WO1999002508A1 - Process for producing 4-alkoxycarbonyl-2-oxazolidinone compounds - Google Patents

Process for producing 4-alkoxycarbonyl-2-oxazolidinone compounds Download PDF

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WO1999002508A1
WO1999002508A1 PCT/JP1998/002129 JP9802129W WO9902508A1 WO 1999002508 A1 WO1999002508 A1 WO 1999002508A1 JP 9802129 W JP9802129 W JP 9802129W WO 9902508 A1 WO9902508 A1 WO 9902508A1
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oxazolone
methyl
oxazolidinone
methoxy
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PCT/JP1998/002129
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French (fr)
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Hiroyuki Miyata
Nobuya Satake
Takashi Honma
Kikuo Ataka
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Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D263/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
    • C07D263/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings
    • C07D263/30—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D263/34—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D263/44—Two oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07D263/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
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    • C07D263/08—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
    • C07D263/16—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D263/18—Oxygen atoms
    • C07D263/20—Oxygen atoms attached in position 2
    • C07D263/24—Oxygen atoms attached in position 2 with hydrocarbon radicals, substituted by oxygen atoms, attached to other ring carbon atoms

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a 4-alkoxycarboxy-2-oxazolidinone compound, which is useful as an intermediate for pharmaceuticals or synthetic pesticides of agricultural chemicals.
  • 4-Alkoxycarbonyl 2-oxazolidinone compounds can be prepared, for example, according to the method described in Journa 1 of American Chemicals Society 18, page 3584-3590 (1996). By carrying out alkaline hydrolysis using an aqueous solution of a compound, it is possible to easily lead to a /?-Hydroxy-1- ⁇ -amino acid compound useful as a drug or a drug intermediate or a raw material.
  • An object of the present invention is to provide a method for producing a novel 4-alkoxycarbonyl 2-oxazolidinone compound useful as a raw material for synthesis of pharmaceuticals and agricultural chemicals and as an intermediate.
  • the present invention provides a compound represented by the general formula (I):
  • R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group of Ci Cuj which may be substituted, a cycloalkyl group of C 3 to C 10 which may be substituted or C 2 to C 1 () which may be substituted.
  • R 2 represents a hydrogen atom, an optionally substituted C Cw alkyl group, an optionally substituted phenyl group or an unsubstituted c 2 Represents an alkenyl group of ⁇ c 1 () ,
  • R 3 is optionally substituted (: ⁇ (: 10 alkyl group, a cycloalkyl group optionally C 3 -C 10 substituted, optionally substituted C 2 -C 10 alkenyl Le group (However, excluding a 2-alkenyl group) or a phenyl group which may be substituted
  • R 4 is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group of c 2 to c 20, an optionally substituted c 3 to c 10 chosen cycloalkyl group, a substituted 2 may c be the to c 20 alkynyl group, optionally substituted C 6 -C 20 Ariru group, from optionally substituted N, 0 and S A 5- or 6-membered heteroaromatic ring group containing one or two heteroatoms, an optionally substituted C 6 alkoxycarbonyl group, an acetyl group or a benzoyl group,
  • the present invention relates to a method for producing a 4-alkoxycarbonyl-2-oxazolidinone compound represented by the formula: BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • the production method of the present invention comprises, for example, the following reaction formula (I)
  • R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meaning as described above
  • R 1 in the compound (I) represented by the general formula (I) is a hydrogen atom, an optionally substituted C i C! O alkyl group, an optionally substituted C 3 -C 3 10 cycloalkyl group, alkenyl group optionally substituted C 2 ⁇ C 1 () or It represents a phenyl group which may be substituted.
  • R 1 The “optionally substituted alkyl group of C! To j.” Represented by R 1 includes (1) an “alkyl group of C i C! O having no substituent”, or (2) A C i -C 10 alkyl group having a substituent ”.
  • Examples of the “(1)” “substituted (alkyl)” include, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group (including isomers), a butyl group (including each isomer), and a pentyl group. (Including each isomer), hexyl group (including each isomer), heptyl group (including each isomer), octyl group (including each isomer), nonyl group (including each isomer), or decyl And straight-chain or branched alkyl groups of (:, to (:.) Such as groups (including each isomer).
  • the substituent of the "alkyl group C having a substituent" of (2) for example, Shiano group, Benjiruokishi group, Futaruimino group, Ashiruamino group, linear or branched C, alkyl ⁇ C 6 Alkoxycarbonyl group having a moiety, same or different, linear or branched ( ⁇ to ( ⁇ trialkylsilyloxy group having an alkyl moiety, halogen atom, optionally substituted aryl group)
  • Optionally substituted “5- or 6-membered heteroaromatic group containing 1 or 2 heteroatoms selected from N, 0 and S hereinafter also referred to as“ heteroaromatic group ”)” or substituted And an alkoxy group of C 1 ()
  • the number and position of the substituents are not limited.
  • the “optionally substituted aryl group” as a substituent of the “substituted to C 10 alkyl group” of (2) includes: (2-1) “aryl group having no substituent”; Or (2-2) “aryl group having a substituent”.
  • Examples of the “aryl group having no substituent” in (2-1) include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group and a phenanthryl group.
  • Examples of the substituent of the “aryl group having a substituent” of (2-2) include a nitro group; a cyano group; a benzyloxy group; a linear or branched alkyl group moiety of (, to (: 6.
  • the number and positions of the substituents are not limited.
  • the “optionally substituted heteroaromatic ring group” as a substituent of “(:! To (: 10 ) alkyl group having a substituent” in (2) means (2-3) A heteroaromatic group having no substituent ”, or (2-4)“ a heteroaromatic group having a substituent ”.
  • heteroaromatic ring group of the “heteroaromatic group having no substituent” in (2-3) examples include, for example, a furyl group, a phenyl group, a pyrrolyl group, a 2 H-pyrrolyl group, an oxazolyl group, an isoxazolyl group, and a thiazolyl group.
  • a furyl group a phenyl group, a pyrrolyl group, a 2 H-pyrrolyl group, an oxazolyl group, an isoxazolyl group, and a thiazolyl group.
  • isothiazolyl group imidazolyl group, pyrazolyl group, viranyl group, pyridyl group, pyridazyl group, pyrimidyl group or pyrazinyl group.
  • Examples of the substituent of the “heteroaromatic group having a substituent” in (2-4) include a nitro group; a cyano group; a benzyloxy group; a linear or branched C 6 -alkyl group; parts alkoxycarbonyl group having !; were identical or different, linear or branched C trialkylsilyl O alkoxy group having an alkyl group moiety of the Cs; halogen atom; straight chain or branched-Ji 6 Alkyl group; straight-chain or branched alkoxy groups of c 6 .
  • the number and positions of the substituents are not limited.
  • C having no substituent group, an alkoxy group having -C 10" in - (2 5) (including isomers) If, main butoxy group, an ethoxy group, a propoxy group example, a butoxy group (including isomers ), Pentyloxy group (including each isomer), hexyloxy group (including each isomer), heptyloxy group (including each isomer), octyloxy group (including each isomer), nonyloxy group (including each isomer) Or d-d, such as decyloxy groups (including each isomer). It is possible to raise the alkoxy group.
  • Examples of the substituent of the “alkoxy group of CiC! O having a substituent” in (2-6) include a benzyloxy group; a phenoxy group; a methoxetoxy group; the same or different, linear or branched And a trialkylsilyloxy group having a C Ce alkyl group portion or a linear or branched C, to C 6 alkoxy group.
  • the number and position of the substituent are not particularly limited.
  • the “optionally substituted cycloalkyl group” represented by R 1 in the compound (I) represented by the general formula (I) may be (3) an unsubstituted C 3 -C 10 cycloalkyl group. or (4) has the same meaning as "cycloalkyl group C 3 -C 10 having a substituent".
  • Examples of the (C 3 -C 10 cycloalkyl group having no substituent) of (3) include, for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclononyl group, cyclodecyl group, such as Bol two group or Adamanchiru group, as possible out and a cycloalkyl group of C 3 ⁇ C i 0.
  • Examples of the substituent of the “C 3 -C 10 cycloalkyl group having a substituent” in (4) include a cyano group; a benzyloxy group; a benzosulfonyl group; an acylamino group; An alkoxycarbonyl group having an alkyl group portion of C 6 ; the same or different, linear or branched c, ⁇ ⁇ : a trialkylsilyloxy group having an alkyl portion portion of 6 ; a halogen atom; Or a branched C Ce alkyl group; a substituted or unsubstituted aryl group or a linear or branched c 6 alkoxy group.
  • the number and position of the substituent are not particularly limited.
  • C 2 -C 10 alkenyl group represented by R 1 in the compound (I) represented by the general formula (I) is represented by (5) “C 2 -C 10 unsubstituted C 2 -C 10 has the same meaning as the alkenyl group "C 2 -C 10 having an alkenyl group” force ,, or (6) "substituent.
  • the “C 2 -C 10 alkenyl group having no substituent” in (5) includes, for example, an ethynyl group, a propenyl group (including each isomer), a butenyl group (including each isomer), Pentenyl group (including each isomer), hexenyl group (including each isomer), heptenyl group (including each isomer), octenyl group (including each isomer), nonenyl group (including each isomer) included) or decenyl group (including isomers), may be mentioned alkenyl groups of linear or branched C 2 -C 1 ().
  • Examples of the substituent of the “substituted C 2 -C 10 alkenyl group” in (6) include a cyano group; a benzyloxy group; a linear or branched C i Ce alkyl group.
  • the number and position of the substituent are not particularly limited.
  • the “optionally substituted phenyl group” represented by R 1 in the compound (I) represented by the general formula (I) means a phenyl group or a “phenyl group having a substituent”.
  • substituent of the “phenyl group having a substituent” include ( ⁇ to ( ⁇ a linear or branched alkyl group, nitro group, benzyloxy group, halogen atom, acylamino group, it can be exemplified Jo or branched alkoxy group of C i to C 6. Note that the number and position of the substituent is not limited.
  • R 1 examples include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and the like.
  • R 2 in the compound (I) represented by the general formula (I) is a hydrogen atom, an optionally substituted C i -C 1 Q alkyl group, an optionally substituted phenyl group or It represents an unsubstituted alkenyl group of c 2 to c 1 () .
  • the “optionally substituted C 1 to C 10 alkyl group” represented by R 2 includes: (7) “an alkyl group of Ci Cio having no substituent”, or (8) “Ci having a substituent” To an alkyl group of Ci.
  • alkyl group of C i C! O having no substituent in (7), the above-mentioned “C! .
  • Examples of the substituent of the “alkyl group having a substituent C to...” in (8) include a phthalimid group; a benzyloxy group; and a linear or branched C! Cs alkyl group moiety.
  • the number and positions of the substituents are not limited.
  • the “aryl group which may be substituted” as a substituent of the “alkyl group of” is (8-1) an “aryl group having no substituent”, or (8-2) “an aryl group having no substituent”.
  • Aryl group ".
  • Examples of the “aryl group having no substituent” in (8-1) include a phenyl group and a naphthyl group.
  • Examples of the substituent of the “aryl group having a substituent” in (8-2) include:
  • the number and positions of the substituents are not limited.
  • the “optionally substituted heteroaromatic group” as a substituent of the “alkyl group having a substituent (s) to (.)” Of (8) is (8-3) “having no substituent”.
  • heteromatic group having no substituent examples include a furyl group, a chenyl group, an oxazolyl group, an isooxazolyl group, a thiazolyl group, an indolyl group, and an imidazolyl group.
  • the heteroaromatic group of the “heteroaromatic group having a substituent” of (8-4) has the same meaning as the “heteroaromatic group having no substituent” of (8-3).
  • Examples of the substituent of the “heteroaromatic group having a substituent” in (8-4) include straight-chain or branched ⁇ C! .
  • an alkoxycarbonyl group having a halogen atom or a linear or branched C to C 6 alkyl group moiety are not limited.
  • the “optionally substituted phenyl group” represented by R 2 in the compound (I) represented by the general formula (I) means a phenyl group or a “phenyl group having a substituent”.
  • substituent of the “phenyl group having a substituent” include a benzyloxy group; a halogen atom; a linear or branched C i Cg alkoxy group; an acylamino group or the same or different, linear or Branched Cj ⁇ As possible out and the like trialkylsilyl O alkoxy group having an alkyl moiety of C 6.
  • the number and positions of the substituents are not limited.
  • the “unsubstituted C 2 -C 10 alkenyl group” represented by R 2 in the compound (I) represented by the general formula (I) is, for example, a straight-chain or branched alkenyl group. it can be mentioned alkenyl groups of C 2 ⁇ C 1 0.
  • R 2 examples include, for example, a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, Xyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, 2-methoxycarbonylethyl, 3-methoxycarbonylpropyl, 4-methoxycarbonylbutyl, 1-trimethylsilyloxethyl, benzyl Methoxymethyl group, 1 benzyloxyl group, 1 benzyloxyl pill group, 1-benzyloxybutyl group, methoxymethyl group, 1 tert-butoxyl group, 1 ethoxyl group, 1- Xyloxyshethyl group, Isopropoxymethyl group, 1_n-propoxymethyl group, 2-methyl
  • R 3 in the compound (I) represented by the general formula (I) is an optionally substituted C 10 alkyl group, an optionally substituted C 3 -C 10 cycloalkyl group, It represents an optionally substituted C 2 -C 10 alkenyl group (however, excluding a 2-alkenyl group) or an optionally substituted phenyl group.
  • the “optionally substituted C i -C 10 alkyl group” represented by R 3 in the compound (I) represented by the general formula (I) is defined as (9) “an unsubstituted C ⁇ -C 10 alkyl groups ”or (10)“ Ci Cio alkyl group having a substituent ”.
  • Examples of the “C> to C 10 alkyl group having no substituent” in (9) include, for example, And a straight-chain or branched alkyl group of C, to C, o.
  • C 3 -C 10 cycloalkyl group represented by R 3 in the compound (I) represented by the general formula (I) is defined as (11) “C 3 having no substituent” ⁇ cycloalkyl group "or (1 2) to C 10 means a" cycloalkyl group having C 3 -C 10 having a substituent ".
  • the “unsubstituted C 3 -C 10 cycloalkyl group” in (11) is the same as the “unsubstituted C 3 -C 1 () cycloalkyl group” described in (3). has the meaning, "cycloalkyl group C 3 -C 10 having a substituent", (4) described in the "cycloalkyl group C 3 -C 10 having a location substituent” in (1 2) Has the same meaning.
  • the “optionally substituted C 2 -C 10 alkenyl group (excluding 2-alkenyl group)” represented by R 3 in the compound (I) represented by the general formula (I) is represented by (13 ) "alkenyl group having no C 2 -C 10 substituent (provided that 2-alkenyl excluding group)” or (1-4) "alkenyl C 2 -C 10 having a substituent (provided that 2 one Excluding alkenyl groups) ”.
  • Examples of the “alkenyl group of C 2 to C! Having no substituent (excluding 2-alkenyl group)” in (13) include, for example, linear or branched c 2 to c And 10 alkenyl groups (excluding 2-alkenyl groups).
  • Examples of the substituent of the “C 2 -C 10 alkenyl group having a substituent (excluding 2-alkenyl group)” in (14) include, for example, a benzyloxy group; a linear or branched C! An alkoxycarbonyl group having a C 6 to C 6 alkyl group; an acylamino group; a halogen atom; which may be substituted according to (described in (8-1) and (8-2)) Aryl group or an alkoxy group of C to (: 10 ) described in (2-5).
  • the number and position of the substituents are not limited.
  • the “optionally substituted phenyl group” represented by R 3 in the compound (I) represented by the general formula (I) means a phenyl group or a “phenyl group having a substituent”.
  • substituent of the “phenyl group having a substituent” include ( ⁇ to (: 6 linear or branched alkyl groups, nitro groups, and the aforementioned halogen atoms.
  • R 3 as, for example, a methyl group, Echiru group, a propyl group, Isopuropiru group, butyl group, Isobuchiru group, sec- butyl group, tert- butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group Octyl group, nonyl group, decyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonylpropyl group, 4-methoxycarbonylbutyl group, 1-benzyloxyshethyl group, 3-benzyloxypropyl group , 3-benzyloxyisobutyl group, 2-methoxyl group, 2-tert-butoxyl group, 2-ethoxyl group, 2-hexoxyl group, 2-isopropyl group Poxyshetyl, 3-n-propoxypropyl, 2-trifluoroethyl, trifluoromethyl, 2-chloroethyl,
  • 1- (4-chlorophenyl) ethyl group 1- (1-naphthyl) ethyl group, 1- (2-naphthyl) ethyl group, diphenylmethyl group, di (4-chlorophenyl) methyl group, di ( 4-Methoxyphenyl) methyl, trityl, 2-phenylethyl, 2- (4-benzyloxyphenyl) ethyl, ethynyl, 1-propenyl, 1-butenyl, 3-butenyl 1-pentenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group, 5-hexenyl group, 6-heptenyl group, 7-octenyl group, 8-nonyl group, 9-decenyl group, 3-methoxycarbonyl 1 1 — Propenyl group, 1-methoxycarbonylethynyl group, 2-benzyloxymethylethynyl group, 3-chloro
  • the compound (I) represented by the general formula (I) include, for example, 3-benzyl-5-methoxy-2 (3H) oxazolone, 3-benzyl-4-methyl-1-5-methoxy-2 (3H) oxazolone, 3- (4-nitrobenzyl) -1-5-ethoxy-1 (3H) oxazolone, 3-benzyl-1-5- ( ⁇ ) -menthyloxy 2 (3 ⁇ ) -oxazolone, 3- (4 —Methylbenzyl) 1 4-Methyl-1 5-Methoxy-1 2 (3 ⁇ ) —oxazolone, 3— (1-phenylethyl) _5 _Methoxy 2 (3 ⁇ ) —oxoxalone, 3— ((S) — 1— (Phenylenyl) 1-5-isopropoxy 1 2 (3 ⁇ ) -oxazolone, 3-((R) — 1-phenylethyl) 1-5-methoxy-1 2 (3 ⁇ ) 1-year
  • reaction formula 2 The 5-alkoxy-2 (3H) one-year-old xazolone (compound (I)) represented by the general formula (I) of the present invention is produced according to the method of the reaction formula (2) described below. (Reaction formula 2)
  • the first step is a step of producing a compound represented by the general formula (H) (hereinafter, also referred to as compound (II)), wherein an N-substituted monoamino acid ester compound represented by the general formula (W) ( (Hereinafter, also referred to as compound (W)) in a solvent in the presence of an inorganic base such as sodium carbonate or an organic base such as triethylamine with a carbonyl carbonylating agent such as phosgene or trichloromethylchloroformate.
  • an inorganic base such as sodium carbonate or an organic base such as triethylamine
  • a carbonyl carbonylating agent such as phosgene or trichloromethylchloroformate.
  • Compound (I) can be obtained by subjecting the represented compound to an intramolecular cyclization reaction.
  • R 4 in the compound ( ⁇ ) represented by the general formula ( ⁇ ) is a hydrogen atom, an optionally substituted (: :. Alkyl group, an optionally substituted c 2 -c
  • substituted heteroatoms 1 if Ku selected from Good N, 0 and S have the two containing 5 or 6-membered heteroaromatic ring group, - which may be substituted (: 6 Al of It represents a carbonyl group, an acetyl group or a benzoyl group.
  • the “optionally substituted C 20 alkyl group” represented by R 4 includes (15) “a C 20 alkyl group having no substituent”, or (16) “substituent Having a C i -C 20 alkyl group ”.
  • the “unsubstituted (alkyl group of ⁇ to (:)” includes, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group (including isomers), a butyl group (including each isomer) , Pentyl group (including each isomer), hexyl group (including each isomer), heptyl group (including each isomer), octyl group (including each isomer), nosyl group (including each isomer) ), Decyl group (including each isomer), pendecyl group (including each isomer), dodecyl group (including each isomer), tridecyl group (including each isomer), tetradecyl group (including each isomer) ), Pentadecyl group (including each isomer), hexadecyl group (including each isomer), heptadecyl group (including each isomer), octadect
  • ⁇ C 2 Linear or branched alkyl group.
  • substituent of the ( ⁇ -(: 20 alkyl group) having a substituent in (16) include a cyano group; a benzyloxy group; a phthalimino group; and a linear or branched alkyl group portion of Ci Ce.
  • the “optionally substituted C 2 -C 20 alkenyl group” represented by R 4 in the compound ( ⁇ ) represented by the general formula ( ⁇ ) is defined as (17) “C 2 -C having no substituent”. 20 alkenyl group "of, or (1 8) has the same meaning as” alkenyl C 2 -C 20 which may have a substituent ".
  • Examples of the “unsubstituted C 2 -C 20 alkenyl group” in (17) include, for example, linear or branched C 2 -C i. And the alkenyl group of
  • substituent of the “C 2 -C 20 alkenyl group having a substituent” of (18) for example, a cyano group; a benzyloxy group; an acylamino group; a linear or branched C!
  • alkoxycarbonyl group having an alkyl moiety of to c 6 the same or different, a trialkylsilyl O alkoxy group having a linear or branched alkyl moiety of the C i ⁇ C 6; halogen atom; "(2 — 3), (2-4)) aryl group; C 3 to C i. Or a heteroaromatic group.
  • Examples of the (C 3 -C 10 cycloalkyl group having no substituent) of (19) include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group or A cyclodecyl group can be mentioned.
  • substituent of the “C 3 -C 10 cycloalkyl group having a substituent” in (20) for example, a cyano group; a benzyloxy group; a linear or branched Ci-C 6 alkyl group An alkoxycarbonyl group having an alkyl group portion; the same or different, linear or branched C!-(: A trialkylsilyloxy group having an alkyl group portion of 6 ; an acylamino group; a halogen atom; an aryl group Or a straight-chain or branched alkoxy group of C 1 to C 6.
  • the number and position of the substituents are not limited.
  • the “optionally substituted C 2 -C 20 alkynyl group” represented by R 4 in the compound ( ⁇ ) represented by the general formula ( ⁇ ) is defined as (21) “C-substituted C 20 having no substituent.
  • ⁇ Rukiniru group "force, or (22) has the same meaning as alkynyl group” C 2 -C 20 having a "substituent.
  • Examples of the substituent of the “substituted C 2 -C 20 alkenyl group” in (22) include, for example, a cyano group; a benzyloxy group; an acylamino group; a linear or branched C 6 -alkyl group.
  • the “optionally substituted C 6 -C 20 aryl group” represented by R 4 in the compound ( ⁇ ) represented by the general formula ( ⁇ ) is defined as (23) “C 6 -C 20 having no substituent”. (24) has the same meaning as (24) “C 6 -C 20 aryl group having a substituent”.
  • Examples of the “C 6 -C 20 aryl group having no substituent” in (23) include a phenyl group, a naphthyl group, an anthranyl group and a phenanthryl group.
  • the aryl group of the “C 6 -C 20 aryl group having a substituent” in (24) has the same meaning as (23) “C 6 -C 2 having no substituent. Aryl group”.
  • Examples of the substituent of the aryl group of the “C 6 -C 20 aryl group having a substituent” in (24) include a nitro group; a cyano group; a benzyloxy group; (3 (: an alkoxycarbonyl group having an alkyl group portion of 6 ; the same or different, a linear or branched trialkylsilyloxy group having an alkyl group portion of C! Cs; a halogen atom; Chain or branched C Cs alkyl group or linear or Is a branched (: alkoxy group).
  • a 5- or 6-membered heteroaromatic group containing 1 or 2 heteroatoms selected from N, 0 and S which may be substituted represented by R 4 in the compound ( ⁇ ) represented by the general formula ( ⁇ ) Is (5) a 5- to 6-membered heteroaromatic ring group containing one or two heteroatoms selected from N, 0 and S having no substituents, or (26) A 5- or 6-membered heteroaromatic ring group containing 1 or 2 heteroatoms selected from N, 0 and S.
  • heteroaromatic ring group of (5) a “5- to 6-membered heteroaromatic group containing 1 or 2 heteroatoms selected from N, ⁇ , and S having no substituent”
  • examples of the heteroaromatic ring group of (5) a “5- to 6-membered heteroaromatic group containing 1 or 2 heteroatoms selected from N, ⁇ , and S having no substituent” include, for example, furyl Group, chenyl group, pyrrolyl group, 2H-pyrrolyl group, oxazolyl group, isooxazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, viranyl group, pyridyl group, pyridazyl group, pyrimidyl group or birazinyl group And the like.
  • Examples of the substituent of the “5- or 6-membered heteroaromatic group having a substituent” in (26) include a nitro group; a cyano group; a benzyloxy group;
  • the number and position of the substituents are not limited.
  • Examples of the alkoxycarbonyl group of the “unsubstituted C alkoxycarbonyl group” in (27) include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-propyloxycarbonyl group, and an isopropyloxycarbonyl group. Linear or branched, such as n-butoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group And C! Cs alkoxycarbonyl group.
  • Examples of the substituent of the “substituted ( ⁇ to ( ⁇ alkoxycarbonyl group)” in (28) include a nitro group; a cyano group; a benzyloxy group; a linear or branched C! C an alkoxycarbonyl group having an alkyl group portion of s; the same or different, a straight-chain or branched trialkylsilyloxy group having a C i Cs alkyl group portion; a halogen atom; the alkoxy group of C i to C 6, etc. can ani gel. Note that the number and position of the substituent is not limited.
  • R 4 examples include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and a n-butyl group.
  • the compound (II) a compound comprising a combination of substituents described as R 1 , R 2 , R 3 and R 4 can be mentioned.
  • Specific examples of the compound (m) include the following compounds.
  • the Lewis acid catalyst used in the present invention is, specifically, an organic gold of a group 2 (na group) to a group 14 (IVa) element (excluding carbon) of the following periodic table.
  • a genus compound, a halide, trifluoromethanesulfonate, a halide of a lanthanoid element, and trifluoromethanesulfonate can be used. Specifically, the following equation (IV):
  • R 5 represents an alkyl group of C to ( 1 () , an aryl group of C 6 to C 20 ;
  • X represents a halogen atom;
  • M represents A and represents B, Sn, T i;
  • n represents a number of 0, 1, 2, 3 or 4 respectively, provided that m + n is 2, 3 or 4;
  • the aryl group represented by R 5 in the compound (IV) represented by the general formula (IV) has the same meaning as the aryl group described in “(23) and (24)”.
  • X in the compound (IV) represented by the general formula (IV) represents, for example, a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and a palladium atom.
  • M represents A then B, 511 or 1 ⁇ .
  • m and n indicate the numbers 0, 1, 2, 3 or 4, respectively. However, m + n is 2, 3 or 4.
  • the compound (IV) represented by the general formula (IV) include, for example, trimethylaluminum, triethylaluminum, tripropylaluminum, Trialkylaluminum such as triisopropylaluminum, trin-butylaluminum, triisobutylaluminum, trisec-butylaluminum, tritert-butylaluminum, tripentylaluminum, trihexylaluminum, trioctylaluminum, tridecylaluminum; Dialkylaluminum hydrides, such as chilled aluminum chloride, getylaluminum chloride, getylaluminum amide, diisobutylaluminum chloride; dialkylaluminum hydrides, such as getylaluminum hydride and diisobutylaluminum hydride ; Methyl aluminum dichloride, ethyl aluminum dichloride, isobutyl aluminum dichloride Aluminum dihalides
  • R 6 represents an alkyl group of C 1, to (: 10 , an aryl group of C 6 to C 20 ;
  • X represents a halogen atom;
  • M represents A and represents B, Sn, T i;
  • n ' represent the numbers 0, 1, 2, 3 or 4, respectively, provided that m, + n, is 3 or 4,
  • X in the compound (V) represented by the general formula (V) represents, for example, a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and a pseudo atom.
  • M represents A and B, Sn or Ti.
  • m 'and n' each represent a number of 0, 1, 2, 3 or 4. Where m, + ⁇ 'is 3 or 4.
  • Specific compounds of the compound (V) represented by the general formula (V) include, for example, trichloromethoxytitanium, trichloromouth ethoxytitanium, trichloromouth isopropoxytitanium, trichloromouth ⁇ -butoxytitanium, tribromoethoxytitanium, tribromoethoxy Alkoxytitanium trihalides such as isobutoxytitanium; dialkoxytitanium dihalides such as dichlorodimethoxytitanium, dichloroethoxytitanium, dichlorodi ⁇ -butoxytitanium, dichlorodiisopropoxytitanium and dibromodiethoxytitanium; chlorotrimethoxytitanium, chlorotriethoxytitanium , Chlorotri ⁇ -butoxytitanium, trialkoxy titanium halides such as bromotriethoxytitanium; titanium (IV)
  • R 7 , R 8 and R 9 are each independently from C to C.
  • X ′ represents a C 6 to C 20 aryl group; X ′ represents a halogen atom or OS ⁇ 2 CF 3 ;
  • the aryl group represented by R has the same meaning as the alkyl group represented by (:, to (:!.) And C 6 to (: 20 represented by R 5 .
  • X and X represent, for example, a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an oxidized atom, or a —0 S0 2 CF 3 group.
  • Specific examples of the compound (VI) represented by the general formula (VI) include, for example, trimethylsilyl chloride, trimethylsilyl bromide, trimethylsilyl chloride, triethylsilyl chloride, triethylsilyl bromide, and triethylsilyl.
  • Trialkyls such as chloride, tert-butyldimethylsilyl chloride, tert-butyldimethylsilylpromide, tertbutyldimethylsilyl chloride, triisopropylsilyl chloride, triisopropylsilyl bromide, and triisopropylsilyl chloride Silyl halide; trialkylsilyl triflate such as trimethylsilyl triflate, triethyl silyl triflate, tert-butyl dimethyl silyl triflate, trisoprovir silyl triflate; triphenyl silyl chloride Triarylsilyl halides, such as triphenylsilyl bromide and triphenylsilyl chloride; triphenylsilyl triflate, etc.
  • Tert-butyldiphenylsilyl chloride tert-butyldiphenylsilyl bromide, tert-butyldiphenylsilyl bromide, methyldiphenylsilyl chloride, methyldiphenylsilyl bromide, methyldiphenylsilyl chloride
  • alkylarylsilyl triflates such as tert-butyldiphenylsilyl triflate and methyldiphenylsilyl triflate.
  • zirconium chloride (IV), zinc chloride ( ⁇ ), zinc bromide ( ⁇ ), iron chloride (m), iron chloride ( ⁇ ), iron bromide (no, iron bromide ( ⁇ ), iron iodide (M), metal halides or triflates such as iron iodide ( ⁇ ), magnesium chloride, magnesium bromide, tin triflate ( ⁇ ); lanthanum ( ⁇ ) triflate, lanthanum ( ⁇ ) chloride, praseodymium ( ⁇ ) triflate Neodymium ( ⁇ ) triflate, samarium ( ⁇ ) triflate, samarium ( ⁇ ) eord, samarium (m) chloride, europium (in) triflate, gadolinium ( ⁇ ) triflate, dysprosium (m) triflate, holmium (In) Triflate, erbium ( ⁇ ) Triflate, ytterbium ( ⁇ ) Triflate, lutechiu Ru can be given or
  • the 4-alkoxycarbonyl-12-oxazolidinone compound represented by the compound (II) is produced according to the method of the above reaction formula (1).
