WO1987005286A1 - Procede de fabrication de verre - Google Patents
Procede de fabrication de verre Download PDFInfo
- Publication number
- WO1987005286A1 WO1987005286A1 PCT/JP1987/000125 JP8700125W WO8705286A1 WO 1987005286 A1 WO1987005286 A1 WO 1987005286A1 JP 8700125 W JP8700125 W JP 8700125W WO 8705286 A1 WO8705286 A1 WO 8705286A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- glass
- silicon dioxide
- heating
- phase
- powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B20/00—Processes specially adapted for the production of quartz or fused silica articles, not otherwise provided for
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/10—Melting processes
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S65/00—Glass manufacturing
- Y10S65/08—Quartz
Definitions
- the present invention relates to a method for producing glass by vacuum melting using silicon dioxide as a raw material.
- glass as an industrial S product is prepared by heating raw material powder prepared at a predetermined ratio to a temperature higher than the liquidus temperature in a rutupo or tank kiln, etc., to obtain a uniform solution state. It is manufactured by cooling the product. At this time, the gas adsorbed on the raw material powder and the bubbles generated in the melt due to the gas generated during the reaction raise the temperature of the melt sufficiently to raise the viscosity of the melt. It is common to make them transparent by lowering them, floating them on the surface, and removing them.
- the generated gas is forcibly removed by a method in which quartz powder adjusted to a particle size of about 100 ja is put into a rutupo and melted in a vacuum heating furnace to form glass. (Vacuum melting method)
- the present applicant has developed a method that enables easy production of high-quality transparent or functional glass at low cost.
- silicon dioxide powder is filled in an appropriate container, and heated in the presence of a phase transition accelerator such as an alkali metal component to form a porous body having continuous pores unified into a crystalline phase immediately below a melting point. After that, it is characterized in that it is melted under vacuum to form a glass (Japanese Patent Application No. 59-181856, Japanese Patent Application No. 59-18815). No. 7, Japanese Patent Application No. 59-18 158 88, Japanese Patent Application No. 60-170706, Japanese Patent Application No. 60-17064>.
- a phase transition accelerator such as an alkali metal component
- crystalline silicon dioxide can be converted from a quartz phase in a low temperature range to a tri-migrate phase and a crystal-variate phase depending on the temperature of heating in the heating process.
- a phase transition occurs to the phase. This phase transition is unlikely to occur with silicon nitride alone, such as Li 2.0, Na 2 O, ⁇ 20, ⁇ g0, Ca0, ⁇ 0s, ⁇ 203, etc. It is known that the use of the metal component as a phase transition accelerator is effective.
- amorphous silicon dioxide does not crystallize by itself, but becomes glassy. In order to crystallize into a crystal-palitate phase, the above-mentioned metal additives are required.
- the metal component is used in the process of converting the silicon dioxide powder into a crystal-crystalline phase, which is easily understood from the description of the prior art.
- the fact that the above-mentioned metal components are contained in the raw material is a factor that brings about a decrease in the purity of the final product as well as moisture. It is not good.
- the present invention relates to the present invention in which a phase transition accelerator is added to silicon dioxide, or t- silicon dioxide containing a component effective for phase transition is selected as a raw material.
- the glass manufacturing method is an unconventional manufacturing method, but the reason that this method can easily obtain a high-quality glass as compared to the conventional method is that the crystal parasol is used.
- the properties of the sintered compact of the crystal phase have many effects in combination with the use of the vacuum melting H method. In other words, as is well known, the sintered body of the crystal structure of the crystal is heated to a temperature immediately below the point of frustration because the point is unique. It is easy to perform degassing satisfactorily because the crystal structure of the crystal phase is a porous material having continuous open pores. It depends on what you get.
- a metal component such as Na used as a phase transition accelerator is employed, a transparent quartz glass from which impurities (including the phase transition accelerator) are almost completely removed can be obtained. If an accelerator that is not decomposed and removed at the melting point is selected, a functional glass containing only the accelerator and having other impurities removed can be obtained.
- silicon dioxide powder as a raw material is produced by using a phase transition accelerator. Therefore, there is a crystallization step in which a sintered body having a crystallite crystal phase is different from the conventional method.However, a sintered body is obtained in the crystallization step. The heating time for this usually required more than 40 hours. Compared to other conventional methods, productivity is not bad except for the advantage of obtaining high quality and relatively large ingots, but due to the demand of this kind of glass, cost It was hoped that this would be lower.
