可見光區中的透射率的平均值。
所述光學元件可用於各種應用,且舉例而言,可用於例如太陽鏡或擴增實境(augmented reality,AR)或虛擬實境(virtual reality,VR)眼鏡等眼鏡(eyewear)、建築物的外牆或用於車輛的天窗以及類似應用。在一個實例中,光學元件本身可為用於車輛的天窗。舉例而言,在包括其中形成有至少一個開口的車身的汽車中,可安裝及使用貼附至所述開口的光學元件或用於車輛的天窗。
本申請案是有關於一種光學元件。本申請案的光學元件可恰當地維持液晶胞的胞間隙,在上部基板與下部基板之間具有極佳的黏著性,且可防止在高溫及高壓熱壓反應處理之後出現擠壓黑斑。
10a:第一基層
10b:第一電極層
10c:壓敏黏著劑層
20a:第二基層
20b:第二電極層
20c:間隔件
20d:配向膜
30:液晶層
101:第一外基板
102:第二外基板
200:液晶胞
301:第一黏著劑層
302:第二黏著劑層
303:第三黏著劑層
304:第四黏著劑層
401:第一偏振器
402:第二偏振器
501、502:外層
圖1例示性地示出本申請案的液晶胞。
圖2例示性地示出本申請案的光學元件。
圖3示出實例1在熱壓反應之後的影像。
圖4示出實例2在熱壓反應之後的影像。
圖5示出實例3在熱壓反應之後的影像。
圖6示出實例4在熱壓反應之後的影像。
圖7示出實例5在熱壓反應之後的影像。
圖8示出實例6在熱壓反應之後的影像。
圖9示出比較例1在熱壓反應之後的影像。
圖10示出比較例2在熱壓反應之後的影像。
圖11示出比較例3在熱壓反應之後的影像。
圖12例示性地示出比較例1中黑斑的放大影像及黑斑的出現原理。
在下文中,藉由實例來具體闡述本申請案,但本申請案的範圍不受以下實例所限制。
實例1
上部基板的製造
將OCA型壓敏黏著劑樹脂(KR3700,信越)與甲苯溶劑混合以具有為25重量%的固體濃度,且相對於100重量份的壓敏黏著劑樹脂,向其添加了15重量份的交聯劑A(四(二甲基矽氧基)矽烷(tetrakis(dimethylsiloxy)silane),蓋萊斯特(Gelest))及1重量份的鉑觸媒(CAT-PL-56,信越)以製備壓敏黏著劑組成物。利用棒塗(bar coating)將壓敏黏著劑組成物塗佈於氟離型膜(FSC6,
昵帕(Nippa))上,且然後在為140℃的溫度下加熱了6分鐘,藉此形成最終厚度為約10微米的壓敏黏著劑層A。藉由將壓敏黏著劑層層疊於PET-ITO膜的ITO層上而製造出了上部基板。PET-ITO膜是其中氧化銦錫(indium tin oxide,ITO)層以為約30奈米的厚度沈積於高度拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethyleneterephtalate,PET)膜(光學透明膜(optical clear film,OCF),韓國化學(South Korea Chemicals,SKC))上的膜,所述膜具有為約145微米的總厚度。以上製造的上部基板具有其中高度拉伸PET膜/ITO層/壓敏黏著劑層/離型膜以此次序進行層疊的結構。
下部基板的製造
將丙烯酸樹脂組成物(商品名:KAD-03,製造商:米紐塔科技(MINUTA Tech))塗佈於與在上部基板中使用的PET-ITO膜相同的PET-ITO膜的ITO層上,且然後藉由微影方法將其圖案化成四邊形形狀,藉此形成分隔壁形狀的間隔件。分隔壁形狀的高度為6微米,節距(四邊形的兩個面對的邊之間的間隔)為350微米,且線寬為15微米。隨後,在間隔件上塗佈垂直配向膜(5661LB3,日產(Nissan))至為約300奈米的厚度,且然後利用摩擦布進行了摩擦以製造下部基板。
液晶胞的結合
自上部基板剝離掉了氟離型膜。將液晶組成物塗佈於下部基板的配向膜上,且然後層疊於上部基板上以結合液晶胞。液晶
組成物是具有為0.094的折射率各向異性(△n)及負介電常數各向異性的液晶化合物(SHN-7002XX T12,捷恩智(JNC))與手性添加劑(S811,默克)的混合物。所製備的液晶胞是胞間隙為6微米的反扭曲向列(twisted nematic,TN)模式液晶胞(reverse TN mode liquid crystal cell),其中手性節距為20微米。