  • the compound () is produced by subjecting a 5-alkoxy-12 (3H) one-year-old xazolone compound represented by the general formula (I) and an aldehyde compound represented by the general formula ( ⁇ ) to a Lewis reaction. It is achieved by reacting in a solvent in the presence of an acid catalyst.
  • the amount of the Lewis acid catalyst to be used is usually 0.001 to 5.0 equivalents per 1 mol of the compound (I), and preferably 0.005 to 0.5 equivalents. Percentage.
  • the solvent to be used is not particularly limited as long as it does not directly participate in the reaction.
  • examples thereof include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, benzene, dichlorobenzene, methylene chloride, and chlorobenzene.
  • Chlorinated hydrocarbons such as dichloroethane, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc., ethers such as dimethyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ester, dimethoxetane, tetrahydrafuran, dioxane, dimethyl formamide, Dimethyl sulfoxide, acetonitrile, propionitrile, water and the like can be mentioned.
  • toluene, xylene, dimethylene chloride, 1,2-dichloroethane, acetonitrile and propionitrile are used.
  • the amount of the solvent used is 100 to 5000 milliliter, preferably 300 to 3000 milliliter, per mole of compound (I).
  • the step of synthesizing the compound (m) is preferably performed under an atmosphere of an inert gas such as nitrogen, argon or helium, and the reaction temperature is preferably ⁇ 100 to 10 ° C. , preferably 180 to 80 ° C.
  • the reaction time is a force s that can be appropriately selected depending on the reaction temperature, the concentration of the charged raw material, the type of the charged raw material, and the like, and is usually 1 to 10 hours. )),
  • the compound ( ⁇ ) power is 0.8 to 3 times mol, preferably 0.9 to 1.2 times mol.
  • a method for obtaining a reaction mixture containing the compound (III) produced in the present invention may be performed by a combination of ordinary washing and separation operations.
  • the salt produced is removed by a filtration operation, and the filtrate is removed by dehydration with a pilot, a drying agent, concentration of an organic solvent, or the like, to obtain a crude compound (II).
  • it may be purified by a known means such as column chromatography and recrystallization.
  • the compound (II) of the present invention can also be obtained by applying the specific production methods described in Examples.
  • the yield of the obtained product in the form of cis / trans was 1Z99, and the ratio of the diastereomer in the form of trans was 7030.
  • the yield based on 3- (1-phenylethyl) -1-5-methoxy-2 (3H) oxazolone was 98%.
  • 3-((R)-1-phenylethyl) 15-methoxy-1 2 (3H) oxazolone ll Omg (0.5 mmo 1) is dissolved in 3 ml of methylene chloride, and the temperature is 78 ° C. After cooling, 53.1 mg (0.5 mmo 1) of benzaldehyde and 0.05 Ml (0.05 mmo 1) of 1.0 M trimethylsilyl triflate in methylene chloride were added, and the mixture was stirred for 1 hour. The reaction was performed.
  • Oxazolone 110 mg (0.5 mmo 1) was dissolved in 3 ml of methylene chloride, and 78. After cooling to C, 53.1 mg (0.5 mm o 1) of benzaldehyde and 1.05 ml (0.05 mmo 1) of 1.OM—BBr methylene chloride solution were added, and 1 TJP
  • the mixture was stirred for an hour to react.
  • the cis / trans form of the product was 1/99 and the diastereomer ratio of the trans form was 75/25.
  • the yield based on 3-((S) -11-phenylethyl) -5-isopropoxy-12 (3H) oxazolone was 97%.
  • the resulting product was found to have a cis / trans form ratio of 7:93, and according to 'H-NMR analysis, the trans form diastereomer ratio was 8614.
  • the yield based on 3- (1-phenylethyl) -1-5-methoxy-2 (3 ⁇ ) oxazolone was 84%.
  • Example 2 1 Synthesis of 3-((R) -1- (1-naphthyl) ethyl) 1-4-methoxycarbonyl-1-5-phenyl-1-oxazolidinone Under argon atmosphere, dissolve 3 _ ((R)-1- (1-naphthyl) ethyl) 1-5-methoxy-1 2 (3H) oxazolone 1 3 5 mg (0.5 mmo 1) in 3 ml of methylene chloride After cooling to 78 ° C, benzaldehyde 53.1 mg (0.5 mm 0 1) and 1.0 M trimethylsilyl triflate methylene chloride solution 0.05 m1 (0.05 mmo 1) were added. The reaction was performed with stirring for 1 hour.
  • the production ratio of 1 s / trans body was 10/90.
  • the yield based on 3-diphenylmethyl-15-methoxy-12 (3H) oxazolone was 70%.
  • the formation ratio of the product in the trans-isomer was 3Z97, and the diastereomer ratio in the trans-isomer was 9278.
  • the yield based on 3- (1- (1-naphthyl) ethyl) -1-5-methoxy-2 (3H) oxazolone was 99%.
  • the yield based on 3-((R) -1 -phenylethyl) _4-methyl-5-methoxy-12 (3H) oxazolone was 44%.
  • 3-benzyl-1-methyl-5-methoxy2 (3H) Oxazolone II Omg (0.5 mm o 1) was dissolved in 3 m 1 of methylene chloride, cooled to 178 ° C, and then 53.1 mg of benzaldehyde (0.5 mm o 1) and 1. 0 M—trimethylsilyl triflate salt dimethylene solution (0.05 ml) (0.05 ml) was added, and the mixture was stirred for 1 hour to react.
  • 3-diphenylmethyl-1-methoxy-2- (3H) oxazolone 14 1 mg (0.5 mmo 1) was dissolved in methylene chloride 2 ml and cooled to 78 ° C.
  • 0.5 ml of 0.5 M methyl glyoxylate methylene chloride solution (44 mg (0.5 mm o 1) as methyl glyoxylate) and 1.0 M trimethylsilyl triflate methylene chloride solution 0.05 ml (0. 05 mm 01) stirred for 1 hour to react. Further, the temperature was raised to room temperature, and the mixture was stirred for 15 hours.
  • 3-diphenylmethyl-5-methoxy-2- (3H) oxa Zolone 14 mg (0.5 mm o 1) was dissolved in 2 ml of methylene chloride salt, cooled to 1 78 ° C, and then 0.5 ml of methylene chloride solution of methylene glyoxylate 1 ml (44 ml) mg (0.5 mmo 1)) and 1.0 M—BF 3 'Et 20 methylene chloride solution 0.05 m 1 (0.05 mmo 1) were added, and the mixture was stirred for 2 hours to carry out a reaction.
  • Example 41 1 Synthesis of 3-diphenylmethyl-14-methoxycarbonyl-15- (3,4-methylenedioxyphenyl) -12-oxazolidinone
  • Example 4 2 Synthesis of 3-((R) -1-(1-naphthyl) ethyl) 1-4-methoxypropanol-5- (3,4 dimethoxyphenyl) 1-2-oxazolidinone 3- (( R) — 1— (1—naphthyl) ethyl) 1—5—Methoxy 2 (3 H) oxazolone 0.135 g (0.5 mm 0 1) and 3,4—dimethoxybenzaldehyde 0.03 g (0.5 mmo 1) was dissolved in 3 ml of methylene chloride and cooled to ⁇ 78 ° C. in an atmosphere of argon, and a solution of trimethylsilyl triflate in 0.1 N—methylene chloride 0.5 ml (0.5 ml) was added. 5mmo1) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes to react.
  • the resulting product had a cis / trans form ratio of 2Z98, and according to ' ⁇ ⁇ -NMR analysis, the diastereomer ratio of the trans form was 86/14.
  • the yield based on 3-((R) -111- (1-naphthyl) ethyl) -1-5-methoxy-2- (3H) oxazolone was 86%.
  • Example 50 Synthesis of 3-((R) -1- (1-naphthyl) ethyl) 1-4-methoxycarbonyl- 5- (3,4-methylenedioxyphenyl) 1-2-oxazolidinone
  • Example 52 3-((S) -1-Phenylethyl) 1-141 (ii) -menthoxycarbonyl) 1-5- (3,4-Methylenedioxyphenyl) 1-2 —Synthesis of lyxazolidinone
  • 3-phenyl-1- 4-methyl-5-methoxy-2- (3H) oxazolone 102.6 mg (0.5 mmo 1) was dissolved in methylene chloride (3 ml) and cooled to -78 ° C. Thereafter, 53.1 mg (0.5 mmo 1) of benzaldehyde and 0.5 ml (0.05 mmo 1) of a 0.1 M solution of trimethylsilyl triflate salt in dimethylene were added, and the mixture was reacted for 1.0 hour. After the temperature was raised to room temperature, 15 ml of an aqueous saturated sodium hydrogen carbonate solution was added, and the mixture was extracted with 15 ml of methylene chloride.
  • the formation ratio of the cis / trans form was determined by ' ⁇ -NMR.
  • the is form: trans form 29: 71, and each was a single diastereomer.
  • the yield based on 3-benzyl-1-5-((1S, 2S, 5R) _5-methyl-2- (1-methyl-1-phenylethyl) cyclohexyloxy) 1-2 (3H) -oxazolone is 98.2% Met.
  • 3-Diphenylmethyl-5 _ ((1S, 2S, 5R) —5-Methyl-1- (1-methyl-1-phenylethyl) cyclohexyloxy) 1-2 (3H) oxoxazolone (0.24 g 0.5 mm 01) and Benzaldehyde (0.053 g; 0.5 mmo 1) were dissolved in 4 ml of methylene chloride, cooled to 178 ° C, and 15 mg of triisopropyl-pyrsilyl triflate was added. In addition, the mixture was reacted by stirring at ⁇ 78 ° C. for 3 hours.
  • Example 5 7 3-diphenylmethyl-1-41 ((1S, 2S, 5R) —5-methyl—2— (1-methyl-1-phenylethyl) cyclohexyloxycarbonyl) -5- (2— Synthesis of phenyl-2-ethyl-2-oxazolidinone
  • 3-diphenylmethyl _ 5— ((1 S, 2 S, 5 R) — 5-methyl-1- (1-methyl-1-phenylethyl) cyclohexyloxy) 1-2 (3 H) -oxoxazolone (0.24 g; 0.5 mm 01) and hydrocinnamaldehyde (0.067 g; 0.5 mmo 1) were dissolved in 4 m 1 of methylene chloride, cooled to 78 ° C, and BF 3 After adding 210 mg, the mixture was stirred and reacted at 178 ° C for 2 hours.
  • reaction solution was charged with 15 ml of a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, and further extracted with 20 ml of Shiridani methylene.
  • the organic layer is washed with a saturated saline solution, dried over anhydrous magnesium sulfate, concentrated under reduced pressure, and 3-diphenylmethyl-1-((1S, 2S, 5R) —5-methyl-2- (1-methyl-1 0.27 g of (1-phenylethyl) cyclohexyloxycarbonyl) -15-isopropyl-12-oxosazolidinone was obtained as white crystals.
  • a 4-alkoxycarbonyl-12-oxazolidinone compound by reacting a 5-alkoxy-12 (3H) one-year-old xazolone compound with an aldehyde compound in the presence of a Lewis acid catalyst. It can. 4- ⁇ Rukokishikarubo two Lu 2 Okisazorijinon compound obtained is used as active pharmaceutical ingredients and intermediates and raw materials beta - hydroxy one alpha - useful as a raw material for amino acid compounds.

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Description

明 細 書
4—アルコキシカルボニル一 2—ォキサゾリジノン化合物の製造法 技術分野
本発明は、 医薬 '農薬の合成原科、 中間体として有用な 4—アルコキシカルボ 二ルー 2—ォキサゾリジノン化合物の製造方法に関するものである。
4—アルコキシカルボ二ルー 2—ォキサゾリジノン化合物は、 例えば、 J o u r n a 1 o f Ame r i c a n C h em i c a l s o c i e t y 1 1 8、 3584— 3590頁、 （1996年） に記載の方法に従つて、 水酸化力リ ゥム水溶液を使用してアルカリ加水分解することにより、 医薬品あるいは医薬品 中間体、 原料として有用な/?—ヒドロキシ一《—アミノ酸化合物に容易に導くこ とができる。 背景技術
従来の 4—アルコキシカルボ二ルー 2—ォキサゾリジノン化合物を製造する方 法としては、 下記に示す方法がある。
①： 日本化学会雑誌、 82, 1 075, ( 1961 ) には、 D， L—トレオニ ンを、 水酸化ナトリウムの存在下、 ホスゲンを作用させ、 さらにメタノール +塩 酸でエステル化することにより、 5—メチル一 4—メ トキシカルボニル一 2—ォ キサゾリ ンを得る方法が開示されている。 この方法は、 原料として、 原料の入手 が困難な /3—ヒドロキシ一 α—アミノ酸化合物を使用している点で工業的に満足 する製法ではない。
②： 日本化学会雑誌、 82， 1075, ( 196 1 ) には、 Ν— C b ζ— D, L—ァロトレオニンを、 水酸化ナトリウムの存在下、 閉環させ、 メタノール +塩 酸でエステル化することによって 5—メチル一 4—メ トキシカルボ二ルー 2—才 キサゾリジノンを得る方法が開示されている。 この方法も、 原料として、 原料の 入手が困難な 一ヒドロキシ一《—アミノ酸化合物を使用している点で工業的に 満足する製法ではない。 ©'. J o u r n a l o f O r g a n i c C h em i s t r y、 44, 3 96 7, ( 1 9 79) には N—カルボべンジルォキシグリシンェチルエステルを、 リチウムジイソプロピルアミ ドの存在下、 ベンズアルデヒ ドと反応させることに より 5—フエ二ルー 4—メ トキシカルボニル一 2—ォキサゾリジノンを得る方法 が開示されている。 しかし、 この方法は、 工業的に取り扱いが困難なリチウムジ イソプロピルアミ ドを用いなければならない点で、 工業的に満足する製法ではな レ、。
④： T e t r a h e d r o n L e t t e r s, 29, 2 069, ( 1 988) には 3— （ 1一メチル一 3—ペンテニル） _ 2， 3—エポキシ一 1一プロパノー ルとメチルイソシァネートとを反応させて、 4—ヒドロキシメチルォキサゾリジ ンを得、 さらにクロム化合物で酸化し、 ジァゾメタンでエステル化することによ り、 3—メチルー 5— ( 1—メチル _ 3—ペンテニル） 一4ーメ トキシカルボ二 ルー 2—ォキサゾリジノンを得る方法が開示されている。 しかしこの方法は、 ェ 程が長く、 工業的に使用することが困難なクロム化合物や、 ジァゾメタンを用い なければならない点で、 工業的に満足する製法ではない。
従って、 上記公知の製法①、 ②、 ③及び④は、 原料の入手が困難であること、 工業的に使用することが困難な原料を用いなければならないこと、 工程が長く収 率が低いことなどの問題があることから、 これらの問題を克服できる 4—アルコ キシカルボニル— 2—ォキサゾリジノン化合物の新たな製造法が求められていた。 本発明は、 医薬 ·農薬の合成原料、 中間体として有用な新規な 4一アルコキシ カルボ二ルー 2—ォキサゾリジノン化合物の製造方法を提供することを目的とす
発明の開示
本発明者らは、 前記の課題を解決するために検討した結果、 文献未記載の 5— アルコキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン化合物とアルデヒ ド化合物とを、 ルイス 酸触媒存在下、 反応させることにより容易に高収率で 4一アルコキシカルボニル _ 2—ォキサゾリジノン化合物を得ることができることを見出し、 本発明を完成 した。 すなわち、 本発明は、 次の通りである。 即ち、 本発明は、 一般式 （I)
Figure imgf000005_0001
式中、 R1 は水素原子、 置換されていてもよい Ci Cujのアルキル基、 置換 されていてもよい C3〜C10のシクロアルキル基又は置換されていてもよい C2 〜C1()のアルケニル基又は置換されていてもよいフエ二ル基を示し、 R2 は水素原子、 置換されていてもよい C Cwのアルキル基、 置換されていて もよいフエニル基又は置換されていない c2 〜c1()のアルケニル基を示し、
R3 は置換されていてもよい（：广(：10のアルキル基、 置換されていてもよい C3 〜C10のシクロアルキル基、 置換されていてもよい C2 〜C10のアルケニ ル基 （但し、 2—アルケニル基を除く） 、 又は置換されていてもよいフエ二 ル基を示す
で表わされる 5—アルコキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン化合物と、
一般式 （Π) ：
R4CHO (Π)
式中、 R4 は水素原子、 置換されていてもよい ( 广 。のアルキル基、 置換 されていてもよい c2〜c20のアルケニル基、 置換されていてもょレ、 c3〜c10 のシクロアルキル基、置換されていてもよい c2〜c20のアルキニル基、置換 されていてもよい C6〜C20のァリール基、 置換されていてもよい N、 0およ び Sから選ばれるヘテロ原子を 1もしくは 2個含む 5乃至 6員の複素芳香 環基、 置換されていてもよい 〜C6のアルコキシカルボニル基、 ァセチル 基又はベンゾィル基を示す，
で表されるアルデヒド化合物とを、 ルイス酸触媒存在下、 反応させることを特徴 とする
一般式 （m) ：
Figure imgf000006_0001
式中、 R1 、 R2 、 R3及び R4 は前記と同じ意味を有する、
で表される 4—アルコキシカルボ二ルー 2—ォキサゾリジノン化合物の製造方法 に関するものである。 発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明について詳細に説明する。
本発明の製造方法は、 例えば、 下記の反応式 （I)
反応式 (I)
Figure imgf000006_0002
式中、 R1 、 R2 、 R3及び R4は前記と同じ意味を有する
で表すことができる。
本発明において、 一般式 （I) で表わされる化合物 （I) における R1 は、 水 素原子、 置換されていてもよい C i C!oのアルキル基、 置換されていてもよい C 3〜C10のシクロアルキル基、置換されていてもよい C2〜C1()のアルケニル基又は 置換されていてもよいフヱニル基を示す。
R 1 の示す 「置換されていてもよい C！〜じ。のアルキル基」 とは、 （1 ) 「置 換基を有しない C i C !oのアルキル基」 力、、 又は （2 ) 「置換基を有する C i〜 C 10のアルキル基」 を意味する。
( 1 ) の 「置換基を有しない ( 广 。のアルキル基」 としては、 例えば、 メチ ル基、 ェチル基、 プロピル基 （異性体を含む） 、 ブチル基 （各異性体を含む） 、 ペンチル基 （各異性体を含む） 、 へキシル基 （各異性体を含む） 、 ヘプチル基 （各 異性体を含む） 、 ォクチル基 （各異性体を含む） 、 ノニル基 （各異性体を含む） 又はデシル基 （各異性体を含む） などの、 （：,〜（：。の直鎖状または分枝状のアル キル基を挙げることができる。
( 2 ) の 「置換基を有する C のアルキル基」 の置換基としては、例えば、 シァノ基、 ベンジルォキシ基、 フタルイミノ基、 ァシルァミノ基、 直鎖状または 分枝状の C ,〜 C 6のアルキル基部分を持つアルコキシカルボニル基、 同一または 異なった、 直鎖状または分枝状の (^〜（^のアルキル基部分を持つトリアルキル シリルォキシ基、 ハロゲン原子、 置換されていてもよいァリ—ル基、 置換されて いてもよい 「N、 0および Sから選ばれるヘテロ原子を 1 もしくは 2個含む 5員 もしくは 6員の複素芳香環基 （以下、 「複素芳香環基」 ともいう） 」 又は置換さ れていてもよい 〜C 1()のアルコキシ基を挙げることができる。 なお、 置換基の 数および位置は限定されない。
( 2 ) の 「置換基を有する 〜C 1 0のアルキル基」 の置換基としての 「置換 されていてもよいァリール基」 とは、 （2— 1 ) 「置換基を有しないァリール基」 、 又は （2— 2 ) 「置換基を有するァリール基」 を意味する。
( 2— 1 ) の 「置換基を有しないァリール基」 としては、 例えば、 フエニル基、 ナフチル基、 アントリル基又はフエナントリル基などを挙げることができる。
( 2— 2 ) の 「置換基を有するァリール基」 の置換基としては、 例えば、 ニト 口基； シァノ基；ベンジルォキシ基；直鎖状または分枝状の〇,〜(：6のアルキル 基部分を持つアルコキシカルボニル基；同一または異なった、 直鎖状または分枝 状の (：,〜(： 6のアルキル基部分を持つトリアルキルシリルォキシ基；ハロゲン原 子；直鎖もしくは分枝状の 〜C 6のアルキル基；又は直鎖もしくは分枝状の (^〜（：6のアルコキシ基を挙げることができる。 なお、 置換基の数および位置は 限定されない。
(2) の 「置換基を有する（：！〜（： 10のアルキル基」 の置換基としての 「置換さ れていてもよい複素芳香環基」 とは、 （2— 3) 「置換基を有しない複素芳香環 基」 力、、 又は （2— 4) 「置換基を有する複素芳香環基」 を意味する。
(2 - 3) の 「置換基を有しない複素芳香環基」 の複素芳香環基としては、 例 えば、 フリル基、 チェニル基、 ピロリル基、 2 H—ピロリル基、 ォキサゾリル基、 イソォキサゾリル基、 チァゾリル基、 イソチアゾリル基、 イミダゾリル基、 ピラ ゾリル基、 ビラ二ル基、 ピリジル基、 ピリダジル基、 ピリミジル基又はピラジ二 ル基などを挙げることができる。
(2 -4) の 「置換基を有する複素芳香環基」 の置換基としては、 例えば、 二 ト口基； シァノ基；ベンジルォキシ基；直鎖状または分枝状の 〜C6のアルキ ル基部分を持つアルコキシカルボニル基；同一または異なった、 直鎖状または分 枝状の C! Csのアルキル基部分を持つトリアルキルシリルォキシ基；ハロゲン 原子；直鎖もしくは分枝状の 〜じ 6のアルキル基；直鎖もしくは分枝状の 〜 c6のアルコキシ基を挙げることができる。 なお、 置換基の数および位置は限定さ れない。
(2 - 5) の 「置換基を有しない C, 〜C 10のアルコキシ基」 としては、 例え ば、 メ トキシ基、 エトキシ基、 プロポキシ基 （各異性体を含む） 、 ブトキシ基 （各 異性体を含む） 、 ペンチルォキシ基 （各異性体を含む） 、 へキシルォキシ基 （各 異性体を含む） 、 ヘプチルォキシ基 （各異性体を含む） 、 ォクチルォキシ基 （各 異性体を含む） 、 ノニルォキシ基 （各異性体を含む） 又はデシルォキシ基 （各異 性体を含む） などの、 直鎖もしくは分枝状の d〜d。のアルコキシ基を挙げる こと力 sできる。
(2-6) の 「置換基を有する Ci C!oのアルコキシ基」 の置換基としては、 例えば、 ベンジルォキシ基； フエノキシ基； メ トキシェトキシ基；同一または異 なった、 直鎖状または分枝状の C Ceのアルキル基部分を持つトリアルキルシ リルォキシ基又は直鎖もしくは分枝状の C ,〜 C 6のアルコキシ基を挙げることが できる。 なお、 置換基の数および位置は特に限定されない。 一般式 （I) で表わされる化合物 （I) における R1の示す 「置換されていても よいシクロアルキル基」 は、 （3) 「置換基を有しない C3〜C 10のシクロァルキ ル基」 か、 又は （4) 「置換基を有する C3〜C 10のシクロアルキル基」 と同じ意 味を有する。
(3) の 「置換基を有しない C3〜C 10のシクロアルキル基」 としては、 例えば、 シクロプロピル基、 シクロブチル基、 シクロペンチル基、 シクロへキシル基、 シ クロへプチル基、 シクロォクチル基、 シクロノニル基、 シクロデシル基、 ボル二 ル基又はァダマンチル基などの、 C 3〜 C i 0のシクロアルキル基を挙げることがで きる。
(4) の 「置換基を有する C3〜C 10のシクロアルキル基」 の置換基としては、 例えば、 シァノ基；ベンジルォキシ基；ベンゾスルホニル基；ァシルァミノ基； 直鎖状または分枝状の C 〜 C 6のアルキル基部分を持つアルコキシカルボニル 基；同一または異なった、 直鎖状または分枝状の c ,〜ο:6のアルキル基部分を持 つトリアルキルシリルォキシ基；ハロゲン原子；直鎖もしくは分枝状の C Ce のアルキル基；置換されていてもよいァリ—ル基又は直鎖もしくは分枝状の c6のアルコキシ基を挙げることができる。 なお、 置換基の数および位置は特に限 定されない。
一般式 （I) で表わされる化合物 （I) における R1の示す 「置換されていても よい C2〜C 10のアルケニル基」 は、 （5) 「置換基を有しない C2〜C 10のアル ケニル基」 力、、 又は （6) 「置換基を有する C2〜C10のアルケニル基」 と同じ意 味を有する。
(5) の 「置換基を有しない C2〜C 10のアルケニル基」 としては、 例えば、 ェ チニル基、 プロぺニル基 （各異性体を含む） 、 ブテニル基 （各異性体を含む） 、 ペンテニル基 （各異性体を含む） 、 へキセニル基 （各異性体を含む） 、 ヘプテニ ル基 （各異性体を含む） 、 ォクテニル基 （各異性体を含む） 、 ノネニル基 （各異 性体を含む） 又はデセニル基 （各異性体を含む） などの、 直鎖状もしくは分枝状 の C2〜C1 ()のアルケニル基を挙げることができる。
(6) の 「置換基を有する C2〜C10のアルケニル基」 の置換基としては、例え ば、 シァノ基；ベンジルォキシ基；直鎖状または分枝状の C i Ceのアルキル基 部分を持つアルコキシカルボニル基；同一または異なった、 直鎖状または分枝状 の C のアルキル基部分を持つトリアルキルシリルォキシ基；ハロゲン原 子；置換されていてもよいァリ—ル基；置換されていてもよい複素芳香環基又は 直鎖もしくは分枝状の C i C gのアルコキシ基を挙げることができる。 なお、 置 換基の数および位置は特に限定されない。