- the object of the present invention is to promote the advantages of the method for producing glass according to the present invention and to improve the productivity in view of the above.
- silicon dioxide powder containing a phase transition accelerator is evenly pre-ripened up to 800, and the S degree is substantially maintained. After being filled in a container, it is re-ripened to form a sintered compact having a crystallite crystal phase. Then, the formed mold is heated and melted under vacuum to form a glass.
- the raw material efficiency which cannot be avoided by the conventional Bernoulli method or the like, or a long vitrification zocho can be eliminated.
- the inefficiency of production, which had to be required, can be eliminated, and the production can be carried out at a low cost because no specially balanced ripening source is required.
- the effect of the present invention is greatly enhanced by the method of the present invention. Be done. That is, the heating time required for the molding obtained by the method of the present invention, which is about 40 hours or more, is reduced to about half, and the productivity is remarkable. Immediately, it is possible to almost completely eliminate the occurrence of cracks on the surface of the body, which was the cause of defective products.
- the method for producing a glass according to the present invention is characterized in that the raw material powder is not directly glassy but crystallized and is crystallized.
- the method is such that a silicon dioxide powder to which a phase transition accelerator such as the above has been added is filled in a container such as a mucilage substance and then ripened in a heating furnace. It is necessary that the porcelain body be in contact with the crystal pallet crystal phase just below the point, and the heating pattern should be about 40 to 1100. Tokiso, the field at 1,100 holding time is about 4:00.
- the glass body is required to have a suitable base strength for the sake of productivity while at the same time being easy to control the crotch when glass is formed, but high quality glass is required.
- the present inventors have studied various means for easily obtaining a crack-free sintered compact in a short time, and as a result, it was found that a crack was generated on the surface of the body. It was found that this was caused by the temperature difference between the surface and the center of the powder at the start of sintering. S1 That is, cracks are more likely to occur as the leakage difference between the powder surface and the center part increases, and therefore, the constant time is maintained immediately before the start of the above-described operation. This effect is based on this. In addition, heating just before the start of sintering is only a problem for obtaining a simple degree of attraction, and the necessity to make the rate of rise and fall extremely slow is that the raw material powder is placed in a container.
- the raw material powder used has a low bulk of 0.3 (9 / i) and a low thermal conductivity of 0.3 CKcal / ⁇ )), so that it is difficult to further equalize the temperature.
- the present invention is based on such findings, and heats uniformly a silicon nitride powder containing a desired phase transition accelerator such as a Na component up to 800 scoops.
- the ripening means at this time is optional, but It is effective to ripen while stirring IS from the viewpoint of soaking and productivity.
- the temperature of the raw material powder was raised to about 800 by this pre-ripening, the raw material powder was filled into a container having a desired shape made of a non-crystalline material while maintaining the temperature, and then further heated.
- the sintered compact is heated to 1,100 or more to have a crystal phase crystal phase.
- the obtained shell is then held at a temperature of 500 ° C. or more and transferred to a vacuum heating furnace, and is subjected to a vacuum of 0.5 ib or less.
- the present invention can be used as a method of manufacturing glass used for jigs for semiconductor manufacturing equipment, instruments for physics and chemistry, optical materials, and the like.
