WO1996031927A1

WO1996031927A1 - Ultraviolet laser and method of producing the same

Info

Publication number: WO1996031927A1
Application number: PCT/JP1996/000934
Authority: WO
Inventors: Toshiharu Hayashi; Hiroto Urakata; Hironori Nakamuta; Eiichiro Otsuki; Koji Inamoto
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1995-04-07
Filing date: 1996-04-05
Publication date: 1996-10-10
Anticipated expiration: 1997-10-07
Also published as: EP0766356A1; EP0766356A4; JPH08335735A; US5694411A

Description

明細書発明の名称

紫外域レーザ装置及びその製造方法

技術分野

本発明は、窒素ガスレーザやエキシマレーザ等の紫外域レ一ザ装置及びその製造方法に関する。背景技術

窒素ガスレーザやエキシマレーザ等の紫外域レーザ発振装置は、各種の化学実験、分析、生物化学、或いは色素レーザの励起光源等として広く利用されている。例えば主として 3 3 7 . l n mの紫外域レーザ光を発振する窒素ガスレーザ装置は、パルス発振動作であり、比較的簡略な構造で高いピーク出力が得られる特長を備えている。エキシマレーザ装置は、 3 0 8 n mやその他の紫外域又は真空紫外域波長の高出カレ一ザ光の発振源として周知である。

一般的な横方向放電励起方式の窒素ガスレーザ装置を例に採ると、図 1 にその概略構成を示すように、窒素ガスレーザ管装置 1 1 及びそれに動作電圧を供給するように電気的に接铳された電源装置 1 2 を備えている。電源装置 1 2 は、高電圧発生器 1 3 を有し、それにスパークギャップ又はサイラトロンのようなスィツチ素子 1 4 が接続されると共にストレージコンデンサ 1 5 を介してガスレーザ管装置 1 1 に接铳されている。

ガスレーザ管装置 1 1 の真空容器の内部には、レーザ媒質として窒素ガスが所定の圧力で封入され、さらに一対の放電用電極 1 6 , 1 7 が対向配置されている。なお、放電発生時に一方の電極 1 6 は陽極として、他方の電極 1 7 は陰極として機能するので、これらを陽極 1 6、陰極 1 7 と称する。また、陽極及び陰極間に、ピーキングコンデンサ 2 2及び充電抵抗 2 3が並列接続されている。

このような窒素ガスレーザ管装置は、動作においてスィッチ素子 1 4が開いている状態で高電圧発生器 1 3からス卜レージコンデンサ 1 5 に充電される。この充電終了の後、スィツチ素子 1 4 が閉じられると、ストレージコンデンサ 1 5 に蓄積されている電荷はこのスィツチ素子を通してピーキングコンデンサ 2 2 に移行する。この電荷の移行により、陽極及び陰極間に所定のパルス状高電圧が加わってグロ一放電が発生する。それにより、図示しない高反射ミラーと出力ミラーとの間で光共振が起こり、出力ミラー側からレーザ光が出力される。

ところで、従来の窒素ガスレーザ管装置の光共振器を形成するミラー部は、図 2 に示すように、ガラス又はセラミックスからなる円筒状の真空容器 2 4の開口端部に、ミラー膜 2 5が蒸着されたミラー用ガラス基板 2 6が気密封着されている。図示しない高反射側のミラー部は、窒素レーザの発振波長のレーザ光を 9 9 . 5 %以上反射させるように、アルミ二ゥムまたは誘電体多層膜からなる高反射ミラー膜を付着させたミラー用基板を有する。この高反射側のミラー用基板はレ一ザ光を透過させる必要がないので、比較的任意の材料で構成し得る。

それに対して、レーザ出力側のミラー用ガラス基板 26は、窒素レーザの発振波長である 3 3 7. 1 n mのレーザ光をできるだけ損失なく透過させるために、この波長域で十分高い透過率を有する材料で構成する必要がある。そのため従来は、レーザ出力側のミラー用ガラス基板として一般的に合成石英のような石英ガラスが使用されてきた。石英ガラスは、 2 7 O n m付近の紫外域まで 8 5 %以上という高い透過率を有しており、且つ入手が容易である。