實例2
除了替代實例1的壓敏黏著劑層A而如下形成了壓敏黏著劑層B以外,以與實例1中相同的方式製造出了液晶胞。將OCA型壓敏黏著劑樹脂(KR3700,信越)與甲苯溶劑混合以具有為25重量%的固體濃度,且相對於100重量份的壓敏黏著劑樹脂,向其添加了10重量份的交聯劑B(正十八烷基三甲氧基矽烷(n-octadecyltrimethoxysilane),蓋萊斯特)及1重量份的鉑觸媒(CAT-PL-56,信越),以製備壓敏黏著劑組成物。利用棒塗將壓敏黏著劑組成物塗佈於氟離型膜(FSC6,昵帕)上,且然後在為140℃的溫度下加熱了3分鐘,藉此形成最終厚度為約10微米的壓敏黏著劑層B。
實例3
除了替代實例1的壓敏黏著劑層A而如下形成了壓敏黏著劑層C以外,以與實例1中相同的方式製造出了液晶胞。將OCA型壓敏黏著劑樹脂(KR3700,信越)與甲苯溶劑混合以具有為25重量%的固體濃度,且相對於100重量份的壓敏黏著劑樹脂,向其添加了3重量份的交聯劑C(十二烷基三甲氧基矽烷
(dodecyltrimethoxysilane),蓋萊斯特)及1重量份的鉑觸媒(CAT-PL-56,信越)以製備壓敏黏著劑組成物。利用棒塗將壓敏黏著劑組成物塗佈於氟離型膜(FSC6,昵帕)上,且然後在為140℃的溫度下加熱了3分鐘,藉此形成最終厚度為約10微米的壓敏黏著劑層C。
實例4
除了替代實例1的壓敏黏著劑層A而如下形成了壓敏黏著劑層D以外,以與實例1中相同的方式製造出了液晶胞。將OCA型壓敏黏著劑樹脂(KR3700,信越)與甲苯溶劑混合以具有為25重量%的固體濃度,且相對於100重量份的壓敏黏著劑樹脂,向其添加了15重量份的交聯劑A(四(二甲基矽氧基)矽烷(tetrakis(dimethylsiloxy)silane),蓋萊斯特)及1重量份的鉑觸媒(CAT-PL-56,信越)以製備壓敏黏著劑組成物。利用棒塗將壓敏黏著劑組成物塗佈於氟離型膜(FSC6,昵帕)上,且然後在為140℃的溫度下加熱了3分鐘,藉此形成最終厚度為約10微米的壓敏黏著劑層D。
實例5
除了替代實例1的壓敏黏著劑層A而如下形成了壓敏黏著劑層E以外,以與實例1中相同的方式製造出了液晶胞。將OCA型壓敏黏著劑樹脂(SS9242,金剛韓國化學公司(Kumgang-Korea Chemical Company,KCC))與甲苯溶劑混合以具有為25重量%的固體濃度,且相對於100重量份的壓敏黏著劑樹脂,向其添加了1
重量份的交聯劑D(S0016B,KCC)、3重量份的交聯劑E(SC0025B,KCC)及1重量份的鉑觸媒(SK0010C,KCC)以製備壓敏黏著劑組成物。利用棒塗將壓敏黏著劑組成物塗佈於氟離型膜(FSC6,昵帕公司(Nippa Co.))上,且然後在140℃下加熱了6分鐘,藉此形成最終厚度為約10微米的壓敏黏著劑層E。
實例6
除了替代實例1的壓敏黏著劑層A而如下形成了壓敏黏著劑層F以外,以與實例1中相同的方式製造出了液晶胞。將OCA型壓敏黏著劑樹脂(SS9242,KCC)與甲苯溶劑混合以具有為25重量%的固體濃度,且相對於100重量份的壓敏黏著劑樹脂,向其添加了0.5重量份的交聯劑D(S0016B,KCC)、3.5重量份的交聯劑E(SC0025B,KCC)及1重量份的鉑觸媒(SK0010C,KCC)以製備壓敏黏著劑組成物。利用棒塗將壓敏黏著劑組成物塗佈於氟離型膜(FSC6,昵帕公司)上,且然後在140℃下加熱了6分鐘,藉此形成最終厚度為約10微米的壓敏黏著劑層F。
比較例1
除了替代實例1的壓敏黏著劑層A而如下形成了壓敏黏著劑層E以外,以與實例1中相同的方式製造出了液晶胞。將OCA型壓敏黏著劑樹脂(KR3700,信越)與甲苯溶劑混合以具有為25重量%的固體濃度,且相對於100重量份的壓敏黏著劑樹脂,向其添加了15重量份的交聯劑A(四(二甲基矽氧基)矽烷(tetrakis(dimethylsiloxy)silane),蓋萊斯特)及1重量份的鉑觸媒
