JPH0418714B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0418714B2 JPH0418714B2 JP10344683A JP10344683A JPH0418714B2 JP H0418714 B2 JPH0418714 B2 JP H0418714B2 JP 10344683 A JP10344683 A JP 10344683A JP 10344683 A JP10344683 A JP 10344683A JP H0418714 B2 JPH0418714 B2 JP H0418714B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- halogen
- gas
- rare gas
- excimer laser
- tube wall
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 77
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 60
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 60
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 25
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 13
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 7
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 4
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 claims description 3
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 15
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 8
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 6
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 5
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003319 Araldite® Polymers 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- VZPPHXVFMVZRTE-UHFFFAOYSA-N [Kr]F Chemical compound [Kr]F VZPPHXVFMVZRTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
- H01S3/0388—Compositions, materials or coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/0305—Selection of materials for the tube or the coatings thereon
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野の説明)
本発明は紫外線発光源等に利用される希ガス・
ハロゲン・エキシマレーザ装置に関する。
ハロゲン・エキシマレーザ装置に関する。
(従来技術)
希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装置は、高
い高率で高出力の紫外または真空紫外領域のパル
ス状のレーザ光を出力することができるので広く
用いられている。
い高率で高出力の紫外または真空紫外領域のパル
ス状のレーザ光を出力することができるので広く
用いられている。
希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装置におい
て励起状態にある希ガスと基底状態にあるハロゲ
ンの結合した分子(エキシマ分子)の寿命が基底
状態にある希ガスとハロゲンの結合した分子の寿
命に比べて極めて長い。
て励起状態にある希ガスと基底状態にあるハロゲ
ンの結合した分子(エキシマ分子)の寿命が基底
状態にある希ガスとハロゲンの結合した分子の寿
命に比べて極めて長い。
したがつて、希ガスハロゲン分子のエネルギー
反転分布の状態が得やすい。
反転分布の状態が得やすい。
希ガスとハロゲンの混合ガスを放電することに
よつて励起状態のエキシマ分子を作ることができ
る実用的なレーザである。
よつて励起状態のエキシマ分子を作ることができ
る実用的なレーザである。
しかしながら従来の希ガス・ハロゲン・エキシ
マレーザ装置は寿命の点で問題があつた。
マレーザ装置は寿命の点で問題があつた。
従来この希ガス・ハロゲン・エキシマレーザを
発生するレーザ装置は内部に含んだハロゲンガス
に対して耐久性を持たせる必要から関壁の絶縁体
にアクリル樹脂等の合成樹脂が使われている。
発生するレーザ装置は内部に含んだハロゲンガス
に対して耐久性を持たせる必要から関壁の絶縁体
にアクリル樹脂等の合成樹脂が使われている。
第1図は前記従来の希ガス・ハロゲン・エキシ
マレーザ装置を示す斜視図である。第2図は前記
装置の短手方向の断面図である。
マレーザ装置を示す斜視図である。第2図は前記
装置の短手方向の断面図である。
各図において1は外管を形成するアクリル樹脂
製の円筒である。