しかしながら、石英ガラスからなるミラー用基板の熱膨張係数が約 5. 5 X 1 0— ⁷ Z°Cであるのに対して、真空容器 24に一般的に使用されるアルミナセラミックスの熱膨張係数は、約 7 0 x l O ^{_ 7} Z。Cであって 1桁以上大きい。そのため、両者をハードシール構造で強固に安定に気密接台することが困難である。

そこで、図 2に示すように、アルミナセラミックス力、らなる真空容器 2 4の開口端部と石英ガラスからなる出力ミラー用ガラス基板 2 6とを、比較的弾力性のあるエポキシ系の接着剤 2 7によって気密に接着する構造が多く採用されてきた。この気密封着は、一般的にソフトシールと呼ばれている。前述したように、ミラー用ガラス基板の気密封着をェポキシ系接着剤で行ったソフトシール構造の従来の窒素レーザ装置では、周囲の湿気などにより経時的に気密封着力が劣化し易く、これが原因で外気が混入して、比較的短期間でレーザ出力が低下する不都合ある。特に、エポキシ系接着剤は湿気に弱く、湿度が高い気候や環境下での動作の信頼性の低下が顕著である。

このような不都合を解消し、レーザ装置を初期のガス封入状態のままで長時間保ち、長期にわたり高い信頼性を維持できるレーザ装置とするためには、この気密封着部分を外気環境の影響を受けない構造、すなわちハードシール構造にすることが望ましい。その一例は、特開平 4 — 3 4 8 0 9 1号公報に開示されている。それは、真空容器側にコバール（商品名）及びコバールガラスを気密接合し、さらに中間的な熱膨張係数を有するガラスを介して石英ガラスを接合し、これに同じ石英ガラスからなるミラー用ガラス基板を溶着する構成である。

しかしながら、これは構造が極めて複雑であり、したがつて製造が煩雑になるとともにそれだけ信頼性が乏しくなり易く、しかも長大又は径大になってしまう不都合がある。

なお、紫外域のレーザ装置でない場合には、例えば U S P 4 7 2 7 6 3 8に対応する特開昭 6 3 - 1 0 5 7 8号公報や、実公平 7 — 1 1 4 7 7号公報等に開示されるように、真空容器の一部を構成する金属部材とミラー用ガラス基板とを低融点ハンダガラスによつて気密接合することが開示されている。なお前者の公報には、 B K— 7 (商品表示）などの光学用の硼珪酸ガラスをレーザミラー用基板に使用する例が記載されている。しかし、このような光学用ガラス基板は、窒素ガスレーザ等の比較的短い波長側の紫外域レーザ装置の出力側ミラー用基板としては、後述するように透過率が低くて使用できない。発明の開示

この発明は、以上のような不都合を解消し、コンパク卜で長期にわたって信頼性の高い動作特性を維持し得る紫外域レ

—ザ装置、及びその製造方法を提供することを目的とする c この発明は、出力ミラー用ガラス基板が 5 m mの厚さにおける波長 3 3 7 n mのレーザ光の透過率が 8 0 %乃至 9 6 % の範囲であり、且つ 0 〜 3 0 0てにおける熱膨張係数が 4 4 1 0 ^{_ 7} / °C乃至 5 5 X 1 0 ~ ¹ Z °Cの範囲であるガラス素材からなり、さらに真空容器の開口端部に金属封着リングが気密接合され且つ出力ミラー用ガラス基板と金属封着リングとが低融点ハンダガラスにより気密封着されている紫外域レーザ装置である。

また製造方法の発明は、筒状のセラミックス製真空容器の内部に放電用電極を配置するとともに開口端部に金属封着リングを気密接合し、必要により予めミラー膜を付着したミラ一用ガラス基板の内面の一部を真空容器の開口端面に突き当てるとともに金属封着リングとミラー用ガラス基板との近接部に低融点ハンダガラスを供給し、これを加熱焼成して金属封着リングとミラー用ガラス基板とを気密封着、その後真空容器の内部にレーザ媒質のガスを封入することを特徴としている。図面の簡単な説明