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
明 細 書
ガ ラ ス の 製 造 法
( 技術分野 )
本発明 は二酸化珪素を原料 と し 、 真空溶謙法 に よ っ て ガ ラ ス を製造す る方法 に 閤す る も のである 。
〔 背景技術 〕
一般 に 工業 S品 と し て の ガ ラ ス は 、 所定 の割合で調合 さ れ た 原料粉末をルツ ポ あ るい は タ ン ク 窯な ど で液相 温 度以上 に 加熱 し 、 均一 な溶液状態 と し た もの を冷却 す る こ と に よ っ て 製造さ れる 。 そ の際 、 原料粉末 に 吸着 し て い る ガ ス 、 反応時 に 発生 す る ガ ス に よ り 融液中 に 生 じ た 気泡 は 、 融液の温度 を充分 に 上げ て融液の粘度 を下げ 、 表面 に 浮上さ せ て 除去す る 等の手段 に よ り 透明化す る の が普通で あ る 。
し か し 、 二酸化珪素を原料 と し て ガ ラ スを製造 す る場 合 は 、 高粘性で あ る こ と 、 融点が髙い た めルツ ポ 、 炉の 耐火物 な どの制約か ら 脱泡 に 有効 な漏度 ま で上げる こ と が でき ない こ と 、 温度を上げすぎる と 、 原料自身の揮発 原料 と ルツ ボな ど と の反応に よ り ガ ス が発生 し 、 逆 に 気 泡が生ず る な ど の こ と か ら 上記方法は採用 で き な い 。 こ の よ う な こ と か ら二酸化珪素を原料 と し て 透明な石英ガ ラ ス を得 る に は 、 一般 に
(1) 二酸化珪素粉を アルゴ ン一酸素 、 プラ ズマ炎あ る い は 酸水素炎中 に 少 し づつ 供拾 し て 溶融 し て ガ ラ ス
化 し 、 こ れを台の上に堆積さ せ て ゆ く 方法 。 こ の と き発生 す る ガス は表面か ら放散さ れる 。 ( ベル ヌ一 ィ 法 )
(2) 二酸化珪素の微粒子か ら なる多孔体を作 っ て おき 、 それを一端か ら帯状 に溶か し て ガ ラス化 し て ゆ く 方 法。 発生 ガス は 、 未溶賺の多孔体を通 っ て逃げて ゆ く 。 ( 帯溶融法 )
(3) 粒径 1 0 0 ja 程度に讕整さ れた水晶粉をルツ ポ に 入れ真空加熱炉で溶融 し ガ ラ ス化さ せ る方法で発生 ガス は強制的に 除去する 。 ( 真空溶鶸法 )
の いす れか に よ つ て いる 。
し か し(1)、 (2)の方法 はいずれも一個のガ ラ スブ ロ ッ ク を製造す るの に 極め て長時間 を要 し 生産性の悪い こ と は 周知である し 、 殊 に べルヌ ー ィ 法の欐合 、 原料効率が 3 0 〜 4 0 % と極め て悪い 。 又 、 アルゴ ン 一酸素プラ ズマ 炎を熱源 と し た場合は 、 残存 — O H 基が少な く 、 かつ比 較的泡も少ないガ ラ ス を得 ら れる がエネル ギ ー コ ス 卜 が 高 く な り 、 エネルギ ー コ ス 卜 の安い醵水素炎を用 い た壩 合は残存一 O H 基の多い製品 し か得 ら れな い問題点があ る 。 し かあ製造可能なイ ンゴ ッ 卜 の形状は丸 く かつ賴 ぃ もの に β ら れるか ら 、 以後の ffi理工程に難点があ る 。
次 に(3)の真空溶融法に よ る と 、 残存一 O H 基が少な く 、 高温 に おける粘性も高い等の特徴を も ち 、 比較的大型の イ ンゴ ッ 卜 が得 ら れるが 、 原料粉 をルツ ポ等容器 に 充填
し た もの を溶 IIし 、 ガ ラ ス化す る た め脱ガ ス に »点が あ り 、 し かも容器 と の接触に よ る反応ガ ス発生等の こ と か ら 比較的泡が多 く 高 £質のも の は得 ら れない 。 又、 水晶 粉を使用 す るた め 、 原料そ れ自身の耗度が悪い こ と か ら 泡が生 じ易 く 、 し かも資源枯渴に よ る原料供給上の難点 あ る 。
以上の こ と に鑑み 、 本出願人 は 、 离品質な透明又は機 能性を もつ ガ ラ ス を安価な コ ス 卜 で容易 に 製造 で き る方 法を 開発 し た 。 こ れは 、 二酸化珪素粉を適宜な容器 に 充 墳 し 、 アルカ リ 金属成分等の相転移促進剤の存在下加熱 し て融点直下の結晶相 に統一 し た連続気孔を もつ多孔体 に成型 し た後 、 真空下溶融 し て ガ ラ ス化 する こ と を特徴 と す る も ので あ る ( 特願昭 5 9 — 1 8 1 5 8 6号 、 特願 昭 5 9 — 1 8 1 5 8 7号 、 特願昭 5 9 — 1 8 1 5 8 8号 、 特願昭 6 0— 1 7 0 6 6 3号 、 特願昭 6 0— 1 7 0 6 6 4号 〉 。
と こ ろで 、 周知の よ う に 結晶質二酸化珪素 は 、 加熱遏 程に おい て 加熱さ れる温度に よ り 低温域の石英相 か ら 卜 リ ジマ イ 卜 相 、 ク リ ス 卜 バラ イ 卜 相へ と相転移が行なわ れる 。 こ の相転移は 、 ニ醆化珪素単独で は起 り 難 く 、 L i 2 .0 , N a 2 O , Κ 2 0 , Μ g 0 , C a 0 , Ρ ζ 0 s , Β 2 03 等の金属成分を相転移促進剤 と し て 用 いる と 有 効な こ と は知 ら れて い る 。 一方非晶質二 酸化珪素は単独 で は結晶化 す る こ と な く 烷桔ガ ラ ス化 し て し ま う の で 、
