WO1999009441A1 - Verfahren zur herstellung eines integriert-optischen wellenleiterbauteils und einer steckverbindung - Google Patents

Verfahren zur herstellung eines integriert-optischen wellenleiterbauteils und einer steckverbindung Download PDF

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Hans Kragl
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Harting Elecktro Optische Bauteile GmbH and Co KG
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Harting Elecktro Optische Bauteile GmbH and Co KG
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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24—Coupling light guides
    • G02B6/26—Optical coupling means
    • G02B6/30—Optical coupling means for use between fibre and thin-film device

Definitions

  • the invention relates to a method for producing an integrated optical waveguide component with a plug connection according to the preamble of the main claim.
  • An integrated optical waveguide component with fiber couplings is known from the unpublished German patent application with the file number 197 25 471.3. It has a substrate made of polymeric material, which in the
  • Fiber coupling areas are provided.
  • a waveguide recess filled with higher refractive material is provided, which connects the V-groove-shaped fiber coupling regions.
  • the substrate is produced by molding a master twice.
  • the first impression of the master is made by galvanic coating, for example with nickel, the second impression by means of a plastic impression technique, for example hot pressing, casting, in particular injection molding or reaction gu.
  • the integrated optical component is produced by applying an optically transparent adhesive to the substrate and then pressing a strip-off lid onto the substrate.
  • the strip-off cover has a ridge-like elevation in the area of the V-grooves, which snaps exactly into the V-groove-shaped fiber coupling areas. In addition, it has an elevation with a rectangular cross section, which engages in the depressions with a rectangular cross section of the substrate. The pressure expels the adhesive from the area between the substrate and the lid component and only remains in the waveguide recess, where it forms a waveguide after curing.
  • the master component is made of single-crystalline silicon, the V-groove-shaped fiber coupling regions being produced by anisotropic etching, for example in potassium hydroxide, the waveguide recess is produced by etching with reactive ions (RIE, Reactive Ion Etching), and the recesses with a rectangular cross section are produced, for example, by Saw cuts of a wafer saw realized.
  • RIE reactive ions
  • the strip-off lid is produced by one-time galvanic molding of a master lid, which is also made of silicon and was manufactured in the same way as the master component for the substrate. In particular, the distance between the saw cuts on the two master components is exactly the same.
  • the fiber can be groove-shaped fiber coupling areas are inserted, and glued. For this it is necessary to actively pre-adjust the fiber so that it is then pressed into the predetermined V-groove.
  • Waveguide component and the fiber can no longer be detached.
  • Another method known from DE 4217553 A for coupling light consists in inserting fibers into a precision plug part so that they protrude at one end of the plug part.
  • the connector and the integrated optical waveguide component are then arranged such that the fiber end protruding from the connector protrudes into the V-shaped fiber coupling areas.
  • the pre-adjustment of the fibers now takes place in the connector component, but is complex and costly.
  • the fiber is pressed into a relatively soft material, a plastic. At high contact pressures, the material gives way and thus decisively reduces the adjustment precision.
  • features of the independent claim have the advantage that a very precisely fitting connector can be produced very inexpensively.
  • the low cost of the manufacturing process is based on the one hand on the fact that there are only costs for producing a single master.
  • magnets make it possible to dispense with a mechanical lock, which is sensitive to wear and easily damaged.
  • strength of the connection can be adjusted by selecting the magnets without having to produce new masters or daughter structures.
  • FIG. 1 shows an integrated optical waveguide component according to the prior art
  • FIG. 2 shows another integrated optical waveguide component with a plug connection according to the prior art
  • FIGS. 3 to 9 a method for producing an integrated optical waveguide component and a connector.
  • a first integrated optical waveguide component 10 is shown in FIG.
  • the integrated optical waveguide component 10 consists of a substantially cuboid substrate 1, which consists of a polymer material.
  • the outer ends of the substrate 1 are provided with fiber coupling areas which are designed as V-grooves 4.
  • a waveguide recess 3 is provided, which connects the V-grooves.
  • the waveguide recess is a recess with an approximately rectangular cross-section that with
  • Waveguide material 2 is filled.
  • a fiber 50 is inserted into one of the two V-grooves 4 and fixed with adhesive 51.
  • the fiber is arranged so that its longitudinal axis is approximately aligned with the longitudinal axis of the waveguide recess 3.
  • FIG. 2 shows another integrated optical waveguide component 10, which consists of a substrate 1, which in turn is essentially cuboid. There are two V-grooves 4 on one of the two end faces, and a V-groove 4 on the opposite end face. The individual V-groove is connected to the two opposite and adjacent V-grooves 4 via a branching waveguide recess 3. Another is shown in Figure 2
  • Plug connection 60 which has two fiber adjustment areas 61 designed as continuous V-grooves.
  • a fiber 50 is inserted into each of the two fiber adjustment areas 61, for example in such a way that they protrude a bit beyond the plug connection 60 on one side, which is just as large as the longitudinal extent of the V-grooves 4. Both fibers 50 are fixed with adhesive 51 in the fiber adjustment areas 61 of the plug connection 60.
  • a connection can now be established between the plug connection 60 and the substrate 1 by moving the plug connection 60 in the direction of the plug-on direction 62 until the ends of the fibers 50 projecting beyond the corner connection 60 lie in the V-grooves 4 of the substrate 1. This connection can be released by moving the opposite direction.
  • the cross section through a master 11 is shown in FIG.
  • the master 11 consists, for example, of an anisotropically etchable semiconductor, such as silicon.
  • the basic form of the Master 11 is similar to the basic form of the
  • a first microstructure 14 is attached to each of the outer opposite ends of the master 11, which has approximately the same shape and dimension as the V-grooves 4 of the substrate 1.
  • a second microstructure 13 runs between the two first microstructures 14 and has approximately the shape of the waveguide recess of the substrate 1.
  • a third microstructure 16 is provided in the master 11, which also has an approximately rectangular cross section, but is deeper than the second microstructure 13 and the first microstructure 14.
  • the third microstructure 16 extends approximately perpendicular to the longitudinal axis of the second microstructure 13 and the first microstructure 14.
  • the third microstructure 16 is arranged such that the second microstructure 13 and the first microstructure 14 touch the third microstructure 16.
