UA101443C2 - Анодный УЗЕЛ вакуумно-дугового ИСТОЧНИКа катодной ПЛАЗМЫ - Google Patents

Анодный УЗЕЛ вакуумно-дугового ИСТОЧНИКа катодной ПЛАЗМЫ

Info

Publication number
UA101443C2
UA101443C2 UAA201114090A UAA201114090A UA101443C2 UA 101443 C2 UA101443 C2 UA 101443C2 UA A201114090 A UAA201114090 A UA A201114090A UA A201114090 A UAA201114090 A UA A201114090A UA 101443 C2 UA101443 C2 UA 101443C2
Authority
UA
Ukraine
Prior art keywords
anode
magnetic field
coil
electromagnetic
magnet
Prior art date
Application number
UAA201114090A
Other languages
English (en)
Ukrainian (uk)
Inventor
Владимир Васильевич Васильев
Владимир Евгеньевич Стрельницкий
Original Assignee
Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт" filed Critical Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт"
Priority to UAA201114090A priority Critical patent/UA101443C2/ru
Priority to RU2013130658/07A priority patent/RU2539881C1/ru
Priority to US14/232,944 priority patent/US20140291149A1/en
Priority to PCT/UA2012/000042 priority patent/WO2013081569A1/ru
Priority to EP12852663.9A priority patent/EP2787795A4/en
Publication of UA101443C2 publication Critical patent/UA101443C2/ru

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/48—Generating plasma using an arc
    • H05H1/50—Generating plasma using an arc and using applied magnetic fields, e.g. for focusing or rotating the arc
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32055—Arc discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/3266—Magnetic control means
    • H01J37/32669—Particular magnets or magnet arrangements for controlling the discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00—Ion beam tubes
    • H01J27/02—Ion sources; Ion guns
    • H01J27/08—Ion sources; Ion guns using arc discharge
    • H01J27/14—Other arc discharge ion sources using an applied magnetic field

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
UAA201114090A 2011-11-29 2011-11-29 Анодный УЗЕЛ вакуумно-дугового ИСТОЧНИКа катодной ПЛАЗМЫ UA101443C2 (ru)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UAA201114090A UA101443C2 (ru) 2011-11-29 2011-11-29 Анодный УЗЕЛ вакуумно-дугового ИСТОЧНИКа катодной ПЛАЗМЫ
RU2013130658/07A RU2539881C1 (ru) 2011-11-29 2012-04-11 Анодный узел вакуумно-дугового источника катодной плазмы
US14/232,944 US20140291149A1 (en) 2011-11-29 2012-04-11 Anode assembly of a vacuum-arc cathode plasma source
PCT/UA2012/000042 WO2013081569A1 (ru) 2011-11-29 2012-04-11 Анодный узел вакуумно-дугового источника катодной плазмы
EP12852663.9A EP2787795A4 (en) 2011-11-29 2012-04-11 ANODE ASSEMBLY OF A PLASMA SOURCE WITH VACUUM BOW CATHODE

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UAA201114090A UA101443C2 (ru) 2011-11-29 2011-11-29 Анодный УЗЕЛ вакуумно-дугового ИСТОЧНИКа катодной ПЛАЗМЫ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
UA101443C2 true UA101443C2 (ru) 2013-03-25

Family

ID=48535873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
UAA201114090A UA101443C2 (ru) 2011-11-29 2011-11-29 Анодный УЗЕЛ вакуумно-дугового ИСТОЧНИКа катодной ПЛАЗМЫ

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20140291149A1 (ru)
EP (1) EP2787795A4 (ru)
RU (1) RU2539881C1 (ru)
UA (1) UA101443C2 (ru)
WO (1) WO2013081569A1 (ru)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH715878A1 (de) 2019-02-26 2020-08-31 Oerlikon Surface Solutions Ag Pfaeffikon Magnetanordnung für eine Plasmaquelle zur Durchführung von Plasmabehandlungen.