図 1 は、一般的な窒素ガスレーザ管装置の概略構成図。図 2 は、従来の構造を示す要部縦断面図。

図 3 は、この発明の実施例を示す要部縦断面図。

図 4 は、図 3の製造工程中の状態を示す要部縦断面図。図 5 は、図 4の次の製造工程中の状態を示す要部縦断面図, 図 6 は、図 5の次の製造工程中の状態を示す要部縦断面図, 図 7 は、ガラス基板の分光透過率の特性図。発明を実施するための最良の形態以下、この発明の実施例を図面を参照して説明する。なお、同一部分は同一符号であらわす。窒素ガスレーザ装置にこの発明を適用し完成した状態を図 3に示す。この実施例の窒素ガスレーザ装置は、略円筒状のアルミナセラミックスからなる真空容器 3 1 の一方の開口端部にハードシール構造により気密接合された出力ミラー用ガラス基板 3 2、他方の開口端部に同じくハードシール構造により気密接合された高反射ミラー用ガラス基板 3 3を備えている。

真空容器 3 1の内部の中央部には、ニッケル又は真ちゆうのロッドからなる主放電用電極すなわち陰極 1 7及び陽極 1 8が、レーザ光路を挟んで相対向し且つ管軸方向に平行に配置されている。これら陰極 1 7及び陽極 1 8 は、真空容器 3 1を気密に貫通して設けられたそれぞれ 2本の支持棒 3 4 ， 3 5 , 3 6 , 3 7 に固定され、支持されている。

さて、出力ミラー用ガラス基板 3 2 の内面 3 2 a の中心部には、出力ミラー膜 3 8が付着されており、この基板面の外周付近が真空容器 3 1 の開口端面 3 1 a に突き当てられている。真空容器 3 1 の開口端部の外周壁には、コバール又は鉄 • ニッケル合金のような基板用封着リング 3 9がメタラィズ層 M及び銀ろう材層 4 0により真空気密にろう接されている。基板用封着リング 3 9 には、真空容器の開口端面位置から軸方向に沿って少し延長され、応力緩和用の屈曲部 3 9 aが形成され、さらにそこから外方に拡大された先端のフランジ部 3 9 bが設けられている。この先端フランジ部 3 9 b は、出カミラー用ガラス基板 3 2の外周壁 3 2 bの厚さ方向の中間部に近接して位置している。なお、基板用封着リングの屈曲部 3 9 a の内径寸法は、ガラス基板 3 2 の外径と同等又はごくわずか大きい寸法になっている。それによつて、ガラス基板 3 2 を挿入して真空容器の開口端面 3 1 a に突き合わせる際に、ミラー膜をレーザ光路軸に正確に位置合わせすることが容易であるとともに、後述する低融点ハンダガラスの焼成工程で、ハンダガラス材料がガラス基板面 3 2 a と真空容器の開口端面 3 1 a との接触面に不所望に流動して入り込まないようにすることができる。

そして、出力ミラー用ガラス基板 3 2 の外周壁 3 2 b と基板用封着リングのフランジ部 3 9 b とは、両者間に盛られた低融点ハンダガラス 4 1 によって真空気密に封着されている。なお、高反射ミラー膜 4 2が付着された高反射側のミラー用ガラス基板 3 3 は、同様にメタラィズ層及び銀ろう材 4 3 により真空容器の開口端部外周に気密接合された基板用の金属封着リング 4 4、及び低融点ハンダガラス 4 5 によって真空容器 3 1 に真空気密に気密封着されている。なお、真空容器の内部には、レーザ媒質の窒素ガスが所定の圧力で封入されている。そして、パルス電圧を陰極及び陽極に供給する電源装置 1 2が接続され、これらが図示しないケース内に収容されてレーザ発振装置が構成される。

次に、このレーザ管装置の好ましい製造手順を説明する。まず、図 4 に示すように、アルミナセラミックスからなる真空容器 3 1 の開口端部の外周壁のろう接すべき領域に、メタライズ層 Mを付着形成する。これは、主としてモリブデン及びマンガン粉末を適当な溶媒でスラリー状にして塗布し、加熱焼成した後、その表面にニッケルめっき層を被覆したものである。

その後、この真空容器の開口端面 3 1 a を、中心軸すなわちレーザ光路軸 Cに対して直角に研磨して面仕上げをする。この面仕上げによって、開口端面 3 l a にまでメタライズ層 Mがはみ出していても、はみ出した部分は除去される。