  • the first microstructure 14 with its triangular cross section can be produced, for example, by anisotropically etching the silicon material of the master 11 using a suitable mask.
  • the second microstructure 13 is produced, for example, by reactive ion etching through a suitable mask.
  • the third microstructure 16 can be produced, for example, by sawing the silicon.
  • a negative mold is produced by the master 11.
  • the product of this process step is shown in FIG. 4.
  • the negative mold is produced by electrolytically coating the master 11 with a thick metal layer, for example made of nickel.
  • Coating has reached a critical thickness, the coating is separated from the master 11, the master 11 being lost. If necessary, the non-structured side of the coating is smoothed in order to eliminate roughness and undulations caused by the electrolysis process by means of the layer separation.
  • the detached coating forms the negative form and is also called the 1st generation daughter 21.
  • the 1st generation daughter 21 has 1st daughter microstructures 23, 2nd daughter microstructures 24 and 3rd daughter microstructures 26 which reverse the second microstructure 13, the first microstructures 14 and the third microstructures 16 correspond.
  • n Components are referred to as n.
  • Generation daughter where n represents the number of molding steps.
  • the individual microstructures are referred to as daughter, grandchildren, great-grandchildren, etc. microstructures, whereby the pre-ordinate number clarifies which microstructure of the master was molded. For example, by molding the master with a first microstructure and a second microstructure by molding twice, a second generation daughter with a first grandchild microstructure and a second grandchild microstructure is produced.
  • the 1st generation daughter 21 is again coated in an electrolysis process with a metal layer, which in turn preferably consists of nickel.
  • a metal layer which in turn preferably consists of nickel.
  • the 2nd generation daughter 31 is essentially an exact replica of the master 11. It has 2nd grandson microstructures 33, 1st grandson microstructures 34 and
  • Grandchildren microstructures 36 which correspond to the first microstructures 14, the second microstructures 13 and the third microstructures 16.
  • a third generation daughter 41 is formed by repeated galvanic molding of a second generation daughter 31.
  • the 3rd generation daughter 41 is essentially a micro-accurate image of the 1st generation daughter 21 and has 1st grandchild microstructures 44, 2nd grandchild microstructures 43 as well as third-grandchild microstructures 46, which correspond to second-daughter microstructures 23, first-daughter microstructures 24 and third-daughter microstructures 26 of first-generation daughter 21.
  • a plug connection is made from a second generation daughter 31.
  • a form aid 63 in the form of a frame is placed on the 2nd generation daughter 31, which is selected here
  • Exemplary embodiment is approximately rectangular and in its interior comprises the 1st grandson microstructure 34 and partially the 3rd grandson microstructure 36.
  • a fiber 50 is inserted into the 1st grandson microstructure 34 which, due to the V-shaped cross section of the 1st grandson microstructure 34, is centered automatically when pressed.
  • a small magnet 99 is advantageously placed on the fiber, which is attracted by the ferromagnetic nickel and thus presses the fiber lightly into the first grandson microstructure 34, which is designed as a V-groove.
  • the shaping aid 63 has a recess from which the fiber 50 can be led out. However, it is also possible to guide the fiber over or under the shaping aid 63.
  • the interior of the mold aid 63 is then filled with a casting compound 70, which hardens after the mold aid has been filled.
  • the fiber becomes part of the cast body.
  • an adhesion promoter for example silane
  • Curing can take place, for example, by exposure to light or heating, but other curing mechanisms are also conceivable. Embedding the fiber in injection molding is also possible.
  • the fiber 50 it is advantageous to push the fiber 50 so deep into the first grandson microstructure 34 that the fiber abuts the inside of the casting mold formed from the mold aid 63 and second-generation daughter, or in another appropriately to ensure that the fiber ends are not wetted with potting compound 70.
  • mold aid 63 The exact form of the mold aid 63 is not intended to be relevant to the invention, nor is its use per se. However, the 2nd grandson microstructure 33 should not be filled with potting compound 70, since otherwise the fit of the plug cannot be guaranteed. By using a curable potting compound with an initially waxy consistency, it is also possible to meet these requirements without using a molding aid 63.
  • the substrate 1 is produced.
  • a second molding aid 64 which in the exemplary embodiment chosen here has the shape of a frame, the inside dimensions of which correspond exactly to the outside dimensions of the 3rd generation daughter, is connected to a 3rd generation daughter 41 to form a casting mold.
  • the resulting trough-shaped casting mold is in turn filled with a casting compound 70 which can be cured by temperature, exposure to light, radiation or other methods familiar to the person skilled in the art. It is advantageous to choose the potting compound 70 so that the optical properties have the lowest possible absorption. This requirement is based on the fact that the impression of the second -grand microstructure 43 is to be formed into a waveguide in a later process step.
  • the Potting compound 70 the sheathing of the waveguide, the attenuation of which then also depends on the absorption coefficient of the sheathing material.
  • plastic molding instead of pouring out with the potting compound, other possibilities of plastic molding are also possible and provided, for example hot pressing, the third generation 41 serving as a stamp, or reaction molding, injection molding.
  • other second molding aids are also conceivable and also necessary than that of a frame. These configurations are familiar to the person skilled in the art.
  • the second molding aid 64 is a cast frame which, after the substrate from the 3rd generation daughter has been removed from the mold, forms the substrate 1 together with the hardened casting compound 70.
  • the second molding aid 64 additionally serves as a carrier for optical or optoelectronic or electrical components, which are then cast into the substrate.
  • Such a frame is, for example, from the German
  • FIG. 9 shows the integrated optical waveguide component with the associated plug connection.
  • the waveguide component on the one hand comprises the substrate 1 shown by the method step in FIG. 8, which essentially consists of a cuboid-shaped polymer material, the hardened casting compound.
  • the substrate 1 has V-shaped notches, which point towards the inside, the V-grooves 4, which represent micro-precisely reproduced images of the first microstructure 14 of the master 11.
  • the substrate 1 Approximately aligned with the longitudinal axes of the V-grooves 4 and connecting them, the substrate 1 has a waveguide depression which has the shape of an elongated trench with an approximately rectangular cross section.
  • the waveguide recess 3 is filled with a transparent, higher refractive index waveguide material 2.