製の円筒である。
このアクリル樹脂製の円筒1の両端には、アク
リル板2a,2bにより封じられている。
リル板2a,2bにより封じられている。
アクリル板2a,2bの中心開口部にアクリル
円筒3a,3bがそれぞれ固定されこのアクリル
円筒3a,3bの先端に紫外線を透過するふつ化
マグネシウムの窓板4a,4bを管軸に対して
34°に取り付けてある。
円筒3a,3bがそれぞれ固定されこのアクリル
円筒3a,3bの先端に紫外線を透過するふつ化
マグネシウムの窓板4a,4bを管軸に対して
34°に取り付けてある。
なお管軸とは左右のアクリル円筒3a,3bの
内円中心を結んでできる直線である。
内円中心を結んでできる直線である。
一対のアルミニウム製の電極5a,5bは、管
軸をはさんで、これに平行に配置されている。
軸をはさんで、これに平行に配置されている。
フイードスルー6a〜6lはアルミニウム製の
電極5a,5bを前記の位置に指示するととも
に、放電に必要な電流を供給するための構成部分
で、銅で形成されている。アルミニウム製の電極
5aとフイードスルー6a〜6fはアルミニウム
製の電極5aの対応部分にめねじを設けておき、
フイードスルー6a〜6fに設けたおねじをねじ
結合させることにより行われる。アルミニウム製
の電極5bフイードスルー6g〜6lも同様の手
段により係合されている。
電極5a,5bを前記の位置に指示するととも
に、放電に必要な電流を供給するための構成部分
で、銅で形成されている。アルミニウム製の電極
5aとフイードスルー6a〜6fはアルミニウム
製の電極5aの対応部分にめねじを設けておき、
フイードスルー6a〜6fに設けたおねじをねじ
結合させることにより行われる。アルミニウム製
の電極5bフイードスルー6g〜6lも同様の手
段により係合されている。
放電電極7は第2図に示すように、一対のアル
ミニウム製の電極5a,5bの対向領域の一方側
に設けられている。
ミニウム製の電極5a,5bの対向領域の一方側
に設けられている。
この放電電極7により、一対のアルミニウム製
の電極5a,5bの電極間で行われる主なる放電
よりも約1マイクロ秒だけ前に放電が開始され、
この予備的な放電によつてレーザ媒質ガスが、空
間的に均一に電離され、主なる放電が起こる。
の電極5a,5bの電極間で行われる主なる放電
よりも約1マイクロ秒だけ前に放電が開始され、
この予備的な放電によつてレーザ媒質ガスが、空
間的に均一に電離され、主なる放電が起こる。
フイードスルー8a〜8cは電極7をレーザ管
内の所定位置に取り付け、かつ前記予備的な放電
に必要な電流を供給する。アクリル板2a,2b
とアクリル円筒3a,3bの接合、前記フイード
スルー6a〜6l,8a〜8cとアクリル樹脂製
の円筒1の接合およびアクリル板2a,2bとア
クリル樹脂製の円筒1の接合には主としてアクリ
ル樹脂専用の接着剤(例えば「アクリメイト」三
菱レーヨン社の商品名、「トールシール」バリア
ン社の商品名、「アラルダイト」チバ・ギガー社
の商品名)が用いられる。
内の所定位置に取り付け、かつ前記予備的な放電
に必要な電流を供給する。アクリル板2a,2b
とアクリル円筒3a,3bの接合、前記フイード
スルー6a〜6l,8a〜8cとアクリル樹脂製
の円筒1の接合およびアクリル板2a,2bとア
クリル樹脂製の円筒1の接合には主としてアクリ
ル樹脂専用の接着剤(例えば「アクリメイト」三
菱レーヨン社の商品名、「トールシール」バリア
ン社の商品名、「アラルダイト」チバ・ギガー社
の商品名)が用いられる。
第3図は放電電極7を取り出して一部を破断し
て示した図である。
て示した図である。
アルミナのセラミツクス管71の内部に銅棒7
2が差し込まれている。
2が差し込まれている。
セラミツクス管71の外表面上には銀ペースト
を焼き込んで作られた島状の電極73a…73n
が設けられている。3本のフイードスルー8のう
ち両端の2本は両端の島状電極73に接続され、
中心のフイードスルーは中心に位置する島状電極
73にそれぞれ接続され、同時に72の銅棒とも
接続されている。
を焼き込んで作られた島状の電極73a…73n
が設けられている。3本のフイードスルー8のう
ち両端の2本は両端の島状電極73に接続され、
中心のフイードスルーは中心に位置する島状電極
73にそれぞれ接続され、同時に72の銅棒とも
接続されている。
銅棒72は中心のフイードスルー8bのみと接
続され。両端のフイードスルー8a,8cとは絶
縁されている。高電圧電源の高電圧端子を両端の
フイードスルー8a,8cにつなぎ、低電圧端子
を中心のフイードスルー8bにつなぐと、最初両
端の島状電極例えば73aとこれのすぐ隣の島状
電極73bの間で放電が生じ、次いでこの放電は
次々に隣合つた島状電極を伝わつて中心の島状電
極に達する。このような予備的な放電によつて主
な放電の始まる前に、封入ガスを電離する。
続され。両端のフイードスルー8a,8cとは絶
縁されている。高電圧電源の高電圧端子を両端の
フイードスルー8a,8cにつなぎ、低電圧端子
を中心のフイードスルー8bにつなぐと、最初両
端の島状電極例えば73aとこれのすぐ隣の島状
電極73bの間で放電が生じ、次いでこの放電は
次々に隣合つた島状電極を伝わつて中心の島状電
極に達する。このような予備的な放電によつて主
な放電の始まる前に、封入ガスを電離する。
以上のように従来の希ガス・ハロゲン・エキシ
マレーザ装置は管材料としてアクリル樹脂、アル
ミニウム、ふつ化マグネシウム、アルミナ・ラセ
ミツクス、銅、銀ペースト、接着剤等で作られ、
ハロゲンに対して耐久性のある材料が使われてき
た。
マレーザ装置は管材料としてアクリル樹脂、アル
ミニウム、ふつ化マグネシウム、アルミナ・ラセ
ミツクス、銅、銀ペースト、接着剤等で作られ、