ク リ ス 卜 パ ラ イ 卜 相に結晶化す る た め に は 、 上記の よ う な金属添加物を必要 と する 。 従 っ て 、 本発明方法に お い てち二酸化珪素粉をク リ ス 卜 パ ラ イ 卜 結晶相 と する過程 で前記金属成分が利用さ れるが 、 前記従来技術の説明か ら も容易 に 理解さ れる よ う に 一般に ガラ スの製造法に お いて は 、 原料中 に上記の如き金属成分が含ま れる こ と は 、 水分等 と同様最終製品の純度低下を も た ら す要因 と な り 好 ま し く な い 。 BPち 、 従来のガラス製造法に おいて は 、 純度の高い石英ガ ラスを得る こ と と 、 原料中 に 不純物 を 添加す る 、 あるい は不耗物を含む原料を採用 す る こ と と は相反す る関係に あ る 。
こ の よ う な こ と か ら二酸化珪素 に相転移促進剤を添加 さ せ る 、 も し く は相転移に 有効 な成分を含有 し た二酸化 t 珪素を選択 し て 原料 と する本発明 に 係る ガ ラ ス製造法 は 従来概念に ない製造方法であ る が 、 こ の方法 に よ っ て 従 来法 に 比 し容易 に 高品質の ガ ラスが得 ら れる所以は 、 ク リ ス 卜 パ ラ イ 卜 結晶相の焼結成型体がもつ特性が真空溶 H法の採用 と相俟 っ て多 く の効果をもた ら す こ と に ある 。 即 ち 、 ク リ ス 卜 パ ラ イ 卜 結晶相の焼結体は 、 周知の よ う に »点が一意的なものであるか ら該讒点直下の温度 ま で 加熱 し 、 かつ K気 »理ができ る こ と 、 お よび ク リ ス 卜 パ ラ イ 卜 結晶相の烷桔体は連続開気孔をもつ多孔体で ある こ と等に よ り 脱気が充分 に し かも容易 に行な え る こ と に よ る 。 従 っ て議点以下の温度で容易 に分解 し 、 離脱抹気
さ れる N a 等の金属成分を相転移促進剤 と し て採用 すれ ば、 不純 » ( 相転移促進剤を含め て ) のほぼ完全に 除去 さ れた透明な石英ガ ラスが得 ら れる し 、 当該融点で分解 除去 し な い促進剤を選択すれば該促進剤のみが含有さ れ 、 他の不純物が除去さ れた機能性ガ ラス を得る こ と ができ る 。
本発明 に係る ガ ラ スの製造法 は上記 し た如 く 、 真空溶 融法を採用 し た ガ ラ スの製造法 に おい て 、 原料で あ る二 酸化珪素粉を相転移促進剤 に よ っ て ク リ ス 卜 パラ イ 卜結 晶相 を もつ焼結体 と す る結晶化工程のあ る こ と が従来法 と異な る点で あるが 、 結晶化工程に おいて 焼結体を得る た めの加熱時間 は通常 4 0 時間以上必要 と し て い た 。 他 の従来法に 比 し 、 高品質で比較的大型のイ ンゴ ッ 卜 が得 ら れる利点を 除い て も生産性 は悪 く ない が 、 こ の種 ガ ラ ス の需要面 よ り 更に コ ス 卜 低下が望 ま れて い た 。
• 本発明 は 、 こ の よ う な こ と か ら 本発明 に 係る ガ ラ ス の 製造法の利点を助長する と共 に生産性の向上を図 る こ と を 目 的 と し ものである 。
〔 発明の R示 〕
本発明 は 、 上記問題点を解決す るた め相転移促進剤を 含む二酸化珪素粉を杓 8 0 0 て ま で均.一 に 予熟 し た 後、 実質的 に 該 S度を保持 し て 容器に充墳 し た 上 、 再加熟 し て ク リ ス 卜 バ ラ イ 卜 結晶相 をもつ焼結成型体 と し 、 つ い で該成型休を真空下加熱溶 » し て ガ ラ ス化す る よ う に し
87 0125
6
た こ と を特徴 と す るものであ る 。
本発明 に係る上記ガ ラ スの製造法 に よ る と 、 従来のベ ルヌ ー ィ 法等が避け る こ と のでき なか っ た原料効率の悪 さ 、 も し く は長いガラス化時囿を必要 とせざるを得なか つ た 生産効率の悪さ等を解消でき 、 し かも格別高衡な熟 源を必要 と し ないた め安価 に生産できるが本発明方法に よ り そ の効果が一靨助長さ れる 。 即ち 、 本発明方法 に よ つ て 烷桔成型体を得た楊合、 現状約 4 0 時閤以上の加熱 時間を要 し て い た のが約半分 に短縮さ れ 、 生産性が著 し く 向上す るばか り か 、 不良品発生要因であ っ た烷桔体表 面の ク ラ ッ ク発生 をほぼ完全 に 解消でき る 。
〔 発明を実旃するた めの最良の形態 〕
上記 し た よ う に本発明 に係る ガ ラ スの製造法 は 、 原料 粉を直接ガラ ス化せず結晶化 し た 烷桔体 と サ る点に特徴 をもつ が結晶化は通常、 N a 等の相転移促進剤 を添加 さ せ た二酸化珪素粉を ムラ イ 卜 質等の容器に 充塡 し た後 、 加熱炉で加熟す る方法に よ っ て い る 。 こ の楊合烷桔体は 、 ¾点直下の ク リ ス 卜 パライ 卜 結晶相 に铳ー する こ と が必 要であ り 、 加熱パタ ー ン と し て は 1 , 1 0 0 ま で約 4 0 時園 、 1 , 1 0 0 保持時圃 が約 4 時園であ る 。
と こ ろで 、 烷桔体はガ ラス化する際の股気 ¾理が容易 で ある と同時 に生産性の た め適度な基持強度をもつ 等が 要求さ れる が 、 高品質の ガ ラ ス を得る た め に は烷桔体表 面に ク ラ ッ ク のない こ と が望 ま れる 。 こ れ は ク ラ ッ ク を
もつ焼結体を ガ ラス化す る と 、 真空溶 »時 ク ラ ッ ク が さ ら に 成長 し 、 良質な ガ ラ スを得る こ と がで きな いか ら で あ る 。 こ の ク ラ ッ ク は加熱囿始よ り きわめ て ゆ るや かな 昇温速度で加熟する こ と 、 焼結開始 S度直前で一定畤囿 保持す る等の ¾理手段に よ り 生 じ »い こ と は経驗的に知 見さ れて お り 、 従 っ て前記 し た如 く ほぼ 4 6 畤園加熱に 要 し て い た 。