そして、図 5 に示すように、真空容器 3 1 の開口端部外周壁のメタラィズ層の領域に、基板用封着リング 3 9及び銀ろうを配置して約 7 8 0 °Cまで加熱して気密ろう接する。なおこのろう接工程では、陰極 1 7及び陽極 1 8 を前もって固着した各電極支持棒や図示しない排気管を同時に真空容器のそれぞれ対応する位置に気密ろう接する。この真空容器への各金属部品のろう接工程は、ミラー用ガラス基板やその面に蒸着したミラー膜が変質する温度まで加熱するので、ミラー用ガラス基板を着けない状態、すなわち真空容器のみの状態で処理する。

—方、後述する材料からなり、円板状に加工した出力ミラ一用ガラス基板 3 2の一方の面に、予め誘電体多層膜からなる出力ミラー膜 3 8 を蒸着により付着しておく。その後、図 6 に示すように、真空容器 3 1 の中心軸を鉛直方向に置き、基板用封着リングのフランジ部 3 9 b の方からミラー用ガラス基板 3 2 を挿入する。この工程では、前述のように、ガラス基板 3 2 は封着リングの屈曲部 3 9 a の内側にしつくり入り、正確に位置決めされる。そして、ガラス基板 3 2のミラ一膜のない内面外周部を、真空容器の開口端面 3 1 a の内周側に突き当て、この状態を維持するための耐熱性のある重り 4 6 を基板上に載せる。なお、重りの代わりに適当な固定治具と弾性体で両者を密着させるようにしてもよい。

また、下方の図示しない高反射ミラー側も、同様に真空容器とミラー用基板とを当接して位置決めする。なお前述したように、高反射ミラー側のミラー用基板は、任意の材質例えば金属であってもよいが、好ましくは出力ミラー用ガラス基板 3 2 と同様の材質にすれば、両側のミラ一用基板と真空容器とを 1 回の気密封着工程で且つ信頼性の高い封着が得られる

そして、ミラー用ガラス基板 3 2の外周側壁と基板用封着リングのフランジ部 3 9 b との近接した隅部の全周に、低融点粉末ガラスを適当な溶媒でスラリー伏にした低融点ハンダガラス材料 4 1 a を、塗布装置のノズル 4 7 から適当な量を — i U 一

供給し、乾燥して仮に固化する。高反射ミラー側にも、同様に低融点ハンダガラス材料を塗布する。

その後、同図の状態を保ちながら図示しない封着用加熱炉に入れ、徐々に温度上昇させ、低融点ハングガラス材料の焼成温度である例えば 4 6 0 °Cまで上げて所定時間維持した後、徐冷する。それによつて、低融点ハンダガラス材料は焼成すなわち溶融した後凝固し、ミラー用ガラス基板の外周壁 3 2 b と基板用封着リングのフランジ部 3 9 b とは真空気密に且つ強固に封着される。なお、この封着工程での上記加熱温度は、ミラー用ガラス基板及び誘電体多層膜からなるミラー膜カ、全く又はほとんど変質しない温度である。

このように組み立てた後、真空容器内を図示しない排気管から排気し、また真空容器や管内電極を適当な温度に加熱してガス放出させて排気をする。続いて、窒素ガスを所定の管内圧力になるように排気管から導入し、そり後この排気管を封止切りする。そして、必要により電源装置とともにケース内に組み入れて、図 3 に示した構成の窒素レーザ装置を完成する。

さて、出力ミラー用のガラス基板 3 2 は、 5 mmの厚さにおける波長 3 3 7 n mのレーザ光の透過率が 8 0 %乃至 9 6 %の範囲であって、且つ 0 °C〜 3 0 0 °Cにおける熱膨張係数が 4 4 x 1 0 — ⁷ /°C乃至 5 5 x 1 0 — ⁷ /°Cの範囲のガラス素材で構成する。なお、この出力ミラー用ガラス基板は、より好ましくは同様に 5 mmの厚さにおける波長 3 3 7 n m のレーザ光の透過率が 8 5〜 9 4 %の範囲にあるガラス素材である。そしてこのようなガラス基板としては、硼珪酸ガラスが適しており、その具体的な例としては東芝硝子株式会社製の材質コード 0 8 4ガラス（慣用名 F P— 3 ) や、コ一二ング社製の材質コード C GW - 7 0 5 6等が容易に入手可能であり、好適である。