  • the integrated optical waveguide component has a plug connection 60, which was created by the method step shown in FIG. 7. By placing the plug-in connection 60 on the substrate 1 in the plug-on direction 62, an easily separable but nevertheless very well-adjusted connection between the substrate 1 and the fiber 50 has been created.
  • FIGS. 10 and 11 show the master 11 already shown in Figure 3 in supervision.
  • a first microstructure 14 is attached to the outer opposite ends of the master 11, which have approximately the same shape and dimensions as the V-grooves 4 of the substrate 1.
  • a second microstructure 13 runs between the two first microstructures 14 and has approximately the shape of the waveguide recess of the substrate 1. Furthermore, a third microstructure 16 is provided, which runs approximately perpendicular to the longitudinal axis of the second microstructure 13 and the first microstructure 14. The third microstructure 16 is arranged such that the second microstructure 13 and the first microstructure 14 touch the third microstructure 16.
  • FIG. 11 shows a microstructure related to the master 11, the cover master 81 in supervision.
  • a first cover microstructure 84 is attached to the outer opposite ends of the master 11, which has exactly the same shape and dimension as the first microstructures 14 of the master 11.
  • a third cover microstructure 86 is provided, which has exactly the same shape and dimension as the third microstructures 16 of the master 11.
  • the cover master 81 can be produced from silicon in the same way as the master 11, with the first cover microstructure 84 either using the same mask as for the first microstructure 14 or an exact copy of the mask.
  • the Deckel-Master offers itself to use an even-numbered generation daughter of the Master 11 and to eliminate the second microstructures by filling.
  • the substrate is produced in the same way as in the preceding, described with reference to FIGS. 3-9.
  • an even-numbered generation daughter of the cover master 81 is molded instead of the 2nd generation daughter of the master 11, as described in relation to FIG. Since this does not have the second microstructures, greater freedom in the design of the mold aid is possible.
  • the second embodiment also has the advantage that the odd-numbered daughters of the cover master 81 can serve as a cover for the substrate 1.
  • this cover can serve as a strip-off cover to the waveguide material 2 during
  • thermo expansion can thus be used and a wide range of fits between the substrate and the plug connection, from the press fit to the slag fit, can be achieved.
  • the exemplary embodiments shown here deal with the production of an integrated optical component with a plug connection. However, it is also possible and intended to use the method for producing other plugs with a micro-precise fit. For example, it is also possible to produce electrical microplugs using the method shown here, by inserting a metal into the instead of the waveguide material
  • Waveguide recess is filled and the fiber is replaced by an electrical conductor.
  • Another possible application is the production of pluggable optical components. Instead of the fiber, the optoelectronic component can be adjusted during the plug casting process so that it later couples to the waveguide when inserted into the substrate.
  • micro-fitting enables increased connector densities to be achieved compared to conventional connectors.

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Abstract

Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines integriert optischen Wellenleiterbauteils mit einer Steckverbindung (60) offenbart, wobei die Steckverbindung und das Wellenleiterbauteil demselben Master abgeformt werden. Der Vorteil dieses Verfahrens wird in der Verbindung von niedrigen Produktionskosten und hoher Präzision gesehen.

Description

Verfahren zur Herstellung eines integriert-optischen Wellenleiterbauteils und einer Steckverbindung
Stand der Technik
Die Erfindung geht aus von einem Verfahren zur Herstellung eines integriert-optischen Wellenleiterbauteils mit einer Steckverbindung nach der Gattung des Hauptanspruchs.
Aus der unveröffentlichten deutschen Patentanmeldung mit dem Aktenzeichen 197 25 471.3 ist ein integriert-optisches Wellenleiterbauteil mit Faserankopplungen bekannt. Es weist ein Substrat aus polymerem Material auf, welches im
Wesentlichen quaderförmig aufgebaut ist. An den äußeren Enden des Substrats sind V-nutförmige
Faserankopplungsbereiche vorgesehen. Im Mittelbereich des Substrats ist eine mit höherbrechenden Material befüllte Wellenleitervertiefung vorgesehen, welche die V-nutförmigen Faserankoppelbereiche verbindet. In den Grenzbereichen zwischen den V-nutförmigen Faserankopplungsbereichen und der Wellenleitervertiefung befinden sich Vertiefungen mit rechteckigem Querschnitt, welche in etwa senkrecht zu den V- nutförmigen Faserankopplungsbereichen verlaufen.
Nach dem Stand der Technik wird das Substrat durch zweimaliges Abformen eines Masters hergestellt. Die erste Abformung des Masters erfolgt hierbei durch galvanische Beschichtung beispielsweise mit Nickel, die zweite Abformung durch eine Kunststoffabformtechnik, beispielsweise Heißpressen, Gießen, insbesondere Spritzguß oder Reaktionsgu .
Das integriert-optische Bauteil wird hergestellt, indem ein optisch transparenter Kleber auf das Substrat aufgebracht wird, und daraufhin ein Strip-off-Deckel auf das Substrat aufgedrückt wird. Der Strip-off-Deckel weist im Bereich der V-Nuten eine dachfirstartige Erhöhung auf, welche exakt in die V-nutförmigen Faserankoppelbereiche einrastet. Darüber hinaus weist er eine Erhebung mit rechteckigem Querschnitt auf, welche in die Vertiefungen mit rechteckigem Querschnitt des Substrats einrastet. Durch den Druck wird der Kleber aus dem Bereich zwischen Substrat und Deckelbauteil ausgetrieben und verbleibt nur in der Wellenleitervertiefung, wo er nach Aushärtung einen Wellenleiter bildet.
Das Masterbauteil wird aus einkristallinem Silizium hergestellt, wobei die V-nutförmigen Faserankoppelbereiche durch anisotropes Ätzen, beispielsweise in Kaliumhydroxid, erzeugt werden, die Wellenleitervertiefung wird durch Ätzen mit reaktiven Ionen (RIE, Reactive Ion Etching) hergestellt, die Vertiefungen mit rechteckigem Querschnitt werden beispielsweise durch Sägeschnitte einer Wafersäge realisiert.