ハロゲンに対して耐久性のある材料が使われてき
た。
このうちアルミニウムはハロゲンガスに対する
耐久性が大きいうえに、放電時にスパツタリング
が少なくレーザ管の電極材料として優秀である。
耐久性が大きいうえに、放電時にスパツタリング
が少なくレーザ管の電極材料として優秀である。
しかし、アクリル、接着剤等の合成樹脂は高温
に耐えられないから真空排気して加熱し、レーザ
管の内壁に吸着したガスを除去した状態で希ガ
ス、ハロゲンガスをレーザ管内に導入することが
できず、所定のガスを導入した後にレーザ発光に
有害なガスが、機密容器内に放出する。
に耐えられないから真空排気して加熱し、レーザ
管の内壁に吸着したガスを除去した状態で希ガ
ス、ハロゲンガスをレーザ管内に導入することが
できず、所定のガスを導入した後にレーザ発光に
有害なガスが、機密容器内に放出する。
特に水が放出されたときは、ハロゲンガスと反
応してハロゲン化水素を生成するために、ハロゲ
ンガスが所定の量から減少することになり、長寿
命のレーザ管は得られなかつた。
応してハロゲン化水素を生成するために、ハロゲ
ンガスが所定の量から減少することになり、長寿
命のレーザ管は得られなかつた。
そこで、前記形式の希ガス・ハロゲン・エキシ
マレーザ装置では、レーザ管を排気装置および所
望のガス供給源と接続しておき、必要に応じてレ
ーザ管内のガスを入れ換える必要があつた。
マレーザ装置では、レーザ管を排気装置および所
望のガス供給源と接続しておき、必要に応じてレ
ーザ管内のガスを入れ換える必要があつた。
この不都合を解決するためにさらに他の希ガ
ス・ハロゲン・エキシマレーザ装置が提案され実
施されている。
ス・ハロゲン・エキシマレーザ装置が提案され実
施されている。
第4図はこの希ガス・ハロゲン・エキシマレー
ザ装置を示す斜視図である。第5図は第4図に示
すレーザ装置の短手方向の断面図である。
ザ装置を示す斜視図である。第5図は第4図に示
すレーザ装置の短手方向の断面図である。
外管を成形する円筒10は前述の実施例と異な
りアルミナ・セラミツクスで作られている。
りアルミナ・セラミツクスで作られている。
前記アルミナ・セラミツクス円筒10の両端面
にはステンレス鋼板20a,20bが配置されて
いる。各ステンレス鋼板20a,20bの中央の
開口部にはステンレス鋼円筒30a,30bが固
定されており、ふつ化マグネシウムの窓板4a,
4bを管軸に対して34°に取り付けてある。
にはステンレス鋼板20a,20bが配置されて
いる。各ステンレス鋼板20a,20bの中央の
開口部にはステンレス鋼円筒30a,30bが固
定されており、ふつ化マグネシウムの窓板4a,
4bを管軸に対して34°に取り付けてある。
コバール合金製の主たる放電のためを電極50
a,50bは先に示した従来例と同様に銅製のフ
イードスルー6a〜6iが結合されている。
a,50bは先に示した従来例と同様に銅製のフ
イードスルー6a〜6iが結合されている。
予備的な放電に必要な予備放電電極7(第5図
参照)の構成は先に説明した所と変わらない。こ
の予備放電電極7にはフイードスルー8a〜8c
が結合されている。
参照)の構成は先に説明した所と変わらない。こ
の予備放電電極7にはフイードスルー8a〜8c
が結合されている。
アルミナ・セラミツクス円筒10と両端面に配
置されたステンレス鋼板20a,20bは、コバ
ール合金製の円筒12a,12bを介して接続さ
れている。アルミナ・セラミツクス円筒10の前
記主放電用の電極50a,50bに関連するフイ
ードスルー6a〜6jおよび予備放電用の電極7
に関連するフイードスルー8a,8cに対応する
部分には孔が設けられており、これらのフイード
スルーは、コバール合金製のキヤツプ13…13
を介してアルミナ・セラミツクス円筒10に固定
されている。
置されたステンレス鋼板20a,20bは、コバ
ール合金製の円筒12a,12bを介して接続さ
れている。アルミナ・セラミツクス円筒10の前
記主放電用の電極50a,50bに関連するフイ
ードスルー6a〜6jおよび予備放電用の電極7
に関連するフイードスルー8a,8cに対応する
部分には孔が設けられており、これらのフイード
スルーは、コバール合金製のキヤツプ13…13
を介してアルミナ・セラミツクス円筒10に固定
されている。
各部材の組立・結合はエポキシ樹脂等による接
着法(従来法)は行わず、ろう付け、アーク溶
接、粉末ガラスを用いた接着法で行つてある。
着法(従来法)は行わず、ろう付け、アーク溶
接、粉末ガラスを用いた接着法で行つてある。
すなわち、セラミツクス円筒10とコバール合
金円筒12a,12bは、セラミツクス円筒10
の結合部をあらかじめメタライズした後に、この
メタライズ部分とコバール合金円筒12a,12
bをろう付けする。
金円筒12a,12bは、セラミツクス円筒10
の結合部をあらかじめメタライズした後に、この
メタライズ部分とコバール合金円筒12a,12
bをろう付けする。
コバール合金円筒12a,12bとステンレス
鋼板20a,20bはアーク溶接法で接続する。
ステンレス鋼円板20a,20bとステンレス鋼
円筒30a,30bはアーク溶接法で接続する。
ステンレス鋼円筒30a,30bとふつ化マグネ
シウム窓板4a,4bの結合は粉末ガラスを加熱
溶融することによつて結合する接着法によつてい
る。
鋼板20a,20bはアーク溶接法で接続する。
ステンレス鋼円板20a,20bとステンレス鋼
円筒30a,30bはアーク溶接法で接続する。
ステンレス鋼円筒30a,30bとふつ化マグネ
シウム窓板4a,4bの結合は粉末ガラスを加熱
溶融することによつて結合する接着法によつてい
る。
フイードスルー6a〜6j,8a,8cとコバ
ール合金製のキヤツプ13…13、コバール合金
製のキヤツプ13…13とセラミツクス円筒10