前者の材質コード 0 8 4ガラスは、熱膨張係数が約 5 2 X 1 0 — ⁷ であり、紫外域の分光透過率を測定すると、図 7の実線曲線 Aの結果が得られた。試料は 5 m mの厚さの同ガラス素材で、何らの熱的化学的処理や被膜形成等をしていないものである。その結果、窒素レーザの出力波長（ L a ) である 3 3 7. l n mでは、 9 2 %の透過率を示し、 Xe2C 1 エキシマレーザの 3 0 8 n mの波長（ L b ) では 8 5 %の透過率である。比較として、コバールとのろう接や融接が適するものとして知られている硼珪酸ガラス B K— 7 は、同図に一点鎖線 Bで示す透過率曲線であり、 3 3 7. 1 n mの波長では 7 3 %、 3 0 8 n mの波長ではわずか 2 2 %の透過率しか得られず、このような紫外域レーザ装置には使用できない。

なお、紫外域のエキシマレーザ装置に適用できる出力ミラ一用ガラス基板は、 5 m mの厚さにおける波長 3 0 8 n mのレーザ光の透過率が 7 5 %乃至 9 2 %の範囲であり、且つ 0 て〜 3 0 0 °Cにおける熱膨張係数が 4 4 X 1 0— ⁷ Zて乃至 5 5 X 1 0 ~ · /°Cの範囲であるガラス素材である。また、より好ましくは、同様に 5 mmの厚さにおける波長 3 0 8 η mのレーザ光の透過率が 8 0 %乃至 9 0 %の範囲のガラス素材である。

本発明者らの種々の検討の結果、出力ミラー用のガラス基板の材質としては、 S i 〇 ₂が 6 5. 0 - 7 0. 0 %の範囲、 A 1 _Q 0 。が 2. 0〜 8. 0 %の範囲、 K ₂ 0が 6. 0〜 1 0. 0 %の範囲、 L i ₉ 0が、 0. 5 ~ 1. 5 %の範囲、 B り 0が、 1 5. 0〜2 2. 0 %の範囲、他の元素の合計が 2. 0 %以下の成分及びそれらの相対的質量比で構成された硼珪酸ガラスが実用になることを見いだした。

出力ミラー膜 3 8は、酸化シリコン及び酸化ハフニウムの誘電体多層膜がよく、また波長 3 3 7 n mのレーザ光の反射率が 1 0〜 5 0 %の範囲が適する。なお、このような紫外域のパルスレーザ装置では、ガラス基板自身の両面での反射率が約 1 0 %又はそれ以上あれば、出力ミラー膜がなくてもよい o

さらに、低融点ハンダガラス、及び真空容器にろう接される基板用封着リングは、 0 "X：〜 3 0 0 °Cにおける熱膨張係数がいずれも 4 4 x 1 0— ⁷ 。 C乃至 5 5 1 0— ' 。 Cの範囲の材質が好適である。このような低融点ハンダガラスの例としては、日本電気硝子株式会社製の材質コード L S— 0 1 1 1 という電子部品用粉末ガラスがあり、これを酢酸を主成分とした溶剤を用いてスラリー状として塗布し、焼成温度まで加熱して溶着する。その場合の加熱の条件は、毎分約 1 0 °Cの割合で焼成温度である 4 6 0 °Cまで温度上昇させ、その後除冷すると良好な気密接合状態が得られる。上記の材質コード L S— 0 1 1 1の低融点ハングガラスは、 0て〜 3 0 0 °Cにおける熱膨張係数が約 5 0 x 1 0 " ⁷ Z°Cである。また、基板用封着金属リングは、コバールや類似のアルミナ等のセラミックスとろう接性のよい材質を選択し、必要によって薄肉化及び湾曲化した歪吸収部を設けて使用する。ちなみに、コバールは一般に 4 5乃至 5 2 X 1 0 — ⁷ 。 Cの範囲の例えば 5 0 X 1 0 — ⁷ 熱膨張係数を有している。

とくに、上述のような材質のガラス基板、低融点ハンダガラス、及び基板用封着リングを使用すれば、低融点ハンダガラスによる封着工程の昇温及び降温過程の各温度でのこれら材料の熱膨張、収縮率が近似しているので、歪が少なく信頼性の高い気密封着状態が得られる。

なお、上述の実施例では、出力ミラー用ガラス基板のミラ一膜が付着された側の基板面を真空容器の開口端面に直接当接させたが、それに限らず、間にリング状のスぺーサを介在させて突き当てる構造にしてもよい。また、真空容器と基板用封着リングとは、ろう接に限らず、上記と同様の低融点ハンダガラスを使用した気密接合構造にしてもよい。