Der Strip-off-Deckel wird durch einmalige galvanische Abformung eines Master-Deckels hergestellt, welcher ebenfalls aus Silizium besteht und ebenso hergestellt wurde wie das Masterbauteil für das Substrat. Insbesondere ist der Abstand zwischen den Sägeschnitten auf den beiden Masterbauteilen genau gleich.
Um das integriert optische Wellenleiterbauteil mit einer optischen Faser zu verbinden, kann die Faser in die V- nutförmigen Faserankoppelbereiche eingelegt werden, und festgeklebt werden. Hierzu ist es notwendig, die Faser aktiv so vorzujustieren, daß sie anschließend in die vorbestimmte V-Nut gedrückt wird. Darüber hinaus ist die so geschaffene Verbindung zwischen dem integriert optischen
Wellenleiterbauteil und der Faser nicht mehr lösbar.
Eine andere aus der DE 4217553 A bekannte Methode zum Einkoppeln von Licht besteht darin, Fasern in ein Präzisionssteckerteil einzulegen, so daß sie an einem Ende des Steckerteils überstehen. Stecker und integriert optisches Wellenleiterbauteil werden dann so angeordnet, daß das aus dem Stecker herausragende Faserende in die V- nutförmigen Faserankoppelbereiche hineinragt. Die VorJustierung der Fasern findet nun im Steckerbauteil statt, ist jedoch aufwendig und kostspielig.
Bei beiden aufgeführten Verfahren wird die Faser in ein relativ weiches Material, einen Kunststoff, eingedrückt. Bei hohem Anpreßdruck gibt das Material nach und verringert so entscheidend die Justierpräzision.
Vorteile der Erfindung
Die erfindungsgemäße Anordnung mit den kennzeichnenden
Merkmalen des unabhängigen Anspruchs hat demgegenüber den Vorteil, daß ein sehr paßgenauer Stecker sehr preiswert herstellbar ist. Die niedrigen Kosten des Herstellungsverfahrens beruhen einerseits darauf, daß nur Kosten zur Herstellung eines einzigen Masters entstehen.
Dadurch, daß Steckverbindung und Substrat Abformungen des selben Masters, jedoch in unterschiedlicher Generation, darstellen, ergibt sich eine inhärent hohe Paßgenauigkeit der Teile. Da die Faser automatisch richtig justiert wird, ergeben sich weitere Einsparungen durch den verringerten Arbeitsaufwand bei der Herstellung des integriert optischen Wellenleiterbauteils mit Steckverbindung. Durch die in den abhängigen Ansprüchen aufgeführten Maßnahmen sind vorteilhafte Weiterbildungen und Verbesserungen des im unabhängigen Anspruch angegebenen Verfahrens möglich. Durch dreimaliges Abformen des Masterbauteils mittels Galvanik ergibt sich eine vorteilhafte Kombination aus möglichst wenig Abformschritten einerseits und möglichst guter Ausnutzung des Masters andererseits.
Es ist besonders vorteilhaft, kleine Magnete in die Steckverbindung und das Substrat mit einzugießen, da dieser Magnet einerseits die Faser während des Eingießens fixiert, und andererseits im fertigen Bauteil das Heranführen der Steckverbindung an das Substrat erleichtert und Substrat und Steckverbindung nach dem Zusammenstecken aneinanderhält . Die Magnete erlauben, auf eine mechanische Arretierung zur verzichten, welche verschleißempfindlich und leicht zu beschädigen ist. Darüber hinaus kann durch Auswahl der Magnete die Stärke der Verbindung eingestellt werden, ohne neue Master oder Tochterstrukturen produzieren zu müssen.
Weiterhin ist es vorteilhaft, im Master weitere MikroStrukturen vorzusehen, um somit die Positioniergenauigkeit der Steckverbindung zu erhöhen.
Zeichnung
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigen Figur 1 ein integriert optisches Wellenleiterbauelement nach dem Stand der Technik, Figur 2 ein weiteres integriert optisches Wellenleiterbauteil mit Steckverbindung nach dem Stand der Technik, Figuren 3 bis 9 ein Verfahren zur Herstellung eines integriert optischen Wellenleiterbauteils und einer Steckverbindung.
Beschreibung
In Figur 1 ist ein erstes integriert optisches Wellenleiterbauelement 10 gezeigt. Das integriert optische Wellenleiterbauelement 10 besteht aus einem im wesentlichen quaderförmigen Substrat 1, welches aus einem Polymerwerkstoff besteht. Den äußeren Enden des Substrats 1 sind Faserankopplungsbereiche vorgesehen, welche als V-Nuten 4 ausgebildet sind. Im Mittelbereich des Substrats ist eine Wellenleitervertiefung 3 vorgesehen, welche die V-Nuten verbindet. Die Wellenleitervertiefung ist eine Vertiefung mit in etwa rechteckigem Querschnitt, die mit
Wellenleitermaterial 2 gefüllt ist. In eine der beiden V- Nuten 4 ist eine Faser 50 eingelegt und mit Kleber 51 fixiert. Die Faser ist so angeordnet, daß ihre Längsachse in etwa mit der Längsachse der Wellenleitervertiefung 3 fluchtet.
In Figur 2 ist ein weiteres integriert optisches Wellenleiterbauteil 10 dargestellt, welches aus einem Substrat 1 besteht, welches wiederum im wesentlichen quaderförmig ist. An einer der beiden Stirnseiten befinden sich zwei V-Nuten 4, an der gegenüberliegenden Stirnseite befindet sich eine V-Nut 4. Die einzelne V-Nut ist über eine sich verzweigende Wellenleitervertiefung 3 mit den beiden gegenüberliegenden und einander benachbarten V-Nuten 4 verbunden. Weiterhin in Figur 2 dargestellt ist eine
Steckverbindung 60, welche zwei als durchgängige V-Nuten ausgebildete FaserJustierungsbereiche 61 aufweist. In jeden der beiden Faserjustierungsbereiche 61 ist eine Faser 50 eingelegt, etwa dergestalt, daß sie auf eine Seite um ein Stück über die Steckverbindung 60 hinausragen, welches genauso groß ist, wie die Längsausdehnung der V-Nuten 4. Beide Fasern 50 sind mit Kleber 51 in den Faserjustierungsbereichen 61 der Steckverbindung 60 fixiert.