本発明者等は 、 ク ラ ッ ク のな い焼結成型体を短時圜で 容易 に 得る手段 につ き種々 考究 し た結果 、 烷桔体の表面 に ク ラ ッ ク が生ずるの は 、 焼結開始時 に お け る粉体の表 面 と 中心部の 温度差 に 起因 す る こ と を見出 し た 。 S1 ち 、 粉体表面 と 中心部 と の漏度差が大きい程 ク ラ ッ ク が生 じ 易 く な る こ と であ り 、 従 っ て前記 し た烷桔開始直前で 定時間保持 す る こ と の効果は こ れ に 基づ く も のであ る 。 又、 焼結開始直前 ま での加熱は単な る渥度を得る た め の みの問題 に 過ぎず 、 昇漏速度を極端 に ゆ るやか に す る必 要性は原料粉を容器 に充塡 し て 加熟する た め全体の加熱 が均一化 し 難い こ と に 由 来する こ と を知見 し た 。 し かも 使用 さ れる原料粉は嵩 度が 0 . 3 { 9 / i ) と 小さ く 、 かつ 熱伝導率も 0 . 3 C K c a l / ι Η Ό ) と小さ いので尚更 均熱化 し難い 。
本発明 は 、 こ の よ う な知見に 基づ く も ので N a 成分等 の相転移促進剤を所望鼂含むニ醆化珪素粉を杓 8 0 0 て 迄均一 に加熱す る 。 こ の と き の加熟手段は任意で あ る が
均熱化 と生産性から IS拌 しつつ加熟す る こ と が有効であ る 。 こ の予熟に よ り原料粉が約 8 00て ま で昇温 し た ら 、 該温度を保持 しつつムラ イ 卜 質でなる所望形状の容器に 充填 し た後、 こ れを更に加熱 し 1 , 1 00 以上に昇濕 し て ク リ ス 卜 パ ライ 卜 結晶相をもつ焼結成型体 と する 。 得 ら れた烷桔体はつ いで 5 00 以上の S度に保持 し て 真空加熱炉へ搬入 し 、 0. 5 ib以下の真空 下で 1 , 7 5
0 以上に加熟溶融する こ と に よ り ガラス化さ せる 。
〔 産業上の利用 可能性 〕
本発明 は 、 半導体製造装黻用 治具 , 理化学用 器具及び 光学用材料等に 用 い ら れるガ ラ スの製造法 と し て 利用 で ぎる 。
Claims
1 . 相転移促進剤を含む二 酸化珪素粉を約 8 0 0 ^ ま で均一 に 予熱 し た後、 実質的に該濕度を保持 し て容器に 充慎 し た 上再加熱 し て ク リ ス 卜 パラ イ 卜 結晶相を もつ焼 結成型体 と し 、 つ いで該成型体を輿空下加熱溶融 し て ガ ラ ス化す る こ と を特徼 と す る ガ ラス の製造法 。
2 . 前記二酸化珪素粉の 予熟を 、 該珪素粉 を撹拌 し て 加熱す る こ と に よ り 行な う こ と を特徴 と す る特許請求の 範囲第 1 項記載のガ ラ スの製造法 。
3. 前記再加熱に お い て 、 焼結 開始直前温度で一定時 圊保持す る こ と を特徴 と する特許請求の範囲第 1 項又は 第 2 項記載の ガ ラ スの製造法 。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE8787901657T DE3769729D1 (de) | 1986-02-28 | 1987-02-27 | Verfahren zur herstellung von glas. |
| KR1019870700957A KR880700774A (ko) | 1986-02-28 | 1987-10-20 | 유리의 제조법 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61/43800 | 1986-02-28 | ||
| JP61043800A JPS62212234A (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | ガラスの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO1987005286A1 true WO1987005286A1 (fr) | 1987-09-11 |
Family
ID=12673821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/JP1987/000125 Ceased WO1987005286A1 (fr) | 1986-02-28 | 1987-02-27 | Procede de fabrication de verre |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4828595A (ja) |
| EP (1) | EP0258456B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62212234A (ja) |
| KR (1) | KR880700774A (ja) |
| WO (1) | WO1987005286A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5321135A (en) * | 1991-04-30 | 1994-06-14 | Tsumura & Co. | Process for the preparation of polycyclic compounds using ferric perchlorate and acid trifluoroacidic |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3751326B2 (ja) * | 1994-10-14 | 2006-03-01 | 三菱レイヨン株式会社 | 高純度透明石英ガラスの製造方法 |
