WO1995016799A1 - Verfahren zur herstellung einer hartstoffschicht - Google Patents

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Definitions

  • the invention relates to a method for the production of a hard material layer according to the preamble of claim 1.
  • Protective layers of this type are applied, for example, in vacuum chambers in which a particle vapor is generated.
  • PVD physical vapor deposition
  • CVD chemical vapor deposition
  • the component to be separated is introduced into the vacuum chamber as a gaseous compound.
  • hard material layers in reactive vapor deposition processes as protective layers, which represent a combination of PVD and CVD processes.
  • the metallic component is introduced by atomization, while the metalcidic components are introduced in gaseous form.
  • Such a particle vapor mixture is partially ionized in plasma-assisted vapor deposition processes. Electrical fields accelerate ions from the plasma volumes onto the coating material. This leads to the known ion plating effect, which is the cause of increased layer properties.
  • carbon layers are known as component protection, which are particularly suitable for sliding pairings because of their low coefficient of friction. Furthermore, because of the carbon content, there is a high chemical affinity for lubricants, so that a lubricant film tear under high load can be avoided.
  • metal-containing carbon layers have good adhesion to metallic components, but do not have any appreciable hardness, and metal-free carbon layers, depending on the hydrogen content of polymer soft to diamond hard can be produced, but they have a relatively poor adhesion to metallic components. Components provided with the carbon layers can therefore only be used for limited applications.
  • the method for producing a hard material layer with the features mentioned in claim 1 has the advantage, in contrast, that a wear-resistant coating can be provided which is versatile and has a high resistance to the above-mentioned different, possibly combined types of wear opposed by force. Because energetic ion treatment is carried out simultaneously during the deposition of the hard layer, it is very advantageously possible to provide even inexpensive and non-temperature-resistant component materials with a universally usable wear protection coating. This combination of layer deposition with energetic ion treatment can reliably solve adhesion or layer formation problems that occur.
  • the layer deposition is carried out with variable parameters, in particular the deposition time and the process gas composition, and the energetic ion treatment between low-energy ion irradiation and a high-energy ion irradiation (ion implantation) is varied.
  • variable parameters in particular the deposition time and the process gas composition
  • the energetic ion treatment between low-energy ion irradiation and a high-energy ion irradiation (ion implantation) is varied.
  • the desired hardness, structure and density of the layer can be set at low internal stresses by varying the layer composition, such as by targeted low-energy ion irradiation during the coating.
  • a simultaneous or supplementary high-energy ion implantation guarantees on the one hand good layer adhesion to the component to be coated, even if it has a different bond type, and on the other hand achieves a desired change in structure and density.
  • the diamond-like character can be set.
  • the tension, adhesion, hardness and thus also the tribological behavior of the entire layer composite can be very advantageously adapted to the circumstances by varying the deposition time for the individual sub-layers or the time length of the gradual transitions.
  • Components coated with the process according to the invention can advantageously be used in such applications in which an often coupled sliding and fatigue wear on components which are subject to high tribological stresses are to be effectively combated.
  • Figure 1 schematically shows a sectional view of a component coated with a hard material layer according to the invention
  • FIG. 2 shows a time diagram of the particle flows during the layer deposition
  • FIG. 3 shows a time diagram of an ion treatment running in parallel.
  • FIG. 1 shows a component 10 which is used, for example, in mechanical control and regulating assemblies, such as injection systems, in motor vehicles. tool technology is to be used.
  • the component 10 is subject to very different types of wear.
  • the component 10 is intended both against an impact load, for example in the case of a valve seat, against cavitation erosion, for example at high fluid pressures, against sliding load, for example in a bearing, against oscillating fatigue wear, for example of control components, against abrasion caused, for example, in the presence of hard impurity particles and against a corrosive attack, for example in water, salt solutions, solvents, fuels with and without additives.
  • the possible types of wear mentioned here are only examples and are intended to illustrate the versatility that is required to protect a component 10.
  • the component 10 is provided with a hard material splint 12, which is composed of an adhesive layer 14, a functional layer 16 and a surface layer 18.
  • This entire layer composite with a total layer thickness of, for example, approximately 3 ⁇ m has areas of different composition within the individual layers 14, 16 and 18. The individual areas are only mentioned here and their generation is explained in more detail with reference to FIGS. 2 and 3.
  • the adhesive layer 14 consists of an area 20 based on titanium.
  • the adhesive layer 14 made of pure titanium is particularly suitable if the component 10 consists of a metallic substrate, since titanium is due to its Oxidation tendency is able to bind the mostly oxidic impurities on a surface 22 of the component 10.
  • the adhesive layer 14 consists of titanium boride (TiB2> if titanium boride is used as the evaporation material instead of the titanium, which is preferred for extremely hard and chemically inert layer systems.