Zwischen der Steckverbindung 60 und dem Substrat 1 kann nun eine Verbindung hergestellt werden, indem die Steckverbindung 60 in Richtung der Aufsteckrichtung 62 bewegt wird, bis die Fasern 50 mit ihren über die Eckverbindung 60 hinausragenden Enden in den V-Nuten 4 des Substrats 1 liegen. Durch entgegengesetzte Bewegungen kann diese Verbindung wieder gelöst werden.
Anhand der Figuren 3 bis 9 soll das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung eines integriert optische Wellenleiterbauteils erläutert werden.
In Figur 3 ist der Querschnitt durch ein Master 11 gezeigt. Das Master 11 besteht beispielsweise aus einem anisotrop ätzbaren Halbleiter, wie zum Beispiel Silizium. Die Grundform des Masters 11 ist ähnlich der Grundform des
Substrats 1 auf Figur 1. An den äußeren gegenüberliegenden Enden des Masters 11 sind je eine erste MikroStruktur 14 angebracht, welche in etwa die gleiche Form und Abmessung wie die V-Nuten 4 des Substrats 1 haben. Zwischen den beiden ersten MikroStrukturen 14 verläuft eine zweite MikroStruktur 13, welche in etwa die Form der Wellenleitervertiefung des Substrats 1 hat. Weiterhin ist in dem Master 11 eine dritte MikroStruktur 16 vorgesehen, welche einen ebenfalls in etwa rechteckigen Querschnitt aufweist, jedoch tiefer ist als die zweite MikroStruktur 13 und die erste Mikrostruktur 14. Die dritte MikroStruktur 16 verläuft in etwa senkrecht zur Längsachse der zweiten Mikrostruktur 13 und der ersten Mikrostruktur 14. Die dritte Mikrostruktur 16 ist so angeordnet, daß die zweite Mikrostruktur 13 und die erste Mikrostruktur 14 die dritte Mikrostruktur 16 berührt. Die erste Mikrostruktur 14 mit ihrem dreieckigen Querschnitt kann beispielsweise durch anisotropes Ätzen des Siliziummaterials des Masters 11 durch eine geeignete Maske erzeugt werden. Die zweite Mikrostruktur 13 wird beispielsweise durch reaktives Ionenätzen durch eine geeignete Maske erzeugt. Die dritte Mikrostruktur 16 kann beispielsweise durch Ansägen des Siliziums erzeugt werden.
In einem nächsten Verfahrensschritt wird eine Negativform vom Master 11 hergestellt. Das Produkt dieses Verfahrensschritts ist in Figur 4 dargestellt. Das Herstellen der Negativform geschieht dadurch, daß das Master 11 mit einer dicken Metallschicht, beispielsweise aus Nickel, elektrolytisch beschichtet wird. Nachdem die
Beschichtung eine kritische Dicke erreicht hat, wird die Beschichtung vom Master 11 getrennt, wobei das Master 11 verloren geht. Gegebenenfalls wird die nicht strukturierte Seite der Beschichtung geglättet, um durch den Elektrolyseprozeß bedingte Rauhigkeiten und Welligkeiten durch die Schichtabtrennung zu beseitigen. Die abgelöste Beschichtung bildet die Negativform und wird auch 1. -Generation-Tochter 21 genannt. Die 1. -Generation-Tochter 21 verfügt über 1. -Tochter-Mikrostrukturen 23, 2. -Tochter- MikroStrukturen 24 und 3. -Tochter-Mikrostrukturen 26, welche der zweiten Mikrostruktur 13 , den ersten Mikrostrukturen 14 und den dritten Mikrostrukturen 16 invers entsprechen.
In der weiteren Beschreibung wird die folgende Bezeichnungsweise gewählt: Die galvanisch abgeformten
Bauteile werden als n. -Generation-Tochter bezeichnet, wobei n die Zahl der Abformschritte darstellt. Die einzelnen Mikrostrukturen werden als Tochter-, Enkel-, Urenkel-, usw. Mikrostrukturen bezeichnet, wobei die vorgesetzte Ordnungszahl klarstellt, welche Mikrostruktur des Masters abgeformt wurde. So wird beipielsweise durch Abformung des Masters mit einer ersten Mikrostruktur und einer zweiten Mikrostruktur durch zweimaliges Abformen eine 2. -Generation Tochter mit einer 1. Enkel-Mikrostruktur und einer 2. Enkel- Mikrostruktur erzeugt .
Da beim Trennen von Master 11 und 1. -Generation-Tochter 21 das Master zerstört wird, existiert von einem Master in der Regel nur eine erste 1. -Generation-Tochter 21.
Die 1. -Generation-Tochter 21 wird wiederum in einem Elektrolyseprozeß mit einer Metallschicht beschichtet, welche wiederum bevorzugt aus Nickel besteht. Durch das Trennen der elektrolytischen Beschichtung von der 1.- Generation-Tochter 21 wird hierbei die 2. -Generation-Tochter 31 erzeugt. Die 1. -Generation-Tochter 21 geht bei der Entformung von 1. -Generation-Tochter 21 und 2. -Generation-Tochter 31 nicht verloren. Somit ist es möglich, mehrere 2. -Generation-Töchter 31 zu erzeugen. Das Zwischenprodukt nach diesem Verfahrensschritt ist in Figur 5 dargestellt .
Die 2. -Generation-Tochter 31 ist im wesentlichen ein genaues Abbild des Masters 11. Sie weist 2. -Enkel-Mikrostrukturen 33, 1. -Enkel-Mikrostrukturen 34 sowie
3. -Enkel-Mikrostrukturen 36 auf, welche den ersten Mikrostrukturen 14, den zweiten Mikrostrukturen 13 und den dritten Mikrostrukturen 16 entsprechen.
Im nächsten Verfahrensschritt entsteht durch abermaliges galvanisches Abformen einer 2. -Generation-Tochter 31 eine 3. -Generation-Tochter 41, wie sie in Figur 6 gezeigt ist. Die 3. -Generation-Tochter 41 ist im wesentlichen ein mikrogenaues Abbild der 1. -Generation-Tochter 21 und weist 1. -Urenkel-Mikrostrukturen 44, 2. -Urenkel-Mikrostrukturen 43 sowie 3. -Urenkel-Mikrostrukturen 46 auf, welchen den 2.- Tochter-Mikrostrukturen 23, 1. -Tochter-Mikrostrukturen 24 und 3. -Tochter-Mikrostrukturen 26 der 1. -Generation-Tochter 21 entsprechen.