は、ろう付け法によつて行われる。
ール合金製のキヤツプ13…13、コバール合金
製のキヤツプ13…13とセラミツクス円筒10
は、ろう付け法によつて行われる。
この第4図に説明したレーザ装置の外管はセラ
ミツクスを成形したものであるから、高温まで加
熱できるため、排気時に加熱してレーザ管内壁に
吸着したガスを極力少なくすることができる。
ミツクスを成形したものであるから、高温まで加
熱できるため、排気時に加熱してレーザ管内壁に
吸着したガスを極力少なくすることができる。
管壁材のアルミナ・セラミツクスはハロゲンガ
スに対して耐久性が大である上に高温・加熱が可
能で、かつ組織が緻密であるから、希ガス・ハロ
ゲン・エキシマレーザの封じ切り管材料として適
当である。また、ステンレス鋼はハロゲンガスに
対する耐久性が金属のうちでは大きく、これも封
じ切り管材料として適当である。
スに対して耐久性が大である上に高温・加熱が可
能で、かつ組織が緻密であるから、希ガス・ハロ
ゲン・エキシマレーザの封じ切り管材料として適
当である。また、ステンレス鋼はハロゲンガスに
対する耐久性が金属のうちでは大きく、これも封
じ切り管材料として適当である。
このように外管をアルミナ・セラミツクスとし
た希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装置(以下
第4図の装置と言う)と第1図に関連して説明し
た外管をアクリルとした希ガス・ハロゲン・エキ
シマレーザ装置(以下第1図の装置と言う)を条
件を揃えて比較すると前者の方が遥かに長い時間
安定して動作することが確認できる。
た希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装置(以下
第4図の装置と言う)と第1図に関連して説明し
た外管をアクリルとした希ガス・ハロゲン・エキ
シマレーザ装置(以下第1図の装置と言う)を条
件を揃えて比較すると前者の方が遥かに長い時間
安定して動作することが確認できる。
何れの管にも波長248nano mを発生するKrF
(ふつ化クリプトン)の希ガス・ハロゲン・エキ
シマレーザのレーザ媒質ガスとしてクリプトン
(Kr)36トール、ふつ素(F2)2トール、ヘリウ
ム(He)1162トールをレーザ管内に封入する。
(ふつ化クリプトン)の希ガス・ハロゲン・エキ
シマレーザのレーザ媒質ガスとしてクリプトン
(Kr)36トール、ふつ素(F2)2トール、ヘリウ
ム(He)1162トールをレーザ管内に封入する。
主たる放電は容量32nano Fのキヤパシタを電
23kVで充電して得られる電気エネルギーで、予
備的な放電は容量6nano Fのキヤパシタを電圧
16kVで充電して得られる電気エネルギーで、か
つ予備的な放電が始まつてから約1マイクロ秒後
に主なる放電が始まるように、レーザ管をパルス
放電させる。なお放電の間隔は1秒間に1回とす
る。
23kVで充電して得られる電気エネルギーで、予
備的な放電は容量6nano Fのキヤパシタを電圧
16kVで充電して得られる電気エネルギーで、か
つ予備的な放電が始まつてから約1マイクロ秒後
に主なる放電が始まるように、レーザ管をパルス
放電させる。なお放電の間隔は1秒間に1回とす
る。
第4図の装置では最初170KWの出力で発振し、
その後約約4×105回の放電までレーザ発振可能
である。
その後約約4×105回の放電までレーザ発振可能
である。
これに対して第1図の装置では、最初110KW
の出力でレーザ発振したものが、100回の発光で
レーザ発振を示さなくなつた。
の出力でレーザ発振したものが、100回の発光で
レーザ発振を示さなくなつた。
このように第4図の装置の寿命が向上したのは
アルミナ・セラミツクス管を加熱排気できるの
で、有害ガスの発生や水の発生を少なくし管内の
ハロゲンガスの減少を防止できたからである。
アルミナ・セラミツクス管を加熱排気できるの
で、有害ガスの発生や水の発生を少なくし管内の
ハロゲンガスの減少を防止できたからである。
発明者等が第4図の装置のレーザ発振停止の原
因を検討したところ、主なる放電を行う電極に使
用したコバール合金が原因であることがわかつ
た。コバール合金はアルミナ・セラミツクスと膨
張係数が近い。
因を検討したところ、主なる放電を行う電極に使
用したコバール合金が原因であることがわかつ
た。コバール合金はアルミナ・セラミツクスと膨
張係数が近い。
コバール合金の線膨張係数は5.0×10-61/℃)、
アルミナ・セラミツクの線膨張係数は6.5×
10-61/℃である。
アルミナ・セラミツクの線膨張係数は6.5×
10-61/℃である。
レーザ管を加熱して、軸方向の伸びを考えたと
き、電極の熱膨張はアルミナ・セラミツクス管の
熱膨張と同程度でなければならない。もしこれが
満たされないと、コバール一部材13とセラミツ
クス管10の結合部で大きな歪みが発生し、メタ
ライズ層の剥離あるいは、セラミツクス管が破壊
する。以上の理由によりレーザ管加熱時の破壊を
避けるために電極にコバールを用いなければなら
ないが、このコバールの性質によつてレーザ装置
の寿命が決められている。
き、電極の熱膨張はアルミナ・セラミツクス管の
熱膨張と同程度でなければならない。もしこれが
満たされないと、コバール一部材13とセラミツ
クス管10の結合部で大きな歪みが発生し、メタ
ライズ層の剥離あるいは、セラミツクス管が破壊
する。以上の理由によりレーザ管加熱時の破壊を
避けるために電極にコバールを用いなければなら
ないが、このコバールの性質によつてレーザ装置
の寿命が決められている。
すなわちコバールは放電時のスパツタリングが
大で、スパツタしたコバール粉末が管内を漂つて
窓板に付着し、紫外線透過率を著しく低下させて
いる。