以上の実施例によれば、レーザ装置の真空容器の封着部は、無機質のハングガラスによって気密封着しているので、通常遭遇する使用環境では真空気密性が劣化することはほとんどない。また、熱膨張係数が近似した材料で気密封着されているので、レーザ装置の排気すなわちレーザ媒質の封入前に比較的高温でベーキングをしながら排気をすることが可能である。そのため、高温べ一キングによる排気で、レーザ装置の内壁や電極などに付着又は内蔵されている不純ガスや不純物を十分に除去できる。その結果、放電動作時に管壁や管内電極が温度上昇しても、それらから放出される不純ガスや不純物によって起こるレーザ出力低下を抑制することができる。そして、比較的単純な接合構造であるため、部品点数が少なく、且つ真空容器の全長の増大ゃ径大になる要素がほとんどなく、コンパクトな構成のレーザ装置とすることができる。また、真空容器内に封入したレーザ媒質は、長期にわたって初期の状態をほぼ維持することができる。また、ミラー用基板のレーザ出力光の透過率は十分高く、且つミラ一膜の変質もほとんど生じない。こうして、長期間にわたってレーザ出力低下のない信頼性の高い紫外域レーザ装置が得られる。

なお、上記実施例は横方向放電励起方式のパルスレーザ装置であるが、放電方式はこれに限るものではなく、例えば、放電方向と同軸にレーザ発振をさせる縦方向放電励起方式の紫外域レーザ装置等についても同様に適用できる。

以上説明したように、この発明によれば、コンパク卜で長期にわたって信頼性の高い動作特性を維持し得る紫外域レーザ装置が得られる。

Claims

請求の範囲

1 . 筒状のセラミックス製真空容器の内部に少なくとも 1 対の放電用電極が配置され、前記真空容器の一端開口側に高反射ミラー用基板、他端開口側に出力ミラー用ガラス基板がそれぞれ気密接合されるとともに前記真.空容器の内部にレーザ媒質が封入された紫外域レーザ装置において、上記出力ミラー用ガラス基板は、 5 m mの厚さにおける波長 3 3 7 n m のレーザ光の透過率が 8 0 %乃至 9 6 %の範囲であり、且つ 0て〜 3 0 0てにおける熱膨張係数が 4 4 X 1 0 _ ' Z °C乃至 5 5 X 1 0 — ⁷ Zての範囲であるガラス素材からなり、さらに上記真空容器の開口端部に金属封着リングが気密接合され、上記出力ミラー用ガラス基板と前記金属封着リングとが低融点ハンダガラスにより気密封着されていることを特徴とする紫外域レーザ装置。

2 . 筒状のセラミックス製真空容器の内部に少なくとも 1 対の放電用電極が配置され、前記真空容器の一端開口側に高反射ミラー用基板、他端開口側に出力ミラー用ガラス基板がそれぞれ気密接合されるとともに前記真空容器の内部にレーザ媒質が封入された紫外域レーザ装置において、上記出力ミラー用ガラス基板は、 5 m mの厚さにおける波長 3 0 8 n m のレーザ光の透過率が 7 5 %乃至 9 2 %の範囲であり、且つ CTC〜 3 0 0 °Cにおける熱膨張係数が 4 4 X 1 0 — ' Z °C乃至 5 5 1 0 — ' Z °Cの範囲であるガラス素材からなり、さらに上記真空容器の開口端部に金属封着リングが気密接合され、上記出力ミラー用ガラス基板と前記金属封着リングとが低融点ハンダガラスにより気密封着されていることを特徴とする紫外域レーザ装置。

3. 上記出力ミラー用ガラス基板は、 5 m mの厚さにおける波長 3 3 7 n mのレーザ光の透過率が 8 5 %乃至 9 4 %の範囲のガラス素材である請求項 1記載の紫外域レーザ装置。

4. 上記出力ミラ一用ガラス基板は、 5 m mの厚さにおける波長 3 0 8 n mのレーザ光の透過率が 8 0 %乃至 9 0 %の範囲のガラス素材である請求項 2記載の紫外域レーザ装置。