  • the functional layer 16 has the regions 24, 26 and 28. These areas consist of a hard alloy of titanium nitric (Ti>;; with titanium carbicen (TiC) and / or titanium cracker (Ti52).
  • area 24 consists of TiN, area 26 made of TiCN and the area 28 made of TiC.
  • titanium boride is used as the evaporation material, the area 24 consists of TiBN, the area 26 made of TiBCN and the area 28 made of TiBC.
  • a compromise can be set, for example, between increased layer hardness, reduced brittleness and low internal stresses.
  • the transitions between regions 24, 26 and 28 marked here with 30 indicate mixed compositions of regions 24, 26 and 28 on, so that there is a gradual transition from one hard alloy to another.
  • the surface layer 18 mainly consists of the region 32 and optionally of the region 34.
  • the region 32 consists of a metal-containing carbon layer (aC: Ti) and the region 34 of a metal-free carbon layer (aC: H).
  • FIG. 2 shows the course of the Da particle flow during the deposition of the material slide, in the example of the titanium layer or the corresponding titanium alloys, over time and FIG. 3 shows the course of the energetic ion treatment over time.
  • component 10 is subjected to ion irradiation 36.
  • a component surface sputter pre-cleaning is carried out, in particular, by bombardment with heavy ions before the layer deposition. In the example shown, this irradiation takes place with ions from a separate ion source and with an energy greater than 10 keV.
  • An advantage of high-energy sputter pre-cleaning is that electrostatic effects through corners and edges on the directional ion movement play no role.
  • low-energy ion etching at 1000 eV is also suitable, in which ions are directed from the coating plasma by applying a voltage to the substrates.
  • the ions meet edges more strongly following the electrical field lines and hardly get into contact with deepening. This type of low-energy ion irradiation is therefore only effective with smooth surface structures.
  • high-energy ion irradiation enables atomic mixing of the component surface 22 with the first layer to be subsequently applied. This ensures an increase in adhesion and homogeneous layer growth at a coating temperature of approximately 2CC ° C. Components 10 that would not withstand a higher coating temperature can thus also be coated with the method according to the invention.
  • the deposition of the titanium or titanium boride (TiB2) layer is started at a time t] _.
  • a low-energy irradiation 38 with ions from the existing coating plas a begins from the time t 1. This is carried out with an energy of, for example, 100 eV.
  • N2 nitrogen
  • the nitrogen addition is increased until time t3 and then remains constant until time t - ⁇ .
  • the nitrogen use is reduced and kept at a minimum value from time t ⁇ . For a nitrogen-free surface layer, the nitrogen addition at the time t7 completely set.
  • the process gas composition is changed so that additional carbon, for example in the form of acetylene (C2H2), is introduced as the process gas, the proportion of which increases step by step up to a point in time and is then discontinued.
  • additional carbon for example in the form of acetylene (C2H2)
  • C2H2 acetylene
  • the process gas composition only nitrogen is available as process gas for a certain period of time, a mixture of carbon and nitrogen in approximately the same ratio is available for a further period of time and mainly only carbon for a further period of time low admixture of nitrogen is available.
  • the nitride region 24 (Ti (B) N) is initially formed as a ductile, diffusion barrier for the carbon which enters the carbonitride region 26 (Ti (3) C, N)) with the desired hardness and then passes into the carbide region 28 (Ti (B) C)).
  • Ti (B) N titanium boride
  • the boron fraction in the individual areas 24, 26 and 28 of the layer 16 cannot be completely substituted.
  • the optional small addition of nitrogen to the carbide layers 28 helps to reduce their brittleness.
  • the low-energy ion irradiation 38 is continued, while the high-energy ion irradiation 36 is stopped at time t__.
  • the low-energy ion radiation 33 causes / 16799
  • the evaporation of the titanium or titanium boride (T1B2) is gradually reduced and optionally set at time t] _o, if a metal-free carbon shift is desired.
  • the supply of the process gas carbon (C) is increased.
  • the layer composition is thus changed towards the surface layer 18, starting from the carbide region 23 (TiC or TiBC), in such a way that first the metal-containing region 32 (aC: Ti) and then optionally the metal-free region 34 (aC : H) a carbon layer is formed.
  • a small addition of nitrogen to the carbon-rich layers 32 and 34 helps to reduce their brittleness.
  • a high-energy ion irradiation 36 can be carried out again until time t_2.
  • the hydrogen content of the surface layer 18 is reduced in particular by the implantation of light ions. This means that the structure and density can be targeted afterwards the surface layer can be changed so that the diamond-like character is established. This means that a pore-free, chemically resistant covering of the hard functional layer 16 is achieved, which ensures excellent protection against corrosive media, such as fuels.