| EP2650264B1 (en) * | 2010-05-31 | 2018-06-27 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Production method for a li2o-al2o3-sio2 based crystallised glass |
| CN103043898B (zh) * | 2012-12-06 | 2015-04-15 | 东海县金孚石英制品有限公司 | 能够提高石英玻璃机械强度的石英玻璃原料及其生产方法 |
| TWI794149B (zh) | 2015-12-18 | 2023-03-01 | 德商何瑞斯廓格拉斯公司 | 石英玻璃粉粒、不透明成型體及彼等之製備方法 |
| WO2017103160A1 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Herstellung von quarzglaskörpern aus siliziumdioxidgranulat |
| US11952303B2 (en) | 2015-12-18 | 2024-04-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Increase in silicon content in the preparation of quartz glass |
| EP3390290B1 (de) | 2015-12-18 | 2023-03-15 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Herstellung eines opaken quarzglaskörpers |
| CN108698894A (zh) | 2015-12-18 | 2018-10-23 | 贺利氏石英玻璃有限两合公司 | 在多腔式烘箱中制备石英玻璃体 |
| WO2017103115A2 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Herstellung eines quarzglaskörpers in einem schmelztiegel aus refraktärmetall |
| US10676388B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-06-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Glass fibers and pre-forms made of homogeneous quartz glass |
| US11492282B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-11-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of quartz glass bodies with dew point monitoring in the melting oven |
| US11053152B2 (en) | 2015-12-18 | 2021-07-06 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Spray granulation of silicon dioxide in the preparation of quartz glass |
| JP7044454B2 (ja) | 2015-12-18 | 2022-03-30 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラス調製時の中間体としての炭素ドープ二酸化ケイ素造粒体の調製 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS498638B1 (ja) * | 1967-03-23 | 1974-02-27 | ||
| JPS5173017A (en) * | 1974-11-18 | 1976-06-24 | Philips Nv | Yojusekiei no butsupin no renzokuseizohoho |
Family Cites Families (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US805139A (en) * | 1904-06-13 | 1905-11-21 | Charles W Brown | Manufacture of glass. |
| US1549597A (en) * | 1921-04-01 | 1925-08-11 | Gen Electric | Silica glass |
| US1645080A (en) * | 1926-06-24 | 1927-10-11 | Gen Electric | Method of producing high-grade vitreous silica |
| US2726487A (en) * | 1952-11-21 | 1955-12-13 | Gen Electric | Method for making fused vitreous quartz |