一般式 （ I ) で表される化合物 （ I ) における R 1の示す 「置換されていてもよ いフエニル基」 とは、 フエニル基又は 「置換基を有するフエニル基」 を意味する。 「置換基を有するフエニル基」 の置換基としては、 例えば、 （^〜（^の直鎖状ま たは分枝状のアルキル基、 ニトロ基、 ベンジルォキシ基、 ハロゲン原子、 ァシル アミノ基、直鎖状または分枝状の C i〜 C 6のアルコキシ基を挙げることができる。 なお、 置換基の数及び位置は限定されない。
このような R 1の具体例としては、 例えば、 水素原子、 メチル基、 ェチル基、 プ 口ピル基、 イソプロピル基、 ブチル基、 イソブチル基、 s e c—ブチル基、 t e r t 一ブチル基、 ペンチル基、 へキシル基、 ヘプチル基、 ォクチル基、 ノニル基、 デシル基、 2—シァノエチル基、 1 —メ トキシカルボニルェチル基、 2—トリメ チルシリルォキシェチル基、 2 _ベンジルォキシェチル基、 2 _トリフルォロェ チル基、 2—クロ口ェチル基、 ベンジル基、 p—二トロべンジル基、 シァノベン ジル基、 p—メ トキシカルボニルベンジル基、 p —トリメチルシリルォキシベン ジル基、 p—べンジルォキシベンジル基、 3， 4—ジフルォ口べンジル基、 p— メチルベンジル基、 0 —メチルベンジル基、 3， 4—ジクロロべンジル基、 0 - フルォ口べンジル基、 p —フルォ口べンジル基、 2， 4—ジメチルベンジル基、 p —イソプロピルべンジル基、 p — t e r t —ブチルベンジル基、 0—メ トキシ ベンジル基、 m—メ トキシベンジル基、 p—メ トキシベンジル基、 3， 4—ジメ トキシベンジル基、 2， 4ージメ トキシベンジル基、 2—エトキシベンジル基、 p—イソプロポキシベンジル基、 p— t e r t —ブトキシベンジル基、 1 _フエ ニルェチル基、 1一 （p—ニトロフエニル） ェチル基、 1一 （4 一ブロモフエ二 ル） ェチル基、 1一 （4—フルオロフェニル） ェチル基、 1一 （p—メ トキシフ ェニル） ェチル基、 1一 （4—クロ口フエニル） ェチル基、 1一 （ 1 一ナフチル） ェチル基、 1— ( 2—ナフチル） ェチル基、 ジフエ二ルメチル基、 ジ （4—クロ 口フエニル） メチル基、 ジ （4—メ トキシフエニル） メチル基、 トリチル基、 1 一 （2—フヱナン トリル） ェチル基、 1一 （9一アン トラニル） ェチル基、 フル フリル基、 2—チェニルメチル基、 2 _ピリジルメチル基、 3 _ピリジルメチル 基、 イソチアゾリルメチル基、 2—ピラゾリルェチル基、 （2 H—ピロリル） 基、 ( N—メチルピロリル） メチル基、 イソォキサゾリルメチル基、 2—メ トキシェ チル基、 2—エトキシェチル基、 2— ( n—プロボキシ） ェチル基、 2—イソプ 口ポキシェチル基、 3— ( n—ブトキシ） プロピル基、 2— （s e c—ブトキシ） ェチル基、 2— ( t e r t—ブトキシ） ェチル基、 2—へキシルォキシェチル基、 2—メ トキシー n—ブチル基、 2 - ( t e r t —ブトキシ） 一 1， 1—ジメチル —ェチル基、 2—ォクチルォキシェチル基、 2—ノニルォキシェチル基、 2—へ プチルォキシェチル基、 2—メ トキシェトキシェチル基、 2 _ (ベンジルォキシ メ トキシ） 一ェチル基、 2— ( 2—メ トキシェトキシメ トキシ） ェチル基、 2 - (エトキシメ トキシ） 一ェチル基、 2— (フエノキシメ トキシ） 一ェチル基、 2 —ホルムアミノエチル基、 2—ァセトアミノエチル基、 2—クロロアセトァミノ ェチル基、 2—ベンゾィルアミノエチル基、 2—フエニルァセトアミノエチル基、 2—メ トキシカルボニルァミノエチル基、 2—ェトキシカルボニルァミノエチル 基、 2—ァリルォキシカルボニルアミノエチル基、 2— t e r t —ブトキシカル ボニルアミノエチル基、 2 _ベンジルォキシカルボニルアミノエチル基、 ェチニ ル基、 プロぺニル基、 ブテニル基、 ペンテニル基、 へキセニル基、 ヘプテニル基、 ォクテニル基、 ノネニル基、 デセニル基、 2—シァノエチニル基、 1—メ トキシ カルボ二ルー 2—プロぺニル基、 1 —トリメチルシリルォキシメチルー 2—プロ ぺニル基、 1—ベンジルォキシメチルー 2—プロぺニル基、 シンナミル基、 2 - メ トキシメチルー 2—プロぺニル基、 2—ェトキシメチル一 1一プロぺニル基、 シクロプロピル基、 シクロブチル基、 シクロペンチル基、 シクロへキシル基、 シ クロへプチル基、 シクロォクチル基、 シクロノニル基、 シクロデシル基、 1—メ トキシカルボニルシクロプロピル基、 2—フエニルシクロプロピル基、 2 _フル ォロシクロプロピル基、 2—クロロシクロプロピル基、 2—べンジルォキシシク 口ペンチル基、 1ーシァノシクロペンチル基、 2—ノルボルニル基、 ボルニル基、 1ーァダマンチル基、 4—メチルシクロへキシル基、 2—メチルシクロへキシル 基、 2， 3—ジメチルシクロへキシル基、 1 —メ トキシカルボニルシクロへキシ ル基、 2—メ トキシシクロへキシル基、 2— トリメチルシリルォキシシクロへキ シル基、 2 _ベンジルォキシシクロへキシル基、 4 _ベンジルォキシシクロへキ シル基、 4— t e r t —プチルシクロへキシル基、 メンチル基、 8—フエニルメ ンチル基、 フエニル基、 2—メチルフエニル基、 3—メチルフエニル基、 4ーメ チルフエニル基、 4一 t e r t—ブチルフエニル基、 3， 4ージメチルフエニル 基、 4—ェチルフエニル基、 2—クロ口フエ二ル基、 3—クロ口フエ二ル基、 4 —クロ口フエニル基、 2—フルオロフェニル基、 3—フルオロフェニル基、 4— フルオロフェニル基、 2—ブロモフエニル基、 3—ブロモフエニル基、 4—ブロ モフエ二ル基、 2—ョ一ドフエニル基、 4一ョードフエニル基、 4—メ トキシフ ェニル基、 3， 4ージメ トキシフエ二ル基、 3 , 4—ジベンジルォキシフエニル 基、 4—ベンジルォキシフエニル基、 2—ベンジルォキシフエニル基、 2—メ ト キシフエニル基、 3—メ トキシフエ二ル基及び 4一二トロフエ二ル基を挙げるこ とが'できる。
本発明において、 一般式 （I) で表わされる化合物 （I) における R2は、 水素 原子、置換されていてもよい C i〜C 1 Qのアルキル基、置換されていてもよいフエ ニル基又は置換されていない c2〜c 1 ()のアルケニル基を示す。
R2の示す 「置換されていてもよい C i〜C 10のアルキル基」 とは、 （7) 「置 換基を有しない Ci Cioのアルキル基」 カヽ 又は （8) 「置換基を有する Ci〜 Ci。のアルキル基」 を意味する。
(7) の 「置換基を有しない C i C!oのアルキル基」 としては、 前記した 〜 C！。の直鎖状または分枝状のアルキル基を挙げることができる。
(8) の 「置換基を有する C 〜。！。のアルキル基」 の置換基としては、 例えば、 フタルイミ ド基；ベンジルォキシ基；直鎖状または分枝状の C ! Csのアルキル 基部分を持つアルコキシカルボニル基； 同一または異なった、 直鎖状または分枝 状の C i〜C6のアルキル基部分を持つトリアルキルシリルォキシ基；ハロゲン原 子；置換されていてもよいァリール基；置換されていてもよい複素芳香環基； C！ 〜C i 0のアルコキシ基； ァシルァミノ基； C 10のアルキルチオ基又はベン ジルチオ基を挙げることができる。 なお、 置換基の数および位置は限定されない。 (8 ) の 「置換基を有する
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のアルキル基」 の置換基としての 「置換さ れていてもよいァリール基」 とは、 （8— 1) 「置換基を有しないァリール基」 力、、 又は （8— 2) 「置換基を有するァリール基」 を意味する。
(8— 1) の 「置換基を有しないァリール基」 としては、 例えば、 フヱニル基 又はナフチル基を挙げることができる。
(8 -2) の 「置換基を有するァリール基」 の置換基としては、 例えば、 Ci〜
C 6の直鎖状または分枝状のアルキル基；ニトロ基；ベンジルォキシ基；シァノ基； 直鎖状または分枝状の C i〜 C 6のアルキル基部分を持つアルコキシカルボ二ル 基；同一または異なった、 直鎖状または分枝状の C i Csのアルキル基部分を持 つトリアルコキルシリルォキシ基；ハロゲン原子； ァシルァミノ基又は直鎖状ま たは分枝状の C のアルコキシ基を挙げることができる。 なお、 置換基の数 および位置は限定されない。
(8) の 「置換基を有するじ 〜。,。のアルキル基」 の置換基としての 「置換さ れていてもよい複素芳香環基」 とは、 （8— 3) 「置換基を有しない複素芳香環 基」 、 又は （8— 4) 「置換基を有する複素芳香環基」 を意味する。
(8 -3) の 「置換基を有しない複素芳香環基」 としては、 例えば、 フリル基、 チェニル基、 ォキサゾリル基、 イソォキサゾリル基、 チァゾリル基、 ィンドリル 基又はイミダゾリル基などを挙げることができる。
(8—4) の 「置換基を有する複素芳香環基」 の複素芳香環基は、 （8— 3) の 「置換基を有しない複素芳香環基」 と同じ意味を有する。 （8— 4) の 「置換 基を有する複素芳香環基」 の置換基としては、 例えば、 直鎖もしくは分枝状の 〜 C！。のアルキル基、 ハロゲン原子又は直鎖状または分枝状の C 〜 C 6のアルキ ル基部分を持つアルコキシカルボ二ル基を挙げることができる。 なお、 置換基の 数および位置は限定されない。
本発明において、 一般式 （I) で表わされる化合物 （I) における R2の示す、 「置換されていてもよいフエニル基」 とは、 フエニル基又は 「置換基を有するフ ェニル基」 を意味する。 「置換基を有するフエニル基」 の置換基としては、 例え ば、 ベンジルォキシ基；ハロゲン原子；直鎖もしくは分枝状の C i Cgのアルコ キシ基；ァシルアミノ基又は同一または異なった、 直鎖状または分枝状の Cj〜 C 6のアルキル基部分を持つトリアルキルシリルォキシ基などを挙げることがで きる。 なお、 置換基の数および位置は限定されない。
本発明において、 一般式 （ I ) で表わされる化合物 ( I ) における R 2の示す、 「置換されていない C 2〜C 1 0のアルケニル基」 とは、 例えば、 直鎖状もしくは分 枝状の C 2〜C 1 0のアルケニル基を挙げることができる。
このような R2の具体例としては、 例えば、 水素原子、 メチル基、 ェチル基、 プ 口ピル基、 イソプロピル基、 ブチル基、 イソブチル基、 s e c—ブチル基、 t e r t 一ブチル基、 ペンチル基、 へキシル基、 ヘプチル基、 ォクチル基、 ノニル基、 デシル基、 2—メ トキシカルボニルェチル基、 3—メ トキシカルボニルプロピル 基、 4—メ トキシカルボニルブチル基、 1—トリメチルシリルォキシェチル基、 ベンジルォキシメチル基、 1 一べンジルォキシェチル基、 1 一ベンジルォキシプ 口ピル基、 1—ベンジルォキシブチル基、 メ トキシメチル基、 1 一 t e r t—ブ トキシェチル基、 1 一エトキシェチル基、 1—へキシルォキシェチル基、 イソプ 口ポキシメチル基、 1 _ n—プロポキシメチル基、 2—メチルチオェチル基、 2 —ェチルチオェチル基、 メチルチオメチル基、 ブチルチオメチル基、 t e r t— ブチルチオメチル基、 ベンジルチオメチル基、 2— トリフルォロェチル基、 トリ フルォロメチル基、 2—クロ口ェチル基、 フルォロメチル基、 1 一フルォロブチ ル基、 1 —フルオロー 1 —フエニルメチル基、 1—フルォロェチル基、 2—ァセ チルアミノエチル基、 3—ベンゾィルァミノプロピル基、 4一ホルミルアミノブ チル基、 4—ァセチルアミノブチル基、 4—クロロアセトアミノブチル基、 4— フエニルァセトアミノブチル基、 4—メ トキシカルボニルアミノブチル基、 4— ェトキシカルボニルァミノブチル基、 4ーァリルォキシカルボニルァミノブチル 基、 4— t e r t —ブチルォキシカルボニルアミノブチル基、 4一べンジルォキ シカルボニルアミノブチル基、 4一フタロイルァミノブチル基、 ベンジル基、 4 —ニトロべンジル基、 4—シァノベンジル基、 4—メ トキシカルボニルベンジル 基、 4— トリメチルシリルォキシベンジル基、 4—ベンジルォキシベンジル基、 3 , 4—ジクロロべンジル基、 2—フルォ口べンジル基、 4—フルォロベンジル 基、 3， 4—ジフルォ口べンジル基、 4一メチルベンジル基、 2—メチルベンジ ル基、 2 , 4ージメチルベンジル基、 4 _イソプロピルべンジル基、 4— t e r t—ブチルベンジル基、 2—メ トキシベンジル基、 3—メ トキシベンジル基、 4 —メ トキシベンジル基、 3， 4—ジメ トキシベンジル基、 2， 4—ジメ トキシべ ンジル基、 2—エトキシベンジル基、 4—イソプロポキシベンジル基、 4— t e r t ーブトキシベンジル基、 4— t e r t—ブトキシカルボニルァミノベンジル 基、 4—ァセチルァミノべンジル基、 2—べンジルォキシカルボニルァミノベン ジル基、 1—フヱニルェチル基、 1— (4一二トロフエニル） ェチル基、 1一 （4 一ブロモフエニル） ェチル基、 1— (4一フルオロフェニル） ェチル基、 1 - (4 —メ トキシフエ二ル） ェチル基、 1— (4—クロ口フエニル） ェチル基、 1— (1 —ナフチル） ェチル基、 1 — (2—ナフチル） ェチル基、 ジフエニルメチル基、 ジ （4一クロ口フエニル） メチル基、 ジ （4—メ トキシフエ二ル） メチル基、 ト リチル基、 2—フエニルェチル基、 2— （4—ベンジルォキシフエニル） ェチル 基、 フルフリル基、 チェニルメチル基、 チアゾリルメチル基、 イソォキサゾリル メチル基、 ォキサゾリルメチル基、 （4一 N—メチルイミダゾリル） メチル基、 N—メチルイン ドリルメチル基、 フエニル基、 2—フルオロフェニル基、 4—ベ ンジルォキシフエニル基、 4—メ トキシフエ二ル基、 2—クロ口フエ二ル基、 4 —ブロモフエニル基、 4ーァセトァミノフエニル基、 4—ベンジルォキシカルボ ニルァミノフエニル基、 ェチニル基、 1—プロぺニル基、 2—プロぺニル基、 1 —ブテニル基、 2—ブテニル基、 3—ブテニル基、 1 一ペンテニル基、 2—ペン テニル基、 へキセニル基、 ヘプテニル基、 ォクテニル基、 ノネニル基又はデセニ ル基を挙げることができる。
本発明において、 一般式 （I) で表わされる化合物 （I) における R3は、 置換 されていてもよい C 10のアルキル基、 置換されていてもよい C3〜C 10のシ クロアルキル基、置換されていてもよい C2〜C 10のアルケニル基 （但し、 2—ァ ルケ二ル基を除く） 又は置換されていてもよいフヱニル基を示す。
一般式 （I) で表わされる化合物 （I) における R3の示す、 「置換されていて もよい C i〜C 10のアルキル基」 とは、 （9) 「置換基を有しない C丄〜じ 10のァ ルキル基」 、 又は （1 0) 「置換基を有する Ci Cioのアルキル基」 を意味す る。
(9) の 「置換基を有しない C >〜C 10のアルキル基」 としては、 例えば、 前記 した C ,〜 C , oの直鎖状または分枝状のアルキル基を挙げることができる。
(1 0) の 「置換基を有する C！〜じ 10のアルキル基」 の置換基としては、 例え ば、 ベンジルォキシ基；直鎖状または分枝状の c i〜C6のアルキル基部分を持つ アルコキシカルボニル基； ァシルァミノ基；ハロゲン原子； 『 （8— 1) 、 (8 —2) に記載』 の 「置換されていてもよいァリール基」 又は 『 （2— 5) に記載』 の C i〜C 10のアルコキシ基を挙げることができる。
一般式 （I) で表わされる化合物 （I) における R3の示す、 「置換されていて もよい C3〜C 10のシクロアルキル基」 とは、 （1 1) 「置換基を有しない C3〜 C10のシクロアルキル基」 か又は （1 2) 「置換基を有する C3〜C10のシクロ アルキル基」 を意味する。
(1 1) の 「置換基を有しない C3〜C 10のシクロアルキル基」 は、 （3) に記 載した「置換基を有しない C3〜C1 ()のシクロアルキル基」と同じ意味を有し、 （1 2) の「置換基を有する C3〜C10のシクロアルキル基」は、 （4) に記載した「置 換基を有する C3〜C 10のシクロアルキル基」 と同じ意味を有する。
一般式 （I) で表わされる化合物 （I) における R3の示す、 「置換されていて もよい C2〜C 10のアルケニル基 （但し、 2—アルケニル基を除く） 」 とは、 (1 3) 「置換基を有しない C2〜C 10のアルケニル基 （但し、 2—アルケニル基 を除く） 」 か又は （1 4) 「置換基を有する C2〜C10のアルケニル基 （但し、 2 一アルケニル基を除く） 」 を意味する。
( 1 3) の 「置換基を有しない C2〜C！。のアルケニル基 （但し、 2—ァルケ二 ル基を除く） 」 としては、 例えば、 直鎖状もしくは分枝状の c2〜c10のァルケ二 ル基 （但し、 2—アルケニル基を除く） を挙げることができる。
なお、 R3として 2—アルケニル基を分子内に含む一般式 （Π) で表わされる化 合物を使用して、 後記の本発明の反応式 （1) で表わされる製法を行った場合、 化合物 （I) で表わされる化合物を得ることはできない。
(1 4) の 「置換基を有する C2〜C 10のアルケニル基 （但し、 2—アルケニル 基を除く） 」 の置換基としては、 例えば、 ベンジルォキシ基；直鎖状または分枝 状の C !〜C6のアルキル基部分を持つアルコキシカルボニル基； ァシルァミノ 基；ハロゲン原子； 『 （8— 1) 、 (8 -2) に記載』 の置換されていてもよい ァリール基又は 『 （2— 5 ) に記載』 の C 〜（： 1 0のアルコキシ基を挙げることが できる。 なお、 置換基の数および位置は限定されない。
一般式 （ I ) で表される化合物 （ I ) における R 3の示す 「置換されていてもよ いフエニル基」 とは、 フエニル基又は 「置換基を有するフエニル基」 を意味する。 「置換基を有するフエニル基」 の置換基としては、 例えば、 （^〜（：6の直鎖状ま たは分枝状のアルキル基、 ニトロ基、 前記のハロゲン原子を挙げることができる。 このような R3の具体例としては、 例えば、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 ィソプロピル基、 ブチル基、 ィソブチル基、 s e c—ブチル基、 t e r t—ブチ ル基、 ペンチル基、 へキシル基、 ヘプチル基、 ォクチル基、 ノニル基、 デシル基、 2—メ トキシカルボニルェチル基、 3—メ トキシカルボニルプロピル基、 4—メ トキシカルボニルブチル基、 1一べンジルォキシェチル基、 3—ベンジルォキシ プロピル基、 3—ベンジルォキシイソブチル基、 2—メ トキシェチル基、 2— t e r t —ブトキシェチル基、 2—エトキシェチル基、 2—へキシルォキシェチル 基、 2—イソプロポキシェチル基、 3— n—プロポキシプロピル基、 2—トリフ ルォロェチル基、 トリフルォロメチル基、 2—クロ口ェチル基、 フルォロメチル 基、 2—フルォロェチル基、 1—フルォロブチル基、 1 一フルォロ一 1 一フエ二 ルメチル基、 1 一フルォロェチル基、 2—ブロモェチル基、 2—ァセチルァミノ ェチル基、 3—べンゾィルァミノプロピル基、 4一ホルミルアミノブチル基、 4 —ァセチルアミノブチル基、 4一クロロアセトアミノブチル基、 4—フエニルァ セトアミノブチル基、 4—メ トキシカルボニルアミノブチル基、 4—エトキシカ ルボニルアミノブチル基、 4—ァリルォキシカルボニルアミノブチル基、 4— t e r t —ブチルォキシカルボニルアミノブチル基、 4—ベンジルォキシカルボ二 ルァミノブチル基、 ベンジル基、 4—ニトロべンジル基、 4—トリメチルシリル ォキシベンジル基、 4一べンジルォキシベンジル基、 3， 4ージクロ口べンジル 基、 2—フルォ口べンジル基、 4—フルォ口べンジル基、 3， 4—ジフルォ口べ ンジル基、 4一メチルベンジル基、 2—メチルベンジル基、 2， 4—ジメチルべ ンジル基、 4一イソプロピルべンジル基、 4— t e r t —ブチルベンジル基、 2 —メ トキシベンジル基、 3—メ トキシベンジル基、 4ーメ トキシベンジル基、 3， 4—ジメ トキシベンジル基、 2， 4ージメ トキシベンジル基、 2—エトキシベン ジル基、 4—イソプロポキシベンジル基、 4— t e r t —ブトキシベンジル基、 4 - t e r t—ブトキシカルボニルァミノベンジル基、 4—ァセチルァミノベン ジル基、 2—ベンジルォキシカルボニルベンジル基、 1 一フエニルェチル基、 1 ― ( 4—ニトロフヱニル） ェチル基、 1 一 （4—ブロモフエニル） ェチル基、 1 一 （4—フルオロフェニル） ェチル基、 1 — ( 4—メ トキシフエ二ル） ェチル基、
1— ( 4一クロ口フエニル） ェチル基、 1— ( 1 一ナフチル） ェチル基、 1— ( 2 —ナフチル） ェチル基、 ジフエ二ルメチル基、 ジ （4一クロ口フエニル） メチル 基、 ジ （4—メ トキシフエ二ル） メチル基、 トリチル基、 2—フエニルェチル基、 2— （4—ベンジルォキシフエニル） ェチル基、 ェチニル基、 1 —プロぺニル基、 1ーブテニル基、 3—ブテニル基、 1 一ペンテニル基、 3—ペンテニル基、 4— ペンテニル基、 5—へキセニル基、 6—ヘプテニル基、 7—ォクテニル基、 8— ノニル基、 9—デセニル基、 3—メ トキシカルボニル一 1 —プロぺニル基、 1— メ トキシカルボニルェチニル基、 2 _ベンジルォキシメチルェチニル基、 3—ク ロロ一 4—ペンテニル基、 4一クロ口一 3—ブテニル基、 4一フエ二ルー 3—ブ テニル基、 5—フエニル一 4一ペンテニル基、 5—ベンジルォキシ一 3—ブテニ ル基、 6—メ トキシー 3—へキセニル基、 シクロプロピル基、 シクロブチル基、 シクロペンチル基、 シクロへキシル基、 シクロへプチル基、 シクロォクチル基、 シクロノニル基、 シクロデシル基、 1 ーメ トキシカルボニルシクロプロピル基、
2—フエニルシクロプロピル基、 2—フルォロシクロプロピル基、 2—クロロシ クロプロピル基、 1—ベンジルォキシメチルシクロペンチル基、 3—シァノシク 口ペンチル基、 2—ァセトアミノシクロへキシル基、 2—ベンゾィルアミノシク 口へキシル基、 2—メ トキシカルボニルアミノシクロへキシル基、 2— t e r t 一ブトキシカルボニルアミノシクロへキシル基、 2—ベンジルォキシカルボニル アミノシクロへキシル基、 2—メ トキシシクロへキシル基、 2—クロロシクロへ キシル基、 2—ノルボルニル基、 ボルニル基、 2—ァダマンチル基、 N—べンゾ スルホニル一N— ( 3， 5—ジメチルフエニル） アミノボルニル基、 4—メチル シクロへキシル基、 2 —メチルシクロへキシル基、 2， 3—ジメチルシクロへキ シル基、 1—メ トキシカルボニルシクロへキシル基、 2— トリメチルシロキシシ クロへキシル基、 2—ベンジルォキシシクロへキシル基、 4一ベンジルォキシシ クロへキシル基、 4一 t e r t—ブチルシクロへキシル基、 メンチル基、 8—フ ェニルメンチル基、 フエニル基、 2 _メチルフエニル基、 4一メチルフエニル基、 2, 5—ジ t e r t—ブチル一 4 _メチル基、 4一 t e r t—ブチル基、 2—ク ロロフェニル基、 4—クロ口フエ二ル基、 4—フルオロフェニル基、 2—フルォ 口フエニル基、 3—クロ口フエニル基又は 4一二トロフエ二ル基等を挙げること ができる。
一般式 （ I) で表わされる化合物 （I) の具体的な化合物としては、 例えば、 3—ベンジルー 5—メ トキシー 2 ( 3 H) ォキサゾロン、 3—べンジルー 4—メ チル一 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロン、 3— （4—ニトロベンジル） 一 5—エトキシ一 2 ( 3 H) ォキサゾロン、 3—ベンジル一 5— (ί) 一メンチルォ キシー 2 ( 3 Η) —ォキサゾロン、 3— （4—メチルベンジル） 一 4—メチル一 5—メ トキシ一 2 (3 Η) —ォキサゾロン、 3— (1—フエニルェチル） _5 _ メ トキシー 2 (3 Η) —ォキサゾロン、 3— ( (S) — 1—フエニルェチル） 一 5—イソプロポキシ一 2 (3 Η) —ォキサゾロン、 3— （ （R) — 1—フエニル ェチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 Η) 一才キサゾロン、 3—ジフエニルメチル一 5—メ トキシ一 2 (3 Η) —ォキサゾロン、 3—ジフエニルメチル一 4一メチル 一 5—メ トキシ一 2 - (3 Η) —ォキサゾロン、 3—ジフエニルメチル一 5— (£) —メンチルォキシ一 2 (3 Η)一才キサゾ口ン、 3—ジフエニルメチル一 5— ( ( 1 S， 2 S, 5 R) — 5—メチル一 2— ( 1—メチル一 1一フエニルェチル） シク 口へキシルォキシ） 一2 (3 H) 一才キサゾロン、 3—ベンジル一 5— ( ( 1 S, 2 S, 5 R) — 5—メチルー 2— ( 1—メチルー 1—フエニルェチル） シクロへ キシルォキシ） 一 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3—ジフエ二ルメチル一 4—イソ プロピル _ 5—イソプロポキシ一 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3—ジフエニルメ チル一 4一フエニルメチル _ 5—メ トキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3—ジ フエ二ルメチルー 4—イソブチル一 5—エトキシー 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3—ジフエ二ルメチルー 4 (s e c—ブチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) —ォ キサゾロン、 3—ジフエ二ルメチルー 4— (ベンジルォキシフエニル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン、 3—ジフエ二ルメチルー 4—メ トキシカルボ 二ルメチルー 5—イソプロポキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン、 3—ジフエニルメ チル—4一ベンジルォキシメチル— 5—メ トキシ— 2 (3 H) ォキサゾロン、 3 ージフエ二ルメチルー 4一 （ 2—メ トキシカルボニルェチル） 一 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロン、 3—ジフエ二ルメチルー 4一 （4— B o c NH—プチ ル） 一 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロン （B 0 c = t e r t—ブトキシカ ルボニル） 、 3— （1一 （1—ナフチル） ェチル） 一 4—イソプロピル _ 5—ィ ソプロポキシ一 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3— (1— (1—ナフチル） ェチル） _ 4—フエニルメチル一 5—メ トキシー 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3— ( 1 - (1—ナフチル） ェチル） 一 4 _イソブチル一 5—エトキシ一 2 (3 H) —ォキ サゾロン、 3 _ ( 1— （1—ナフチル） ェチル） 一 4 (s e c—プチル） 一 5— メ トキシー 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3— (1— (1—ナフチル） ェチル） 一 4一 （ベンジルォキシフエニル） 一 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロン、 3 — (1— (1一ナフチル） ェチル） 一4ーメ トキシカルボニルメチル _5—イソ プロポキシ _ 2 (3 H) ォキサゾロン、 3 _ (1— (1—ナフチル） ェチル） 一 4一べンジルォキシメチル _ 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン、 3— (1 一 （1—ナフチル） ェチル） 一4— (2—メ トキシカルボニルェチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン、 3 _ (1— (1—ナフチル） ェチル） ー4一 (4— B 0 c NH—プチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン、 3— ( 1 —フエニルェチル） 一 4一イソプロピル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) 一才キサゾ ロン、 3 _ (1—フエニルェチル） 一 4—フエ二ルメチルー 5—メ トキシ一 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3— (1—フエニルェチル） 一 4 _イソブチルー 5—エト キシ一 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3— (1—フエニルェチル） 一4 (s e c - プチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3 _ (1—フエ二ルェチ ル） 一4— (ベンジルォキシフエニル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロ ン、 3— （1—フエニルェチル） 一 4—メ トキシカルボ二ルメチルー 5—ェトキ シー 2 (3 H) ォキサゾロン、 3— （1一フエニルェチル） 一4—ベンジルォキ シメチル一 5—メ トキシ _2 (3 H) ォキサゾロン、 3— ( 1—フエニルェチル）） —4— (2—メ トキシカルボニルェチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾ ロン、 3— (1—フエニルェチル） 一4一 （4— B 0 c NH—ブチル） 一 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロン、 3— （ （R) — 1— (1—ナフチル） ェチル） — 5—メ トキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3—フルフリル一 4—ェチル一 5 —メ トキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3—フルフリル一 4—ェチルー 5— (4 —ペンテニル） ォキシ一 2 ( 3 H) ォキサゾロン、 3—イソプロピル _ 5—メ ト キシ一 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3—べンジルー 5—メ トキシー 2 (3 H) - ォキサゾロン、 3—イソプロピル一 4—メチルー 5—メ トキシー 2 (3 H) —ォ キサゾロン、 3—イソプロピル _ 4ーメチルー 5—エトキシー 2 (3 H) ーォキ サゾロン、 3—イソプロピル一 4一メチル一 5—シクロへキシルォキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3—メチル一 5—イソプロポキシ一 2 (3 H) ォキサゾロ ン、 3— ( (R) — 1— （1一ナフチル） ェチル） 一 5—イソプロポキシ一 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3— ( (R) 一 1ーフヱニルェチル） 一4—メチルー 5— メ トキシ一 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3— ( (S) 一 1—フエニルェチル） 一 5—フエノキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3—ジフエ二ルメチルー 4—メチ ル一 5—フエノキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3—フエニル一 4ーメチルー 5—メ トキシー 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3— (p—クロ口フエニル） 一4— ェチルー 5—メ トキシー 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3— （0—クロ口フエニル） —4一メチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3— （3， 4—ジメ トキシフエニル） 一 4—メチルー 5—メ トキシ一 2 (3 H) ーォキサゾロン及び 3—フエニル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン等を挙げることができ る。
本発明の一般式 （I) で表される 5—アルコキシ— 2 (3 H) 一才キサゾロン (化合物 （I) ) は、 以下に記載する、 反応式 （2) の方法に従って製造される。 (反応式 2)
Figure imgf000021_0001
第 1工程 （νΠΙ) 第 2工程 式中、 R1 、 R2 及び R3 は、 前述したものと同じ意味を示す。 第 1工程は、 一般式 （H) で表される化合物 （以下、 化合物 （观） ともいう） を製造する工程で、 一般式 （W) で表される N—置換一 アミノ酸エステル化 合物 （以下、 化合物 （W) ともいう） を、 ホスゲン、 トリクロロメチルクロロホ ルメート等のクロ口カルボニル化剤と、 炭酸ナトリゥム等の無機塩基やトリエチ ルァミ ン等の有機塩基等の存在下、 溶媒中で反応させることにより達成される。 第 2工程は、 一般式 （I ) で表される化合物を製造する工程で、 トリヱチルァ ミンやトリ— n—プロピルアミン等の有機塩基や炭酸ナトリウム等の無機塩基存 在下、 一般式 （H) で表される化合物を、 分子内環化反応させことによって化合 物 （I ) を得ることができる。
本発明において、 一般式 （Π ) で表される化合物 （Π ) における R4は、 水素原 子、 置換されていてもよい（：广 。のアルキル基、置換されていてもよい c 2〜c
2(5のアルケニル基、 置換されていてもよい C 3〜C i。のシクロアルキル基、 置換さ れていてもよい C 2〜(： 20のアルキニル基、置換されていてもよい c 6〜c20のァリ
—ル基、 置換されていてもよい N、 0および Sから選ばれるヘテロ原子を 1 もし くは 2個含む 5乃至 6員の複素芳香環基、 置換されていてもよい 〜（：6のアル コキシカルボニル基、 ァセチル基又はベンゾィル基を示す。
R4の示す 「置換されていてもよい 〜C20のアルキル基」 とは、 （ 1 5 ) 「置 換基を有しない 〜C20のアルキル基」 力 \ 又は （1 6 ) 「置換基を有する C i〜 C20のアルキル基」 を意味する。