In einem nächsten Verfahrensschritt wie er in Figur 7 gezeigt wird, wird aus einer 2. -Generation-Tochter 31 eine Steckverbindung hergestellt. Hierzu wird auf die 2.- Generation-Tochter 31 eine Formhilfe 63 in Form eines Rahmens aufgesetzt, welcher im hier gewählten
Ausführungsbeispiel in etwa rechteckig ist und in seinem Inneren die 1. -Enkel-Mikrostruktur 34 sowie teilweise die 3. -Enkel-Mikrostruktur 36 umf ßt. In die 1. -Enkel- Mikrostruktur 34 wird eine Faser 50 eingelegt, welche sich wegen des V-förmigen Querschnitts der 1. -Enkel-Mikrostruktur 34 bei Andruck selbständig zentriert. Vorteilhafterweise wird auf die Faser ein kleiner Magnet 99 gelegt, der vom ferromagnetischen Nickel angezogen wird und so die Faser leicht in die als V-Nut ausgebildete 1. -Enkel-Mikrostruktur 34 drückt. Weiterhin weist die Formhilfe 63 in vorteilhafter Ausgestaltung eine Ausnehmung auf, aus welcher die Faser 50 herausgeführt werden kann. Es ist jedoch auch möglich, die Faser über die Formhilfe 63 hinweg oder unter ihr hindurchzuführen. Sodann wird das Innere der Formhilfe 63 mit einer Vergußmasse 70 befüllt, welche nach Befüllen der Formhilfe aushärtet. Die Faser wird hierbei Bestandteil des Gußkörpers . Um eine gute Verbindung zwischen dem Quarzglas der Faser und der Vergußmasse zu erreichen, ist es vorteilhaft, die Faser vorab mit einem Haftvermittler, beispielsweise Silan, zu versehen. Falls ein Magnet benutzt wurde, kann er auch Bestandteil des Gußkörpers werden. Das Aushärten kann beispielsweise durch Lichteinstrahlung oder Erwärmung geschehen, es sind jedoch auch andere Aushärtungsmechanismen vorstellbar. Auch die Einbettung der Faser in Spritzguß ist möglich. Zur Erhöhung der optischen Qualität des Bauteils ist es vorteilhaft, die Faser 50 so tief in die 1. -Enkel- Mikrostruktur 34 hineinzuschieben, daß die Faser an der Innenseite der aus Formhilfe 63 und zweit-Generation-Tochter gebildeten Gußform anstößt, oder in anderer geeigneter Weise dafür zu Sorge zu tragen, daß die Faserenden nicht mit Vergußmasse 70 benetzt werden.
Die genaue Form der Formhilfe 63 soll nicht erfindungsrelevant sein, ebensowenig ihre Verwendung an sich. Die 2. -Enkel-Mikrostruktur 33 soll jedoch nicht mit Vergußmasse 70 gefüllt werden, da sonst die Paßgenauigkeit des Steckers nicht gewährleistet werden kann. Durch Verwendung einer aushärtbaren Vergußmasse von anfänglich wachsartiger Konsistenz ist es auch möglich, diese Anforderungen ohne Verwendung einer Formhilfe 63 zu erfüllen.
In einem weiteren Verfahrensschritt, welcher in Figur 8 dargestellt ist, wird das Substrat 1 hergestellt. Hierzu wird eine zweite Formhilfe 64, welche im hier gewählten Ausführungsbeispiel die Form eines Rähmchens hat, dessen Innenabmessungen genau den Außenabmessungen der 3. - Generation-Tochter entsprechen, mit einer 3. -Generation- Tochter 41 zu einer Gußform verbunden. Die so entstandene trogförmige Gußform wird wiederum mit einer Vergußmasse 70 befüllt, welche durch Temperatur, Lichteinwirkung, Bestrahlung oder andere dem Fachmann geläufige Methoden aushärtbar ist. Es ist vorteilhaft, die Vergußmasse 70 so zu wählen, daß die optischen Eigenschaften eine möglichst geringe Absorption aufweisen. Diese Anforderung ist darin begründet, daß der Abdruck der 2. -Urenkel-Mikrostruktur 43 in einem späteren Verfahrensschritt zu einem Wellenleiter ausgebildet werden soll. In diesem Fall bildet die Vergußmasse 70 die Umhüllung des Wellenleiters, dessen Dämpfung dann auch vom Absorptionskoeffizienten des Umhüllungsmaterials abhängt. Statt des Ausgießens mit der Vergußmasse sind auch andere Möglichkeiten der Kunststoffabformung möglich und vorgesehen, beispielsweise Heißpressen, wobei die 3. -Generation 41 als Formstempel dient, bzw. Reaktionsguß, Spritzguß. In Abhängigkeit von der Ausgestaltung des Kunststoffabgußverfahrens sind auch andere zweite Formhilfen denkbar und auch notwendig als die eines Rähmchens. Diese Ausgestaltungen sind dem Fachmann geläufig.
Weiterhin ist es möglich und vorgesehen, die zweite Formhilfe 64 als Gußrähmchen auszubilden, welches nach Entformen des Substrats von der 3. -Generation-Tochter zusammen mit der ausgehärteten Vergußmasse 70 das Substrat 1 bildet. In diesem Fall ist auch möglich und vorgesehen, daß die zweite Formhilfe 64 zusätzlich als Träger für optische oder optoelektronische oder elektrische Bauteile dient, welche dann mit in das Substrat vergossen werden. Ein solches Rähmchen ist beispielsweise aus der deutschen
Patentanmeldung mit dem Aktenzeichen 196 42 088.1 bekannt.