大で、スパツタしたコバール粉末が管内を漂つて
窓板に付着し、紫外線透過率を著しく低下させて
いる。
また、コバールは放電中にハロゲンガスと反応
し、その結果管内のハロゲンガス量が低下してレ
ーザ発振が停止することになつた。
し、その結果管内のハロゲンガス量が低下してレ
ーザ発振が停止することになつた。
(発明の目的)
本発明の目的は従来の希ガス・ハロゲン・エキ
シマレーザ装置の封じ切り管、封じ切り管内の電
極、封じ切り管内のガスの相互の関連において発
生する問題を解決し、より長い時間安定して動作
することができる希ガス・ハロゲン・エキシマレ
ーザ装置を提供することにある。
シマレーザ装置の封じ切り管、封じ切り管内の電
極、封じ切り管内のガスの相互の関連において発
生する問題を解決し、より長い時間安定して動作
することができる希ガス・ハロゲン・エキシマレ
ーザ装置を提供することにある。
(発明の構成と作用)
(発明の構成)
前記目的を達成するために本発明による希ガ
ス・ハロゲン・エキシマレーザ装置は耐熱性の管
壁内に管軸に沿つて配置される放電電極を複数本
のフイールドスルーにより前記レーザ管壁に固定
する形式の希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装
置において、前記放電電極の基本形状を前記耐熱
性の管壁材料と線膨張係数がほぼ同じである金属
により形成しその表面にハロゲンガスに対して耐
食性の大きい金属層を形成して構成されている。
前記構成によれば、前述した問題は総て解決さ
れ、高温加熱のできる封じ切りレーザ管を用いた
希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装置の理想と
する基本的な条件を総て満たすことができる。
ス・ハロゲン・エキシマレーザ装置は耐熱性の管
壁内に管軸に沿つて配置される放電電極を複数本
のフイールドスルーにより前記レーザ管壁に固定
する形式の希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装
置において、前記放電電極の基本形状を前記耐熱
性の管壁材料と線膨張係数がほぼ同じである金属
により形成しその表面にハロゲンガスに対して耐
食性の大きい金属層を形成して構成されている。
前記構成によれば、前述した問題は総て解決さ
れ、高温加熱のできる封じ切りレーザ管を用いた
希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装置の理想と
する基本的な条件を総て満たすことができる。
(実施例の説明)
以下図面を参照して本発明をさらに詳しく説明
する。
する。
第6図は、本発明による希ガス・ハロゲン・エ
キシマレーザ装置で使用する主放電電極の実施例
を示す長手方向断面図、第7図は同じく短手方向
の断面図である。この主放電電極14を母体金属
はコバール金属である。コバール金属部分を図中
14aで示してある。主放電電極14の母体金属
部分の長さは、40cm、高さ1cm、幅1.3cmである。
キシマレーザ装置で使用する主放電電極の実施例
を示す長手方向断面図、第7図は同じく短手方向
の断面図である。この主放電電極14を母体金属
はコバール金属である。コバール金属部分を図中
14aで示してある。主放電電極14の母体金属
部分の長さは、40cm、高さ1cm、幅1.3cmである。
図中上方向に現れる各稜線はエツジができない
ように丸めてある。これは図中矢印の示す方向に
電界をかけ放電を行わせる場合に一様な放電面が
形成されるようにするためである。
ように丸めてある。これは図中矢印の示す方向に
電界をかけ放電を行わせる場合に一様な放電面が
形成されるようにするためである。
前記母体金属部分14aの表面に溶射法によつ
てアルミニウム層14bを形成する。
てアルミニウム層14bを形成する。
溶射法は金属粉末を高温高速のガスによつて対
象物に吹き付けて、高温の金属微粉を対象物に強
い結合力で付着あるいは溶着させる技術である。
象物に吹き付けて、高温の金属微粉を対象物に強
い結合力で付着あるいは溶着させる技術である。
この実施例では、溶射法によりアルミニウム層
14bは約0.5mmの厚さで母体金属であるコバー
ル金属表面に付着した。
14bは約0.5mmの厚さで母体金属であるコバー
ル金属表面に付着した。
なおこの厚さは10μm〜1.0mm位の範囲で任意に
調整できる。
調整できる。
この溶射によつて得られたアルミニウム層14
bは緻密であり、通常のアルミニウムと全く変わ
らない。
bは緻密であり、通常のアルミニウムと全く変わ
らない。
またこの溶射によつて得られた主電極14を単
体で400℃までの加熱をしたが、アルミニウム層
14bは剥離しなかつた。
体で400℃までの加熱をしたが、アルミニウム層
14bは剥離しなかつた。
前記工程で形成された一対の主電極14を第4
図に関連して説明した従来の希ガス・ハロゲン・
エキシマレーザ装置の主電極50a,50bの位
置に全く同様にして配置する。
図に関連して説明した従来の希ガス・ハロゲン・
エキシマレーザ装置の主電極50a,50bの位
置に全く同様にして配置する。
レーザ管を約300℃で6時間加熱しながら排気
した後にクリプトン(Kr)を36トール、フツ素
(F2)を2トール、ヘリウム(He)を1162トール
封入し封じ切る。
した後にクリプトン(Kr)を36トール、フツ素
(F2)を2トール、ヘリウム(He)を1162トール
封入し封じ切る。
前記のようにして製造された実施例装置の試験
結果を説明する。
結果を説明する。
主なる放電のエネルギーとしては、容量
32nano Fのキヤパシタを電圧23KVで充電して
得られる電力を用い、また予備的な放電のエネル
ギーは容量6nano Fのキヤパシタを電圧16KVで