( 1 5 ) の 「置換基を有しない（^〜（： のアルキル基」 としては、 例えば、 メ チル基、 ェチル基、 プロピル基 （異性体を含む） 、 ブチル基 （各異性体を含む） 、 ペンチル基 （各異性体を含む） 、 へキシル基 （各異性体を含む） 、 ヘプチル基 （各 異性体を含む） 、 ォクチル基 （各異性体を含む） 、 ノシル基 （各異性体を含む） 、 デシル基 （各異性体を含む） 、 ゥンデシル基 （各異性体を含む） 、 ドデシル基 （各 異性体を含む） 、 トリデシル基 （各異性体を含む） 、 テトラデシル基 （各異性体 を含む） 、 ペンタデシル基 （各異性体を含む） 、 へキサデシル基 （各異性体を含 む） 、 ヘプタデシル基 （各異性体を含む） 、 ォクタデシル基 （各異性体を含む） 、 ノナデシル基 （各異性体を含む） 又はエイコシル基 （各異性体を含む） などの、 C！〜 C 2。の直鎖状または分枝状のアルキル基を挙げることができる。 (1 6 ) の 「置換基を有する (^〜（：20アルキル基」 の置換基としては、 例えば、 シァノ基；ベンジルォキシ基； フタルイミノ基；直鎖状または分枝状の Ci Ce のアルキル基部分を持つアルコキシカルボニル基；同一または異なった、 直鎖状 または分枝状の C广 C6のアルキル基部分を持つトリアルキルシリルォキシ基； ァシルァミノ基；ハロゲン原子； 『 （2— 1 ) 、 （2— 2) に記載』 のァリール 基； 『 （8— 3) 、 (8 -4) に記載』 の複素芳香環基又は 『 （2— 5) 、 （2 -6) に記載』 の（：,〜(： 10のアルコキシ基を挙げることができる。
一般式 （Π) で表わされる化合物 （Π) における R4の示す 「置換されていても よい C2〜C20のアルケニル基」 とは、 （1 7) 「置換基を有しない C2〜C20の アルケニル基」 か、 又は （1 8) 「置換基を有する C2〜C20のアルケニル基」 と 同じ意味を有する。
( 1 7) の 「置換基を有しない C2〜C20のアルケニル基」 としては、例えば、 直鎖状もしくは分枝状の C2〜C i。のアルケニル基を挙げることができる。
( 1 8) の 「置換基を有する C2〜C20のアルケニル基」 の置換基としては、例 えば、 シァノ基；ベンジルォキシ基；ァシルァミノ基；直鎖状または分枝状の C！
〜c6のアルキル基部分を持つアルコキシカルボニル基；同一または異なった、 直 鎖状または分枝状の C i〜C 6のアルキル基部分を持つトリアルキルシリルォキシ 基；ハロゲン原子； 『 （2— 3) 、 （2— 4) に記載』 のァリール基； C3〜 C i。のシク口アルキル基又は複素芳香環基を挙げることができる。
一般式 （Π) で表わされる化合物 （Π) における R4の示す 「置換されていても よい C3〜C10のシクロアルキル基」 とは、 （1 9) 「置換基を有しない C3〜C 10のシクロアルキル基」 力、 又は （2 0) 「置換基を有する C3〜C10のシク口 アルキル基」 と同じ意味を有する。
(1 9) の 「置換基を有しない C3〜C10のシクロアルキル基」 としては、 シク 口プロピル基、 シクロブチル基、 シクロペンチル基、 シクロへキシル基、 シクロ ヘプチル基、 シクロォクチル基、 シクロノニル基又はシクロデシル基を挙げるこ とができる。
(20) の「置換基を有する C3〜C 10のシクロアルキル基」の置換基としては、 例えば、 シァノ基；ベンジルォキシ基；直鎖状または分枝状の C i〜C6のァルキ ル基部分を持つアルコキシカルボニル基；同一または異なった、 直鎖状または分 枝状の C !〜（： 6のアルキル基部分を持つトリアルキルシリルォキシ基； ァシルァ ミノ基；ハロゲン原子；ァリール基又は直鎖もしくは分枝状の C ,〜C6のアルコ キシ基を挙げることができる。 なお、 置換基の数および位置は限定されない。
一般式 （Π) で表わされる化合物 （Π) における R4の示す 「置換されていても よい C2〜C20のアルキニル基」 とは、 （2 1) 「置換基を有しない C广 C20のァ ルキニル基」 力、 又は （22) 「置換基を有する C2〜C20のアルキニル基」 と同 じ意味を有する。
(2 1) の 「置換基を有しない C2〜C2C)のアルキニル基」 としては、 直鎖状も しくは分枝状の c2 〜c20のアルケニル基を挙げることができる。
(22) の 「置換基を有する C2〜C20のアルケニル基」 の置換基としては、 例 えば、 シァノ基；ベンジルォキシ基；ァシルァミノ基；直鎖状または分枝状の 〜C6のアルキル基部分を持つアルコキシカルボニル基；同一または異なった、 直 鎖状または分枝状のじ广( 6のアルキル基部分を持つトリアルキルシリルォキシ 基；ハロゲン原子又はァリ一ル基を挙げることができる。
一般式 （Π) で表わされる化合物 （Π) における R4の示す 「置換されていても よい C6〜C20のァリール基」 とは、 （23) 「置換基を有しない C6〜C20のァリ ール基」 力、、 又は （24) 「置換基を有する C6〜C20のァリール基」 と同じ意味 を有する。
(23 ) の 「置換基を有しない C6〜C20のァリール基」 としては、 例えば、 フヱ ニル基、 ナフチル基、 アントラニル基、 フエナントリル基などを挙げることがで 5る。
(24) の「置換基を有する C6〜C 20のァリール基」のァリール基は、 （23) 「置換基を有しない C 6〜 C 2。ァリール基」 と同じ意味を示す。
(24) の「置換基を有する C6〜C20のァリ一ル基」のァリール基の置換基と しては、 例えば、 ニトロ基； シァノ基；ベンジルォキシ基；直鎖状または分枝状 の (3 (：6のアルキル基部分を持つアルコキシカルボニル基；同一または異なった、 直鎖状または分枝状の C! Csのアルキル基部分を持つトリアルキルシリルォキ シ基；ハロゲン原子；直鎖もしくは分枝状の C Csのアルキル基又は直鎖もしく は分枝状の（： のアルコキシ基を挙げることができる。
一般式 （Π) で表わされる化合物 （Π) における R4の示す 「置換されていても よい N、 0および Sから選ばれるヘテロ原子を 1もしくは 2個含む 5乃至 6員の 複素芳香環基」 とは、 （2 5) 「置換基を有しない N、 0および Sから選ばれる ヘテロ原子を 1 もしくは 2個含む 5乃至 6員の複素芳香環基」 力、 又は （2 6) 「置換基を有する N、 0および Sから選ばれるヘテロ原子を 1 もしくは 2個含む 5乃至 6員の複素芳香環基」 を意味する。
(2 5) の 「置換基を有しない N、 〇および Sから選ばれるヘテロ原子を 1 も しくは 2個含む 5乃至 6員の複素芳香環基」 の複素芳香環基としては、 例えば、 フリル基、 チェニル基、 ピロリル基、 2 H—ピロリル基、 ォキサゾリル基、 イソ ォキサゾリル基、 チァゾリル基、 イソチアゾリル基、 イミダゾリル基、 ピラゾリ ル基、 ビラ二ル基、 ピリジル基、 ピリダジル基、 ピリミジル基又はビラジニル基 などを挙げることができる。
(26) の 「置換基を有する 5乃至 6員の複素芳香環基」 の置換基としては、 例えば、 ニトロ基； シァノ基；ベンジルォキシ基；直鎖状または分枝状の
C 6のアルキル基部分を持つアルコキシカルボニル基；同一または異なった、 直鎖 状または分枝状の C i Ceのアルキル基部分を持つトリアルキルシリルォキシ 基；ハロゲン原子；直鎖もしくは分枝状の（^〜（：6のアルキル基又は直鎖もしく は分枝状の C i Ceのアルコキシ基等を挙げることができる。 なお、 置換基の数 および位置は限定されない。
一般式 （Π) で表わされる化合物 （Π) における R4の示す 「置換されていても よい C ! Csのアルコキシカルボニル基とは、 （2 7) 「置換基を有しない 〜C6 のアルコキシカルボニル基」 力、、 又は （28) 「置換基を有する C! Cs のアルコキシカルボニル基」 を意味する。
(27) の 「置換基を有しない C のアルコキシカルボニル基」 のアルコ キシカルボニル基としては、 例えば、 メ トキシカルボニル基、 エトキシカルボ二 ル基、 n—プロピルォキシカルボニル基、 イソプロピルォキシカルボニル基、 n —ブトキシカルボニル基、 t e r t —ブトキシカルボニル基、 n _ペンチルォキ シカルボニル基、 n—へキシルォキシカルボニル基などの、 直鎖もしくは分枝状 の C ! C sのアルコキシカルボ二ル基を挙げることができる。
( 2 8 ) の 「置換基を有する（^〜（^のアルコキシカルボニル基」 の置換基と しては、 例えば、 ニトロ基； シァノ基；ベンジルォキシ基；直鎖状または分枝状 の C ! C sのアルキル基部分を持つアルコキシカルボニル基； 同一または異なつ た、 直鎖状または分枝状の C i C sのアルキル基部分を持つトリアルキルシリル ォキシ基；ハロゲン原子；直鎖もしくは分枝状の C i〜 C 6のアルコキシ基等を挙 げることができる。 なお、 置換基の数および位置は限定されない。
このような R4の具体例としては、 例えば、 水素原子、 メチル基、 ェチル基、 n —プロピル基、 イソプロピル基、 n—ブチル基、 ィソブチル基、 s e c 一ブチル 基、 t e r t—ブチル基、 n—ペンチル基、 n—へキシル基、 n —ヘプチル基、 n—才クチル基、 n—ノシル基、 n—デシル基、 n—ゥンデシル基、 n—ドデシ ル基、 n—トリデシル基、 n—テトラデシル基、 n—ペンタデシル基、 n—へキ サデシル基、 n —へプタデシル基、 n—ォクタデシル基、 n—ノナデシル基、 n —エイコシル基、 メ トキシメチル基、 ァセチルォキシメチル基、 ベンジルォキシ メチル基、 t e r t —ブチルォキシメチル基、 1—メ トキシェチル基、 1—ベン ジルォキシェチル基、 1一べンジルォキシプロピル基、 1一べンジルォキシブチ ル基、 1—フエニルェチル基、 2 —フエニルェチル基、 3—フエニルプロピル基、 フエニルメチル基、 2—クロ口ェチル基、 2—フルォロェチル基、 モノフルォロ メチル基、 トリフルォロメチル基、 B 0 c N H—メチル基 （B 0 c = t e r t— ブトキシカルボニル） 、 C b z N H—メチル基 （C b z二べンジルォキシカルボ ニル） 、 ベンゾィル基、 ァセチル基、 メ トキシカルボニル基、 エトキシカルボ二 ル基、 メンチルォキシカルボニル基、 メチルチオメチル基、 メ トキシカルボニル メチル基、 3—B 0 c N H—プロピル基、 4—B 0 c N H—ブチル基、 ァシルァ ミノェチル基、 2—ベンジルォキシプロピル基、 シクロへキシルメチル基、 1— メチル一 3 —メ トキシカルボニルブチル基、 1 ーシクロへキシルェチル基、 2— ( N B o c—ピペリジル） メチル基、 ビニル基、 1—プロぺニル基、 2—プロべ ニル基、 1ーブテニル基、 2—ブテニル基、 スチリル基、 p—ニトロスチリル基、 p—クロロスチリル基、 p—メチルスチリル基、 p—メ トキシスチリル基、 3— フエニル一 2 —プロぺニル基、 3 —フエニル一 1 —プロぺニル基、 2—へキセニ ル基、 2—ヘプテニル基、 2—ペンテニル基、 2， 4—へキサジェニル基、 1— メチルー 3 —ペンテニル基、 1—テトラデシニル基、 1—ペンタデシ二ル基、 1 一へキサデシニル基、 2 , 3 , 1 2—トリベンジルォキシ一 3 —ヘプ夕デシニル 基、 2， 3 , 1 2 —トリ一 t e r t —ブチルデメチルシリルォキシ一 3 —ヘプ夕 デシニル基、 2—フリル一ビニル基、 2—シクロへキシル一ビニル基、 フエニル ェチニル基、 3 —フエニル— 1 —プロパルギル基、 プロパルギル基、 1 —ブチニ ル基、 1 一ペンチニル基、 1 —へキシニル基、 2—ヘプチニル基、 1—ォクチ二 ル基、 1—ノネニル基、 シクロプロピル基、 シクロへキシル基、 シクロブチル基、 シクロペンチル基、 2—フエニルシクロプロピル基、 2 , 2—ジメ トキシカルボ ニルシクロプロピル基、 フエニル基、 0—フルオロフェニル基、 m—フルオロフ ェニル基、 p—フルオロフェニル基、 0—クロ口フエ二ル基、 m—クロ口フエ二 ル基、 p—クロ口フエ二ル基、 p—ブロモフエニル基、 p—メチルフエニル基、 p—メ トキシフエ二ル基、 0—メ トキシフエ二ル基、 m—メ トキシフエ二ル基、 p —ベンジルォキシフエニル基、 m—ベンジルォキシフエニル基、 0 —ベンジル ォキシフエニル基、 3， 4—ジベンジルォキシフエニル基、 3， 4ーメチレンジ ォキシフエニル基、 3， 4—ジメ トキシフエ二ル基、 p—ニトロフエニル基、 3 , 5 _ジブ口モー 4 _ベンジルォキシフエニル基、 3， 5—ジクロ口一 4—ベンジ ルォキシフエニル基、 p - t e r t —ブチルジメチルシリルォキシフエニル基、 フリル基、 チェニル基、 チアゾリル基、 イソォキサゾリル基、 ォキサゾリル基、 4— N—メチルイミダゾリル基、 N—メチルインドリル基等を挙げることができ る
化合物 （ΠΙ ) としては、 前記の R 1 、 R2 、 R 3 及び R4として記載した置換基 の組み合わせからなる化合物を挙げることができる。 その具体的な化合物 （m ) としては、 次のような化合物を挙げることができる。
例えば、 3—ジフエニルメチル一 4 —メ トキシカルボニル一 5 —フエ二ルー 2 —ォキサゾリジノン、 3—ジフエ二ルメチルー 4ーメ トキシカルボ二ルー 5— ( 3 , 4—ジメ トキシフエ二ル） 一 2 _ォキサゾリジノン、 3—ジフエニルメチル一 4 —メ トキシカルボ二ルー 5 _ ( 4 —ベンジルォキシフエニル） 一 2 —ォキサゾリ ジノン、 3—ジフエ二ルメチルー 4ーメ トキシカルボニル一 5— （3， 4—メチ レンジォキシフエニル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3—ジフエ二ルメチルー 4— メ トキシカルボニル一 5— （3 , 4—ジベンジルォキシフエニル） 一 2—ォキサ ゾリジノン、 3—ジフエニルメチル一 4—メ トキシカルボ二ルー 5— （3 , 4 - ジトリメチルシリルォキシフエニル） _ 2 _ォキサゾリジノン、 3—ジフエニル メチルー 4—エトキシカルボ二ルー 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノン、 3— ジフエ二ルメチルー 4—ィソプロポキシカルボ二ルー 5—フエ二ルー 2—ォキサ ゾリジノン、 3—ジフエ二ルメチルー 4 - t e r t—ブトキシカルボ二ルー 5― フエニル一 2 _ォキサゾリジノン、 3—ジフエ二ルメチルー 4— ( (£) —メンチ ルォキシカルボニル） _ 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノン、 3—ジフエ二ル メチルー 4— ( 8—フエニルメンチルォキシカルボニル） 一 5—フエニル一 2— ォキサゾリジノン、 3—ジフエニルメチル一 4ーメ トキシカルボニル一 5—イソ ' プロピル一 2—ォキサゾリジノン、 3—ジフエニルメチル一 4—メ トキシカルボ 二ルー 5— ( 2—フエニルェチル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3—ジフエニルメ チルー 4—メ トキシカルボ二ルー 5—メチルー 2—ォキサゾリジノン、 3—ジフ ェニルメチル一 4—メ トキシカルボニル一 5— （3— B 0 c N H—プロピル） 一 2一ォキサゾリジノン、 3—ジフエニルメチル一 4—カメ トキシカルボ二ルー 5 - (メ トキシカルボニルメチル） 一 2 _ォキサゾリジノン、 3—ジフエ二ルメチ ルー 4—メ トキシカルボニル一 5 _トリデシルー 2—ォキサゾリジノン、 3—ジ フエニルメチル一 4 —メ トキシカルボ二ルー 5— ( 1—メチル一 3 —ペンテ二 ル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3—メチル一 4ーメ トキシカルボニル一 5— ( 1 —メチル一 3—ペンテニル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3—ジフエ二ルメチルー 4ーメ トキシカルボニル一 5— （1—ペンタデセニル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3ージフエ二ルメチルー 4—メ トキシカルボニル一 5—ヒ ドロキシメチル一 2― ォキサゾリジノン、 3—ジフエ二ルメチルー 4ーメ トキシカルボニル一 5—ベン ジルォキシメチルー 2—ォキサゾリジノン、 3 —ジフエ二ルメチルー 4—メ トキ シカルボ二ルー 5—ァセチルォキシメチルー 2—ォキサゾリジノン、 3—ジフエ ニルメチル一 4—メ トキシカルボニル一 5—トリメチルシリルォキシメチル一 2 —ォキサゾリジノン、 3— ( 1—フエニルェチル） 一 4—メ トキシカルボニル一 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノン、 3 _ ( 1 —フエニルェチル） 一 4ーメ ト
91 キシカルボ二ルー 5— (4—ベンジルォキシフエニル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1—フエニルェチル） _4—メ トキシカルボニル一 5— (3, 4—メチレ ンジォキシフエニル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3— (1—フエニルェチル） 一 4—メ トキシカルボニル一 5— (3 , 4—ジメ トキシフエニル） 一 2—ォキサゾ リジノン、 3— ( 1—フエニルェチル） 一 4—メ トキシカルボニル一 5—イソプ 口ピル一 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1—フエニルェチル） 一 4ーメ トキシカ ルボニル一 5— (2—フエニルェチル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1—フ ェニルェチル） 一 4—メ トキシカルボ二ルー 5—メチル一 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1—フエニルェチル） 一 4—メ トキシカルボニル一 5—ベンジルォキシメ チル一 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1—フエニルェチル） 一 4—メ トキシカル ボニル一 5—メ トキシカルボニルメチル一 2—ォキサゾリジノン、 3— （ 1 —フ ' ヱニルェチル） 一 4 _ ( (i) —メンチルォキシカルボニル） _ 5—フエニル一 2 —ォキサゾリジノン、 3— ( 1—フエニルェチル） 一 4— ( ( 一メンチルォキ シカルボニル） 一 5—イソプロピル一 2—ォキサゾリジノン、 3 _ ( 1—フエ二 ルェチル） 一 4— ( ( 一メンチルォキシカルボニル） 一 5— (2—フヱニルェ チル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1— ( 1 —ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボ二ルー 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1 - ( 1 ーナ フチル） ェチル） 一 4一イソプロポキシカルボニル一 5 _フエ二ルー 2—ォキサ ゾリジノン、 3— (1— (1—ナフチル） ェチル） 一 4— ( ( 一メンチルォキ シカルボニル） 一 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1— ( 1—ナフ チル） ェチル） 一4—メ トキシカルボ二ルー 5— （3, 4—ジメ トキシフエ二ル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1— ( 1—ナフチル） ェチル） 一 4一イソプロ ポキシカルボニル一 5— (3 , 4—メチレンジォキシフエニル） 一 2—才キサゾ リジノン、 3 _ ( 1— (1—ナフチル） ェチル） 一 4一イソプロポキシカルボ二 ルー 5 _イソプロピル一 2—ォキサゾリジノン、 3— （1 一 （ 1 —ナフチル） ェ チル） 一 4一イソプロポキシカルボ二ルー 5— (2—フエニルェチル） 一 2—ォ キサゾリジノン、 3— ( 1— ( 1 —ナフチル） ェチル） 一 4—イソプロポキシ力 ルボニル一 5— (2—フエ二ルェチニル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1— (1—ナフチル） ェチル） 一 4—イソプロポキシカルボニル一 5—メチルー 2—
丁正された用紙 （規則 91) P TJP
28
ォキサゾリジノン、 3— ( 1 — ( 1—ナフチル） ェチル） _ 4 _イソプロポキシ カルボニル _ 5—シクロプロピル一 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1 — (1—ナ フチル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボ二ルー 5—シクロへキシル一 2 _ォキサ ゾリジノン、 3— (1— ( 1 —ナフチル） ェチル） _ 4—イソプロポキシカルボ 二ルー 5 _ ( 1—プロべニル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3 _ ( 1— ( 1 —ナフ チル） ェチル） _ 4—メ トキシカルボニル _ 5— (4—ベンジルォキシフエニル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1— ( 1—ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシ カルボニル一 5— (3 , 4—メチレンジォキシフエニル） _ 2 _ォキサゾリジノ ン、 3— （ 1— ( 1一ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボニル一 5 _ (3 , 4ージベンジルォキシフエニル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1— ( 1 —ナ フチル） ェチル） 一 4ーメ トキシカルボ二ルー 5— (3， 4ージトリメチルシリ ' ルォキシフエニル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3— （ 1— ( 1 —ナフチル） ェチ ル） _ 4—ェトキシカルボ二ルー 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1 - ( 1—ナフチル） ェチル） 一 4—イソプロポキシカルボニル一 5 _フエ二ルー 2—ォキサゾリジノン、 3— （ 1 一 （1 —ナフチル） ェチル） 一 4一 t e r t— ブトキシカルボ二ルー 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノン、 3— （ 1— ( 1— ナフチル） ェチル） 一4一 ( (i) —メンチルォキシカルボニル） _ 5—フエニル — 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1 — ( 1—ナフチル） ェチル） 一 4— (8—フ ェニルメンチルォキシカルボニル） _ 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノン、 3 — ( 1— (1—ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボニル一 5 _イソプロピ ルー 2—ォキサゾリジノン、 3— （ 1— ( 1—ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキ シカルボニル一 5— (2—フエニルェチル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3 _ ( 1 - ( 1—ナフチル） ェチル） 一 4ーメ トキシカルボニル一 5—メチル一 2—ォキ サゾリジノン、 3— （ 1— ( 1—ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボニル — 5— (3—B 0 c NH—プロピル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1— ( 1 一ナフチル） ェチル） 一 4ーメ トキシカルボ二ルー 5— (メ トキシカルボニルメ チル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3— (1— ( 1—ナフチル） ェチル） 一4—メ トキシカルボ二ルー 5—トリデシルー 2 _ォキサゾリジノン、 3— ( 1— ( 1 - ナフチル） ェチル） 一 4ーメ トキシカルボ二ルー 5— ( 1—メチル一 3—ペンテ
ΠΊΕ 91 _ 3—ペンテニル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1— (1 —ナフチル） ェチ ル） 一 4—メ トキシカルボニル _ 5— (1—ペンタデセニル） 一 2—ォキサゾリ ジノン、 3— （ 1 — ( 1一ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボ二ルー 5— ヒ ドロキシメチル一 2—ォキサゾリジノン、 3— （ 1— ( 1—ナフチル） ェチル） —4ーメ トキシカルボニル一 5—べンジルォキシメチルー 2—ォキサゾリジノン、
3 - ( 1 — (1 一ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボニル一 5—ァセチル ォキシメチルー 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1— （ 1—ナフチル） ェチル） 一
4ーメ トキシカルボ二ルー 5—トリメチルシリルォキシメチルー 2—ォキサゾリ ジノン、 3— （ 1 — ( 1—ナフチル） ェチル） 一 4， 5—ジメ トキシカルボニル 一 2—ォキサゾリジノン、 3—ジフエ二ルメチルー 4， 5—ジメ トキシカルボ二 ルー 2—ォキサゾリジノン、 3 _ ( 1—フエニルェチル） 一 4， 5—ジメ トキシ カルボニル _ 2—ォキサゾリジノン、 3—ジフエニルメチル一 4一 （8—フエ二 ルメンチルォキシカルボニル） _ 5 _イソプロピル一 2—ォキサゾリジノン、 3 ージフエ二ルメチルー 4 - ( 8一フエニルメンチルォキシカルボニル） 一 5— (2 一フエニルェチル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3—ベンジルー 4一 （8—フエ二 ルメンチルォキシカルボニル） 一 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノン、 3—ベ ンジルー 4— ( 8—フエニルメンチルォキシカルボニル） 一 5—イソプロピル一 2—ォキサゾリジノン、 3—ベンジル一 4— (8—フエニルメンチルォキシカル ボニル） 一 5— （2—フエニルェチル） 一 2—ォキサゾリジノン、 3—フエニル 一 4—メ トキシカルボ二ルー 4—メチルー 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノン、 3— (。一クロ口フエ二ル一） 一 4—メ トキシカルボニル一 5—イソプロピル一 2—ォキサゾリジノン、 3—フエ二ルー 4—メ トキシカルボ二ルー 4—メチル一
5—メチルー 2—ォキサゾリジノン、 3— （p—クロ口フエニル） 一 4ーメ トキ シカルボニル一 4—ェチルー 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノン、 3—フエ二 ルー 4ーィソプロピルォキシカルボ二ルー 4—メチルー 5—フエニル一 2—ォキ サゾリジノン、 3—ジフエ二ルメチルー 4—フエノキシカルボ二ルー 4—メチル — 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノン、 3— ( 1 —フエニルェチル） 一 4ーフ エノキシカルボ二ルー 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノン、 3—フエ二ルー 4 ーメ トキシカルボ二ルー 5—イソプロピル一 2—ォキサゾリジノン等を挙げるこ とができる。
本発明で、 使用されるルイス酸触媒としては、 具体的には下記のような周期律 表第 2族 （n a族） から第 1 4族 （IVa族） 元素 （ただし炭素を除く） の有機金 属化合物、 ハロゲン化物、 トリフルォロメタンスルホン酸塩、 ランタノイド族元 素のハロゲン化物、 トリフルォロメタンスルホン酸塩を用いることができる。 具体的には、 次式 （IV) ：
R5 nXmM (IV)
式中、 R5は C 〜( 1 ()のアルキル基、 C6〜C20のァリール基を示し； Xは ハロゲン原子を示し； Mは Aし B、 S n、 T i を示す； mおよび nは、 そ れぞれ、 0、 1、 2、 3または 4の数を示す；ただし、 m+nは 2、 3また は 4である，
で表される化合物が挙げられる。
一般式 （IV) で表わされる化合物 （IV) における R5の示すアルキル基は、 〜C1()のアルキル基を示し、 例えば、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基 （異性体を 含む） 、 ブチル基 （各異性体を含む） 、 ペンチル基 （各異性体を含む） 、 へキシ ル基 （各異性体を含む） 、 ヘプチル基 （各異性体を含む） 、 ォクチル基 （各異性 体を含む） 、 ノニル基 （各異性体を含む） 又はデシル基 （各異性体を含む） など の、 < 广(：1()の直鎖状または分枝状のアルキル基を挙げることができ、 好ましく は Ci〜C6のアルキル基であり、 更に好ましくはメチル基、 ェチル基、 プロピル 基、 イソプロピル基、 ブチル基、 イソブチル基、 s e c一ブチル基又は t e r t —プチル基である。
一般式（IV) で表わされる化合物 （IV) における R5の示すァリール基は、 『（2 3) 、 （24) に記載』 のァリール基と同じ意味を有する。
一般式 （IV) で表わされる化合物 （IV) における Xは、 例えば、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ョード原子などの、 ハロゲン原子を示す。 Mは、 Aし B、 511または1^を示す。 m、 nは、 それぞれ、 0、 1、 2、 3または 4の数を示 す。 ただし、 m+nは 2、 3または 4である。
一般式 （IV) で表わされる化合物 （IV) の具体的な化合物としては、 例えば、 トリメチルアルミニウム、 トリェチルアルミニウム、 トリプロピルアルミニウム、 トリイソプロピルアルミニウム、 トリ n—ブチルアルミニウム、 トリイソプチル アルミニウム、 トリ s e c —ブチルアルミニウム、 トリ t e r t —ブチルアルミ 二ゥム、 トリペンチルアルミニウム、 トリへキシルアルミニウム、 トリオクチル アルミニウム、 トリデシルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム ； ジメ チルアルミニウムクロリ ド、 ジェチルアルミニウムクロリ ド、 ジェチルアルミ二 ゥムブ口ミ ド、 ジイソブチルアルミニウムクロリ ドなどの、 ジアルキルアルミ二 ゥムハライ ド； ジェチルアルミニウムハイ ドライ ド、 ジイソブチルアルミニウム ハイ ドライ ドなどのジアルキルアルミニウムハイ ドライ ド ； メチルアルミニウム ジクロリ ド、 ェチルアルミニウムジクロリ ド、 イソブチルアルミニウムジクロリ ド、 ェチルアルミニウムジブロミ ドなどのアルキルアルミニウムジハライ ド ；塩 化アルミニウム （m ) 、 臭化アルミニウム （m ) 、 ヨウ化アルミニウム （m ) 、 フッ化アルミニウム （in ) などのハロゲン化アルミニウム ；三フッ化ホウ素、 三 塩化ホウ素、 三臭化ホウ素などの三ハロゲン化ホウ素； トリフルォロボラン、 ト リクロロボラン、 トリブロモボランなどのトリハロボラン ； トリフェニルボラン、 トリ （4 一フルオロフェニル） ボラン、 トリス （ペンタフルオロフェニル） ボラ ンなどのトリァリールボラン ； フエニルジクロ口ボラン、 4—クロ口フエニルジ クロロボラン、 フエニルジブロモボランなどのァリールボランジハライ ド ； ジメ シチルフルォロボラン、 ジフエニルフルォロボランなどのァリ一ルボランハライ ド； トリェチルボラン、 トリブチルボランなどのトリアルキルボラン ；塩^ [ヒスズ (IV) 、 塩化スズ （Π ) 、 臭化スズ （IV) 、 臭化スズ （Π ) などのハロゲン化ス ズ； テトラェチルチン、 テトラブチルチン、 テトライソプロピルチンなどのテト ラアルキルチン ； テトラフェニルチンなどのテトラァリ一ルチン ；ベンジルトリ フエニルチン、 ペンタフルオロフェニルトリメチルチンなどのアルキルァリール チン ； トリメチルチンブロミ ド、 トリメチルチンクロリ ド、 トリェチルチンブロ ミ ド、 トリブチルチンクロリ ド、 トリベンジルチンクロリ ドなどのトリアルキル チンハライ ド； トリエニルチンクロリ ドなどのトリアリールチンハラィ ド ； トリ ブチルチンヒ ドリ ドなどのトリアルキルチンヒ ドリ ド ；塩化チタン （IV) 、 臭化 チタン （IV) ヨウ化チタン （IV) 、 フッ化チタン （IV) などのハロゲン化チタン 等を挙げることができる。 また、 ルイス酸として、 一般式 （V)
(R6〇） n, Xm. M (V)
式中、 R6は C ,〜(： 10のアルキル基、 C6〜C20のァリール基を示し； Xは ハロゲン原子を示し； Mは Aし B、 S n、 T iを示す； m' および n' は、 それぞれ、 0、 1、 2、 3または 4の数を示す；ただし、 m， +n， は 3ま たは 4である，
で表される化合物も挙げることができる。
一般式 （V) で表される化合物 （V) における R6の示す C! CK)のアルキル基 及び C6〜C2()のァリール基は、 R5の示す ^〜(^。のアルキル基及び C6〜C20 のァリール基とそれぞれ同じ意味を有する。
一般式 （V) で表わされる化合物 （V) における Xは、 例えば、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ョード原子などのハロゲン原子を示す。 Mは、 Aし B、 S nまたは T iを示す。 m' 、 n' は、 それぞれ、 0、 1、 2、 3または 4の数 を示す。 ただし、 m， +η' は 3または 4である。