In Figur 9 schließlich wird das integriert optische Wellenleiterbauteil mit der dazugehörigen Steckverbindung gezeigt. Das Wellenleiterbauteil umfaßt einerseits das durch den Verfahrensschritt in Figur 8 gezeigte Substrat 1, welches im wesentlichen aus einem quaderförmig geformten Polymerwerkstoff besteht, der ausgehärteten Vergußmasse. In zwei entgegengesetzten Seiten weist das Substrat 1 V-förmige Einkerbungen auf, welche ins Innere weisen, die V-Nuten 4, welche mikrogenau abgeformte Abbilder der ersten Mikrostruktur 14 des Masters 11 darstellen. Angrenzend an die V-Nuten 4 und in etwa senkrecht zu deren Längsachsen verlaufend, weist das Substrat 1 Vertiefungen mit rechteckigem Querschnitt 4 auf, welche durch Abformung der dritten Mikrostruktur 16 des Masters 11 erzeugt wurden, wobei die dritte Mikrostruktur durch Sägeschnitte erzeugt wurde. In etwa fluchtend mit den Längsachsen der V-Nuten 4 und diese verbindend weist das Substrat 1 eine Wellenleitervertiefung auf, welche die Form eines länglichen Grabens mit etwa rechteckigem Querschnitt aufweist. Die Wellenleitervertiefung 3 ist mit einem transparentem höherbrechenden Wellenleitermaterial 2 befüllt. Weiterhin weist das integriert optische Wellenleiterbauteil eine Steckverbindung 60 auf, die durch den in Figur 7 gezeigten Verfahrensschritt entstanden ist. Durch das Aufsetzen der Steckverbindung 60 auf das Substrat 1 in AufSteckrichtung 62 ist eine leicht trennbare und dennoch sehr gut justierte Verbindung zwischen Substrat 1 und Faser 50 entstanden.
Die gute Paßgenauigkeit und sehr exakte Positionierung der Faser liegt darin begründet, daß Steckverbindung 60 und Substrat 1 beide durch Abformungen desselben Masters 11 erzeugt wurden .
Um diesen Vorteil zu erhalten, ist es nicht notwendig, auf eine 2. -Generation-Tochter und eine 3. -Generation-Tochter für die Kunststoffabformung zurückzugreifen. Es ist ebenso vorstellbar und vorgesehen, jede andere Kombination aus einer geradzahligen und einer ungeradzahligen Generation zu benutzen. Es ist jedoch zu berücksichtigen, daß die 1.- Generation-Tochter nur in einfacher Ausfertigung hergestellt werden kann, wogegen höhere Generationen in höherer Auflage hergestellt werden können. Weiterhin steigt die Möglichkeit für Ungenauigkeiten besonders bei Abformung von kleinsten
Strukturen mit der Zahl der Generationen. Es erscheint somit vorteilhaft, eine Kombination aus geradzahliger Generation- Tochter und ungeradzahliger Generation-Tochter zu wählen, die zwei nahe beieinander liegende, nicht zu hohe, und von 1 verschiedene Zahlen aufweist. Vorteilhaft erscheint unter diesem Aspekt beispielsweise die Kombination 2. -Generation- und 3. -Generation-Tochter oder 3. -Generation- und 4.- Generation-Tochter .
Ein zweites Ausführungsbeispiel soll anhand der Figuren 10 und 11 erläutert werden. Figur 10 zeigt das schon in Figur 3 dargestellte Master 11 in Aufsicht. An den äußeren gegenüberliegenden Enden des Masters 11 sind je eine erste Mikrostruktur 14 angebracht, welche in etwa die gleiche Form und Abmessung wie die V-Nuten 4 des Substrats 1 haben.
Zwischen den beiden ersten Mikrostrukturen 14 verläuft eine zweite Mikrostruktur 13, welche in etwa die Form der Wellenleitervertiefung des Substrats 1 hat. Weiterhin ist eine dritte Mikrostruktur 16 vorgesehen, welche in etwa senkrecht zur Längsachse der zweiten Mikrostruktur 13 und der ersten Mikrostruktur 14. verläuft. Die dritte Mikrostruktur 16 ist so angeordnet, daß die zweite Mikrostruktur 13 und die erste Mikrostruktur 14 die dritte Mikrostruktur 16 berührt.
Figur 11 zeigt eine mit dem Master 11 verwandte Mikrostruktur, das Deckel-Master 81 in Aufsicht. An den äußeren gegenüberliegenden Enden des Masters 11 ist je eine erste Deckel-Mikrostruktur 84 angebracht, welche genau die gleiche Form und Abmessung wie die ersten Mikrostrukturen 14 des Masters 11 hat. Weiterhin ist eine dritte Deckel- Mikrostruktur 86 vorgesehen, welche genau die gleiche Form und Abmessung wie die dritten Mikrostrukturen 16 des Masters 11 hat.
Das Deckel-Master 81 kann aus Silizium in gleicher Weise wie das Master 11 hergestellt werden, wobei für die erste Deckel -Mikrostruktur 84 entweder die gleiche Maske wie für die erste Mikrostruktur 14 verwendet wurde oder eine exakte Kopie der Maske. Als alternative Herstellungsweise für das Deckel-Master bietet sich an eine geradzahlig-Generation- Tochter des Masters 11 heranzuziehen, und die zweiten Mikrostrukturen durch Auffüllen zu beseitigen.
Das Substrat wird in diesem Ausführungsbeispiel ebenso hergestellt wie im vorhergehenden, anhand der Figuren 3-9 beschriebenen.
Zur Herstellung der Steckverbindung wird jedoch anstelle der 2. -Generation-Tochter des Masters 11, wie zu Figur 7 beschrieben, eine geradzahlig-Generation-Tochter des Deckel- Masters 81 abgeformt. Da diese nicht über die zweiten Mikrostrukturen verfügt, sind größere Freiheiten bei der Gestaltung der Formhilfe möglich.
Das zweite Ausführungsbeispiel bietet darüber hinaus den Vorteil, daß die ungeradzahlig-Generation-Töchter des Deckel-Masters 81 als Deckel für das Substrat 1 dienen können. Beispielsweise kann dieser Deckel als Strip-off- Deckel dienen, um das Wellenleitermaterial 2 während des
Aushärtens in die Wellenleitervertiefung 3 des Substrats zu pressen.
Bei beiden Ausführungsbeispielen ist es möglich und vorgesehen, die Abform- und/oder Aushärtetemperaturen für die beiden Abformprozesse unabhängig voneinander zu variieren. Somit kann die thermische Ausdehnung genutzt werden und es ist ein weiter Bereich von Passungen zwischen Substrat und Steckverbindung, von Preßpassung bis Schlackerpassung erreichbar.