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH657242A5 (de) * 1982-03-22 1986-08-15 Axenov Ivan I Lichtbogen-plasmaquelle und lichtbogenanlage mit einer solchen lichtbogen-plasmaquelle zur plasmabehandlung der oberflaeche von werkstuecken.
US5518597A (en) * 1995-03-28 1996-05-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Cathodic arc coating apparatus and method
US7014738B2 (en) * 1997-10-24 2006-03-21 Filplas Vacuum Technology Pte Ltd. Enhanced macroparticle filter and cathode arc source
US6929727B2 (en) * 1999-04-12 2005-08-16 G & H Technologies, Llc Rectangular cathodic arc source and method of steering an arc spot
RU2156555C1 (ru) * 1999-05-18 2000-09-20 Государственное унитарное предприятие "Всероссийский электротехнический институт им. В.И. Ленина" Способ получения и ускорения плазмы и ускоритель плазмы с замкнутым дрейфом электронов для его осуществления
US6706157B2 (en) * 2001-09-12 2004-03-16 Transarc Ltd. Vacuum arc plasma gun deposition system
US6756596B2 (en) * 2002-04-10 2004-06-29 Paul E. Sathrum Filtered ion source
RU2306366C1 (ru) * 2006-04-24 2007-09-20 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Белгородский государственный университет" Вакуумное электродуговое устройство
JP5063143B2 (ja) * 2007-03-02 2012-10-31 株式会社リケン アーク式蒸発源
ES2648995T3 (es) * 2007-04-17 2018-01-09 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Fuente de evaporación por arco voltaico al vacío, así como una cámara de evaporación por arco voltaico con una fuente de evaporación por arco voltaico al vacío
CN101851747B (zh) * 2009-03-30 2012-08-29 核工业西南物理研究院 强流金属离子源

Also Published As

Publication number Publication date
RU2539881C1 (ru) 2015-01-27
WO2013081569A1 (ru) 2013-06-06
EP2787795A4 (en) 2015-07-08
US20140291149A1 (en) 2014-10-02
RU2013130658A (ru) 2015-01-10
EP2787795A1 (en) 2014-10-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
UA97584C2 (ru) СПОСОБ ТРАНСПОРТИРОВКИ Вакуумно-дуговой Катодной ПЛАЗМЫ С фильтрованием От макрочастиц И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ
AR098225A1 (es) Disposición de recubrimiento al vacío y tratamiento con plasma, y método de recubrimiento de un sustrato
RU2011142845A (ru) Система производства изотопов и циклотрон
IN2014DN10811A (ru)
WO2013188307A3 (en) Haptic electromagnetic actuator
RU2012156045A (ru) Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы
MX338006B (es) Aparato pulsador y metodo de operacion.
WO2013019129A3 (en) Ion source
MY170814A (en) Magnetron electrode for plasma processing
RU2013132013A (ru) Радиальный магнитный подшипник для магнитной опоры ротора
JP2012094515A5 (ru)
TWI456082B (zh) 磁控式電漿濺鍍機
RU2010132621A (ru) Сильноточная электронная пушка
WO2011025143A3 (ko) 플라즈마 발생용 마이크로웨이브 안테나
US20130195679A1 (en) Ion pump system
US20150219122A1 (en) Direct current magnetohydrodynamic pump
JP2012112947A5 (ru)
CN204680645U (zh) 一种磁控管用磁场组件
WO2010049013A8 (en) Apparatus for delivering electromagnetic energy into a solution
CN103515050A (zh) 凹槽阶梯面自回复式电磁铁
WO2012025924A3 (en) Energy efficient lamp
RU2013130658A (ru) Анодный узел вакуумно-дугового источника катодной плазмы
CN109216151B (zh) 一种内置天线式高频离子源装置
CN104952685A (zh) 轻量化大抽速离子泵
CN204690096U (zh) 改进式的磁控溅射镀膜装置