充電して得られる電力を用いる。
32nano Fのキヤパシタを電圧23KVで充電して
得られる電力を用い、また予備的な放電のエネル
ギーは容量6nano Fのキヤパシタを電圧16KVで
充電して得られる電力を用いる。
予備的な放電が始まつてから約1マイクロ秒後
に主なる放電が始まるようにして、レーザ装置を
毎秒1回の割合でパルス放電させた。
に主なる放電が始まるようにして、レーザ装置を
毎秒1回の割合でパルス放電させた。
発振が停止するまで連続的に動作させたとこ
ろ、約5×106回の放電が可能であることが判明
した。
ろ、約5×106回の放電が可能であることが判明
した。
第8図は主放電電極14のさらに他の実施例の
長手方向断面図である。
長手方向断面図である。
第6図および第7図に示した実施例は母体金属
のコバール14aの全面をアルミニウム層14b
で覆つた。
のコバール14aの全面をアルミニウム層14b
で覆つた。
この実施例は第8図のように主放電電極14の
放電側の面だけをアルミニウム層14aで覆うよ
うにしたものである。
放電側の面だけをアルミニウム層14aで覆うよ
うにしたものである。
全面に被覆する方が優れているが、この放電側
の面だけを。アルミニウム層14aで覆うことに
よつても、十分な延命効果を期待できる。
の面だけを。アルミニウム層14aで覆うことに
よつても、十分な延命効果を期待できる。
この理由は、ハロゲンガスは放電によつてより
強く活性化されて周囲物質と反応するが、放電領
域をはずれれば、反応性が弱くなるからである。
すなわち、放電面だけをハロゲンガスと反応しに
くいアルミニウムで蔽うのみでも有効となる。
強く活性化されて周囲物質と反応するが、放電領
域をはずれれば、反応性が弱くなるからである。
すなわち、放電面だけをハロゲンガスと反応しに
くいアルミニウムで蔽うのみでも有効となる。
アルミニウムで被覆されていない所は加工が容
易であるから、フイードスルーの結合作業には便
利である。
易であるから、フイードスルーの結合作業には便
利である。
前述の実施例では主放電電極に耐食性の大きい
金属としてアルミニウムを用いたが、ニツケル、
コバルト、ステンレス鋼でも同様の効果が確かめ
られた。
金属としてアルミニウムを用いたが、ニツケル、
コバルト、ステンレス鋼でも同様の効果が確かめ
られた。
(発明の効果の説明)
以上説明したように、本発明による希ガス・ハ
ロゲン・エキシマレーザ装置は、放電管の基本形
状を耐熱性の管壁材料を用いているから、耐熱性
の管壁材料の充分なガス出しが可能である。また
前記管壁に固定される主放電電極を前記耐熱性の
管壁材料と略おなじ膨張係数をもつ金属材料で形
成してあるので、温度の変化により歪が発生しな
い。
ロゲン・エキシマレーザ装置は、放電管の基本形
状を耐熱性の管壁材料を用いているから、耐熱性
の管壁材料の充分なガス出しが可能である。また
前記管壁に固定される主放電電極を前記耐熱性の
管壁材料と略おなじ膨張係数をもつ金属材料で形
成してあるので、温度の変化により歪が発生しな
い。
前記主放電電極の表面にハロゲンガスに対して
耐食性の大きい金属層を形成してあるから内部の
金属の散逸や、ハロゲンガスとの化合は防止され
長い時間安定して動作する希ガス・ハロゲン・エ
キシマレーザ装置が得られる。
耐食性の大きい金属層を形成してあるから内部の
金属の散逸や、ハロゲンガスとの化合は防止され
長い時間安定して動作する希ガス・ハロゲン・エ
キシマレーザ装置が得られる。
第9図に先に説明した従来装置と本発明による
装置の寿命試験の結果をまとめて示してある。
装置の寿命試験の結果をまとめて示してある。
縦軸は出力(KW)、横軸は発振回数を対数で
示している。図においての示す曲線が第1図の
装置の特性、の示す曲線が第4図の装置の特
性、の示す曲線が本発明による装置の特性を示
している。
示している。図においての示す曲線が第1図の
装置の特性、の示す曲線が第4図の装置の特
性、の示す曲線が本発明による装置の特性を示
している。
本発明の電極を用いたレーザ管が長寿命となつ
たのは、アルミニウムを使うことによつて電極ス
パツタリングが少なくなり、窓板が汚れにくくな
つたこと、電極のハロゲンガスに対する耐久性が
増した結果、ハロゲンガスの減少が防止されるよ
うになつたことによる。
たのは、アルミニウムを使うことによつて電極ス
パツタリングが少なくなり、窓板が汚れにくくな
つたこと、電極のハロゲンガスに対する耐久性が
増した結果、ハロゲンガスの減少が防止されるよ
うになつたことによる。
第1図は希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装
置の従来例を示す斜視図である。第2図は前記装
置のレーザ管の断面図である。第3図は予備的な
放電の電極を取り出して示した図である。第4図
は希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装置の他の
従来例を示す斜視図である。第5図は第4図の装
置のレーザ管の断面図である。第6図は本発明に
よる希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装置で使
用する主放電電極の実施例の長手方向断面図であ
る。第7図は同短手方向断面図である。第8図は
前記主放電電極の変形例を示す長手方向断面図で
ある。第9図は先に説明した従来装置と本発明に
よる装置の寿命試験の結果をまとめて示したグラ
フである。 1……アクリル樹脂製の円筒(外管)、2a,
2b……アクリル板、3a,3b……アクリル円
筒、4a,4b4……ふつ化マグネシウムの窓
板、5a,5b……主放電電極(アルミニウム)、
6a〜6l……フイードスルー、7……予備放電