| US3927697A (en) * | 1968-02-22 | 1975-12-23 | Heraeus Schott Quarzschmelze | Quartz glass elements |
| SE372245B (ja) * | 1973-02-06 | 1974-12-16 | Arbman Ab Stig | |
| US4042361A (en) * | 1976-04-26 | 1977-08-16 | Corning Glass Works | Method of densifying metal oxides |
| US4093771A (en) * | 1976-10-29 | 1978-06-06 | Nasa | Reaction cured glass and glass coatings |
| JPS606294B2 (ja) * | 1977-11-28 | 1985-02-16 | 住友電気工業株式会社 | ガラス体の製造方法 |
| GB2002342B (en) * | 1977-07-27 | 1982-06-30 | Sumitomo Electric Industries | Process for producing a glass member |
| JPS6024057B2 (ja) * | 1977-07-27 | 1985-06-11 | 住友電気工業株式会社 | ガラス体の製造方法 |
| JPS606293B2 (ja) * | 1977-08-26 | 1985-02-16 | 住友電気工業株式会社 | 光伝送用ガラスフアイバ−素材の製造方法 |
| JPS5436951A (en) * | 1977-08-29 | 1979-03-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Heat treatment method of glass rod |
| US4146379A (en) * | 1977-08-24 | 1979-03-27 | University Of Southern California | Process for densifying polycrystalline articles |
| DE3014311C2 (de) * | 1980-04-15 | 1982-06-16 | Heraeus Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau | Verfahren zur Herstellung von Quarzglastiegeln und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
| US4465656A (en) * | 1981-08-19 | 1984-08-14 | Hughes Aircraft Company | Process for preparation of water-free oxide material |
| US4429009A (en) * | 1981-10-30 | 1984-01-31 | Hughes Aircraft Company | Process for surface conversion of vitreous silica to cristobalite |
| US4414282A (en) * | 1982-04-19 | 1983-11-08 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Glass ceramic seals to inconel |
| JPS6230633A (ja) * | 1985-08-02 | 1987-02-09 | Nippon Sanso Kk | ガラスの製造法 |
| EP0173961B1 (en) * | 1984-08-30 | 1991-01-23 | Japan Oxygen Co., Ltd. | Process for the production of glass |
| JPS6158824A (ja) * | 1984-08-30 | 1986-03-26 | Nippon Sanso Kk | 透明石英ガラスの製造法 |
| JPS6158822A (ja) * | 1984-08-30 | 1986-03-26 | Nippon Sanso Kk | 透明石英ガラスの製造法 |
| JPS6158823A (ja) * | 1984-08-30 | 1986-03-26 | Nippon Sanso Kk | 透明石英ガラスの製造法 |
| JPS6158832A (ja) * | 1984-08-30 | 1986-03-26 | Nippon Sanso Kk | 透明石英ガラス用材料 |
| JPS6230634A (ja) * | 1985-08-02 | 1987-02-09 | Nippon Sanso Kk | 石英ガラスの製造法 |
-
1986
- 1986-02-28 JP JP61043800A patent/JPS62212234A/ja active Pending
-
1987
- 1987-02-27 US US07/126,103 patent/US4828595A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-02-27 WO PCT/JP1987/000125 patent/WO1987005286A1/ja not_active Ceased
- 1987-02-27 EP EP87901657A patent/EP0258456B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-10-20 KR KR1019870700957A patent/KR880700774A/ko not_active Ceased