一般式 （V) で表わされる化合物 （V) の具体的な化合物としては、 例えば、 トリクロロメ トキシチタン、 トリクロ口エトキシチタン、 トリクロ口イソプロボ キシチタン、 トリクロ口 η—ブトキシチタン、 トリブロモエトキシチタン、 トリ ブロモイソブトキシチタンなどのアルコキシチタン トリハラィ ド； ジクロロジメ トキシチタン、 ジクロロジェトキシチタン、 ジクロロジ η—ブトキシチタン、 ジ クロロジイソプロポキシチタン、 ジブロモジエトキシチタンなどのジアルコキシ チタンジハライ ド ； クロロ トリメ トキシチタン、 クロロ トリエトキシチタン、 ク ロロ トリ η—ブトキシチタン、 ブロモトリエトキシチタンなどのトリアルコキシ チタンハラィ ド；チタン （IV) メ トキシド、 チタン （IV) エトキシド、 チタン （IV) イソプロポキシド、 チタン （IV) イソブトキシド、 チタン （IV) η—ブトキシド などのチタン （IV) アルコキシド ； ジメチルアルミニウムメ トキシド、 ジェチル アルミニウムエトキシド、 ジェチルアルミニウムイソプロポキシド、 ジブチルァ ルミニゥムブトキシドなどのジアルキルアルミニウムアルコキシド ； ジェチルァ ルミニゥムフエノキシド、 ジェチルアルミニウム （4一フルオロフエノキシド） などのジアルキルアルミニウムァリールォキシド ； アルミニウム （m) メ トキシ ド、 アルミニウム （m) イソプロポキシド、 アルミニウム （πι) ブトキシドなど のアルミニウム （πι) アルコキシド ； アルミニウム （m) フエノキシドなどのァ ルミニゥム （πι) ァリールォキシド ； トリフエノキシボランなどのトリァリール ォキシボラン ； トリメ トキシボラン、 トリブトキシボランなどのトリアルコキシ ボラン ； クロロジフエノキシボラン、 ブロモジフエノキシボラン、 フルォロジフ エノキシボランなどのジァリ一ルォキシボランハライ ド ； ジクロロフエノキシボ ランなどのジァリールォキシボランジハラィ ド等を挙げることができる。
更に、 ルイス酸として、 一般式 （VI)
R7R8R9 S i X (VI)
式中、 R7、 R 8および R 9は、 それぞれ独立して、 C 〜じ 。のアルキル基、
C6〜C20のァリール基を示し； X' はハロゲン原子又は OS〇2CF3を 示す，
で表される化合物を挙げることができる。
一般式 （VI) で表される化合物 （VI) における R7 、 R8 及び R9 の示す
C1()のアルキル基及び C6〜C2。のァリール基は、 R5 の示す (： ,〜（：！。のアルキ ル基及び C 6〜（： 20のァリール基とそれぞれ同じ意味を有する。
X， は、 例えば、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ョード原子などのハロゲ ン原子又は— 0 S02CF3基を示す。
一般式 （VI) で表わされる化合物 （VI) の具体的な化合物としては、 例えば、 トリメチルシリルクロリ ド、 トリメチルシリルブロミ ド、 トリメチルシリルョー ド、 トリェチルシリルクロリ ド、 トリェチルシリルブロミ ド、 トリェチルシリル ョード、 t e r t ブチルジメチルシリルクロリ ド、 t e r t—ブチルジメチル シリルプロミ ド、 t e r t プチルジメチルシリルョ一ド、 トリイソプロビルシ リルクロリ ド、 トリイソプロビルシリルブロミ ド、 トリイソプロビルシリルョー ドなどのトリアルキルシリルハライ ド ； トリメチルシリルトリフラート、 トリエ チルシリルトリフラート、 t e r t ブチルジメチルシリルトリフラート、 トリ ィソプロビルシリルトリフラートなどのトリアルキルシリルトリフラート ； トリ フエニルシリルクロリ ド、 トリフヱニルシリルブロミ ド、 トリフエ二ルシリルョ ードなどのトリアリールシリルハラィ ド ； トリフエニルシリルトリフラ一トなど P
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のトリアリールシリルトリフラート ； t e r t—ブチルジフエニルシリルクロリ ド、 t e r t—ブチルジフエニルシリルブロミ ド、 t e r t—ブチルジフエニル シリルョード、 メチルジフエニルシリルクロリ ド、 メチルジフエニルシリルブロ ミ ド、 メチルジフエニルシリルョ一ドなどのアルキルァリールシリルハラィ ド； t e r t—ブチルジフエニルシリルトリフラ一ト、 メチルジフエニルシリルトリ フラートなどのアルキルァリ一ルシリルトリフラート等を挙げることができる。 その他に、 塩化ジルコニウム （IV) 、 塩化亜鉛 （Π) 、 臭化亜鉛 （Π) 、 塩化 鉄 （m) 、 塩化鉄 （π) 、 臭化鉄 （no 、 臭化鉄 （π) 、 ヨウ化鉄 （m) 、 ヨウ 化鉄 （π) 、 塩化マグネシウム、 臭化マグネシウム、 スズトリフラート （π) な どの金属ハロゲン化物又はトリフラート ； ランタン （ΠΙ) トリフラート、 ランタ ン （ΠΙ) クロリ ド、 プラセォジゥム （ΠΙ) トリフラ一 ト、 ネオジゥム （ΙΠ) トリ フラート、 サマリウム （ΠΙ) トリフラート、 サマリウム （Π) ョード、 サマリゥ ム （m) クロリ ド、 ユーロピウム （in) トリフラート、 ガドリニウム （πι) トリ フラート、 ジスプロシウム （m) トリフラート、 ホルミウム （in) トリフラ一ト、 エルビウム （ΠΙ) トリフラート、 イッテルビウム （ΠΙ) トリフラ一ト、 ルテチウ ム （in) トリフラート、 スカンジウム （πι) トリフラート、 セリウム （m) クロ リ ドなどの希土類金属のハロゲン化物；又はトリフラート等を挙げることができ る。
化合物 （ΠΙ) で表される 4—アルコキシカルボニル一 2—ォキサゾリジノン化 合物は、 前記の反応式 （1) の方法に従って製造される。
すなわち、 化合物 （ΠΙ) の製造は、 一般式 （I) で表される 5—アルコキシ一 2 (3 H) 一才キサゾロン化合物と、 一般式 （Π) で表されるアルデヒ ド化合物 とを、 ルイス酸触媒の存在下、 溶媒中で反応させることにより達成される。
使用されるルイス酸触媒の使用量は、 通常、 化合物 （I) 1モルに対して 0. 001から 5. 0当量の割合を挙げることができ、 好ましくは、 0. 005から 0. 5当量の割合である。
使用される溶媒としては、 本反応に直接関与しないものであれば特に限定され ず、 例えば、 ベンゼン、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベン ゼン、 ジクロロベンゼン、 塩化メチレン、 クロ口ホルム、 四塩化炭素、 1， 2— ジクロロェタン等の塩素化炭化水素類、 酢酸メチル、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等 のエステル類、 ジェチルェ一テル、 ジイソプロピルエーテル、 ジブチル工一テル、 ジメ トキシェタン、 テトラヒ ドラフラン、 ジォキサン等のエーテル類、 ジメチル ホルムアミ ド、 ジメチルスルホキサイ ド、 ァセトニトリル、 プロピオ二トリル、 水等を挙げることができるが、 好ましくはトルエン、 キシレン、 塩ィヒメチレン、 1， 2—ジクロロェタン、 ァセトニトリル、 プロピオ二トリルを使用するのがよ レ、。
その溶媒の使用量は、 化合物 （ I ) の 1モルに対して 1 00から 5000ミリ リッ トルで使用することができる力、 好ましくは 300から 3000ミリリッ ト ルで使用するのがよい。
化合物 （m) の合成工程は、 窒素、 アルゴン、 ヘリウムなどの不活性ガス雰囲 気下であるのが好ましく、 反応温度は— 100〜 1 0 o°cである力 ¾、 好ましくは 一 80〜40°Cであり、 反応時間は、 反応温度、 仕込み原料濃度、 仕込み原料の 種類などによって適当に選択できる力 s、 通常、 1〜 1 0時間であり、 原料化合物 の使用量は、 化合物 （I) に対して化合物 （Π) 力 0. 8〜 3倍モルであるが、 好ましくは、 0. 9〜 1. 2倍モルである。
本発明において生成した化合物 （III) を含む反応混合物を得る方法としては、 通常の洗浄操作、 分離操作を組み合わせて行えばよい。 例えば、 生成した塩を濾 過操作によって除去し、 その濾液を水先、 乾燥剤による脱水、 有機溶媒の濃縮等 による除去操作で、 化合物 （ΠΙ) の粗製物が得られる。 さらに精製する場合には、 例えば、 カラムクロマトグラフィー、 再結晶などの公知の手段で精製すればよい。 また、 本発明の化合物 （ΠΙ) は実施例に記載される具体的な製造法を応用して 得ることもできる。
なお、 得られた化合物 （m) において、 エステル部位、 力ルバメート部位を加 水分解する事により、 容易に/?—ヒドロキシー α—アミノ酸に誘導可能であるこ とは、 例えば、 J . Am. Ch em. S o CI 996， 1 18， 3584— 359 0に報告されており、 明らかである。 さらに、 R1 がジフエニルメチル基、 ベン ジル基、 1—フエニルェチル基、 1— (1一ナフチル） ェチル基の場合、 P d触 媒を用いた水素添加反応により脱保護が可能でありフリーのアミノ基とすること ができることも上記文献に記載され、 明らかである。 実施例
以下、 本発明を実施例によって具体的に説明する。 なお、 これらの実施例は、 本発明の範囲を限定するものではない。
実施例 1 ： 3—ジフエニルメチル一 4ーメ トキシカルボ二ルー 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンの合成
3—ジフエニルメチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン 0. 28 l g ( 1. 0 mm 0 1 ) とべンズアルデヒ ド 0. 1 06 g (1. 0 mm o 1 ) とを塩 化メチレン 4 m 1に溶解し、 アルゴン雰囲気下、 — 78°Cに冷却し、 BF3 ' E t 2 01 4 mg (0. 1 mm o 1 ) を加えて、 — 78 °Cで 2時間撹拌して反応させ た。
さらに、 — 20 °Cまで温度を上げ、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリゥ ム水溶液 1 5m lを加え、 更に塩化メチレン 1 0m lで抽出した。 有機層を飽和 食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3—ジフヱニル メチル一 4—メ トキシカルボニル一 5—フエニル一ォキサゾリジノンを白色結晶 (0. 4 g) として得た。 HP L C分析によれば生成物の c i sZt r a n s体 の生成比は、 2Z98であった。 3—ジフエ二ルメチルー 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロン基準の収率は、 ほぼ定量的であった。
融点： 99〜： I 02 °C
I R (KB r, cm-1) : 1 760 (s) .
Ή-NMR (δ , CDC 13) ( t r a n s体） ： 3. 40 (s， 3H) , 4. 2 1 (d, J = 3. 9 H z) , 5. 44 (d， J = 3. 9 Hz, 1 H) ， 6. 2 7 (s， 1 H) ， 7. 0- 7. 4 5 (m， 1 5 H) .
MS (C I、 i—C4H10) m/z : 388 (MH + ) .
実施例 2 ： 3ージフエニルメチル一 4—メ トキシカルボニル一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3—ジフエニルメチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサ ゾロン 1 4 1 m g (0. 5 mm o 1 ) を塩ィ匕メチレン 3 m 1に溶解し、 一 78 °C に冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53. 1 mg (0. 5 mm 0 1 ) と 1. 0M— tーブチルジメチルシリルトリフラート塩化メチレン溶液 0. 0 5m l (0. 0 5mmo 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応させた。
さらに、 0°Cまで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5 m 1を加え、 塩化メチレン 20m lで抽出した。 有機層を飽和塩化ナト リウム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3—ジフエニルメチル一 4—メ トキシカルボ二ルー 5—フエ二ルー 2—ォキサゾ リジノン 1 74mg (0. 448 mm 0 1 ) を白色結晶として得た。 （3—ジフ ェニルメチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロンに対する収率： 90%。 ） HP LC分析によれば生成物の c i sZ t r a n s体の生成比は、 6/94であ つた。
実施例 3 ： 3—ジフエニルメチル一 4—メ トキシカルボ二ルー 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3—ジフエ二ルメチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサ ゾロン 1 4 1 m g ( 0. 5 mmo 1 ) を塩化メチレン 3 m 1に溶解し、 一 78 °C に冷却した後、 ベンズアルデヒド 53. 1 m g (0. 5 mmo 1 ) と 1. 0M— S n C 14塩ィ匕メチレン溶液 0. 05m l (0. 05 mm o 1 ) とを加え、 2時間 撹拌して反応させた。
さらに、 室温 （2 0°C) まで昇温し、 更に 1 5時間撹拌した後、 得られた反応 溶液に飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液 1 5m l を加え、 塩化メチレン 20 m 1で 抽出した。 有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグ ネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HP LC法により定量する と、 3—ジフエ二ルメチルー 4—メ トキシカルボニル一 5—フエ二ルー 2—ォキ サゾリジノンの収率は 43%であった。 この場合、 生成物の c i s/ t r a n s 体の生成比は 7Z93であった。
実施例 4 ： 3—ジフエニルメチル一 4ーメ トキシカルボ二ルー 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3ージフエニルメチル— 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサ ゾロン 1 4 1 m g ( 0. 5 mmo 1 ) を塩化メチレン 3 m 1に溶解し、 一 78 °C に冷却した後、 ベンズアルデヒド 53. 1 m g (0. 5mmo 1 ) と 1. 0M— T i B r 4塩化メチレン溶液 0. 05m l (0. 05mmo 1 ) とを加え、 2時間 撹拌して反応させた後、 室温まで昇温し、 更に 1 6時間撹拌した後、 得られた反 応溶液に飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液 1 5m lを加え、 塩ィヒメチレン 20 m 1 で抽出した。 有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液 1 5 m iで洗浄し、 無水硫酸マ グネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HP LC法により定量す ると、 3—ジフエニルメチル一 4—メ トキシカルボ二ルー 5—フエニル一 2—才 キサゾリジノンの収率は 26 %であった。 生成物の c i sZt r a n s体の生成 比は 8/ 92であった。
実施例 5 ： 3—ジフエニルメチル一 4—メ トキシカルボニル一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3—ジフエニルメチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサ ゾロン 1 4 1 m g ( 0. 5 mm o 1 ) を塩ィ匕メチレン 3 m 1に溶解し、 一 78 °C に冷却した後、 ベンズアルデヒド 53. 1 mg (0. 5 mm 0 1 ) と 1. 0M_ トリメチルシリルトリフラ一ト塩化メチレン溶液 0. 05m l (0. 05mmo 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応させた。 o°cまで昇温した後、 飽和炭酸水素 ナトリゥム水溶液 1 5m lを加え、 塩ィ匕メチレン 2 0 m 1で抽出した。 有機層を 飽和塩化ナトリウム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮すると、 3—ジフエ二ルメチルー 4ーメ トキシカルボニル一 5—フエ二 ルー 2—ォキサゾリジノン 1 84mg (0. 4 76 mm o 1 ) が白色結晶として 得られた。 （3—ジフエ二ルメチルー 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロンに 対する収率： 95%。 ) HP LC分析によれば、 生成物の c i s/ t r a n s体 の生成比は 5 95であった。
実施例 6 ： 3—ジフエニルメチル一 4—メ トキシカルボニル一 5—ィソプロピ ルー 2—ォキサゾリジノンの合成
3—ジフエニルメチル _ 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン 0. 28 l g ( 1. Ommo 1 ) とィソブチルアルデヒ ド 0. 072 g (1. Ommo l ) を 塩化メチレン 3m 1に溶解し、 アルゴン雰囲気下、 一 78°Cに冷却し、 BF3 - E t 201 4mg (0. l mmo l ) を加えて、 一 78。Cで 2時間撹拌して反応させ た。
さらに、 0 °C付近まで温度を上げ、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウ ム水溶液 1 5 m 1を加え、 更に塩化メチレン 1 0m lで抽出した。 有機層を飽和 食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3—ジフヱニル メチル一 4ーメ トキシカルボ二ルー 5—ィソプロピル一 2—ォキサゾリジノンを 無色透明オイル状物質 （0. 3 5 g) として得た。 HP LC分析によれば生成物 の c i s/ t r a n s体の生成比は、 1 5/8 5であった。 3—ジフエ二ルメチ ルー 5—メ トキシー2 (3 H) ォキサゾロン基準の収率は、 ほぼ定量的であった。 c i s - t r a n s混合物
I R (n e a t, cm " : 1 762 (s) ， 1 400 (m) .
!H-NMR 、 CDC ") (t r a n s体） ： 0. 90 (d, J - 6. 8 Hz, 3 H) ， 0. 96 (d, J = 6. 4 H z, 3 H) ， 1. 90 (m. 1 H) ， 3. 38 (s， 3 H) , 3. 96 (d， J - 4. 9 H z, 1 H) ， 4. 14 (d d, J =6. 8Hz, 4. 9 H z, 1 H) ， 6. 1 9 (s, 1 H) ， 7. 2 -7. 4 (m， 1 0 H) .
MS (E I) m/z ： 3 53 (M+) ， 1 67.
実施例 7 ： 3ージフエニルメチル一 4—メ トキシカルボニル一 5— （2—フエ ニルェチル） 一 2—ォキサゾリジノンの合成
3—ジフエニルメチル一 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロン 0. 28 1 g (1. Ommo 1) とヒ ドロシンナムアルデヒド 0. 1 34 g (1. 0 mm o 1 ) とを塩ィ匕メチレン 3m 1に溶解し、 アルゴン雰囲気下、 一 78°Cに冷却し、 BF3 · E t 201 4mg (0. 1 mmo 1 ) を加えて、 一 78 °Cで 2時間撹拌し て反応させた。
さらに、 一 20°C付近まで温度を上げ、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナト リウム水溶液 1 5 m 1を加え、 更に塩化メチレン 1 Om 1で抽出した。 有機層を 飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 残渣に n— へキサンを加えることにより結晶化させ、 3—ジフエニルメチル一 4—メ トキシ カルボニル一 5— （2—フエニルェチル） 一 2—ォキサゾリジノンを白色結晶（0. 4 1 g) として得た。 HP LC分析によれば生成物の c i s/ t r a n s体の生 成比は、 5/95であった。 3—ジフエニルメチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン基準の収率は 99%であった。
c i s - t r a n s混合物
融点： 1 04〜 1 06 °C
I R (KB r , cm-1) : 1 762 (s) ， 1 399 (m) .
!H-NMR (δ, CDC 13) (t r a n s体） ： 2. 05 (m， 2 H) , 2. 75 (m， 2 H) , 3. 3 5 (s, 3 H) ， 3. 93 (d, J =4. 4 Hz， 1 H) ， 4. 36 (m, 1 H) , 6. 2 1 (s， 1 H) ， 7. 1 5-7. 3 7 (m， 1 5 H) .
MS (E I) m/z ： 4 1 5 (M+) ， 1 67.
実施例 8 : 3— （1—フエニルェチル） 一 4—メ トキシカルボニル一 5—フエ 二ルー 2—ォキサゾリジノンの合成
3 - (1—フエニルェチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン 0. 2 2 g (1. Ommo 1 ) とべンズアルデヒド 0. 1 06 g (1. Ommo 1 ) と を塩化メチレン 4m 1に溶解し、 アルゴン雰囲気下、 一 78°Cに冷却し、 BF3 - E t 201 4mg (0. 1 mmo 1 ) を加えて、 一 78 °Cで 2時間撹拌して反応さ せた。
さらに、 o°c付近まで温度を上げ、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウ ム水溶液 1 5m lを加え、 更に塩化メチレン 1 Om lで抽出した。 有機層を飽和 食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3— (1—フヱ ニルェチル） 一 4—メ トキシカルボ二ルー 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノン を無色透明オイル状物質 （0. 3 2 g) として得た。 濃縮残渣に n—へキサンを 加えることにより白色結晶として取得した。 — NMRによれば、 得られた生成 物の c i s/t r a n s体の生成比は 1Z99であり、 t r a n s体のジァステ レオマ一比は 70 30であった。 3— (1—フエニルェチル） 一 5—メ トキシ - 2 (3 H) ォキサゾロン基準の収率は 98 %であった。
t r a n s体 （ジァステレオマー混合物）
m. p ： 98〜； 1 06。C
I R (KB r , cm— ： 1 73 7 (s) ， 1 399 (m) . 'H-NMR (<5, CDC 13) (t r a n s体 ， ma j 0 r i s ome r) ： 1. 58 (d， J =6. 8Hz, 3 H) ， 3. 82 (s， 3 H) ， 3. 84 (d, J二 4. 4 H z, 1 H) ， 5. 32 (d， J =4. 4 H z, 1 H) , 5. 30 (q, J = 6. 8 H z, 1 H) , 7. 07— 7. 40 (m, 10H) ， （t r a n s体， m i n o r i s ome r) : 1. 62 (d, J = 6. 8Hz， 3 H) ， 3. 3 2 ( s， 3 H) , 4. 13 (d, J =4. 4 Hz， 1 H) , 5. 20 (q, J = 6. 8H z， 1 H) , 5. 36 (d， J =4. 4Hz, 1 H) , 7. 07-7.
40 (m， 10 H) .
MS (C I, i -C4H10) m/z ： 326 (MH+) ， 105.
実施例 9 ： 3 - ( (R) _ 1 _フエニルェチル） 一 4—メ トキシカルボニル一
5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (R) — 1—フエニルェチル） 一5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン l l Omg (0. 5mmo 1 ) を塩化メチレン 3 m 1に溶 解し、 — 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53. 1 mg (0. 5mmo 1 ) と 1. 0M—トリメチルシリルトリフラ一ト塩化メチレン溶液 0. 05m l (0. 05 mmo 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応を行った。
さらに、 0°Cまで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5 m 1を加え、 塩化メチレン 20m lで抽出した。 有機層を飽和塩化ナト リウム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HP LC法により定量すると、 3— ( (R) — 1—フエニル ェチル） 一 4—メ トキシカルボ二ルー 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの収 率は 95 %であった。 生成物の c i sZ t r a n s体の生成比は、 1H— NMR より 1/99であり、 t r a n s体のジァステレオマ一比は 72/28であった。 実施例 1 0 : 3— ( (R) 一 1—フエニルェチル） 一4—メ トキシカルボニル _ 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (R) — 1—フエニルェチル） 一5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン l l Omg (0. 5mmo 1 ) を塩化メチレン 3 m 1に溶 解し、 一 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒド 53. 1 mg (0. 5 mm 0 1 ) と 1. 0M— t—ブチルジメチルシリルトリフラ一ト塩化メチレン溶液 0. 05 m l (0. 05mmo 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応させた。
さらに、 0°Cまで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶 液 1 5m l を加え、 塩化メチレン 2 0m lで抽出した。 有機層を飽和塩化ナトリ ゥム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 得 られた濃縮残渣を HP L C法により定量すると、 3— ( (R) — 1ーフヱニルェ チル） 一 4ーメ トキシカルボニル一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの収率 は 8 5%であった。 生成物の c i s/ t r a n s体の生成比は 1H— NMR分析 によれば、 5ノ 9 5であり、 t r a n s体のジァステレオマ一比は 70/30で あった。
実施例 1 1 ： 3— ( (R) — 1—フエニルェチル） 一 4—メ トキシカルボニル 一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (R) 一 1—フエニルェチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン l l Omg (0. 5 mm 0 1 ) を塩化メチレン 3 m 1に溶 解し、 一 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒド 53. 1 mg (0. 5 mm o 1 ) と 1. 0M— S nC 14塩化メチレン溶液 0. 1 m l (0. 1 mm o 1 ) とを力 Πえ、 1時間撹拌して反応を行った。
さらに、 室温まで昇温し、 更に 2時間撹拌した後、 得られた反応溶液に飽和炭 酸水素ナトリウム水溶液 1 5 m 1を加え、 塩化メチレン 2 0m 1で抽出した。 有 機層を飽和塩化ナトリウム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾 燥後、 減圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HPLC法により定量すると 3— ( (R) 一 1—フエニルェチル) 一 4—メ トキシカルボニル一 5—フエニル一 2—ォキサ ゾリジノンの収率は 78 %であった。 生成物の c i s / t r a n s体の生成比は 4/96であり、 t r a n s体のジァステレオマ一比は 83/1 7であった。 実施例 1 2 : 3— ( (R) — 1—フエニルェチル） 一 4ーメ トキシカルボニル — 5 _フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 （ （R) 一丄—フエニルェチル） — 5—メ トキシ— 2 (3
H) ォキサゾロン 1 1 0mg (0. 5mmo 1) を塩ィ匕メチレン 3 m 1に溶解し、 — 78。Cに冷却した後、 ベンズアルデヒド 53. 1 mg (0. 5 mm o 1 ) と 1. OM— BB r 塩ィ匕メチレン溶液 0. 05m l (0. 05mmo 1 ) とを加え、 1 TJP
43
時間撹拌して反応させた。
さらに、 0 まで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5m lを加え、 塩ィ匕メチレン 20m 1で抽出した。 有機層を飽和塩化ナト リウム水溶液 1 5 m 1で洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HP LC法により定量すると 3 _ ( (R) — 1ーフヱニルェ チル） 一 4—メ トキシカルボニル一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの収率 は 86%であった。 生成物の c i s/ t r a n s体の生成比は 3 97であり、 t r a n s体のジァステレオマー比は 1 / 1であった。
実施例 1 3 : 3— ( (R) - 1—フエニルェチル） 一 4ーメ トキシカルボニル — 5—フエニル一 2 _ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (R) 一 1一フエニルェチル） 一5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン l l Omg (0. 5mmo 1 ) を塩化メチレン 3 m 1に溶 解し、 一 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53. 1 mg (0. 5mmo 1 ) とトリフルォロメタンスルホン酸 1 5 mg (0. 05 mm 0 1 ) とを加え、 1時 間撹拌して反応を行った。
さらに、 0でまで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5 m 1を加え、 塩ィヒメチレン 2 Om 1で抽出した。 有機層を飽和塩化ナト リウム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HP LC法により定量すると、 3— （ （R) — 1—フヱニル ェチル） 一 4—メ トキシカルボ二ルー 5—フエニル _ 2—ォキサゾリジノンの i|又 率は 67%であった。生成物の c i s/ t r a n s体の生成比は 4Z96であり、 t r a n s体のジァステレオマー比は 67/33であった。
実施例 14 ： 3— ( (S) — 1—フエニルェチル） 一 4一イソプロポキシカル ボニル一 5 _フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (S) — 1—フエニルェチル） 一 5—イソプロポキ シ一 2 (3 H) ォキサゾロン 124mg (0. 5mmo 1 ) を塩化メチレン 3 m 1に溶解し、 一 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53. 1 mg (0. 5m mo 1 ) と 1. OM—トリメチルシリルトリフラ一ト塩化メチレン溶液 0. 05 m l (0. 05mmo 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応を行った。 さらに、 0°Cまで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5 m 1を加え、 塩ィ匕メチレン 20m lで抽出した。 有機層を飽和塩化ナト リウム水溶液 1 5 m 1で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3 - ( (S) — 1—フエニルェチル） 一 4—イソプロポキシカルボニル一 5—フ ェニルー 2—ォキサゾリジノン （1 7 l mg (0. 485 mm o 1 ) ) を褐色油 状物質として得た。 生成物の c i s/ t r a n s体の生成比は 1H— NMRによ れば、 1/99であり、 t r a n s体のジァステレオマ一比は 75/ 2 5であつ た。 3— ( (S) 一 1 _フエニルェチル） 一 5—イソプロポキシ一2 (3 H) ォ キサゾロンに対する収率は、 97%であった。
t r a n s体 （ジァステレオマー混合物）
MS (C I, i - C4H10) m/z ： 3 54 (MH+) .
1 H - NMR (< C D C 13) ( t r a n s体， m a j o r i s ome r) ： 1. 30 (d, J = 6. 3 Hz， 6 H) ， 1. 60 (d, J = 7. 3 Hz， 3 H) ，
3. 77 (d， J =4. 4 H z, 1 H) , 5. 1 4 (m， 1 H) , 5. 28 (d, J =4. 4 Hz， 1 H) ， 5. 30 (q, J = 7. 3 H z, 1 H) , 7. 24—
7. 3 9 (m, 1 0 H) , (t r a n s体， m i n o r i s ome r) : 1. 08 (d, J = 6. 4 H z, 6H) ， 1. 6 5 (d, J - 6. 8 H z, 3 H) ,
4. 08 (d, J = 4. 4 Hz, 1 H) , 4. 70 (m， 1 H) , 5. 06 (q, J = 6. 8 H z, 1 H) ， 5. 3 1 (d， J =4. 4 H z, 1 H) ， 7. 24 - 7. 39 (m， 1 0 H) .