電極、8a〜8c……フイードスルー、10……
アルミナ・セラミツクス円筒(外管)、12a,
12b……コバール合金円筒、13……コバール
合金製のキヤツプ、14……主放電電極、14a
……コバール合金部、14b……アルミニウム被
覆部、20a,20b……ステンレス鋼板、30
a,30b……ステンレス鋼円筒、50a,50
b……主放電電極(コバール合金)。
置の従来例を示す斜視図である。第2図は前記装
置のレーザ管の断面図である。第3図は予備的な
放電の電極を取り出して示した図である。第4図
は希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装置の他の
従来例を示す斜視図である。第5図は第4図の装
置のレーザ管の断面図である。第6図は本発明に
よる希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装置で使
用する主放電電極の実施例の長手方向断面図であ
る。第7図は同短手方向断面図である。第8図は
前記主放電電極の変形例を示す長手方向断面図で
ある。第9図は先に説明した従来装置と本発明に
よる装置の寿命試験の結果をまとめて示したグラ
フである。 1……アクリル樹脂製の円筒(外管)、2a,
2b……アクリル板、3a,3b……アクリル円
筒、4a,4b4……ふつ化マグネシウムの窓
板、5a,5b……主放電電極(アルミニウム)、
6a〜6l……フイードスルー、7……予備放電
電極、8a〜8c……フイードスルー、10……
アルミナ・セラミツクス円筒(外管)、12a,
12b……コバール合金円筒、13……コバール
合金製のキヤツプ、14……主放電電極、14a
……コバール合金部、14b……アルミニウム被
覆部、20a,20b……ステンレス鋼板、30
a,30b……ステンレス鋼円筒、50a,50
b……主放電電極(コバール合金)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 耐熱性の管壁内に管軸に沿つて配置される放
電電極を複数本のフイールドスルーにより前記レ
ーザ管壁に固定する形式の希ガス・ハロゲン・エ
キシマレーザ装置において、前記放電電極の基本
形状を前記耐熱性の管壁材料と線膨張係数がほぼ
同じである金属により形成しその表面にハロゲン
ガスに対して耐食性の大きい金属層を形成して構
成したことを特徴とする希ガス・ハロゲン・エキ
シマレーザ装置。 2 前記ハロゲンガスは、フツ素、塩素、臭素の
1または2以上の組合せによるガスである特許請
求の範囲第1項記載の希ガス・ハロゲン・エキシ
マレーザ装置。 3 前記ハロゲンガスに対して耐食性の大きい金
属層は、アルミニウム、ニツケル、コバルト、ス
テンレス鋼のいずれか1つである特許請求の範囲
第1項記載の希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ
装置。 4 前記耐熱性管壁材料はアルミナ・セラミクス
であり、前記レーザ管管壁材料と線膨張係数がほ
ぼ同じである金属はコバールである特許請求の範
囲第1項記載の希ガス・ハロゲン・エキシマレー
ザ装置。 5 前記耐熱性管壁材料はアルミナ・セラミクス
であり、前記レーザ管管壁材料と線膨張係数がほ
ぼ同じである金属はコバールであり、前記希ガス
は、クリプトンおよびヘリウムの混合ガスであ
り、前記ハロゲンガスはフツ素ガスであり、前記
ハロゲンガスに対して耐食性の大きい金属層はア
ルミニウム層である特許請求の範囲第1項記載の
希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装置。 6 前記放電電極の放電面に対面する面以外に少
なくとも前記ハロゲンガスに対して耐食性の大き
い金属層で覆われていない部分が設けられている
特許請求の範囲第1項記載の希ガス・ハロゲン・
エキシマレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10344683A JPS59227183A (ja) | 1983-06-07 | 1983-06-07 | 希ガス・ハロゲン・エキシマレ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10344683A JPS59227183A (ja) | 1983-06-07 | 1983-06-07 | 希ガス・ハロゲン・エキシマレ−ザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59227183A JPS59227183A (ja) | 1984-12-20 |
| JPH0418714B2 true JPH0418714B2 (ja) | 1992-03-27 |
Family
ID=14354253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10344683A Granted JPS59227183A (ja) | 1983-06-07 | 1983-06-07 | 希ガス・ハロゲン・エキシマレ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59227183A (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2590086B2 (ja) * | 1987-02-20 | 1997-03-12 | 株式会社東芝 | エキシマレーザ用送風機フィン |
| JPS63204678A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-24 | Toshiba Corp | エキシマレ−ザ管 |