  • the combination of the gas phase deposition described with the energetic ion treatment and the variation of the process parameters can create a layer composite that begins with an adhesive layer 14 that continuously changes into a hard functional layer 16 due to gradual parameter variation and finally closes with a friction-reducing surface layer 18.
  • the ciamant-like surface layer 18 shows a dense structure and, due to its chemical resistance to acids and alkalis, is ideally suited as a corrosion protection layer.
  • the hard material layer 12 has properties overall that offer resistance to the different, often combined, types of wear already mentioned.

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Niedertemperaturverfahren zur Herstellung einer Hartstoffschicht auf einem Bauteil, die einen umfassenden Schutz gegen unterschiedliche und kombinierte Verschleißarten bildet. Dazu ist vorgesehen, daß die Hartstoffschicht, bestehend aus einer Haftschicht (14), einer verschleißbeständigen harten Funktionsschicht (16) und einer reibmindernden Oberflächenschicht (18), durch ein kombiniertes PVD- und CVD-Beschichtungsverfahren und eine gleichzeitige energetische Ionenbehandlung erzeugt wird.

Description

Verfahren zur Herstellung einer HartstoffSchicht
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstel¬ lung einer Hartstoffschicht nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1. tf
Stand der Technik
Es ist bekannt, daß bei in verschiedenen techni¬ schen Gebieten eingesetzten Bauteilen unterschied¬ liche, oft kombinierte Verschleißarten auftreten können. Damit die Bauteile gegen einen übermäßigen Verschleiß geschützt sind, werden diese in zuneh¬ mendem Maße mit einer Schutzschicht versehen. An diese Schutzschicht werden besondere Anforderungen gestellt. So ist beispielsweise eine gute Adhäsion zum Bauteil, eine gute Kohäsion innerhalb des Schichtverbundes sowie eine geringe Adhäsion zum Gegenkörper notwendig. Weiterhin müssen die Schutz¬ schichten geringe innere Druckspannungen, eine hohe Härte und Tragfähigkeit, einen geringen Reib¬ koeffizienten und eine Oberflächenglattheit und Porenfreiheit aufweisen. Darüber hinaus ist bei be¬ stimmten Anwendungen der Bauteile eine hohe Affi¬ nität der Schutzschicht zu Schmiermitteln zu ge¬ währleisten.
Derartige Schutzschichten werden beispielsweise in Vakuumkammern aufgebracht, in denen ein Partikel¬ dampf erzeugt wird. Ir. PVD (phyεicεl vapour deposition) -Verfahren wird dazu in der Regel die Sputter-Technologie angewendet, bei der ein als Kathode geschaltetes sogenanntes Target unter Bom¬ bardement positiver Ionen zerstäubt wird. In CVD (che ical vapour deposition) -Verfahren wird die abzuscheidende Komponente als gasförmige Verbindung in die Vakuumkammer eingeleitet. Es ist bekannt, als Schutzschichten sogenannte Hartstoffschichten in reaktiven Aufdampfprozessen abzuscheiden, die eine Kombination von PVD- und CVD-Verfahren dar¬ stellen. Die metallische Komponente wird durch Zerstäuben, die metallciden Komponenten dagegen gasförmig eingebracht. Ein solches Partikeldampf¬ gemisch wird in plasmaunterstützten Aufdampfver¬ fahren teilweise ionisiert. Durch elektrische Fel¬ der werden aus den Plasmavolumina "Ionen auf das Beschichtungsgut beschleunigt. Dadurch kommt es zu dem bekannten Ionenplattiereffekt, der ursächlich für gesteigerte Schichteigenschaften ist.
Aus dem Werkzeugbau ist beispielsweise bekannt, mit Hilfe solcher plasmagestützten Abscheidungsprozesse dünne Hartstoffschichten auf die Werkzeuge zu dampfen, die somit eine Verschleißschutzbeschich- tung ergeben. Dabei werden im wesentlichen Titan¬ nitride (TiN) , Titankarbide (TiC) und Titanboride (TiB2) bzw. daraus abgeleitete ehrkomponentige Legierungen oder Vielfachschichtsysteme eingesetzt. Wegen ihrer hohen Härte können diese Schichten einer schlagenden Beanspruchung und einem Kavitations- sowie Abrasionsverschleiß widerstehen. Sie besitzen aber wegen des relativ hohen Reibkoeffizienten schlechte Gleiteigenschaf en und sind zudem meist korrosionsanfällig. Eei der Her¬ stellung dieser Verschleißschutzbeschichtung in Vakuumprozεssen werden darüber hinaus in der Regel Temperaturen von ca. 300 bis 500 °C benötigt, die für einige Bauteilwerkstoffe zu hoch liegen. Damit ist nachteilig, daß die mit einem etablierten Verfahren aufgebrachte Schutzschicht nur für be¬ grenzte Anwendungen in Frage kommt.