(CAT-PL-56,信越)以製備壓敏黏著劑組成物。利用棒塗將壓敏黏著劑組成物塗佈於氟離型膜(FSC6,昵帕)上,且然後在為140℃的溫度下加熱了1分鐘,藉此形成最終厚度為約10微米的壓敏黏著劑層G。
比較例2
除了替代實例1的壓敏黏著劑層A而如下形成了壓敏黏著劑層F以外,以與實例1中相同的方式製造出了液晶胞。將OCA型壓敏黏著劑樹脂(KR3700,信越)與甲苯溶劑混合以具有為25重量%的固體濃度,且相對於100重量份的壓敏黏著劑樹脂,向其添加了15重量份的交聯劑A(四(二甲基矽氧基)矽烷(tetrakis(dimethylsiloxy)silane),蓋萊斯特)及1重量份的鉑觸媒(CAT-PL-56,信越)以製備壓敏黏著劑組成物。利用棒塗將壓敏黏著劑組成物塗佈於氟離型膜(FSC6,昵帕)上,且然後在為130℃的溫度下加熱了3分鐘,藉此形成最終厚度為約10微米的壓敏黏著劑層H。
比較例3
除了替代實例1的壓敏黏著劑層A而如下形成了壓敏黏著劑層G以外,以與實例1中相同的方式製造出了液晶胞。將OCA型壓敏黏著劑樹脂(KR3700,信越)與甲苯溶劑混合以具有為25重量%的固體濃度,且相對於100重量份的壓敏黏著劑樹脂,向其添加了15重量份的交聯劑A(四(二甲基矽氧基)矽烷(tetrakis(dimethylsiloxy)silane),蓋萊斯特)及2重量份的鉑觸媒
(CAT-PL-56,信越)以製備壓敏黏著劑組成物。利用棒塗將壓敏黏著劑組成物塗佈於氟離型膜(FSC6,昵帕)上,且然後在為140℃的溫度下加熱了3分鐘,藉此形成最終厚度為約10微米的壓敏黏著劑層I。
量測例1. 壓敏黏著劑層的儲存彈性模數及正切δ值的量測
使用熱分析(Thermal Analysis,TA)的ARES G2流變儀(rheometer)量測了壓敏黏著劑層的儲存彈性模數及正切δ值。如在實例及比較例中所述,在氟離型膜上形成了壓敏黏著劑層,且然後剝離掉了氟離型膜以獲得壓敏黏著劑層。將具有為約8毫米的直徑及為約1000微米的厚度的盤狀壓敏黏著劑層樣品放置於具有為約8毫米的直徑的Al板上,並實行了量測。在量測期間,量測儲存彈性模數(G')及損耗彈性模數(G"),其中正切δ可根據被計算為G"/G'的值來獲得。在頻率為1弧度/秒且溫度為110℃的條件下以及在頻率為1弧度/秒且溫度為25℃的條件下獲得的儲存彈性模數及正切δ值闡述於下表1中。
評價例1. 對在熱壓反應之後出現黑斑的評價
製備出了依序包括第一外基板(101)、第一黏著劑層(301)、第一偏振器(401)、第三黏著劑層(303)、液晶胞(200)、第四黏著劑層(304)、第二偏振器(402)、第二黏著劑層(302)及第二外基板(102)且包括環繞液晶胞(200)的側表面的外層(501、502)的層疊體。
作為液晶胞,各自使用了實例1至實例6及比較例1至
比較例3的液晶胞。作為第一外基板,使用了具有為約3毫米的厚度、寬度×長度=1100毫米×800毫米的面積、及為約2,470R的曲率半徑的玻璃基板。作為第二外基板,使用了具有為約3毫米的厚度、寬度×長度=1100毫米×800毫米的面積、及為約2,400R的曲率半徑的玻璃基板。第一偏振器及第二偏振器各自為基於PVA的偏振器,且被設置成使得第一偏振器的光透射軸線與第二偏振器的光透射軸線形成約90度。作為第一黏著劑層及第二黏著劑層中的每一者,使用了具有為760微米的厚度的TPU層(阿古泰克(Argotec)),且作為第三黏著劑層及第四黏著劑層中的每一者,使用了具有為380微米的厚度的TPU層(阿古泰克)。TPU層(阿古泰克)具有為307百萬分點/開的熱膨脹係數、為3,357,730帕的儲存彈性模數及為1,485,510帕的損耗彈性模數。
藉由在為約110℃的溫度及為約3個大氣壓的壓力下對層疊體實行了3小時的熱壓反應處理而製造出了具有圖2所示結構的光學元件。對熱壓反應處理之後的光學元件的黑斑出現情況進行了評價,且結果闡述於下表1中。圖3至圖8分別示出實例1至實例6在熱壓反應之後的影像。圖9至圖11分別示出比較例1至比較例3在熱壓反應之後的影像。在實例1至實例6中,未觀察到熱壓反應之後的擠壓黑斑,但在比較例1至比較例3中,觀察到了熱壓反應之後的擠壓黑斑。圖12例示性地示出比較例1中黑斑的放大影像及黑斑的出現原理(圖12的(A):熱壓反應處理之前,圖12的(B):熱壓反應處理之後,圖12的(C):對黑斑部分進