| JP2590087B2 (ja) * | 1987-02-20 | 1997-03-12 | 株式会社東芝 | エキシマレーザ用熱交換器フィン |
| JPS63204677A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-24 | Toshiba Corp | エキシマレ−ザ用電極 |
| DE3817145C2 (de) * | 1987-06-03 | 1996-02-01 | Lambda Physik Forschung | Elektrode für gepulste Gas-Laser und ihre Verwendung |
| AU613080B2 (en) * | 1987-08-31 | 1991-07-25 | Acculase, Inc. | Improved rare gas-halogen excimer laser |
| US4959840A (en) * | 1988-01-15 | 1990-09-25 | Cymer Laser Technologies | Compact excimer laser including an electrode mounted in insulating relationship to wall of the laser |
| US5220575A (en) * | 1989-04-04 | 1993-06-15 | Doduco Gmbh + Dr. Eugen Durrwachter | Electrode for pulsed gas lasers |
| JP2701182B2 (ja) * | 1991-07-22 | 1998-01-21 | 株式会社小松製作所 | エキシマレーザの放電電極 |
| JPH06132582A (ja) * | 1992-10-15 | 1994-05-13 | Komatsu Ltd | エキシマレーザ装置 |
| US7006546B2 (en) * | 2000-03-15 | 2006-02-28 | Komatsu Ltd. | Gas laser electrode, laser chamber employing the electrode, and gas laser device |
| KR20030081482A (ko) * | 2001-03-02 | 2003-10-17 | 코닝 인코포레이티드 | 고 반복률 유브이 엑시머 레이저 |
| US10090628B2 (en) | 2014-01-30 | 2018-10-02 | Kyocera Corporation | Cylinder, plasma apparatus, gas laser apparatus, and method of manufacturing cylinder |
-
1983
- 1983-06-07 JP JP10344683A patent/JPS59227183A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59227183A (ja) | 1984-12-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0418714B2 (ja) | ||
| US6232719B1 (en) | High-pressure discharge lamp and method for manufacturing same | |
| JP2008209410A (ja) | 電子ビーム加速器 | |
| US4204721A (en) | Manufacture of gas filled envelopes | |
| JP4982708B2 (ja) | 溶着箔およびこの箔を有するランプ | |
| US20070267974A1 (en) | Flash discharge lamp | |
| JP2010212075A (ja) | セラミック製放電ランプ及びセラミック製放電ランプの製造方法 | |
| JP2659730B2 (ja) | 金属蒸気レーザ装置 | |
| US3670261A (en) | Anode design for gas discharge lasers | |
| EP0210998A4 (en) | MODULAR GAS LASER AND ASSEMBLY. | |
| JP2628313B2 (ja) | ガスレーザ装置 | |
| JPS6056350A (ja) | ガス放電ランプおよびその製作方法 | |
| JPS6231938A (ja) | 希ガス封入式放電ランプ | |
| JPH0722152A (ja) | サージアブソーバ及びその製造方法 | |
| JPH0294278A (ja) | 内燃機関の点火装置用定電圧放電管 | |
| JPS62256486A (ja) | 気体レ−ザ発振器の電極装置 | |
| JP3016826B2 (ja) | ガス入放電管 | |
| JPH0864335A (ja) | 避雷器 | |
| JPH0536460A (ja) | 放電型サージ吸収素子 | |
| JPH04322029A (ja) | 含浸型陰極およびその製法 | |
| JPH0294280A (ja) | 内燃機関の点火装置用定電圧放電管のガス封入方法 | |
| JPH03208282A (ja) | 放電管及びその製造法 | |
| JPH01187758A (ja) | 照射装置 | |
| JP2003007207A (ja) | 発光デバイスの製造方法および平面ディスプレイ用バックライトの製造方法、ならびに発光デバイス | |
| JPH02148777A (ja) | 金属蒸気レーザ発振管 |