Weiterhin ist als Bauteilschutz das Aufbringen von Kohlenstoffschichten bekannt, die wegen ihres geringen Reibkoeffizienten für Gleitpaarungen besonders geeignet sind. Weiterhin ergibt sich wegen des Kohlenstoffgehaltes eine hohe chemische Affinität zu Schmiermitteln, so daß ein Schmier¬ filmabriß unter Hochlast vermieden werden kann. Bei den Kohlenstoffschichten ist jedoch nachteilig, daß metallhaltige Kohlenstoffschichten eine gute Haf¬ tung zu metallischen Bauteilen zeigen, dafür aber keine nennenswerte Härte aufweisen und metallfreie Kohlenstoffschichten je nach Wasserstoffgehalt von polymerweich bis diamanthart hergestellt werden können, diese jedoch eine relativ schlechte Haftung zu metallischen Bauteilen aufweisen. Somit sind mit den Kohlenstoffschichten versehene Bauteile wie¬ derum nur für begrenzte Anwendungsfälle einsetzbar.
Vorteile der Erfindung
Das Verfahren zur Herstellung einer Hartstoff¬ schicht mit den im Anspruch 1 genannten Merkmalen hat demgegenüber den Vorteil, daß eine Verschleiß- schutzbeschichtung zur Verfügung gestellt werden kann, die vielseitig einsetzbar ist und den oben genannten unterschiedlichsten, gegebenenfalls kom¬ binierten Verschleißarten eine hohe Widerstands¬ kraft entgegensetzt. Dadurch, daß gleichzeitig während der Abscheidung der Hartsto fSchicht eine energetische Ionenbehandlung erfolgt, ist es sehr vorteilhaft möglich, selbst preiswerte und nicht temperaturbeständige Bauteilwerkstoffe mit einer universell verwendbaren Verschleißschutzbeschich- tung zu versehen. Durch diese Kombination einer Schichtabscheidung mit einer energetischen Ionenbe¬ handlung lassen sich auftretende Haftungs- oder Schichtbildungsprobleme zuverlässig lösen.
In vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß die Schichtabscheidung mit ver¬ änderlichen Parametern, insbesondere der Abscheide¬ dauer und der Prozeßgaszusammensetzung, durchge¬ führt wird und die energetische Ionenbehandlung zwischen einer niederenergetischen Ionenbestrahlung und einer hochenergetischen Ionenbestrahlung (Ionenimplantation) variiert wird. Durch die sich hieraus ergebende Vielzahl von Variationsmöglich¬ keiten, die gezielt auf das Bauteil und/oder auf das Beschichtungsmaterial abgestimmt sein können, ist es vorteilhaft möglich, die Eigenschaften der HartstoffSchicht auf den jeweiligen Anwendungsfall für das Bauteil optimal abzustimmen. Die konti¬ nuierliche Parametervariation während der Herstel¬ lung der Hartstoffschicht garantiert einen inneren Zusammenhalt im Schichtverbund und ist beispiels¬ weise einer Vielschichtanordnung überlegen. Durch Variation der Schichtzusammensetzur-g wie durch ge¬ zielte niederenergetische Ionenbestrahlung während der Beschichtung kann die gewünschte Härte, Struk¬ tur und Dichte der Schicht bei geringen inneren Spannungen eingestellt werden. Durch eine gleich¬ zeitige oder ergänzende hochenergetische Ionen¬ implantation wird einerseits eine gute Schicht¬ haftung zu dem zu beschichtenden Bauteil, selbst wenn dieses einen unterschiedlichen Bindungstyp aufweist, garantiert und andererseits eine ge¬ wünschte Struktur- und Dichteänderung erreicht. So kann beispielsweise bei Kohlenstoffschichten der diamantähnliche Charakter eingestellt werden.
Das Spannungs-, Haftungs-, Härte- und somit auch das tribolog: sehe Verhalten des gesamten Schicht¬ verbundes laßt sich sehr vorteilhaft durch Variation der Abscheidedauer für die einzelnen Teilschichten bzw. der zeitlichen Länge der gra¬ duellen Übergänge den Umständen anpassen. Bei mit dem erfindungsgemäßen Verfahren beschichteten Bau¬ teilen ist es vorteilhaft möglich, diese bei sol¬ chen Anwendungen einzusetzen, bei denen ein oft ge¬ koppelter Gleit- und Ermüdungsverschleiß an tribo- logisch hoch belasteten Bauteilen wirksam bekämpft werden soll.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den übrigen in den Unteransprüchen genannten Merkmalen.