行放大,圖12的(D):黑斑的出現原理)。圖12的(D)僅示出第一基層(10a)、壓敏黏著劑層(10c)、第二基層(20a)及間隔件(20c)。在圖12的(B)及(C)中,不具有黑斑的部分是壓力未被施加至液晶胞的部分,而具有黑斑的部分是壓力被局部施加至液晶胞的部分。當向液晶胞施加局部壓力時,液晶由於壓力而移動(在圖12的(D)中箭頭的方向上移動),由此所避開的部分被表示為黑斑,且當移動的液晶聚集於一起時,出現液晶的擁擠(黑斑周圍的明亮部分)。
10a:第一基層
10b:第一電極層
10c:壓敏黏著劑層
20a:第二基層
20b:第二電極層
20c:間隔件
20d:配向膜
30:液晶層
Claims (14)
- 一種光學元件,包括液晶胞,所述液晶胞包括上部基板,包含第一基層及壓敏黏著劑層,下部基板,包含第二基層及間隔件,以及液晶層,包含液晶化合物的,位於所述上部基板與所述下部基板之間,其中所述壓敏黏著劑層在為110℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下具有為18,000帕或大於18,000帕的儲存彈性模數,且在為110℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下具有為0.32或小於0.32的正切δ值,其中所述壓敏黏著劑層在為110℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下具有處於18,000帕至100,000帕的範圍內的儲存彈性模數。
- 如請求項1所述的光學元件,更包括位於所述第一基層與所述壓敏黏著劑層之間的第一電極層,且更包括位於所述第二基層與所述間隔件之間的第二電極層。
- 如請求項1所述的光學元件,其中所述上部基板不包括配向膜,且所述下部基板更包括配向膜。
- 如請求項1所述的光學元件,其中所述壓敏黏著劑層包含矽酮壓敏黏著劑。
- 如請求項1所述的光學元件,其中所述壓敏黏著劑層在為110℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下具有處於0.1至0.32的範圍內的正切δ值。
- 如請求項1所述的光學元件,其中所述壓敏黏著劑層在為25℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下具有為10,000帕至1,100,000帕的儲存彈性模數。
- 如請求項1所述的光學元件,其中所述壓敏黏著劑層在為25℃的溫度及為1弧度/秒的頻率下具有為0.1至2.0的正切δ值。
- 如請求項1所述的光學元件,依序包括第一外基板、第一黏著劑層、所述液晶胞、第二黏著劑層及第二外基板。
- 如請求項8所述的光學元件,其中所述第一外基板及所述第二外基板各自為玻璃基板。
- 如請求項8所述的光學元件,其中所述第一黏著劑層及所述第二黏著劑層各自為熱塑性聚胺基甲酸酯(TPU)黏著劑層、聚醯胺黏著劑層、聚酯黏著劑層、乙烯乙酸乙烯酯(EVA)黏著劑層、丙烯酸黏著劑層、矽酮黏著劑層或聚烯烴黏著劑層。
- 如請求項8所述的光學元件,更包括位於所述第一黏著劑層與所述液晶胞之間的第一偏振器及位於所述第二黏著劑層與所述液晶胞之間的第二偏振器。
- 如請求項11所述的光學元件,其中所述第一偏振器的透射軸線與所述第二偏振器的透射軸線彼此正交。
- 如請求項11所述的光學元件,更包括位於所述第一偏振器與所述液晶胞之間的第三黏著劑層及位於所述第二偏振器與所述液晶胞之間的第四黏著劑層。
- 如請求項13所述的光學元件,其中所述第三黏著劑層及所述第四黏著劑層各自為熱塑性聚胺基甲酸酯(TPU)黏著劑層、聚醯胺黏著劑層、聚酯黏著劑層、乙烯乙酸乙烯酯(EVA)黏著劑層、丙烯酸黏著劑層、矽酮黏著劑層或聚烯烴黏著劑層。
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