実施例 1 5 : 3— ( (S) — 1—フエニルェチル） 一4—イソプロポキシカル ボニル一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (S) — 1—フエニルェチル） 一 5—イソプロポキ シ一 2 (3 H) ォキサゾロン 1 24mg (0. 5 mm o 1 ) を塩ィ匕メチレン 3 m 1に溶解し、 一 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53. l mg (0. 5 m mo 1 ) と 1. 0M— BF3 · E t 20塩化メチレン溶液 0. 05m l (0. 05 mmo 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応を行った。
さらに、 0でまで昇温した後、 得られた反応溶液に、 飽和炭酸水素ナトリウム 水溶液 1 5m 1を加え、 塩化メチレン 20m 1で抽出した。 有機層を飽和塩化ナ トリウム水溶液 1 5 m 1で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HP LC法により定量すると、 3— ( (S) — 1—フヱニル ェチル） _ 4ーィソプロポキシカルボ二ルー 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノ ンの収率は 82%であった。 — NMRによれば、 生成物の c i s/ t r a n s 体の生成比は 4/96であり、 t r a n s体のジァステレオマー比は 69/3 1 であった。
実施例 1 6 : 3— ( (S) — 1—フエニルェチル） 一 4—イソプロポキシカル ボニルー 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (S) 一 1—フエニルェチル） 一 5—イソプロポキ シー 2 (3 H) ォキサゾロン 1 24 mg (0. 5 mm o 1 ) を塩化メチレン 3 m 1に溶解し、 一 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53. 1 mg (0. 5m mo 1 ) と 1. 0M— T i C l 4塩化メチレン溶液 0. 05m l (0. 05mmo 1 ) とを加え、 2時間撹禅して反応させた。
さらに、 室温まで昇温し、 更に 1時間撹拌した後、 得られた反応溶液に飽和炭 酸水素ナトリウム水溶液 1 5m lを加え、 塩化メチレン 2 0 m 1で抽出した。 有 機層を飽和塩化ナトリウム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾 燥後、減圧濃縮し、得られた濃縮残渣を HP LC法により定量すると、 3— （ （S) 一 1—フエニルェチル） 一 4—ィソプロポキシカルボ二ルー 5—フエ二ルー 2— ォキサゾリジノンの収率は 59%であった。 1 H— NMR分析によれば c i s体の 生成は認められず、 t r a n s体のジァステレオマー比は 50Z50であった。 実施例 1 7 : 3— ( (S) — 1—フエニルェチル） 一4—イソプロポキシカル ボニル一 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 （ （S) — 1—フエニルェチル） 一 5—イソプロボキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン 1 24mg (0. 5 mm o 1 ) を塩化メチレン 3 m 1に 溶解し、 一 78。Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53. 1 mg (0. 5 mm o 1 ) と 1. 0M— A 1 C 13 塩化メチレン溶液 0. 05m l (0. 05mmo 1 ) とを加え、 1時間撹拌した反応を行った。
室温まで昇温し、 更に 1時間撹拌した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナ トリゥム水溶液 1 5 m 1を加え、 塩化メチレン 2 Om 1で抽出した。 有機層を飽 和塩化ナトリゥム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減 圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HPLC法により定量すると、 3 _ ( (S) 一 1 —フエニルェチル) 一 4—ィソプロポキシカルボ二ルー 5—フエニル一 2—ォキ サゾリジノンの i|又率は 68%であった。 ]H_NMR分析によれば、 生成物の c i s/ t r a n s体の生成比は 5Z95であり、 t r a n s体のジァステレオマ一 比は 66/34であった。
実施例 18 : 3— (1—フエニルェチル） 一 4—メ トキシカルボ二ルー 5—ィ ソプロピル一 2—ォキサゾリジノンの合成
3— （1—フエニルェチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン 0. 438 g (2. 0 mm 0 1 ) とイソブチルアルデヒ ド 0. 1 5 1 g (2. 1 m mo 1 ) とを塩化メチレン 6m 1に溶解し、 アルゴン雰囲気下、 一 78°Cに冷却 し、 BF3 ' E t 2〇 14mg (0. 1 mm o 1 ) を加えて、 一78°Cで 30分間 撹拌して反応させ、 その後— 40°Cまで温度を上げ、 1時間撹拌して反応させた。 さらに、 一 20°C付近まで温度を上げ、 得られた反応溶液に、 飽和炭酸水素ナ トリゥム水溶液 1 5 m〖を加え、 更に塩化メチレン 20m lで抽出した。 有機層 を飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3— （1 —フエニルェチル） _ 4—メ トキシカルボ二ルー 5—ィソプロピル一 2—ォキサ ゾリジノンを黄色透明オイル状物質 （0. 57 g) として得た。 ！H— NMR分析 によれば、 得られた生成物の c i s/ t r a n s体の生成比は 7/93であり、 t r a n s体のジァステレオマ一比は、 80/ 20であった。 3— ( 1—フエ二 ルェチル） —5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン基準の収率は、 96%であ つた。
t r a n s体 （ジァステレオマ一混合物）
I R (n e a t, cm-1) : 1 760 (s) ， 1406 (m) .
Ή-NMR (δ , CDC 13) ( t r a n s体， m a j o r i s ome r) ： 0. 73 (d， J = 6. 8Hz， 3 H) ， 0. 76 (d， J = 6. 8Hz, 3 H) ， 1. 55 (d， J = 7. 3 H z, 3H) ， 1. 67 (m, 1 H) ， 3. 60 (d， J = 4. 4 H z, 1 H) ， 3. 78 (s， 3 H) ， 4. 80 (d d, J =4. 4 Hz, J = 5. 9Hz, 1 H) ， 5. 27 (q, J - 7. 3 Hz, 1 H) ， 7. JP98/02129
47
2— 7. 4 (m, 5 H) , ( t r a n s体， m i n o r, i s ome r) ： 0. 94 (d， J = 6. 8 Hz， 3 H) ， 0. 9 7) d, J = 6. 8 Hz, 3 H) ， 1. 67 (d， J = 7. 3 Hz， 3 H) ， 1. 88 (m, 1 H) ， 3. 24 (s， 3 H) ， 3. 98 (d, J =4. 4 Hz, 1 H) ， 4. 1 1 (d d, J =4. 4 Hz， J = 5. 9 Hz, 1 H) ， 5. 1 4 (q， J = 7. 3 Hz， 1 H) ，
MS (E I) m/z ： 29 1 (M+) , 1 05.
実施例 1 9 : 3— （ 1—フエニルェチル） 一 4ーメ トキシカルボニル一 5— (2 . 一フエニルェチル） 一 2—ォキサゾリジノンの合成
3— (1—フエニルェチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン 0. 22 g (1. 0mmo l ) とヒドロシンナムアルデヒ ド 0. 1 34 g (1. 0 mmo 1 ) とを塩化メチレン 4m 1 に溶解し、 アルゴン雰囲気下、 一 78°Cに冷 却し、 BF3 ' E t 2〇 1 4mg (0. l mmo l ) を加えて、 一 78°Cで 30分 間撹拌して反応させた。 その後一 40°Cまで温度を上げ、 1時間撹拌して反応さ せた。
さらに、 一 20°C付近まで温度を上げ、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナト リウム水溶液 1 5 m 1 を加え、 更に塩ィヒメチレン 20 m 1で抽出した。 有機層を 飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 濃縮残渣を シリカゲルカラムクロマトグラフィー （溶離液： n—へキサン Z酢酸ェチル = 5 / 1 ) に付し、 3— (1—フエニルェチル） 一 4ーメ トキシカルボニル 5 _ (2 —フエニルェチル） 一 2—ォキサゾリジノンを黄色透明オイル状物質 （0. 3 0 g) として得た。 得られた生成物の c i s/ t r a n s体の生成比は 7 ： 93で あり、 'H— NMR分析によれば、 t r a n s体のジァステレオマー比は 86 1 4であった。 3— (1—フエニルェチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 Η) ォキサ ゾロン基準の収率は、 84 %であつた。
t r a n s体 （ジァステレオマー混合物）
I R (n e a t, cm -1) : 1 760 (s) ， 1 404 (m) .
!H-NMR (<J, CDC 13) ( t r a n s体， ma j o r i s ome r) ： 1. 56 (d, 1 = 7. 3 Hz， 3 H) , 1. 76 (m, 2 H) ， 2. 58 (t， J = 7. 8H z, 2H) ， 3. 55 (d， J = 3. 9Hz， 1 H) ， 4. 30 (m, 1 H) ， 5. 28 (q, J = 7. 8 Hz, 1 H) ， 7. 1— 7. 4 (m， 1 0 H) MS (E I) mZz : 353 (M+) ， 105.
実施例 20 ： 3 - ( (R) - 1 - ( 1—ナフチル） ェチル） _4—メ トキシカ ルボニル一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
3 - ( (R) - 1 - ( 1—ナフチル） ェチル） 一 5—メ トキシー 2 (3 H) ォ キサゾロン 0. 27 g (l . 0 mm 0 1 ) とべンズアルデヒ ド 0. 1 06 g (1. Ommo 1 ) とを塩ィ匕メチレン 4 m 1に溶かし、 アルゴン雰囲気下、 一 7 8°Cに冷却し、 BF3 ' E t 2〇 14mg (0. 1 mm o 1 ) を加えて、 一 78 °C で 2時間撹拌して反応させた。
さらに、 o°cまで温度を上げた後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウ ム水溶液 1 5m lを加え、 更に塩化メチレン 2 Om 1で抽出した。 有機層を飽和 食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3— ( (R) — 1一 （1—ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボニル一 5 _フエニル _ 2— ォキサゾリジノンを無色透明オイル状物質 （0. 37 g) として得た。 — NM R分析によれば、 c i s体の生成は認められず、 t r a n s体のジァステレオマ —比は、 72Z28であった。 3— ( (R) - 1 - (1—ナフチル） ェチル） 一 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロン基準の収率は、 99%であった。
t r a n s体 （ジァステレオマー混合物）
I R (n e a t, cm-1) : 1 752 (s) , 1402 (m) .
JH-NMR (<5, CDC 13) (t r a n s体， ma j o r i s ome r) ： 1. 83 (d, J =6. 8 H z, 3 H) ， 3. 30 (d， J =4. 9 H z, 1 H) ， 3. 73 (s， 3H) , 5. 19 (d， J =4. 9Hz， 1 H) , 6. 00 (q， 1 = 6. 8 H z , 1 H) ， 6. 8— 7. 9 (m， 1 2 H) , (t r a n s体， m i n o r i s ome r) : 1. 67 (d， J = 6. 8Hz， 3 H) ， 2. 6 1 (s, 3H) ， 4. 1 1 (d， J =4. 4Hz， 1 H) , 5. 20 (d, J =4. 4Hz， 1 H) ， 6. 09 (q， J - 6. 8Hz, 1 H) .
MS (E I ) m/z ： 375 (M+) ， 155, 1 06.
実施例 2 1 ： 3 - ( (R) - 1 - ( 1—ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカ ルボニル一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成 アルゴン雰囲気下、 3 _ ( (R) — 1— ( 1—ナフチル） ェチル） 一 5—メ ト キシ一 2 (3 H) ォキサゾロン 1 3 5mg (0. 5 mmo 1 ) を塩化メチレン 3 m lに溶解し、 一 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53. 1 mg (0. 5 mm 0 1 ) と 1. 0M—トリメチルシリルトリフラート塩化メチレン溶液 0. 0 5m 1 (0. 05mmo 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応を行った。
さらに、 o°cまで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5m lを加え、 塩ィヒメチレン 20 m 1で抽出した。 有機層を飽和塩化ナト リゥム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HP LC法により定量すると、 3— （ （R) — 1— (1—ナ フチル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボ二ルー 5—フエニル一 2—ォキサゾリジ ノンの収率は 9 2%であった。 生成物の c i s / t r a n s体の生成比は 1Z9 9であり、 t r a n s体のジァステレオマー比は 86/1 4であった。
実施例 22 : 3— ( (R) _ 1— (1—ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカ ルボニル一 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (R) - 1 - (1一ナフチル） ェチル） 一 5—メ ト キシ一 2 (3 H) ォキサゾロン 1 3 5mg (0. 5 mmo 1 ) を塩ィ匕メチレン 3 m lに溶解し、 一 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒド 53. 1 m g (0. 5 mmo 1 ) と 1. OM— S n C し 塩化メチレン溶液 0. 1 m l (0. 1 mm o 1 ) とを加え、 室温まで昇温し、 20時間撹拌して反応させた。
得られた反応溶液に、 飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液 1 5 m 1 を加え、 塩化メ チレン 2 0 m 1で抽出した。 有機層を飽和塩化ナトリゥム水溶液 1 5m lで洗浄 し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HP LC 法により定量すると、 3— ( (R) - 1 - (1一ナフチル） ェチル） _4—メ ト キシカルボ二ルー 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンの I)又率は 54 %であった。 生成物の c i sZ t r a n s体の生成比は 5/9 5であり、 t r a n s体のジァ ステレオマー比は 8 1/1 9であった。
実施例 23 : 3— ( (R) — 1一 （1—ナフチル） ェチル） 一 4ーメ トキシカ ルボニル一 5— (2—フエニルェチル） 一 2—ォキサゾリジノンの合成
3 - ( (R) 一 1一 （1一ナフチル） ェチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォ キサゾロン 0. 2 7 g (1. Ommo 1 ) とヒ ドロシンナムアルデヒ ド 0. 1 3 4 g (1. 0 mm 0 1 ) とを塩化メチレン 4 m 1に溶解し、 アルゴン雰囲気 下、 一 78。Cに冷却し、 BF3 ' E t 201 4mg (0. l mmo l ) を加えて、 - 78でで 2時間、 撹拌して反応させた。
さらに、 0°Cまで温度を上げた後、 得られた反応溶液に、 飽和炭酸水素ナトリ ゥム水溶液 1 5 m 1を加え、 更に塩化メチレン 2 0 m 1で抽出した。 有機層を飽 和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 n—へキサン を加えて結晶化させ、 3 _ (1— (1—ナフチル） ェチル） 一4ーメ トキシカル ボニル一 5— (2—フエニルェチル） 一 2—ォキサゾリジノンを白色結晶 （0. 3 6 g) として得た。 — NMRによれば生成物の c 1 s/ t r a n s体の生 成比は 1/99であり、 t r a n s体のジァステレオマー比は 9 7Z3であった。
3 - ( (R) 一 1— (1一ナフチル） ェチル） 一 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキ サゾロン基準の収率は、 99 %であった。
t r a n s体 （ジァステレオマ一混合物）
融点： 1 4 5〜 1 47 °C
I R (KB r , cm-1) : 1 745 (s) , 1 4 1 4 (m) .
^-NMR 、 CDC 13) (ma j o r i s ome r) : 1. 4 5 (m, 2 H) , 1. 79 (d， J = 6. 8 H z, 3 H) ， 2. 3 8 ( t , J = 7. 8 H z, 2 H) ， 2. 99 (d， J = 3. 9 Hz， 1 H) ， 3. 69 (s， 3 H) ， 4. 1 9 (m， 1 H) , 5. 94 (q， J = 6. 8 Hz， 1 H) ， 6. 8 - 7. 9 (m, 1 2 H) .
MS (E I) m/z ： 403 (M + ) ， 1 55.
実施例 24 ： 3 - ( (R) - 1 - ( 1—ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカ ルボニルー 5—イソプロピル一 2—ォキサゾリジノンの合成
3— ( (R) — 1 _ ( 1一ナフチル） ェチル） 一 5—メ トキシー 2 (3 H) ォ キサゾロン 0. 1 4 1 g (0. 52 mmo 1 ) とイソブチルアルデヒ ド 0. 0
4 g (0. 55mmo 1 ) とを塩化メチレン 3 m 1に溶解し、 アルゴン雰囲気下、 -78°Cに冷却し、 BF3 · E t 201 Omgを加えて、 一 78 °Cで 2時間攪拌し て反応させた。 さらに、 一 20°Cまで温度を上げた後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナト リゥム水溶液 1 5 m 1を加え、 更に塩化メチレン 1 0m lで抽出した。 有機層を 飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 n—へキサ ンを加えて結晶化させ、 3— ( (R) — 1 _ (1一ナフチル） ェチル） 一4—メ トキシカルボニル一 5 _イソプロピル _ 2—ォキサゾリジノンを白色結晶として (0. 1 7 g) 得た。 ）H— NMRによれば生成物の c 1 s/ t r a n s体の生成 比は 1/99であり、 t r a n s体のジァステレオマ一の比は 93/7であった。 更にその結晶を n—へキサンで洗浄することにより、 t r a n s体の主成績体を 99%の純度で 0. 1 2 g取得することができた。 3— ( (R) 一 1— (1—ナ フチル） ェチル） 一5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン基準の収率は、 96% であった。
t r a n s体 、 ma j o r i s ome r)
融点： 102〜 106 °C
I R (KB r， cm-1) : 1 751 ( s ) ， 1 732 ( s ) , 14 13 (m) . Ή-NMR 、 CDC 13) ： 1. 45 (m， 2 H) , 1. 79 (d, J = 6. 8Hz, 3 H) ， 2. 38 (t， J = 7. 8Hz， 2 H) ， 2. 99 (d, J = 3. 9 H z, 1 H) ， 3. 69 (s, 3 H) ， 4. 1 9 (m， 1 H) ， 5. 94 (q， J =6. 8Hz, 1 H) , 6. 8— 7. 9 (m， 12 H) .
MS (E I ) m/z ： 34 1 (M+) ， 1 55.
実施例 25 ： 3—ジフエ二ルメチルー 4—メ トキシカルボニル一 5—トリデシ ル一 2—ォキサゾリジノンの合成
3—ジフエ二ルメチルー 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロン 0. 438 g (2. Ommo 1 ) とテトラデシルアルデヒド 0. 424 g (2. 0mmo l) とを塩化メチレン 4 m 1に溶解し、アルゴン雰囲気下、一 20°Cに冷却し、 BF3 · E t 2028 mg (0. 2 mm o 1 ) を加えて、 そのまま 2時間撹拌して反応させ、 更に 0 °Cで 1時間撹拌して反応させた。
得られた反応溶液に、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液 1 5 m 1を加え、 更に塩 化メチレン 20 m 1で抽出した。 有機層を飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネ シゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた残渣にメタノール 5 m 1加えて結晶化さ せ 3—ジフエ二ルメチルー 4—メ トキシカルボ二ルー 5—トリデシルー 2—ォキ サゾリジノンを白色結晶として 0. 6 g得た。 HP L C分析によれば生成物の c
1 s/ t r a n s体の生成比は 1 0/9 0であった。 3—ジフエニルメチル一 5 —メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン基準の収率は、 7 0%であった。
c i s— t r a n s体 (混合物)
融点： 6 1〜 6 5 °C
I R (KB r , c m -リ ： 1 7 7 2 (s) ， 1 7 4 0 ( s) ， 1 3 9 3 (m) . ^-NMR ( δ , CDC 1 3) ( t r a n s体） ： 0. 8 8 ( t , J = 6. 6 H z , 3 H) ， 1. 1— 1. 7 (m， 2 4 H) ， 3. 3 7 (s， 3 H) ， 3. 9 2 (d, J = 4. 4 H z) ， 4. 3 3 (m， 1 H) , 6. 2 0 ( s, 1 H) ， 7.
2— 7. 4 (m, 1 0 H) .
MS (E I ) m/z ： 4 9 3 (M+) ， 1 6 7.
実施例 2 6 ： 3—ジフエニルメチル一 4— ( ) —メンチルォキシカルボニル） - 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
3—ジフエニルメチル一 5 _ ( ) 一メンチルォキシ） 一 2 (3 H) —ォキサ ゾロン 0. 4 0 5 g ( 1. 0 mm 0 1 ) とべンズアルデヒ ド 0. 1 0 6 g ( 1. Ommo 1 ) とを塩ィヒメチレン 4 m 1に溶解し、一 7 8°Cに冷却し、 T i C 1 4 ( 1 9 m g ： 0. l mmo l ) を加えて、 そのまま 1時間撹拌して反応させ、 更に一 2 0°Cで 2時間撹拌して反応させた。
さらに、 室温まで温度を上げ、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5m lを加え、 更に塩化メチレン 2 Om 1で抽出した。 有機層を飽和食塩 水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた残渣をシリ 力ゲルカラムクロマトグラフィー （溶離液： n—へキサン/酢酸ェチル = 9Z 1 ) に付し、 3—ジフヱ二ルメチルー 4— ( {1) —メンチルォキシカルボニル） 一 5 —フエニル一 2—ォキサゾリジノンの t r a n s体のジァステレオマ一混合物を 白色結晶として 0. 2 4 g得た。 — NMRより t r a n s体のジァステレオマ 一比は 64Z3 6であった。 3—ジフエニルメチル _ 5— ( (i) 一メンチルォキ シ） 一 2 (3 H) 一才キサゾロン基準の収率は、 4 7%であった。
t r a n s体 （ジァステレオマー混合物） 融点： 1 36〜 1 39 °C
I R (KB r , cm-1) : 1 757 (s) ， 1 390 (m) .
— NMR 、 CDC 13) (ma j o r i s ome r) 4. 1 8 (d， J = 3. 7 H z, 1 H) , 5. 36 (d， J = 3. 7 H z, 1 H) 6. 1 2 (s， 1 H) ， (m i n o r i s ome r) ： 4. 1 5 (d, 3. 7 Hz, 1 H) , 5. 39 (d， J -3. 7Hz， 1 H) ， 6. 1 8 (s, 1 H) .
MS (C I, i -C4H10) m/z ： 5 1 2 (MH+) .
実施例 27 ： 3—ジフエ二ルメチルー 4一 ( (ί) —メンチルォキシカルボニル） 一 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンの合成
3—ジフエ二ルメチルー 5— ( ) —メンチルォキシ） 一2 (3 Η) 一ォキサ ゾロン 0. 40 5 g (1. 0 mm 0 1 ) とべンズアルデヒ ド 0. 1 06 g (1. Ommo 1 ) とを塩ィ匕メチレン 4 m 1に溶解し、 一 78°Cに冷却し、 BF3 · E t 20 ( 1 5mg ： 0. 1 mmo 1 ) を加えて、 そのまま 4時間撹拌して反応させた。 さらに、 室温まで温度を上げ、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5m lを加え、 更に塩化メチレン 20 m 1で抽出した。 有機層を飽和食塩 水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた残渣にメタ ノール 1 5m 1を加え結晶化させ、 3—ジフエ二ルメチルー 4 _ ( ( ) 一メンチ ルォキシカルボニル） 一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの t r a n s体の ジァステレオマ一混合物を白色結晶として 0. 24 g得た。 実施例 1 1の場合と 選択性は逆転し、 生成物のジァステレオマ一比は 48 / 52の混合物となった。 3—ジフヱニルメチル一 5 _ ( it) —メンチルォキシ） —2 (3 H) 一才キサゾ ロン基準の収率は、 47%であった。
実施例 28 ： 3—ジフエ二ルメチルー 4— ( (1 S， 2 S， 5 R) — 5—メチ ル一2— ( 1—メチルー 1—フエニルェチル） シクロへキシルォキシカルボニル） — 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
3—ジフエ二ルメチルー 5— ( ( 1 S, 2 S, 5 R) — 5—メチル一2— （1 —メチル一 1—フエニルェチル） シクロへキシルォキシ） —2 (3 H) —ォキサ ゾロン （0. 24 g ； 0. 5 mmo 1) とべンズアルデヒ ド （0. 053 g ； 0. 5 mmo 1 ) とを塩ィ匕メチレン 4 m 1に溶解し、 一 78°Cに冷却し、 BF3 · E t 2〇 1 Omgを加えて、 一 78°Cで 2時間撹拌して反応させた。
さらに、 室温まで温度を上げ、 得られた反応溶液に、 飽和炭酸水素ナトリウム 水溶液 1 5 m l を加え、 更に塩化メチレン 2 O m 1で抽出した。 有機層を飽和食 塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3—ジフヱニルメ チル一 4— ( ( I S, 2 S, 5 R) 一 5—メチルー 2— ( 1—メチル一 1 _フエ ニルェチル） シクロへキシルォキシカルボニル） 一 5—フエニル一 2—ォキサゾ リジノンを黄色結晶として 0. 2 9 g得た。 〗H_NMR分析によれば生成物の c i s / t r a n s体の生成比は 6 4Z3 6であった。 また、 c i s体、 t r a n s体が、 それぞれ単一のジァステレオマーとして得られた。 3—ジフエ二ルメチ ルー 5— ( ( I S, 2 S, 5 R) — 5—メチル一 2— ( 1 —メチル一 1 —フエ二 ルェチル） シクロへキシルォキシ） 一 2 (3 H) —ォキサゾロン基準の収率は、 9 9%であった。
C 1 S体
!H— NMR (S CDC 1 3) ： 3. 7 0 (d， J = 9. 8 H z， 1 H) ， 4. 1 3 ( t d, J = 3. 9 0 H z, J = 1 0. 7 H z， 1 H) , 5. 2 4 (d, J = 9. 8 H z, 1 H) ， 5. 9 1 ( s , 1 H) .
t r a n s体
Ή-NMR (δ, CDC 1 3) : 3. 5 0 (d, J = 3. 9 H z, 1 H) , 4. 7 3 ( t d， J = 3. 9 H z, J = 1 0. 7 H z， 1 H) , 5. 0 7 (d， J = 3. 9 H z， 1 H) ， 5. 9 7 (s， 1 H) .
MS (C I， i -C4H10) m/z : 5 8 8 (MH+)
実施例 2 9 : 3— ( 1— （ 1—ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボニル - 5—スチリル一 2—ォキサゾリジノンの合成
3— （ 1— ( 1一ナフチル） ェチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロ ン 0. 1 3 5 g (0. 5 mmo 1 ) とシンナムアルデヒ ド 0. 0 6 6 g (0. 5 mm 0 1 ) とを塩ィ匕メチレン 4m 1 に溶解し、 アルゴン雰囲気下、 一 7 8°Cに冷 却し、 トリメチルシリルトリフラ一ト 1 Omgを加えて、 そのまま 2時間撹拌し て反応させた。
さらに、 室温まで温度を上げた後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウ ム水溶液 1 5m 1を加え、 更に塩化メチレン 1 0m lで抽出した。 有機層を飽和 食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3— （1— (1 —ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボ二ルー 5—スチリルー 2—才キサゾ リジノン （0. 20 g) を黄色結晶として得た。 〖H— NMRによれば生成物の c i sZ t r a n s体の生成比は 3Z97であり、 t r a n s体のジァステレオマ —比は、 9278であった。 3— （1— (1一ナフチル） ェチル） 一 5—メ トキ シ一 2 (3 H) ォキサゾロン基準の収率は、 99%であった。
t r a n s体 （ジァステレオマ一混合物）
融点： 1 02〜 1 1 0 °C
I R (KB r， cm-1) : 1 76 1 (s) ， 1 683 (s) ， 1 386 (s) 1 H-NMR {d, CDC 13) (ma j o r i s ome r) : 1. 8 1 (d, J = 6. 9Hz, 3 H) ， 3. 1 4 (d， J =3. 9 H z, 1 H) ， 3. 74 (s， 3 H) , 4. 8 1 (d d， J = 3. 9H z， J = 6. 8 H z， 1 H) ， 5. 4 7 (d d， J =6. 8 H z， J = 1 5. 6 Hz, 1 H) , 5. 96 (q， J - 6. 9H z， 1 H) ， 6. 40 (d， J = 1 5. 6H z, 1 H) , 6. 9 -8. 0 (m， 1 2 H) .
MS (E I) m/z ： 40 1 (M+) , 1 55.
実施例 30 ： 3—ジフエニルメチル一 4—メ トキシカルボ二ルー 4—メチル一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3—ジフエニルメチル一 4—メチルー 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロン 1 48mg (0. 5mmo 1 ) を塩化メチレン 3 m 1に溶解し、 — 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒド 53. 1 mg (0. 5 mmo 1 ) と 1. 0Mトリメチルシリルトリフラ一ト塩化メチレン溶液 0. 05m l (0. 0 5m mo 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応させた。
さらに、 0°Cまで昇温した後、 得られた反応溶液に、 飽和炭酸水素ナトリウム 水溶液 1 5m lを加え、 塩化メチレン 20 m 1で抽出した。 有機層を飽和塩化ナ トリウム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3—ジフエ二ルメチルー 4—メ トキシカルボ二ルー 4一メチル _ 5 _フエ二ルー 2—ォキサゾリジノン 1 9 1 mg (0. 4 7 5 mm 0 1 ) を褐色油状物質とし て得た。 3—ジフエニルメチル _ 4—メチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサ ゾロンに対する収率は、 9 5%であった。 HP L C分析によれば、 生成物の c i sZ t r a n s体の生成比は、 1 0Z9 0であった。
c i s— t r a n s (混合物)
MS (C I , i -C4H10) m/z ： 4 02 (MH+)
t r 3 n s体
!H-NMR (δ CDC 1 3) : 0. 9 1 (s 3 H) ， 3. 4 4 (s , 3 H) ， 5. 5 2 (s， 1 H) ， 5. 6 5 (s， 1 H) ， 7. 1 4 - 7. 3 3 (m， 1 5 H) .
13C - NMR (S, CDC I 3) ： . 9. 3 5 2. 9 , 6 1 5， 6 8. 8, 8 0. 8， 1 2 6. 3， 1 2 7. 5 1 2 7. 7， 1 2 8. 5 , 1 2 8. 6， 1 2 8. 7， 1 2 9. 0, 1 3 4. 6 1 3 8. 1 3 9. 3. 1 5 5. 9 , 1 7 2. 1.
c i s体
JH— NMR {8, CDC 1 3) : 1. 5 1 ( s , 3 H) ， 2. 8 4 (s， 3 H) ， 5. 2 0 (s， 1 H) , 5. 6 8 ( s 1 H) , 7. 1 4 - 7. 3 3 (m， 1 5 H) .
13C-NMR (δ, CDC 1 3) : 1 9. 3 5 2. 9, 6 1 5， 6 8. 8， 8 0. 8， 1 2 6. 3， 1 2 7. 5， 1 2 7. 7， 1 2 8. 5: 1 2 8. 6， 1 2 8. 7， 1 2 9. 0, 1 3 4. 6, 1 3 8. 6, 1 3 9. 3 1 5 5. 9 , 1 7 2. 1.
実施例 3 1 ： 3—ジフエニルメチル一 4—メ トキシカルボニル一 4ーメチルー 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3—ジフエニルメチル一 4—メチルー 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン 1 4 8mg (0. 5 mmo 1 ) を塩化メチレン 3 m 1に溶解さ せ、 一 7 8°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 5 3. 1 m g (0. 5 mm o 1 ) と 1. 0M— t—ブチルジメチルシリルトリフラート塩ィヒメチレン溶液 0. 0 5 m l (0. 0 5mmo 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応させた。
さらに、 0°Cまで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5 m 1を加え、 塩ィヒメチレン 20m lで抽出した。 有機層を飽和塩化ナト リゥム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HP LC法により定量すると、 3—ジフヱ二ルメチルー 4— メ トキシカルボ二ルー 4—メチルー 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンの収率 は 90%であった。 HP LC分析によれば、 生成物の c i s/ t r a n s体の生 成比は 1 1 Z89であった。
実施例 32 ： 3—ジフエ二ルメチルー 4—メ トキシカルボ二ルー 4—メチルー 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3—ジフエニルメチル一 4—メチルー 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロン 1 48mg (0. 5 mm o I ) を塩化メチレン 3 m 1に溶解し、 — 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53, 1 mg (0. 5 mm o 1 ) と 1. 0M— T i C 14塩ィ匕メチレン溶液 0. 05m l (0. 05 mm o 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応させた。
さらに、 室温まで昇温し、 更に 1 8時間撹拌した後、 得られた反応溶液に飽和 炭酸水素ナトリウム水溶液 1 5m l を加え、 塩化メチレン 20 m 1で抽出した。 有機層を飽和塩化ナトリゥム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで 乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HP LC法により定量すると、 3—ジ フエ二ルメチルー 4—メ トキシカルボ二ルー 4ーメチルー 5—フエニル一 2—ォ キサゾリジノンの収率は 5 9 %であった。 HP LC分析によれば、 生成物の c i sZ t r a n s体の生成比は、 20ノ 80であった。
実施例 33 ： 3—ジフエニルメチル一 4—メ トキシカルボニル一 4—メチルー 5 _フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3—ジフエニルメチル一 4ーメチル一 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロン 1 4 1 mg (0. 5mmo 1 ) を塩化メチレン 3 m 1に溶解し、 一 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53. 1 m g (0. 5 mmo 1 ) と 1. 0M— BF3 · E t 20塩ィ匕メチレン溶液 0. 05m l (0. 05 mm o 1 ) とを 加え、 1時間撹拌して反応させた。
さらに、 室温まで昇温し、 更に 1 5時間撹拌した後、 得られた反応溶液に飽和 炭酸水素ナトリゥム水溶液 1 5 m 1 を加え、 塩化メチレン 20m lで抽出した。 有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで 乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HPLC法により定量すると、 3—ジ フエニルメチル一 4ーメ トキシカルボニル一 4ーメチルー 5—フエ二ルー 2—ォ キサゾリジノンの収率は 43 %であった。 HPLC分析によれば、 生成物の c i s Z t r a n s体の生成比は、 3 1/69であった。
実施例 34 : 3— ( (R) — 1—フエニルェチル） 一 4—メ トキシカルボニル - 4—メチル一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (R) — 1—フエニルェチル） —4—メチル一5— メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン 1 1 7mg (0. 5 mm o 1 ) を塩化メチレ ン 3m lに溶解し、 一 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53. 1 m g (0. 5mmo 1 ) と 1. 0 M— トリメチルシリルトリフラー ト塩化メチレン溶液 0. 05m l (0. 05mmo 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応させた。
さらに、 0でまで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5m lを加え、 塩化メチレン 20 m 1で抽出した。 有機層を飽和塩化ナト リゥム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3— ( (R) 一 1—フエニルェチル） 一 4—メ トキシカルボニル一 4ーメチルー 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノン 1 54mg ( 0. 455 mm o 1 ) を褐色 油状物質として得た。 生成物のジァステレオマ一比は （1) ： (2) ： (3) ： (4) =46 : 30 : 20 : 4であった。 3— ( (R) 一 1一フエニルェチル） — 4一メチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロンに対する収率は、 9 1% であった。
ジァステレオマ一混合物
MS (C I, i -C4H10) m/z ： 340 (MH+) .