Zeichnung
Die Erfindung wird nachfolgend in einem Aus¬ führungsbeispiel anhand der zugehörigen Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
Figur 1 schematisch eine Schnittdarstellung eines mit einer erfindungsgemäßen Hartstoffschicht beschichteten Bauteils;
Figur 2 ein Zeitdiagramm der Partikelflüsse während der Schichtabscheidung und
Figur 3 ein Zeitdiagramm einer parallel o verlaufenden Ionenbehandlung.
Beschreibung des Ausführungsbeispiels
In der Figur 1 ist ein Bauteil 10 gezeigt, das bei¬ spielsweise in mechanischen Steuer- und Regelbau¬ gruppen, wie Einspritzanlagen, in der Kraftfahr- zeugtechnik eingesetzt werden soll. Das Bauteil 10 unterliegt dabei sehr unterschiedlichen- Verschlei߬ arten. So soll das Bauteil 10 sowohl gegen eine schlagende Beanspruchung, beispielsweise bei einem Ventilsitz, gegen eine Kavitationserosion, bei¬ spielsweise bei hohen Flüssigkeitsdrücken, gegen Gleitbeanspruchung, beispielsweise in einem Lager, gegen schwingenden Ermüdungsverschleiß, beispiels¬ weise von Regelkomponenten, gegen Abrasion, bei¬ spielsweise hervorgerufen in Gegenwart harter Ver¬ unreinigungspartikel, sowie gegen einen korrosiven Angriff, beispielsweise in Wasser, Salzlösungen, Lösungsmitteln, Kraftstoffen mit und ohne Zusätzen, geschützt sein. Die hier genannten möglichen Verschleißarten sind lediglich beispielhaft und sollen die Vielseitigkeit, die an den Schutz eines Bauteils 10 gestellt werden, verdeutlichen.
Das Bauteil 10 ist mit einer Hartstoffschient 12 versehen, die sich aus einer Haftschicht 14, einer Funktionsschicht 16 und einer Oberflächenschicht 18 zusammensetzt. Dieser gesamte Schichtverbund mit einer Gesamtschichtdicke von beispielsweise ca. 3 μm weist innerhalb der einzelnen Schichten 14, 16 und 18 verschieden zusammengesetzte Bereiche auf. Die einzelnen Bereiche werden hier lediglich ge¬ nannt und deren Erzeugung anhand der Figuren 2 und 3 näher erläutert. Die Haftschicht 14 besteht aus einem Bereich 20 auf Basis von Titan. Die Haft¬ schicht 14 aus reinem Titan ist insbesondere geeignet, wenn das Bauteil 10 aus einem metalli¬ schen Substrat besteht, da Titan aufgrund seiner Oxydationsneigung in der Lage ist, die meist oxydi¬ schen Verunreinigungen auf einer Oberfläche 22 des Bauteils 10 einzubinden. Alternativ besteht die Haftschicht 14 aus Titanborid (TiB2> , wenn als Verdampfungsmaterial anstelle des Titans Titanborid eingesetzt wird, das für extrem harte und chemisch inerte Schichtsysteme zu bevorzugen ist.
Die Funkticnsschicht 16 weist die Bereiche 24, 26 und 28 auf. Diese Bereiche bestehen aus einer Hartstofflegierung von Titannitricεn (Ti>;; mit Titankarbicen (TiC) und/oder Titanbcricεr- (Ti52) . Im gezeigten Beispiel, wo Titan als Aufdampf¬ material eingesetzt wird, besteht der Bereich 24 aus TiN, der Bereich 26 aus TiCN und der Bereich 28 aus TiC. Wird alternativ Titanborid als Verdampfungsmaterial eingesetzt, sc besteht der Bereich 24 aus TiBN, der Bereich 26 aus TiBCN und der Bereich 28 aus TiBC. Durch die Kombination der Eigenschaften der vorgenannten binären Komponenten lassen sich die Gesamteigenschaften der Funktions¬ schicht 16 variieren. Beispielsweise läßt sich ein Kompromiß zwischen einer gesteigerten Schichthärte, einer reduzierten Sprödheit und geringen inneren Spannungen einstellen. Die hier mit 30 gekenn¬ zeichneten Übergänge zwischen den Bereichen 24, 26 und 28 weisen Mischzusammensetzungen der Bereiche 24, 26 und 28 auf, so daß sich ein allmählicher Übergang von einer Hartstofflegierung in eine an¬ dere ergibt. Die Oberflächenschicht 18 besteht hauptsächlich aus dem Bereich 32 und optional aus dem Bereich 34. Der Bereich 32 besteht aus einer metallhaltigen Kohlen- stoffschicht (a-C:Ti) und der Bereich 34 aus einer metallfreien Kohlenstoffschicht (a-C:H) .