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS498638B1 (ja) * | 1967-03-23 | 1974-02-27 | ||
| JPS5173017A (en) * | 1974-11-18 | 1976-06-24 | Philips Nv | Yojusekiei no butsupin no renzokuseizohoho |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| See also references of EP0258456A4 * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5321135A (en) * | 1991-04-30 | 1994-06-14 | Tsumura & Co. | Process for the preparation of polycyclic compounds using ferric perchlorate and acid trifluoroacidic |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0258456A4 (en) | 1988-06-27 |
| EP0258456B1 (en) | 1991-05-02 |
| EP0258456A1 (en) | 1988-03-09 |
| US4828595A (en) | 1989-05-09 |
| KR880700774A (ko) | 1988-04-12 |
| JPS62212234A (ja) | 1987-09-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6012304A (en) | Sintered quartz glass products and methods for making same | |
| CN1316073C (zh) | 石英玻璃坩埚及其制造方法 | |
| EP0173961B1 (en) | Process for the production of glass | |
| WO1987005286A1 (fr) | Procede de fabrication de verre | |
| CN101428273B (zh) | 多晶硅太阳能电池铸锭用石英坩埚的氮化硅喷涂方法 | |
| US4828593A (en) | Process for the production of glass | |
| EP0258455B1 (en) | Process for manufacturing glass | |
| JPH054834A (ja) | オキシナイトライドガラス及びその製造方法 | |
| JPS62202826A (ja) | ガラスの製造法 | |
| JPS62212235A (ja) | ガラスの製造法 | |
| JPS62212233A (ja) | ガラスの製造法 | |
| JPS6158823A (ja) | 透明石英ガラスの製造法 | |
| JPS62212236A (ja) | ガラスの製造法 | |
| JPH0575703B2 (ja) | ||
| JPH10502324A (ja) | 焼結石英ガラス製品及びその製造方法 | |
| JPS6158824A (ja) | 透明石英ガラスの製造法 | |
| CN103201226B (zh) | 石英玻璃坩埚及其制造方法、以及单晶硅的制造方法 | |
| JP5806941B2 (ja) | シリカ焼結体ルツボの製造方法 | |
| JPS6230634A (ja) | 石英ガラスの製造法 | |
| JPS6230633A (ja) | ガラスの製造法 | |
| JPS599499B2 (ja) | 光学ガラスの製造方法 | |
| JPS599497B2 (ja) | 光学ガラスの製造方法 | |
| JPS62202827A (ja) | ガラスの製造法 | |
| JPH0234528A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
| JPS6227341A (ja) | 溶融ガラス体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| AK | Designated states |
Kind code of ref document: A1 Designated state(s): KR US |
|
| AL | Designated countries for regional patents |
Kind code of ref document: A1 Designated state(s): DE FR GB |
|
| WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 1987901657 Country of ref document: EP |
|
| WWP | Wipo information: published in national office |
Ref document number: 1987901657 Country of ref document: EP |
|
| WWG | Wipo information: grant in national office |
Ref document number: 1987901657 Country of ref document: EP |