生成物 （ 1 ) ( t r a n s体）
'H-NMR (δ, CDC 13) : 0. 92 (s， 3H) ， 1. 78 (d， J = 7. 3Hz, 3H) , 3. 79 (s， 3 H) ， 4. 55 (q, 1 =7. 3Hz， 1 H) , 5. 57 (s, 1 H) ， 7. 18— 7. 45 (m, 1 0 H) .
生成物 （ 2 ) ( t r a n s体）
— NMR (5, CDC 13) : 0. 95 (s， 3 H) , 1. 89 (d, J = 7. 3 H z, 3 H) , 3. 5 7 ( s， 3 H) ， 4. 6 7 (q, J = 7. 3 H z， 1 H) , 5. 6 2 (s, 1 H) ， 7. 1 8— 7. 4 5 (m, 1 0 H) .
生成物 （3) (c i s体）
'H-NMR (δ, CDC 1 3) : 1. 4 8 ( s , 3 H) , 1. 7 0 (d, J = 7. 8 H z, 3 H) , 3. 1 0 ( s , 3 H) ， 5. 0 1 (q, J = 7. 8 H z, 1 H) ， 5. 1 5 ( s， 1 H) , 7. 1 8— 7. 4 5 (m， 1 0 H) .
生成物 （4) (c i s体）
Ή-NMR (δ, CDC 13) : 1. 54 (d， J = 7. 3 H z, 3 H) ， 1. 6 0 ( s， 3 H) ， 3. 1 7 (s， 3 H) , 4. 9 0 (q, J = 7. 3 H z , 1 H) ， 5. 1 7 (s , 1 H) , 7. 1 8 - 7. 4 5 (m, 1 0 H) .
実施例 3 5 : 3— ( (R) — 1 —フエニルェチル） 一 4ーメ トキシカルボニル ― 4—メチルー 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (R) — 1一フエニルェチル） 一 4ーメチルー 5— メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン 1 1 7mg (0. 5 mmo 1 ) を塩化メチレ ン 3m 1 に溶解し、 一 7 8°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 5 3. 1 mg (0. 5 mm 0 1 ) と 1. 0M— S n C l 4 塩化メチレン溶液 0. 1 m l (0. 1 mm o 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応させた。
さらに、 室温まで昇温し、 更に 3時間撹拌した後、 得られた反応溶液に飽和炭 酸水素ナトリウム水溶液 1 5m l を加え、 塩化メチレン 2 0 m 1で抽出した。 有 機層を飽和塩ィヒナトリウム水溶液 1 5 m 1で洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾 燥後、 減圧濃縮し、 3— ( (R) 一 1—フエニルェチル） 一4—メ トキシカルボ 二ルー 4 _メチル一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノン 74. 7 m g (0. 2 2 mmo 1 ) を褐色油状物質として得た。生成物のジァステレオマー比は （1 ) ： (2) ： (3) ： (4) = 4 2 ： 1 3 ： 3 9 ： 6であった。 3— ( (R) — 1 — フエニルェチル） _4ーメチルー 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロンに対す る収率は、 4 4 %であった。
実施例 3 6 ： 3—ベンジル一 4—メ トキシカルボ二ルー 4—メチルー 5—フエ ニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3—ベンジル一 4ーメチルー 5—メ トキシー 2 (3 H) ォ キサゾ口ン l l Omg (0. 5 mm o 1 ) を塩化メチレン 3 m 1に溶解し、 一 7 8 °Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53. 1 mg (0. 5 mm o 1 ) と 1. 0 M— トリメチルシリルトリフラ一 ト塩ィヒメチレン溶液 0. 05m l (0. 05m mo 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応させた。
さらに、 0°Cまで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5 m 1を加え、 塩ィヒメチレン 2 Om 1で抽出した。 有機層を飽和塩化ナト リウム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3—ベンジル一 4ーメ トキシカルボニル一 4—メチル一 5—フエ二ルー 2—ォキ サゾリジノン 1 58mg (0. 48 5 mmo 1 ) を褐色油状物質として得た。 3 —ベンジル一 4—メチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロンに対する収率 は、 9 7%であった。 生成物の c i s/ t r a n s体の生成比は、 59Z4 1で あった。
c i s— t r a n s体 （混合物）
MS (C I， i— C4H10) m/z : 326 (MH+) .
Ή-NMR (δ, CDC 13) (t r a n s体） ： 0. 92 (s， 3 H) ， 3. 59 (s, 3 H) , 4. 4 6 (d， J = 1 5. 6 H z, 1 H) ， 4. 5 7 (d， J = 1 5. 6 H z , 1 H) ， 5. 66 (s， 1 H) ， 7. 24— 7. 3 7 (m， 1 O H) ， （c i s体） ： 1. 53 (s, 3 H) ， 3. 1 4 (s, 3 H) ， 4. 08 (d， J = 1 5. 6H z， 1 H) ， 4. 77 (d， J = 1 5. 6 Hz， 1 H) , 5. 2 1 ( s , 1 H) ， 7. 24— 7. 37 (m， 1 0 H) .
実施例 3 7 ： 3一ベンジル一 4ーメ トキシカルボ二ルー 4ーメチル一 5—フエ 二ルー 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3—ベンジル一 4—メチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォ キサゾ口ン l l Omg (0. 5mmo 1 ) を塩化メチレン 3 m 1に溶解し、 一 7 8 °Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53. 1 m g (0. 5 mm o 1 ) と 1. 0 M— S nC 14 塩化メチレン溶液 0. 1 m l (0. l mmo l ) とを加え、 1時 間撹拌して反応させた。
さらに、 室温まで昇温し、 3時間撹拌した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水 素ナトリゥム水溶液 1 5 m 1を加え、 塩化メチレン 2 Om 1で抽出した。 有機層 を飽和塩化ナトリウム水溶液 1 5m lで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HP LC法により定量すると、 3—ベンジル一 4—メ トキシカルボニル一 4ーメチル一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの 収率は、 6 2%であった。 生成物の c i s/ t r a n s体の生成比は、 34 6 6であった。
実施例 38 : 4， 5— a n t i— 3—ジフエ二ルメチルー 4， 5—ジメ トキシ カルボ二ルー 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3—ジフエニルメチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサ ゾロン 1 4 1 m g ( 0. 5 mm o 1 ) を塩化メチレン 2 m 1に溶解し、 一 78 °C に冷却した後、 0. 5 Mグリオキシル酸メチル塩化メチレン溶液 1 m 1 (グリオ キシル酸メチルとして 44 m g (0. 5 mm o 1 ) ) と 1. 0Mトリメチルシリ ルトリフラ一ト塩化メチレン溶液 0. 05m l (0. 05 mm 0 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応させた。 さらに、 室温まで昇温し、 1 5時間撹拌した後、 得 られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液 1 5 m 1 を加え、 塩ィヒメチレン 20 m lで抽出した。 有機層を飽和塩化ナトリゥム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無 水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 残渣をシリカゲルカラムクロマトグ ラフィ一 （n—へキサン ：酢酸ェチル： メタノール = 5 ： 1 ： 1) により精製し、 4, 5— a n t i— 3—ジフエ二ルメチルー 4， 5—ジメ トキシカルボニル一 2 —ォキサゾリジノン 5 1. 7 mg (0. 1 4 mm 0 1 ) を無色透明油状物質とし て得た。 3—ジフエ二ルメチルー 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロンに対す る収率は、 28%であった。
MS (C I , i - C4H10) m/z ： 370 (MH+) .
Ή-NMR (5, CDC 13) : 3. 38 (s， 3 H) , 3. 86 (s， 3 H) , 4. 40 (d, J = 2. 9 H z, 1 H) , 4. 83 (d， J = 2. 9 H z, 1 H) ， 6. 24 (s, 1 H) , 5. 6 5 (s， 1 H) ， 7. 20— 7. 36 (m, 1 0 H) .
実施例 39 : 4， 5— a n t i— 3—ジフエ二ルメチルー 4， 5—ジメ トキシ カルボニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3—ジフエ二ルメチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサ ゾロン 1 4 1 m g ( 0. 5 mm o 1 ) を塩ィ匕メチレン 2 m 1に溶解し、 一 78 °C に冷却した後、 0. 5 M—グリオキシル酸メチル塩化メチレン溶液 1 m 1 (44 mg (0. 5mmo 1 ) ) と 1. 0M— BF3 ' E t 20塩化メチレン溶液 0. 0 5m 1 (0. 05mmo 1 ) とを加え、 2時間撹拌して反応を行った。
さらに、 室温まで昇温し、 1 6時間撹拌した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸 水素ナトリゥム水溶液 1 5 m 1を加え、 塩化メチレン 20m lで抽出した。 有機 層を飽和塩化ナトリウム水溶液 1 5m lで洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥 後、 減圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HP LC法により定量すると、 4, 5— a n t i — 3—ジフエニルメチル一 4， 5—ジメ トキシカルボニル一 2—才キサゾ リジノンの収率は 4 7 %であった。
実施例 40 : 4， 5— a n t i — 3—ジフエ二ルメチル一 4， 5—ジメ トキシ カルボニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3—ジフエ二ルメチルー 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサ ゾロン 1 4 1 m g ( 0. 5 mm o 1 ) を塩化メチレン 2 m 1に溶解し、 一 78 °C に冷却した後、 0. 5M—グリオキシル酸メチル塩化メチレン溶液 1 m 1 (44 mg (0. 5mmo 1 ) ) と 1. 0M— T i C i 4 塩化メチレン溶液 0. 05m 1 (0. 05mmo 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応させた。
さらに、 室温まで昇温し、 1時間撹拌した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水 素ナトリゥム水溶液 1 5m 1を加え、 塩化メチレン 2 0m 1で抽出した。 有機層 を飽和塩化ナトリウム水溶液 1 5m lで洗浄し、無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 得られた濃縮残渣を HP L C法により定量すると、 4， 5— a n t i - 3ージフエ二ルメチルー 4， 5ージメ トキシカルボニル一 2—ォキサゾリジ ノンの収率は、 48%であった。
実施例 4 1 ： 3—ジフエニルメチル一 4—メ トキシカルボニル一 5— ( 3， 4 —メチレンジォキシフエニル） 一 2—ォキサゾリジノンの合成
3—ジフエニルメチル一 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロン 1 4 1 mg (0. 5 mm 0 1 ) を塩化メチレン 3 m 1に溶解し、 3， 4—メチレンジォキシベンズ アルデヒ ド 75mg (0. 5mmo 1 ) を加え、 アルゴン雰囲気下、 一 78°Cに 冷却し、 BF3 · E t 20の 0. 1 N—塩ィ匕メチレン溶液を 5 m 1 (0. 05 mm o 1 ) 加えて、 そのままで 3 0分間撹拌して反応させた。 更に温度を 0°Cとし 1 時間撹拌して反応させた。
さらに、 室温付近まで温度を上げ、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウ ム水溶液 1 5m lを加え、 更に塩化メチレン 1 5m lで抽出した。 有機層を飽和 食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3—ジフエ二ル メチル _ 4—メ トキシカルボニル一 5— （3， 4ーメチレンジォキシフエニル） — 2—ォキサゾリジノン 1 8 Omgを白色結晶として得た。 'Η— NMR分析によ れば、 c i s体の生成は認められなかった。 3—ジフエ二ルメチル一 5—メ トキ シ一 2 (3 H) ォキサゾロン基準の収率は、 ほぼ定量的であった。
'H-NMR ( CDC 13) ( t r a n s体） ： 3. 40 (s， 3 H) ， 4. 1 6 (d， J = 3. 9 H z , 1 H) ， 5. 34 (d， J = 3. 9 H z， 1 H) ， 6. 00 (s， 2 H) ， 6. 26 (s, 1 H) , 6. 78 (m， 3 H) ， 7. 2 3 - 7. 33 (m， 1 0 H) .
MS (E I) m/z ： 43 1 (M + ) , 206, 1 67.
元素分析： C a l c d : C, 69. 60 ; H, 4. 9 1 ； , 3. 2 5.
F o u n d : (：， 69. 50 ； H, 4. 93 ; N， 3. 20.
実施例 4 2 ： 3 - ( (R) - 1 - ( 1—ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカ ルポ二ルー 5— (3， 4ージメ トキシフエ二ル） 一 2—ォキサゾリジノンの合成 3— ( (R) — 1— ( 1—ナフチル） ェチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォ キサゾロン 0. 1 3 5 g (0. 5 mm 0 1 ) と 3, 4—ジメ トキシベンズアル デヒド 0. 083 g (0. 5mmo 1 ) とを塩化メチレン 3 m 1に溶解し、 ァ ルゴン雰囲気下、 一 78°Cに冷却し、 トリメチルシリルトリフラートの 0. 1 N —塩化メチレン溶液 0. 5m l (0. 0 5mmo 1 ) を加えて、 そのままで 3 0 分間撹拌して反応させた。
さらに、 温度を室温まで上げた後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリゥ ム水溶液 1 5m 1を加え、 更に塩ィヒメチレン 20m lで抽出した。 有機層を飽和 食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 シリカゲルカラ ムクロマトグラフィー （溶離液： n—へキサン Z酢酸ェチル = 4Z 1 ) に付し、 3— ( (R) _ 1— （ 1—ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボ二ルー 5 - フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンを白色結晶 （0. 1 9 g) として得た。 得られ た生成物の c i s/ t r a n s体の生成比は、 2Z98であり、 'Η— NMR分析 によれば t r a n s体のジァステレオマー比は、 86/1 4であった。 3— ( (R) 一 1一 （1—ナフチル） ェチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン基準 の収率は、 86%であった。
t r a n s体 （ジァステレオマー混合物）
I R (KB r , cm-1) : 1 755 (s) ， 1 5 1 8 (m) ， 1 3 99 (m) ^-NMR (S、 CDC 13) (ma j o r i s ome r) : 1. 8 1 (d, J = 6. 8 H z, 3 H) , 3. 39 (d， J = 5. 4 Hz， 1 H) , 3. 42 (s, 3 H) , 3. 75 (s， 3 H) ， 3. 77 (s， 3 H) , 5. 1 4 (d， J = 5. 4 H z, 1 H) , 6. 04 (q, J = 6. 8 H z, 1 H) ， 6. 24 (d， J = 2. 0Hz， 1 H) , 6. 46 (d d， J =2. 0 H z, J - 8. 3 Hz， 1 H) , 6. 54 (d, J = 8. 3 H z, 1 H) ， 7. 38 - 7. 5 5 (m， 4 H) , 7. 83 (m, 2 H) ， 8. 04 (d, J = 8. 3 H z， 1 H) .
MS (E I) m/z : 43 5 (M + ) , 222, 1 55.
元素分析： C a l c d : C, 65. 98 ； H, 5. 79 ； N, 3. 22.
F o u n d ： C, 68. 66 ; H， 5. 87 ； N 3. 30.
実施例 43 : 3— （ （R) — 1—フエニルェチル） _ 4— ( (£) ーメンチルォ キシカルボニル） 一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (R) — 1ーフヱニルェチル） 一 5— （ （ 一メン チルォキシ） 一 2 (3 H) ォキサゾロン 1 7 1. 7mg (0. 5 mm o 1 ) を塩 ィ匕メチレン 3 m 1に溶解し、 一 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53. 1 mg (0. 5 mm 0 1 ) と 0. 1 M—トリメチルシリルトリフラー ト塩化メチレ ン溶液 0. 5m l (0. 0 5mmo 1 ) とを加え、 30分間撹拌して反応を行つ た。
さらに、 室温まで昇温した後、 得られた反応溶液に、 飽和炭酸水素ナトリウム 水溶液 1 5m lを加え、 塩ィヒメチレン 1 5m lで抽出した。 有機層を水 1 5m l で 2回洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3— ( (R) 一 1 —フエニルェチル） 一 4一 （ （ 一メンチルォキシカルボニル） 一 5—フエニル — 2—ォキサゾリジノン 2 1 1. 5 mg (0. 4 7mmo 1 ) を微黄色結晶とし て得た。 — NMR分析によれば生成物の c i s/t r a n s体の生成比は、 6 /94であり、 t r a n s体のジァステレオマ一比は 6 1/3 9であった。 3— ( (R) 一 1ーフヱニルェチル） 一 5— ( ) —メンチルォキシ） 一 2 (3 H) ォキサゾロンに対する収率は、 93%であった。
t r a n s体 （ジァステレオマー混合物）
MS (C I， i -C4H10) m/z ： 4 50 (MH+)
'H-NMR ( δ , CDC 13) (ma j o r i s ome r) : 0. 70〜 2. 04 (m， 2 1 H) , 3. 77 (d, J =4. 4 H z， 1 H) ， 4. 83 (d d d， J = 4. 4 H z， 1 H) ， 5. 22 (d, J = 4. 4 Hz， 1 H) , 5. 3 0 (q, J = 6. 8 H z, 1 H) ， 7. 09〜 7. 3 9 (m， 1 0 H) , (m i n o r i s ome r) : 0. 70〜 2. 04 (m， 2 1 H) , 4. 09 (d， J = 4. 4 H z， 1 H) ， 4. 6 1 (d d d， J = 4. 4 Hz， 1 H) ， 4. 9 3 (q, J = 7. 6 H z， 1 H) ， 5. 29 (d， J = 4. 4Hz， 1 H) , 7. 09〜 7. 39 (m， 1 0 H) .
実施例 44 ： 3 - ( (R) — 1—フエニルェチル） 一4— ( ） 一メンチルォ キシカルボニル） 一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3 _ ( (R) 一 1ーフヱニルェチル） 一 5— （ （ ーメン チルォキシ） 一 2 (3 H) ォキサゾロン； L 7 1. 7mg (0. 5 mmo 1 ) を塩 化メチレン 3m 1に溶解し、 一 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒド 53. 1 mg (0. 5 mm 0 1 ) と 0. 1 M三フッ化ホウ素ジェチルエーテル塩化メチレ ン溶液 0. 5m 1 (0. 05mmo 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応させた。 さらに、 室温まで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5 m 1を加え、 塩ィヒメチレン 1 5m lで抽出した。 有機層を水 1 5m 1で 2回洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3— ( (R) 一 1一 フエニルェチル） 一4— (t) 一メンチルォキシカルボ二ルー 5—フエ二ルー 2— ォキサゾリジノン 209 mg (0. 46 mmo 1 ) を微黄色結晶として得た。 1 H 一 NMR分析によれば生成物の c i s/ t r a n s体の生成比は、 1 4ノ 86で あり、 t r a n s体のジァステレオマ一比は 72/28であった。 3— （ （R) _ 1—フヱニルェチル） 一 5— ( ) 一メンチルォキシ） 一 2 (3 H) ォキサゾ ロンに対する収率は、 93%であった。
実施例 45 ： 3 - ( (S) - 1—フエニルェチル） 一 4— ( ) —メンチルォ キシカルボニル） 一 5—フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (S) 一 1ーフヱニルェチル） 一 5— ( ) —メン チルォキシ） 一 2 (3 H) ォキサゾロン 1 7 1. 7 m g (0. 5 mm o 1 ) を塩 ィ匕メチレン 3 m 1に溶解し、 一 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53. 1 m g (0. 5 mm o 1 ) と 0. 1 Mトリメチルシリルトリフラ一ト塩化メチレン 溶液 0. 5m l (0. 05mmo 1 ) とを加え、 30分間反応させた。
さらに、 室温まで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5m lを加え、 塩ィヒメチレン 1 5m lで抽出した。 有機層を水 1 5 m 1で 2回洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3— ( (S) - 1 - フエニルェチル） 一 4— ( (£) —メンチルォキシカルボニル） 一 5—フヱニル一 2—ォキサゾリジノン 207 m g ( 0. 4 5 mm o 1 ) を微黄色結晶として得た。 〖H_NMR分析によれば生成物の t r a n s体のジァステレオマ一比は、 84/ 1 6であった。 3— ( (S) — 1—フヱニルェチル） 一 5— ( ) —メンチルォ キシ） ー2 (3 H) ォキサゾロンに対する収率は、 92%であった。
t r a n s体 （ジァステレオマー混合物）
MS (C I, i -C4H10) m/z ： 4 50 (MH+) .
'H-NMR (^, CDC 13) (ma j o r i s ome r) : 0. 68〜 2.
04 (m， 2 1 H) , 3. 80 (d， J =4. 4 H z, 1 H) ， 4. 77 (d d d， J = 4. 4 H z， 1 H) ， 5. 2 5 (d， J =4. 4 H z, 1 H) ， 5. 3 1 (q, J = 6. 8 Hz, 1 H) ， 7. 23〜7. 38 (m, 1 0 H) ， (m
1 n o r i s ome r) : 0. 68〜2. 04 (m, 2 1 H) ， 4. 1 (d, J = 4. 4 H z , 1 H) ， 4. 58 (d d d， J = 4. 4 Hz, 1 H) ， 4. 9
5 ， J = 7. 6 Hz, 1 H) , 5. 29 (d， J =4. 4 H z, 1 H) ， 7.
23〜 7. 38 (m， 1 0 H) .
実施例 46 ： 3 - ( (S) - 1—フエニルェチル） 一 4 _ ( ) —メンチルォ キシカルボニル） 一 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンの合成 アルゴン雰囲気下、 3— ( (S) — 1ーフヱニルェチル） 一 5— ( (i) —メン チルォキシ） 一 2 (3 H) ォキサゾロン 1 7 1. 7mg (0. 5 mm o 1 ) を塩 化メチレン 3 m 1に溶解し、 _ 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒ ド 53. 1 mg (0. 5 mm 0 1 ) と 0. 1 M三フッ化ホウ素ジェチルェ一テル塩化メチレ ン溶液 0. 5m l (0. 05 mmo 1 ) とを加え、 1時間撹拌して反応させた。 さらに、 室温まで昇温した後、 得られた反応溶液に、 飽和炭酸水素ナトリウム 水溶液 1 5 m 1を加え、 塩化メチレン 1 5m lで抽出した。 有機層を水 1 5 m 1 で 2回洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3— ( (S) 一 1 ーフヱニルェチル） 一4— ( ( 一メンチルォキシカルボニル） 一 5—フエニル — 2—ォキサゾリジノ ン； 1 99 m g (0. 44 mm o 1 ) を微黄色結晶として得 た。 — NMR分析によれば生成物の c i s/ t r a n s体の生成比は 20/8 0であり、 t r a n s体のジァステレオマ一比は 70/30であった。 3— ( (S) 一 1—フエニルェチル） 一5— ( (£) —メンチルォキシ） 一2 (3 H) ォキサゾ ロンに対する収率は、 89%であった。
実施例 4 7 ： 3 - ( (R) - 1 - ( 1一ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカ ルボニル一 5— （3， 4—メチレンジォキシフエニル） 一2—ォキサゾリジノン の合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (R) 一 1— (1—ナフチル） ェチル） 一 5—メ ト キシ一 2 (3 H) ォキサゾロン 1 34. 7mg (0. 5 mmo 1 ) と 3， 4ーメ チレンジォキシベンズアルデヒド 7 5. 1 m g (0. 5 mm o 1 ) とを塩ィ匕メチ レン 3m lに溶解し、 一 78°Cに冷却した後、 0. 1 M—トリメチルシリルトリ フラート塩化メチレン溶液 0. 5m l (0. 05mmo 1 ) を加え、 2時間撹拌 して反応させた。
さらに、 室温まで昇温した後、 得られた反応溶液に、 飽和炭酸水素ナトリウム 水溶液 1 5m lを加え、 塩化メチレン 1 5m lで抽出した。 有機層を水 1 5 m 1 で 2回洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 濃縮残査をシリカ ゲルカラムクロマトグラフィー （溶離液： n—へキサン/酢酸ェチル = 5. 5/ 1 ) に付し 3— ( (R) _ 1— (1—ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボ 二ルー 5— (3， 4—メチレンジォキシフエニル） 一 2—ォキサゾリジノン 1 9 0. 4 mg (0. 44 mmo 1 ) を白色結晶として得た。 1 H— NM R分析によれ ば c i s体の生成は認められず、 t r a n s体のジァステレオマー比は 90ノ 1 0であった。 3— ( (R) - 1 - (1一ナフチル） ェチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロンに対する 1|又率は、 91%であった。
t r a n s体 （ジァステレオマー混合物）
MS (E I) m/z ： 41 9 (M+) , 1 55.
I R (KB r, cm 1) : 1 757 (s) , 1 504 (m) ， 1399 (m) . 元素分析： C a 1 c d ； C, 68. 73、 H, 5. 05、 N， 3. 34.
F o u n d ; C， 68. 09、 H， 5. 05、 N， 3. 34.
1 H-NMR (δ, CDC 13) (ma j o r i s ome r) : 1. 82 (d， J = 6. 8 H z, 3H) ， 3. 22 (d， J =4. 8 H z, 1 H) , 3. 72 (S, 3H) ， 5. 09 (d, J = 4. 8 H z, 1 H) ， 5. 84 (S, 2H) ， 5. 99 (q, J = 6. 8Hz， 1 H) , 6. 23〜 7. 97 (m, 1 0 H) , (m i n o r i s ome r) : 1. 70 U， J二 6. 8Hz， 3 H) , 2. 59 (S, 3 H) ， 4. 08 (d， J =4. 8 Hz, 1 H) ， 5. 84 (S， 2 H) ，
5. 85 (d， J =4. 8Hz， 1 H) ， 6. 09 (q, J = 6. 8 H z, 1 H) ，
6. 23〜7. 97 (m， 10 H) .
実施例 48 ： 3 - ( (R) - 1 - ( 1一ナフチル） ェチル） ー4—メ トキシカ ルボニル一 5— (3， 4—メチレンジォキシフエニル） 一2—ォキサゾリジノン の合成
アルゴン雰囲気下、 3_ ( (R) — 1— (1—ナフチル） ェチル） —5—メ ト キシ一 2 (3 H) ォキサゾロン 1 34. 7mg (0. 5mmo 1 ) と 3， 4—メ チレンジォキシベンズアルデヒ ド 75. 1 m g (0. 5mmo 1 ) とを塩化メチ レン 3m lに溶解し、 一 78°Cに冷却した後、 0. 1 M—三フッ化ホウ素ジェチ ルェ一テル塩ィヒメチレン溶液 0. 5m l (0. 05 mmo 1 ) を加え、 2. 5時 間撹拌して反応させた。
さらに、 室温まで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5m lを加え、 塩化メチレン 1 5m lで抽出した。 有機層を水 1 5 m 1で 2回洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し 3— ( (R) - 1 - (1 —ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボ二ルー 5— (3， 4—メチレンジォ キシフエニル） 一2—ォキサゾリジノン 1 82. 2 mg (0, 43 mmo 1 ) を微黄色結晶として得た。 1H— NMR分析によれば c i s体の生成は認められ ず、 t r a n s体のジァステレオマ一比は 79/2 1であった。 3— ( (R) — 1一 （1—ナフチル） ェチル） 一 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロンに対す る収率は、 87%であった。
実施例 49 : 3— ( (R) — 1— (1—ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカ ルボニル一 5— (3， 4—メチレンジォキシフエニル） 一 2—ォキサゾリジノン の合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (R) — 1— （ 1一ナフチル） ェチル） 一 5—メ ト キシ一 2 (3 H) ォキサゾロン 1 34. 7 m g (0. 5 mm o 1 ) と 3， 4ーメ チレンジォキシベンズアルデヒ ド 7 5. 1 m g (0. 5 mm o 1 ) とを塩ィ匕メチ レン 3m lに溶解し、 一 78°Cに冷却した後、 0. 1 M— t一プチルジメチルシ リルトリフルォロメタンスルホネート塩化メチレン溶液 0. 5m l (0. 05m mo 1 ) を加え、 30分間撹拌して反応させた。
さらに、 室温まで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5m lを加え、 塩ィ匕メチレン 1 5m lで抽出した。 有機層を水 1 5 m 1で 2回洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、 3— ( (R) — 1— (1—ナフチ ル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボ二ルー 5— (3， 4—メチレンジォキシフエ ニル） 一 2—ォキサゾリジノン 1 9 5. 2mg (0. 47 mm o 1 ) を微黄色結 晶として得た。 — NMR分析によれば c i s体の生成は認められず、 t r a n s体のジァステレオマ一比は、 88 / 1 2であった。 3— ( (R) 一 1— ( 1— ナフチル） ェチル） 一 5—メ トキシー 2 (3 H) ォキサゾロンに対する収率は、 93%であった。
実施例 50 ： 3— ( (R) — 1— ( 1—ナフチル） ェチル） 一 4—メ トキシカ ルボニルー 5— (3， 4—メチレンジォキシフエニル） 一2—ォキサゾリジノン の合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (R) 一 1一 （1一ナフチル） ェチル） 一 5—メ ト キシ一 2 (3 H) ォキサゾロン 1 34. 7 m g (0. 5 mm o 1 ) と 3， 4—メ チレンジォキシベンズアルデヒ ド 7 5. 1 m g (0. 5mmo 1 ) とを塩化メチ レン 3 m l に溶解し、 一 7 8°Cに冷却した後、 0. 1 Mトリイソプロビルシリル トリフルォロメタンスルホネート塩化メチレン溶液 0. 5 m l (0. 0 5 mm 0 1 ) を加え、 そのまま昇温しー2 0°Cで 1. 5時間反応させた。
さらに、 室温まで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5 m lを加え、 塩ィヒメチレン 1 5 m lで抽出した。 有機層を水 1 5 m 1で 2回洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、 3— ( (R) - 1 - ( 1—ナフチ ル） ェチル） 一 4—メ トキシカルボニル一 5 _ (3， 4ーメチレンジォキシフエ 二ル） 一 2—ォキサゾリジノン 2 0 3. 2 mg (0. 4 8 mmo l ) を微黄色結 晶として得た。 — NMR分析によれば c i s体の生成は認められず、 t r a n s体のジァステレオマー比は、 7 5/2 5であった。 3— ( (R) — 1 — （ 1— ナフチル） ェチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロンに対する収率は、 9 7%であった。
実施例 5 1 ： 3— （ （S) — 1—フエニルェチル） 一4— ( (i) ーメンチルォ キシカルボニル） 一 5— （3， 4ーメチレンジォキシフエニル） 一 2—才キサゾ リジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (S) — 1ーフヱニルェチル） 一 5— ( {1) —メン チルォキシ） 一 2 (3 H) ォキサゾロン 1 7 1. 7mg (0. 5 mmo 1 ) と 3， 4—メチレンジォキシベンズアルデヒ ド 7 5. 1 m g (0. 5 mm o 1 ) とを塩 化メチレン 3m 1 に溶解し、 一 7 8°Cに冷却した後、 0. 1 M— トリメチルシリ ルトリフラート塩ィヒメチレン溶液 0. 5 m l (0. 0 5mmo 1 ) を加え、 3 0 分間撹拌して反応させた。
さらに、 室温まで昇温した後、 得られた反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5m lを加え、 塩ィヒメチレン 1 5 m lで抽出した。 有機層を水 1 5 m 1で 2回洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3— ( (S) — 1— フエニルェチル） 一 4— (i) —メンチルォキシカルボ二ルー 5— (3， 4—メチ レンジォキシフエニル） 一 2—ォキサゾリジノン 2 1 4 mg (0. 4 3 mm 0 1 ) を微黄色粘調液体として得た。 — NMR分析によれば c i s体の生成は認 められず、 t r a n s体のジァステレオマ一比は、 7 0 / 3 0であった。 3— ( (S) — 1一フエニルェチル一 5— ( ) 一メンチルォキシ） 一2 (3 H) ォ キサゾロンに対する収率は、 8 7%であった。
t r a n s体 （ジァステレオマ一混合物）
MS (E I) m/z ： 493 (M+) ， 1 05.