Anhand der Figuren 2 und 3 soll das Herstellungs¬ verfahren und der Strukturaufbau der in Figur 1 gezeigten Hartstoffschicht 12 näher erläutert wer¬ den. Figur 2 zeigt dabei den Ablauf der Da pf- partikelflüsse während der Abscheidung der Kart¬ stoffschiebt, im Beispiel der Titanschicht bzw. der entsprechenden Titanlegierungen, über der Zeit und Figur 3 den Ablauf der energetischen ϊonenbehand- lung über der Zeit. Zu einem Zeitpunkt Q wird das Bauteil 10 mit einer Ionenbestrahlung 36 beauf¬ schlagt. Besonders durch das Bombardement mit schweren Ionen vor der Schichtabscheidung wird eine Bauteiloberflachen-SputterVorreinigung durchge¬ führt. Im abgebildeten Beispiel findet diese Be¬ strahlung mit Ionen aus einer separaten Ionenquelle und mit einer Energie größer 10 keV statt. Ein Vorteil der Hochenergie-Sputtervorreinigung ist, daß elektrostatische Effekte durch Ecken und Kanten wege on der gerichteten Ionenbewegung keine Rolle spielen. Prinzipiell ist auch ein Niederenergie- Ionenätzen bei 1000 eV geeignet, bei dem Ionen aus dem Beschichtungsplasma durch Anlegen einer Span¬ nung auf die Substrate gelenkt werden. Bei stark strukturierten Substratgeometrien treffen die Ionen jedoch den elektrischen Feldlinien folgend ver¬ stärkt auf Kanten und gelangen kaum in Ver- tiefungen. Daher ist diese Art der Niederenergie- Ionenbestrahlung nur bei glatten Oberflächenstruk¬ turen effektiv.
Nach der hoch- oder niederenergetischen Sputtervor- reinigung ermöglicht eine hochenergetische Ionenbe¬ strahlung ein atomares Durchmischen der Bauteil¬ oberfläche 22 mit der nachfolgend aufzubringenden ersten Schicht. Hierdurch wird eine Haftungs¬ steigerung und ein homogenes Schichtwachstum bei einer Beschichtungstemperatur von ca. 2CC °C ge¬ währleistet. Somit können mit dem erfindu gsgemäßen Verfahren auch Bauteile 10 beschichtet werden, die einer höheren Beschichtungstemperatur nicht stand¬ halten würden.
Zu einem Zeitpunkt t]_ wird die Abscheidung der Titan- bzw. der Titanborid (TiB2) -Schicht begonnen. Gleichzeitig beginnt ab dem Zeitpunkt tι_ einε niederenergetische Bestrahlung 38 mit Ionen aus dem vorhandenen Beschichtungsplas a. Diese wird mit einer Energie von beispielsweise 100 eV durch¬ geführt. Zu einem Zeitpunkt t2 wird die Proze߬ gaszusammensetzung während der Schichtabscheidung so overändert, daß nunmehr Stickstoff (N2) als Prozeßgas zugegeben wird. Der Stickstoffzusatz wird bis zum Zeitpunkt t3 gesteigert und bleibt dann bis zu einem Zeitpunkt t -\ konstant. Von dem Zeitpunkt t_ beginnend wird der Stickstoffeinsatz reduziert und ab einem Zeitpunkt tη auf einem Minimalwert gehalten. Für eine stickstofffreie Oberflächen¬ schicht wird der Stickstoffzusatz zu dem Zeitpunkt t7 vollständig eingestellt. Zum Zeitpunkt t _ wird die Prozeßgaszusammensetzung so verändert, daß zu¬ sätzlich Kohlenstoff, beispielsweise in Form von Azetylen (C2H2) als Prozeßgas eingeführt wird, dessen Anteil bis zu einem Zeitpunkt tι_ι_ stufen¬ weise ansteigt und dann eingestellt wird. Durch diese Variation der Prozeßgaszusammensetzung wird erreicht, daß während einer bestimmten Zeitspanne lediglich Stickstoff als Prozeßgas zur Verfügung steht, während einer weiteren Zeitspanne ein Gemisch aus Kohlenstoff und Stickstoff in etwa gleichem Verhältnis zur Verfügung steht und während einer weiteren Zeitspanne hauptsächlich nur Kohlen¬ stoff eventuell mit geringer Beimengung von Stick¬ stoff zur Verfügung steht. Durch diese veränderten Prozeßplasmen wird erreicht, daß zunächst der Nitrid-Bereich 24 (Ti(B)N) als duktile-, Diffusions- barriere für den Kohlenstoff entsteht, der in den Karbonitrid-Bereich 26 (Ti(3)C,N)) mit der ge¬ wünschten Härte und dann in den Karbid-Bereich 28 (Ti(B)C)) übergeht. Bei Verwendung von Titanborid als Aufdampfmaterial läßt sich der Boranteil in den einzelnen Berεichen 24, 26 und 28 der Schicht 16 nicht vollständig substituieren. Die optionale geringe Beimengung von Stickstoff zu den Karbid¬ schichten 28 hilft deren Sprödheit zu reduzieren. Gleichzeitig mit der Variation der Prozeßgaszusam¬ mensetzung wird die niederenergetische Ionenbe¬ strahlung 38 weitergeführt, während die hochenerge¬ tische Ionenbestrahlung 36 zum Zeitpunkt t__ einge¬ stellt wird. Die niederenergetische Ionenbe¬ strahlung 33 bewirkt dabei während der Schicht- /16799
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abscheidung eine Strukturverdichtung der Funktions¬ schicht 16 bei geringen inneren Spannungen und gewährleistet die Einhaltung der Prozeßtemperatur von 200 °C. Dadurch, daß die hochenergetische Ionenbestrahlung 36 erst zum Zeitpunkt t^ einge¬ stellt wird, wird das atomare Durchmischen des Bauteils 10 mit der Haftschicht 14 und dem ersten Bereich 24 der Funktionsschicht 16 begünstigt.