5. 出力ミラ一用ガラス基板は、硼珪酸ガラスである請求項 1又は請求項 2記載の紫外域レーザ装置。

6. 上記出力ミラー用ガラス基板は、下記（ 1 ) から（6) に記載された成分及びそれらの相対的質量比で構成された硼珪酸ガラスである請求項 1又は請求項 2記載の紫外域レーザ装置。

( 1 ) S i 0 ₂が、 6 5. 0〜 7 0. 0 %の範囲

( 2 ) Α 1 。〇 3力く、 2. 0〜 8 , 0 %の範囲

( 3 ) Κ。 0が、 6. 0〜 1 0. 0 %の範囲

( 4 ) L i ₂ 0が、 0. 5〜 1. 5 %の範囲

(5) B n Oが、 1 5. 0 - 2 2. 0 %の範囲

( 6 ) 他の元素の合計が、 2. 0 %以下

7. 上記出力ミラー用ガラス基板の内面上に出力ミラー膜が付着されており、該出力ミラー膜は酸化シリコン及び酸化ハフニウムを含む誘電体多層膜からなる請求項 1又は請求項

2記載の紫外域レーザ装置。

8. 出力ミラー用ガラス基板の内面上に出力ミラー膜が付着されており、該出力ミラー膜は波長 3 3 7 n mのレーザ光の反射率が 1 0 ~ 5 0 %の範囲である請求項 1又は請求項 2 記載の紫外域レーザ装置。

9. 出力ミラー用ガラス基板の内面上に出力ミラー膜が付着されており、該出力ミラー膜は波長 3 3 7 n mのレーザ光の反射率が 2 0〜 4 0 %の範囲である請求項 1又は請求項 2 記載の紫外域レーザ装置。

1 0. 上記出力ミラー用ガラス基板の内面の一部が上記真空容器の開口端面に直接又はスぺーサを介して突き当てられている請求項 1又は請求項 2記載の紫外域レーザ装置。

1 1. 上記真空容器の開口端面はレーザ光路軸に対して垂直に面仕上げされている請求項 1 0記載の紫外域レーザ装置。

1 2. 上記金属封着リング及び低融点ハングガラスは、 0 °C〜 3 0 0 °Cにおける熱膨張係数が、いずれも 4 4 X 1 0 _ 7 〜 5 5 1 0 ^{_ 7} Z°Cの範囲である請求項 1又は請求項 2記載の紫外域レーザ装置。

1 3. 上記請求項 1乃至請求項 1 2のいずれかに記載の装置の放電用電極に、パルス波形の動作電圧を供給する電源装置を接続した紫外域レーザ装置。

1 4. 筒状のセラミックス製真空容器の内部に少なくとも 1対の放電用電極を配置するとともに開口端部に金属封着リングを気密接合し、ミラ一用ガラス基板の一方の面の一部を上記真空容器の開口端面に直接又はスぺーサを介して突き当てるとともに上記金属封着リングとミラー用ガラス基板との近接部に低融点ハングガラス材料を供給し、このハンダガラス材料を加熱焼成して前記金属封着リングとミラー用ガラス基板とを気密封着し、その後上記真空容器の内部にレーザ媒質を封入することを特徴とする紫外域レーザ装置の製造方法。

1 5 . 予め上記真空容器の開口端面をレーザ光路軸に対して垂直に面仕上げする請求項 1 4記載の紫外域レーザ装置の製造方法。

1 6 . 筒状のセラミックス製真空容器の開口端部の外周壁にろう接用のメタライズ層を付着し、その後上記真空容器の開口端面をレーザ光路軸に対して垂直に面仕上げし、その後上記真空容器の内部に放電用電極を配置するとともに開口端部の外周の上記メタラィズ層に金属封着リングを気密ろう接し、その後ミラー用ガラス基板の内面の一部を上記真空容器の開口端面に直接又はスぺーサを介して突き当てるとともに上記金属封着リングとミラー用ガラス基板との近接部に低融点ハングガラス材料を供給し、このハンダガラス材料を加熱焼成して前記金属封着リングとミラー用ガラス基板とを気密封着し、その後上記真空容器の内部にレーザ媒質を封入することを特徴とする紫外域レーザ装置の製造方法。

1 7 . 予め上記ミラー用ガラス基板の内面にミラー膜を付着しておく請求項 1 4又は請求項 1 6記載の紫外域レーザ装置の製造方法。