^-NMR (S, CDC 13) (ma j o r i s ome r) : 0. 65〜 2. 04 (m， 2 1 H) , 3. 75 (d, J = 4. 4 H z， 1 H) , 4. 76 (d d d, J二 4. 4 H z, 1 H) , 5. 1 4 (d, J =4. 4 H z, 1 H) ， 5·
32 (q， J = 7. 2 Hz, 1 H) , 5. 94 (S, 1 H) , 6. 4 5〜7. 4 1 (m， 9 H) ， (m i n o r i s o m e r ) : 0. 6 5〜 2. 04 (m， 2 1 H) , 4. 66 (d, J = 4. 4 Hz, 1 H) ， 4. 56 (d d d, J二 4. 4 H z, 1 H) , 4. 92 (q, 1 = 7. 2 H z, 1 H) , 5. 1 5 (d， J = 4. 4 H z, 1 H) , 5. 99 (S， 1 H) ， 7. 09〜7. 39 (m, 9 H) . 実施例 52 ： 3 - ( ( S ) - 1—フヱニルェチル） 一 4一 ( ii) —メンチルォ キシカルボニル） 一 5— (3， 4—メチレンジォキシフエニル） 一2—才キサゾ リジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3— ( (S) — 1ーフヱニルェチル） 一5— ( ( 一メン チルォキシ） 一2 (3 H) ォキサゾロン 1 7 1. 7mg (0. 5 mm o 1 ) と 3，
4—メチレンジォキシベンズアルデヒ ド 75. 1 m g (0. 5 mm o 1 ) とを塩 ィ匕メチレン 3 m 1に溶解し、 _78°Cに冷却した後、 0. 1Mトリイソプロピル シリルトリフルォロメタンスルホネート塩化メチレン溶液 0. 5m l (0. 05 mmo 1 ) を加え、 そのまま昇温し室温で 1時間撹拌して反応させた。
得られた反応溶液に、 飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液 1 5m 1をカロえ、 塩化メ チレン 1 5 m 1で抽出した。 有機層を水 1 5 m 1で 2回洗浄し、 無水硫酸マグネ シゥムで乾燥後、 減圧濃縮し 3 _ ( (S) — 1—フヱニルェチル） 一 4 _ ( (i) 一メンチルォキシカルボニル） 一 5— (3， 4ーメチレンジォキシフエニル） 一 2—ォキサゾリジノン 1 70. 5mg (0. 3 5 mm o 1 ) を微黄色粘調液体と して得た。 'Η— NMR分析によれば生成物の t r a n s体のジァステレオマー比 は、 5 1 / 49であった。 3— ( (S) - 1—フヱニルェチル） _ 5— ( ） 一 メンチルォキシ） 一 2 (3 H) ォキサゾロンに対する収率は、 69%であった。 実施例 53 ： 3—フエニル一 4—メチル一 4—メ トキシカルボニル一 5—フエ二 ル一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3—フエニル一 4一メチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォ キサゾロン 1 02. 6mg (0. 5mmo 1 ) を塩化メチレン 3m 1に溶解させ、 一 78°Cに冷却した後、 ベンズアルデヒド 53. 1 mg (0. 5mmo 1 ) と 0. 1 Mトリメチルシリルトリフラート塩ィヒメチレン溶液 0. 5m l (0. 05 mm o 1 ) を加え、 1. 0時間反応を行った。 室温まで昇温した後、 飽和炭酸水素ナ トリウム水溶液 1 5 m 1を加え、 塩化メチレン 1 5m lで抽出した。 有機層を水 1 5m lで 2回洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮した。 得られ た濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー （溶離液、 へキサン ：酢酸ェ チル = 1 0 : 1 (容量比） ） に付したところ、 3—フエニル一 4一メチル一 4 _ メ トキシカルボニル一 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンのジァステレオマ一 混合粗生成物 1 46. 8mg (0. 47mmo 1 ) を微黄色液体として得た。 そ のジァステレオマ一の生成比は、 1H— NMRより 72 ： 28であった。 3—フエ 二ルー 4一メチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) ォキサゾロンに対する収率は、 9
4. 3%であった。
(混合物） MS (E I) m/z ： 3 1 1 (M+) ， 2 52, 208， 1 1 8.
^- MR (δ, CDC 13) (ma j o r i s ome r) 1. 04 (s, 3 H) ， 3. 89 (s， 3 H) ， 5. 74 (s， 1 H) ， 7. 26〜 7. 44 (m, 1 0 H) .
(m i n o r i s ome r) 1. 72 (s， 3 H) , 3. 3 5 (s, 3 H) ，
5. 42 (s， 1 H) ， 7. 26〜7. 44 (m， 1 0 H) .
実施例 54 ： 3—ベンジルー 4一 （ （1 S， 2 S, 5 R) — 5—メチル一2— (1 —メチルー 1一フエニルェチル） シクロへキシルォキシ） カルボニル一 5—イソ ブチル— 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3—ベンジルー 5— ( ( 1 S, 2 S, 5 R) — 5—メチル - 2 - ( 1—メチルー 1—フエニルェチル） シクロへキシルォキシ） 一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 202. 8 mg (0. 5mmo 1 ) を塩ィ匕メチレン 3 m 1に溶 解させ、 一 78°Cに冷却した後、 イソブチルアルデヒ ド 3 6. 1 mg (0. 5 m mo 1 ) と三フッ化ホウ素ジェチルエーテル 63 1 (0. l mmo l ) を加え、 1. 0時間反応を行った。 室温まで昇温した後、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液 1 5m lを加え、 塩ィ匕メチレン 1 5m lで抽出した。 有機層を水 1 5m 1で 2回 洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮したところ、 3—ベンジル一 4— ( ( 1 S, 2 S, 5 R) — 5—メチルー 2— （ 1—メチル一 1一フエニルェ チル） シクロへキシルォキシ） カルボニル一 5—イソブチルー 2—ォキサゾリジ ノンの 4， 5—トランス体のみ、 2 32. 1 m g (0. 49 mm o 1 ) を乳白色 粘調液体として得た。得られたトランス体は、 — NMRより単一のジァステレ ォマ一であることが確認された。 3—ベンジル一 5— ( ( 1 S， 2 S, 5R) - 5—メチル一 2— ( 1—メチル一 1一フエニルェチル） シクロへキシルォキシ） —2 (3 H) 一才キサゾロンに対する収率は、 9 7. 2%であった。
MS (C I, i - C4H10) m/z ： 478 (MH+) .
^-NMR (δ, CDC 13) : 0. 62〜 2. 0 1 (m, 2 5 H) ,
2. 9 5 (d， J =4. 88 Hz, 1 H) , 3. 82 (d， J =4. 88 H z, 1 H) ， 4. 1 8 (d， J g em= 1 5. 1 3 Hz， 1 H) , 4. 82 (d d d, J = 3. 9 1 H z, 1 H) ， 4. 99 (d， J g e m= 1 5. 1 3 H z, 1 H) , 6. 82〜 7. 45 (m， 1 0 H) .
実施例 55 ： 3—ベンジルー 4— ( (I S, 2 S, 5 R) - 5—メチルー 2— （1 —メチルー 1—フエニルェチル) シクロへキシルォキシ) カルボ二ルー 5— ( 2 一フエニルェチル） 一 2—ォキサゾリジノンの合成
アルゴン雰囲気下、 3—ベンジル一 5— ( ( 1 S, 2 S, 5 R) 一 5—メチル -2 - ( 1—メチルー 1一フエニルェチル） シクロへキシルォキシ） —2 (3 H) —ォキサゾロン 202. 8 mg (0. 5 mmo 1 ) を塩ィ匕メチレン 3 m 1に溶解 させ、 一 78°Cに冷却した後、 ヒ ドロシンナムアルデヒド 67. 1 mg (0. 5 mm o 1 ) と三フッ化ホウ素ジェチルェ一テル 63 1 (0. l mmo l ) を加 え、 1. 0時間反応を行った。 室温まで昇温した後、 飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液 1 5m lを加え、 塩ィ匕メチレン 1 5m lで抽出した。 有機層を水 1 5 m 1で 2回洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮したところ、 3 _ベンジ ルー 4— ( (1 S, 2 S， 5 R) — 5—メチル一2— (1—メチル一 1—フエ二 ルェチル） シクロへキシルォキシ） カルボニル一 5— (2—フエニルェチル） 一 2—ォキサゾリジノンを 2 64. 9 mg (0. 49mmo 1 ) を微黄色粘調液体 として得た。 その c i s/ t r a n s体の生成比は、 'Η— NMRより じ i s体： t r a n s体 = 2 9 ： 7 1であり、 各々単一のジァステレオマーであった。 3 - ベンジル一 5— ( ( 1 S, 2 S， 5 R) _5—メチルー 2— (1—メチルー 1— フエニルェチル） シクロへキシルォキシ） 一2 ( 3 H) ーォキサゾロンに対する 収率は、 98. 2%であった。
MS (C I, i -C4H10) m/z ： 540 (MH+) .
'Η— NMR 、 CDC 13) ： (t r a n s体） 0. 60〜2. 04 (m, 20 H) , 2. 55〜 2. 58 (m, 2 H) ， 2. 8 1 (d， J = 5. 86 H z, 1 H) ， 3. 9 3 (d, J = 5. 8 6 H z, 1 H) ， 4. 23 (d, J g e m = 1 5. 1 4 H z, 1 H) ， 4. 74 (d d d, J = 3. 9 1 H z , 1 H) ， 4. 98 (d， J g e m= 1 5. 14 H z , 1 H) ， 6. 78〜7. 4 5 (m， 1 5 H) ： (c i s体） 0. 60〜 2. 04 (m, 20 H) , 2. 58 (d, J = 8. 79 H z, 1 H) , 3. 22 (d， J =8. 79 H z, 1 H) ， 3. 7 5〜4. 1 3 (m， 2 H) , 4. 08 (d， J g em= 1 5. 1 4 H z , 1 H) ， 4. 1 4 (d d d， J = 3. 9 1 H z, 1 H) ， 5. 1 5 (d， J g em= 1 5. 1 4 H z, 1 H) , 6. 78〜7. 4 5 (m， 1 5 H) .
実施例 56 : 3—ジフエ二ルメチルー 4 - ( ( 1 S， 2 S， 5 R) 一 5—メチル 一 2— （ 1一メチル一 1一フエニルェチル） シクロへキシルォキシカルボニル）
― 5 _フエニル一 2—ォキサゾリジノンの合成
3—ジフエ二ルメチルー 5 _ ( (1 S, 2 S, 5 R) — 5—メチル一2— (1 ーメチルー 1—フエニルェチル） シクロへキシルォキシ） 一 2 (3 H) 一ォキサ ゾロン （ 0. 24 g ； 0. 5 mm 0 1 ) とべンズアルデヒ ド （ 0. 053 g ； 0. 5 mmo 1 ) とを塩化メチレン 4 m 1に溶解し、 一 78°Cに冷却し、 トリイソプ 口ピルシリルトリフラート 1 5mgを加えて、 ― 78 °Cで 3時間撹拌して反応さ せた。
さらに、 室温まで温度を上げ、 得られた反応溶液に、 飽和炭酸水素ナトリウム 水溶液 1 5m l を加え、 更に塩化メチレン 20m 1で抽出した。 有機層を飽和食 塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3 _ジフヱニルメ チルー 4一 ( ( 1 S, 2 S, 5 R) — 5—メチル一 2— (1—メチル一 1一フエ ニルェチル） シクロへキシルォキシカルボニル） 一 5—フエ二ルー 2—ォキサゾ リジノンを黄色結晶として 0. 30 g得た。 — NMR分析によれば生成物の c i s / t r a n s体の生成比は 74 / 26であった。 また、 c i s体、 t r a n s体が、 それぞれ単一のジァステレオマーとして得られた。 3—ジフエ二ルメチ ルー 5— ( (1 S, 2 S, 5 R) — 5—メチル一2— （1—メチルー 1一フエ二 ルェチル） シクロへキシルォキシ） 一 2 (3 H) —ォキサゾロン基準の収率は、 99 %であった。
スぺク トルデータは実施例 28で得られたものと同一であった。
実施例 5 7 ： 3—ジフエニルメチル一 4一 （ （ 1 S, 2 S, 5 R) — 5—メチル — 2— ( 1—メチルー 1—フエニルェチル） シクロへキシルォキシカルボニル） - 5 - (2—フエニルェチル） 一 2—ォキサゾリジノンの合成
3—ジフエ二ルメチル _ 5— ( ( 1 S, 2 S, 5 R) — 5—メチル一2— （1 ーメチルー 1—フエニルェチル） シクロへキシルォキシ） 一 2 (3 H) 一ォキサ ゾロン （0. 24 g ； 0. 5 mm 0 1 ) とヒ ドロシンナムアルデヒド （0. 06 7 g ； 0. 5mmo 1 ) とを塩化メチレン 4 m 1 に溶解し、 一 78°Cに冷却し、 BF3 · E t 20 1 0mgを加えて、 一 78 °Cで 2時間撹拌して反応させた。 さらに、 室温まで温度を上げ、 得られた反応溶液に、 飽和炭酸水素ナトリウム 水溶液 1 5m l を加え、 更に塩化メチレン 20 m 1で抽出した。 有機層を飽和食 塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3—ジフヱニルメ チル一4— ( ( 1 S, 2 S, 5 R) 一 5—メチル一2— (1—メチルー 1—フエ ニルェチル） シクロへキシルォキシカルボニル） 一 5— （2—フエニルェチル） —2—ォキサゾリジノンを白色結晶として 0. 29 g得た。 'H— NMR分析によ れば生成物の c i s/ t r a n s体の生成比は 1 3 ： 8 7であった。 また、 c i s体、 t r a n s体が、 それぞれ単一のジァステレオマ一として得られた。 3 —ジフエニルメチル一 5— ( ( 1 S, 2 S, 5 R) — 5—メチル一 2— （1ーメ チル一 1—フエニルェチル） シクロへキシルォキシ） 一2 (3 H) —ォキサゾロ ン基準の収率は、 94 %であつた。 MS (E I) m/z ： 6 1 5 (MH+) , 1 67.
c i s体
!H-NMR (3、 CDC 13) : 2. 74— 2. 90 (m, 2 H) , 3. 5 1 (d， J =8. 3 Hz, 1 H) , 4. 2 7 (m， 1 H) ， 4. 52 ( t d， J二 3. 9 H z, J = 1 0. 7Hz， 1 H) ， 5. 90 (s， 1 H) .
t r a n s体
】H - NMR (δ, CDC 13) ： 2. 50— 2. 7 1 (m, 2 H) ， 3. 06 (d， J = 5. 9 Hz, 1 H) , 3. 9 1 (m， 1 H) , 4. 6 1 ( t d， J = 3. 9 H z, J = 1 0. 7Hz, 1 H) , 5. 88 (s, 1 H) .
実施例 58 : 3—ジフエニルメチル一 4一 ( ( 1 S, 2 S, 5 R) — 5—メチル —2— ( 1—メチルー 1—フエニルェチル） シクロへキシルォキシカルボニル） — 5—イソプロピル一 2—ォキサゾリジノンの合成
3—ジフエニルメチル _ 5— ( (1 S, 2 S, 5 R) — 5—メチル一2— （1 一メチル一 1—フエニルェチル） シクロへキシルォキシ） 一2 (3 H) 一ォキサ ゾロン （ 0. 24 g ； 0. 5 mm 0 1 ) とイソブチルアルデヒド （ 0. 036 g ； 0. 5mmo 1 ) とを塩ィ匕メチレン 4 m 1に溶解し、 一 78。Cに冷却し、 BF3 · E t 201 Omgを加えて、 一78 °Cで 5時間撹拌して反応させた。
さらに、 室温まで温度を上げ、 得られた反応溶液に、 飽和炭酸水素ナトリウム 水溶液 1 5m l をカロえ、 更に塩ィ匕メチレン 2 0m 1で抽出した。 有機層を飽和食 塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3—ジフヱニルメ チル一 4— ( ( 1 S, 2 S, 5 R) — 5—メチルー 2— (1—メチルー 1一フエ ニルェチル） シクロへキシルォキシカルボニル） 一 5—イソプロピル一 2—ォキ サゾリジノンを白色結晶として 0. 27 g得た。 'Η— NMR分析によれば生成物 の c i s/ t r a n s体の生成比は 8 1 Z 1 9であった。 また、 c i s体、 t r a n s体が、 それぞれ単一のジァステレオマーとして得られた。 3—ジフエ二ル メチル _ 5— ( (1 S， 2 S, 5 R) — 5—メチル一2— (1—メチル一 1—フ ヱニルェチル） シクロへキシルォキシ） —2 (3 H) —ォキサゾロン基準の収率 は、 9 7 %であった。
MS (E I ) m/z ： 553 (M+) , 1 67. c i s体
iH— NMR (S、 CDC 13) ： 3. 6 5 (d， J =7. 3 Hz， 1 H) ， 4.
04 ( t, J = 7. 3 H z, 1 H) ， 4. 5 7 ( t d， J = 1 0. 7 H z， J = 3. 9 H z , 1 H) ， 5. 94 (s， 1 H) .
t r a n s体
Ή-NMR (δ, CDC 13) : 3. 23 (d, J =4. 9 H z, 1 H) ， 3. 86 d， J =4. 9 H z, 1 H) ， 4. 76 ( t d, J =4. 3H z， J = 1 0. 7 H z, 1 H) , 5. 78 (s, 1 H) .
実施例 59 : 3—ジフエニルメチル一 4一 （ （1 S， 2 S, 5 R) — 5—メチル —2— （ 1—メチル一 1—フエニルェチル） シクロへキシルォキシカルボニル） 一 5—フエ二ルー 2—ォキサゾリジノンの合成
3—ジフエニルメチル _ 5— ( ( 1 S, 2 S, 5 R) — 5—メチルー 2— (1
—メチル一 1一フエニルェチル） シクロへキシルォキシ） 一 2 (3 H) —ォキサ ゾロン （ 0. 24 g ； 0. 5 mm 0 1 ) とべンズアルデヒ ド （ 0. 053 g ； 0. 5mmo 1 ) とを塩ィ匕メチレン 4 m 1に溶解し、 一 78°Cに冷却し、 0. 9^^1ジ ェチルアルミニウムクロライ ドのへキサン溶液 0. 06m lを加えて、 一 78°C で 2時間撹拌して反応させた。
さらに、 室温まで温度を上げ、 3時間反応させた後、 得られた反応溶液に、 0.
5 N—塩酸水溶液 1 5m l を加え、 更に塩化メチレン 20 m 1で抽出した。 有機 層を飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 減圧濃縮し、 3—ジ フエ二ルメチルー 4— ( ( 1 S, 2 S, 5 R) 一 5—メチルー 2— (1—メチル — 1一フエニルェチル） シクロへキシルォキシカルボニル） 一 5—フエ二ルー 2 一ォキサゾリジノンを白色結晶として 0. 2 7 g得た。 'H— NMR分析によれば 生成物の c i s/ t r a n s体の生成比は 74/26であった。 また、 c i s体、 t r a n s体が、 それぞれ単一のジァステレオマ一として得られた。 3—ジフエ 二ルメチルー 5— ( (1 S， 2 S， 5 R) - 5—メチル一 2— （ 1一メチル一 1 一フエニルェチル） シクロへキシルォキシ） 一 2 (3 H) ーォキサゾロン基準の 収率は、 90%であった。
スぺク トルデータは実施例 28で得られたものと同一であった。 産業上の利用可能性
本発明によれば、 5—アルコキシ一 2 ( 3 H) 一才キサゾロン化合物とアルデ ヒド化合物とを、 ルイス酸触媒存在下、 反応させることにより、 4—アルコキシ カルボニル一 2—ォキサゾリジノン化合物を得ることができる。 得られた 4ーァ ルコキシカルボ二ルー 2—ォキサゾリジノン化合物は、 医薬原体 ·中間体 ·原料 として使用されている β —ヒドロキシ一 α—アミノ酸化合物の原料として有用で ある。

Claims

1. 一般式 （ I )
ミー主《
Figure imgf000081_0001
式中、 R1は水素原子、置換されていて車もよい
Figure imgf000081_0002
のアルキル基、置換 されていてもよい c3〜c 10のシクロアルキ囲 基、置換されていてもよい c2
〜C 10のアルケニル基又は置換されていてもよいフエ二ル基を示し、 R2は 水素原子、 置換されていてもよい C i。のアルキル基、 置換されていて もよいフエニル基又は置換されていない C2〜C 10のアルケニル基を示し、 R 3は置換されていてもよい C i〜C 10のアルキル基、置換されていてもよい c3〜c ,。のシクロアルキル基、 置換されていてもよい c2〜c 10のァルケ ニル基 （但し、 2—アルケニル基を除く） 又は置換されていてもよいフエ二 ル基を示す，
で表される 5—アルコキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン化合物と、
一般式 （Π)
R4CHO (Π)
式中、 R4 は水素原子、 置換されていてもよい C
Figure imgf000081_0003
。のアルキル基、 置 換されていてもよい C2〜C 20のアルケニル基、 置換されていてもよい C3 〜C i。のシクロアルキル基、 置換されていてもよい C2〜C20のアルキニル 基、 置換されていてもよい C6〜C20のァリール基、 置換されていてもよい
N、 0および Sから選ばれるヘテロ原子を 1もしくは 2個含む 5乃至 6員の 複素芳香環基、置換されていてもよい C ! Ceのアルコキシカルボニル基、 ァセチル基又はべンゾィル基を示す，
で表されるアルデヒド化合物とを、 ルイス酸触媒の存在下、 反応させることを特徴とする
一般式 （ΠΙ)
Figure imgf000082_0001
式中、 R R2、 R3および R4は前記と同じ意味を有する、
で表される 4—アルコキシカルボ二ルー 2—ォキサゾリジノン化合物の製造方法 c
2. ルイス酸が、 周期表の第 2族 （n a族） から第 14族 （IVa族） 元素 （ただ し炭素は除く） およびランタノィ ド族元素のハロゲン化物およびトリフルォロメ タンスルホン酸塩である請求の範囲第 1項に記載の方法。
3. ルイス酸が、
一般式 （IV)
R5 nXmM (IV)
式中、 R5は (： 〜(： 1 ()のアルキル基、 C6〜C20のァリール基を示し； Xは ハロゲン原子を示し； Mは Aし B、 S n、 T iを示す； mおよび nは、 そ れぞれ、 0、 1、 2、 3または 4の数を示す；ただし、 m+nは 2、 3また は 4である，
で表される化合物である請求の範囲第 1項に記載の方法。
4. ルイス酸が、
一般式 （V)
(R60) n. Xm> M (V)
式中、 R6は C 〜(： 10のアルキル基、 C6〜C20のァリール基を示し； Xは ハロゲン原子を示し； Mは Aし B、 S n、 T iを示す； m' および n' は、 それぞれ、 0、 1、 2、 3または 4の数を示す；ただし、 m' + η' は 3、 4である，
で表される化合物である請求の範囲第 1項に記載の方法。
5. ルイス酸が、
一般式 （VI)
R7R8R9S i X (VI) 式中、 R7、 R8および R9は、 それぞれ独立して、 C! CiQのアルキル基、 C6〜C20のァリール基を示し； X' はハロゲン原子又は一 0 S02CF3を 示す，
で表される化合物である請求の範囲第 1項に記載の方法。
6. ルイス酸が、 塩ィ匕アルミニウム （ΠΙ) 、 臭化アルミニウム （ΙΠ) 、 ヨウ化ァ ルミニゥム （ΠΙ) 、 ジェチルアルミニウムクロリ ド、 ェチルアルミニウムジクロ リ ド、 トリメチルアルミニウム、 トリェチルアルミニウム、 トリイソプロピルァ ルミ二ゥム、 トリブチルアルミニウム、 アルミニウム （ΠΙ) イソプロポキシド、 三塩化ホウ素、 三フッ化ホウ素、 三フッ化ホウ素ジェチルェ一テル錯体、 三臭化 ホウ素、 トリフエノキシボラン、 フエニルジクロロボラン、 塩化スズ （IV) 、 臭 化スズ （IV) 、 塩化スズ （Π) 、 スズ （Π) トリフラート、 塩化チタン （IV) 、 フッ化チタン （IV) 、 臭化チタン （IV) 、 ヨウ化チタン （IV) 、 ジクロロジイソ プロポキシチタン、 チタン （IV) イソプロポキシド、 塩化亜鉛 （Π) 、 臭化亜鉛 (Π) 、 塩化鉄 （Π) 、 塩化鉄 （ΠΙ) 、 塩化マグネシウム、 イッテルビウム （ΙΠ) トリフラート、 ヨウ化サマリウム、 サマリウム （ΠΙ) トリフラー ト、 トリメチル シリルトリフラート、 トリメチルシリルョ一ド、 t e r t—ブチルジメチルシリ ルトリフラートまたはトリイソプロピルシリルトリフラ一トである請求の範囲第 1項に記載の方法。
7. 一般式 （I) で示される化合物が、 3 _ベンジルー 5— (I) —メンチルォキ シ一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3—ベンジルー 5 _ ( ( 1 S， 2 S， 5 R) -
rr正された用紙 （規則 9i) 5—メチル一2— ( 1—メチル一 1一フエニルェチル) シクロへキシルォキシ) - 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3— （4一メチルベンジル） 一 4一メチル一 5— メ トキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3— (1—フエニルェチル） 一 5—メ ト キシー 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3— ( (S) — 1一フエニルェチル） 一 5— イソプロポキシ一2 (3 H) —ォキサゾロン、 3— ( (R) — 1—フエ二ルェチ ル） 一 5—メ トキシー 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3—ジフエ二ルメチルー 5— メ トキシ一 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3—ジフエニルメチル一 4一メチル _ 5 —メ トキシ一 2 _ (3 H) —ォキサゾロン、 3—ジフエニルメチル一 5— (i) 一 メンチルォキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3—ジフエニルメチル一 5— （ （ 1 S, 2 S, 5 R) — 5—メチル一 2— ( 1—メチル一 1 _フエニルェチル） シク 口へキシルォキシ） 一 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3— ( (R) — 1— ( 1—ナ フチル） ェチル） 一 5—メ トキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3—フルフリル — 4—ェチルー 5—メ トキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3—フルフリル一 4 ーェチルー 5— (4—ペンテニル） ォキシ一 2 (3 H) ォキサゾロン、 3—イソ プロピル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3—ベンジル一 5—メ ト キシー 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3—イソプロピル一 4—メチルー 5—メ トキ シ一 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3—イソプロピル一 4—メチルー 5—エトキシ 一 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3—イソプロピル一 4一メチル一 5—シクロへキ シルォキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3 — ( (R) — 1— (1一ナフチル） ェチル） 一 5—イソプロポキシ一 2 (3 H) 一才キサゾロン、 3— ( (R) — 1 —フエニルェチル） 一 4一メチル一 5—メ トキシー 2 (3 H) ーォキサゾロン又 は、 3— ( (S) _ 1ーフヱニルェチル） 一 5—フエノキシ一 2 (3 H) —ォキ サゾロン、 3—べンジルー 4—メチルー 5—メ トキシー 2 (3 H) 一才キサゾ口 ン、 3— （1一ナフチル） メチル一 5—メ トキシ一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3 - ( (R) 一 1—フヱニルェチル） 一 5— （ ） 一メンチルォキシ） 一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3— ( (S) — 1一フエニルェチル） 一 5— （ ） ーメン チルォキシ） 一 2 (3 H) —ォキサゾロン、 3—フエ二ルー 4ーメチルー 5—メ トキシー 2 (3 H) —ォキサゾロンである請求の範囲第 1項に記載の方法。
丁正された用紙 （規則 91)
8 . 一般式 （Π ) で示される化合物が、 ベンズアルデヒ ド、 ρ—メ トキシベンズ アルデヒ ド、 0—メ トキシベンズアルデヒド、 3， 4ーメチレンジォキシベンズ アルデヒ ド、 3， 4—ジメ トキシベンズアルデヒ ド、 ρ—ニトロべンズアルデヒ ド、 0—ニトロべンズアルデヒド、 ナフチルアルデヒ ド、 ァセトアルデヒド、 プ ロピオンアルデヒ ド、 η—ブチルアルデヒド、 イソブチルアルデヒド、 シンナム アルデヒ ド、 ヒ ドロシンナムアルデヒド、 クロ トンアルデヒ ド、 フエニルァセト アルデヒド、 α—ベンジルォキシプロピオンアルデヒド、 メチルグリシジェ一ト、 ァクロレイン、 テトラデセナ一ル、 ベンジルォキシァセトアルデヒ ドである請求 の範囲第 1項に記載の方法。
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