Beginnend mit dem Zeitpunkt tg wird die Verdampfung des Titans bzw. des Titanborids (T1B2) stufenweise verringert und optional zum Zeitpunkt t]_o einge¬ stellt, falls eine metallfreie Kohlenstoffschiebt erwünscht ist. Gleichzeitig wird die Zufuhr des Prozeßgasεs Kohlenstoff (C) verstärkt. Damit wird zur Oberflächenschicht 18 hin die Schichtzusammεn- sεtzung, ausgehend von dem Karbid-Bereich 23 (TiC bzw. TiBC) , so geändert, daß zunächst der metall¬ haltige Bereich 32 (a-C:Ti) und dann optional der metallfrεiε Eereich 34 (a-C:H) einer Kohlenstoff- εchicht entsteht. Eine geringe Beimengung von Stickstoff zu den kohlenstoffreichen Schichten 32 und 34 hilft wiederum deren Sprödheit zu redu¬ zieren.
Nach Beendigung der Schichtabscheidung zum Zeit¬ punkt u kann nochmals eine hochenergetische Ionenbestrahlung 36 bis zum Zeitpunkt t _2 durch¬ geführt werden. Insbesondere durch die Implantation leichter Ionen wird der Wasserstoffgehalt der Oberflächenschicht 18 reduziert. Dadurch kann im nachhinein nochmals gezielt die Struktur und Dichte der Oberflächenschicht geändert werden, so daß sich der diamantähnliche Charakter einstellt. Dies be¬ deutet, daß eine porenfreie, chemisch resistente Abdeckung der harten Funktionsschicht 16 erreicht wird, die einen ausgezeichneten Schutz gegen korro¬ sive Medien, wie beispielsweise Kraftstoffe, ge¬ währleistet.
Nach allem wird klar, daß durch die beschriebene Kombination der Gasphasenabscheidung mit der ener¬ getischen Ionenbehandlung und der Variation der Prozeßparameter ein Schichtverbund geschaffen wer¬ den kann, der mit einer Haftschicht 14 beginnt, die durch graduelle Parametervariation kontinuierlich in eine harte Funktionsschicht 16 übergeht und schließlich mit einer reibmindernden Oberflächen¬ schicht 18 abschließt. Insbesondere die ciamant- ähnliche Oberflächenschicht 18 zeigt eine dichte Struktur und eignet sich aufgrund ihrer chemischen Resistenz gegen Säuren und Laugen hervorragend als Korrosionschutzschicht. Somit weist diε Hartstoff¬ schicht 12 insgesamt Eigenschaften auf, die eine Resistenz gegen die bereits erwähnten unter¬ schiedlichen, oftmals kombinierten Verschleißarten bietet.

Claims

- I MPatentansprüche
1. Verfahren zur Herstellung einer Hartstoffschiebt auf einem Bauteil, dadurch gekennzeichnet, daß in¬ nerhalb der Hartstoffschicht eine Haftschicht (14), eine verschleißbeständige Funktionsschicht (16) und eine reibmindernde Ober lächenschicht (18) durch ein kombiniertes Niedertemperatur-PVD- und CVD- Beschichtungsverfahren erzeugt wird.
2. Verfahren nach .Anspruch 1, dadurch gekennzeich¬ net, daß zwischen den Schichten (14, 16, 18) fließende Übergänge (30) erzeugt werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge¬ kennzeichnet, daß als Verdampfungsmaterial Titan oder Titanborid eingesetzt wird, das während der Beschichtung mit einem Stickstoffgas, einem Kohlen- stoffgas und/oder einem Gemisch aus Stickstoff- und Kohlenstoffgas reagiert. ; ';> -
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprü¬ che, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichtab¬ scheidung mit veränderlichen Parametern, insbeson¬ dere der Abscheidedauer und der Prozeßgaszusammen¬ setzung, durchgeführt wird.
5. Verfahren nach einem -.'er vorhergehenden Ansprü¬ che, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzeugung der Haftschicht (14) das Verdampfungsmaterial nicht in Gegenwart eines Reaktivgases abgeschieden wird.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprü¬ che, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzeugung der verschleißbeständigen Funktionsschicht (16) das Verdampfungsmaterial in etwa gleichem Maße wie die Reaktivgase abgeschieden wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeich¬ net, daß nur das Stickstoffgas zur Erzeugung eines duktilen Bereiches (24) der Funktionsschicht (16) eingesetzt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeich¬ net, daß ein Gemisch aus etwa gleichen Anteilen von Stickstoff- und Kohlenstoffgas zur Erzeugung eines harten Bereiches (26) der Funktionsschicht (16) eingesetzt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeich¬ net, daß hauptsächlich das Kohlenstoffgas, even¬ tuell mit geringen Beimengungen von Stickstoffgas, zur Erzeugung eines Übergangsbereiches (23) der Funktions- (16) zur Oberflächenschicht (18) ein¬ gesetzt wird.
10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprü¬ che, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzeugung der reibmindernden Oberflächenschicht (18) hauptsäch¬ lich das Kohlenstoffgas, eventuell mit geringen Beimengungen von Stickstoffgas, eingesetzt wird.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekenn¬ zeichnet, daß im Bereich (32) der Obεrflächen- schicht (I'S) ein geringer Metallanteil enthalten ist.
12. Verfahren nach Anspruch 10 und 11, dadurch ge¬ kennzeichnet, daß im Eereich (34) der Ober lächen- schicht (18) kein Metallanteil enthalten ist.
13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprü¬ che, dadurch gekennzeichnet, daß zur Einhaltung einer Beschichtungstemperatur von ca. 200 CC wahl¬ weise eine niederenergetische Ionenbestrahlung (38) mit Ionenenergien unterhalb 1 keV und/oder εine hochenergetische Ionenimplantation (36) mit Ionen- energiεn obεrhalb 10 kεV durchgeführt wird.
14. Verfahrεn nach Anspruch 13, dadurch gekenn¬ zeichnet, daß zur Vorreinigung der Bauteilober¬ fläche (22) vor der Schichtabscheidung eine Behand¬ lung mit schweren Ionen eingesetzt wird.
15. Verfahren nach Anspruch 13 oder 14, dadurch ge¬ kennzeichnet, daß ein niederenergetischer Beschüß mit Ionen aus verstärkt ionisierten Plasmen von Beschichtungsquellen erfolgt, die jedoch nur mit geringster Leistung betrieben werden.
16. Verfahren nach Anspruch 13 oder 14, dadurch ge¬ kennzeichnet, daß ein hochenergetischer Beschüß mit gerichteten Ionen aus einer separaten lonenquelle erfolgt.
17. Verfahren nach einεm dεr vcrhεrgεhεncεn Ansprü¬ che, dadurch gekennzeichnet, daß zur Steigerung der Schichthaftung zu Beginn der Schichtabscheidung während dεr Bereiche (20, 24) eine Implantation hochenergetischer Ionen aus einer separaten Ionen¬ quelle durchgeführt wird.
18. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprü¬ che, dadurch gekennzeichnet, daß zur Verdichtung der Schichtstruktur parallel zu der Schichtab¬ scheidung während der Schichten (14, 16, 18) ein niederεnergetischer Beschüß mit Ionen aus vor¬ handenen Beschichtungsplasmen erfolgt.
19. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprü¬ che, dadurch gekennzeichnet, daß zur Rεduktion des Wasserstoffgehaltes der Oberflächenschichten nach Beendigung der Schichtabscheidung der Hartstoff¬ schicht (12) ein Beschüß mit hochenergetischen leichten Ionen aus einer separaten Ionenquelle erfolgt.
20. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprü¬ che, dadurch gekennzeichnet, daß sämtliche Be- εchichtungs- und Ionenbestrahlungsparameter konti¬ nuierlich verändert werdεn.
21. Hartstoffschicht, dadurch gekennzeichnet, daß sie nach einεm dεr Ansprüche 1 bis 20 hergεstellt wird.
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