Weitere Abwandlungen des Verfahrens ergeben sich durch die Möglichkeit, Bearbeitungsschritte, die in Silizium nur schwer möglich sind, wie beispielsweise spanabhebendes Bearbeiten, an einer der Nickel-Töchter vorzunehmen. Durch des Einfbringen eines Magneten oder eines ferroagnetisehen Werkstücks in das Substrat ist es möglich, zusammen mit einem in der Steckverbindung vorhandenen Magneten eine Arretierungsmöglichkeit zu schaffen. Hierzu ist es möglich aber nicht zwingend, den Magneten in der Steckverbindung heranzuziehen, der zur Fixierung der Faser beim Eingießen verwendet wurde.
Die hier gezeigten Ausführungsbeispiele befassen sich mit der Herstellung eines integriert-optischen Bauteils mit Steckverbindung. Es ist jedoch auch möglich und vorgesehen, das Verfahren zur Herstellung anderer Stecker mit mikrogenauer Passung heranzuziehen. Beispielsweise ist es auch möglich, elektrische Mikrostecker durch das hier gezeigte Verfahren herzustellen, indem anstelle des Wellenleitermaterials ein Metall in die
Wellenleitervertiefung eingefüllt wird und die Faser durch einen elektrischen Leiter ersetzt wird. Eine andere Anwendungsmöglichkeit ist die Herstellung von steckbaren optischen Bauteilen. Anstelle der Faser kann das optoelektronische Bauteil beim Steckergußvorgang so justiert werden, daß es später beim Einstecken in das Substrat an den Wellenleiter ankoppelt.
Durch die Mikropassung lassen sich so erhöhte Steckerdichten im Vergleich konventionellen Steckern erreichen.

Claims

Ansprüche
1. Verfahren zur Herstellung eines integriert-optischen
Bauelements mit einem Substrat und einer Steckverbindung für eine optische Faser mit folgenden Verfahrensschritten: a. Bereitstellung eines Masters (11) mit einer ersten Mikrostruktur (14) und einer zweiten Mikrostruktur (13) b. Herstellung einer 1. -Generation-Tochter (21) durch Abformen, insbesondere durch Galvanik, des Masters, c. Herstellung einer n. -Generation-Tochter durch Abformen, insbesondere durch Galvanik, der (n-1) . -Generation-Tochter, wobei n wenigstens zwei beträgt und der Schritt c.(n-l) Male durchlaufen wird, d. Herstellung eines Substrats (1) durch Kunststoffabformen, insbesondere durch Heisspressen, Spritzgießen, oder Reaktionsgießen, einer i . -Generation- Tochter, wobei i ungeradzahlig und kleiner als oder gleich n ist, wodurch die Mikrostuktur (14) zu einer V-Nut (4) abgeformt wird und die zweite Mikrostruktur (13) zu einer Wellenleitervertiefung (3) abgeformt wird, e. Herstellung einer Steckverbindung (60) durch Kunststoffabformen, insbesondere durch Heisspressen,
Spritzgießen, oder Reaktionsgießen, desjenigen Teils der j- Generation-Tochter, der die j-fach abgeformte erste Mikrostruktur (14) beinhaltet, wobei j geradzahlig und kleiner als oder gleich n ist, wobei vor der Kunststoffabformung eine optische Faser (50) in die j-fach abgeformte erste Mikrostuktur eingelegt wird, f. Befüllen der Wellenleitervertiefung (3) mit einem aushärtbaren transparenten Material (2) , g. Aushärten des aushärtbaren transparenten Materials.
2. Verfahren zur Herstellung eines integriert-optischen Bauelements mit einem Substrat und einer Steckverbindung für eine optische Faser mit folgenden Verfahrensschritten: a. Bereitstellung eines Masters (11) mit einer ersten Mikrostruktur (14) und einer zweiten Mikrostruktur (13) b. Herstellung einer 1. -Generation-Tochter (21) durch Abformen, insbesondere durch Galvanik, des Masters, c. Herstellung einer n. -Generation-Tochter durch Abformen, insbesondere durch Galvanik, der
(n-1) . -Generation-Tochter, wobei n wenigstens zwei beträgt und der Schritt c.(n-l) Male durchlaufen wird, d. Herstellung eines Substrats (1) durch Kunststoffabformen, insbesondere durch Heisspressen,
Spritzgießen, oder Reaktionsgießen, einer i . -Generation- Tochter, wobei i ungeradzahlig und kleiner als oder gleich n ist, wodurch die erste Mikrostruktur (14) zu einer V-Nut (4) abgeformt wird und die zweite Mikrostruktur (13) zu einer Wellenleitervertiefung (3) abgeformt wird, e. Bereitstellung eines Deckel-Masters (81) mit einer ersten Deckel-Mikrostruktur (84) , die in Anordnung, Form und Größe der ersten Mikrostruktur (13) des Masters (11) gleicht, f. Herstellung eines 1. -Generation-Tochter-Deckels durch Abformen, insbesondere durch Galvanik, des Deckel-Masters (81) , g. Herstellung eines m. -Generation-Tochter-Deckels durch Abformen, insbesondere durch Galvanik, des (m-1) .-Generation-Tochter-Deckels, wobei m wenigstens zwei beträgt und der Schritt g. (m-1) Male durchlaufen wird, h. Herstellung einer Steckverbindung (60) durch Kunststoffabformen, insbesondere durch Heisspressen, Spritzgießen, oder Reaktionsgießen, desjenigen Teils des j- Generation-Tochter-Deckels , der die j-fach abgeformte erste Deckel-Mikrostruktur (84) beinhaltet, wobei j geradzahlig und kleiner als oder gleich m ist, wobei vor der Kunststoffabformung eine optische Faser (50) in die j-fach abgeformte ersten Deckel-Mikrostruktur (84) eingelegt wird, i. Befüllen der Wellenleiterstruktur (3) mit einem aushärtbaren transparenten Material (2), j. Aushärten des aushärtbaren transparenten Materials.
3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß im Master oder in der zweit- Generation-Tochter weitere Mikrostrukturen (6) vorgesehen werden.
4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß im
Master weitere Mikrostrukturen (6) vorgesehen werden, daß im Deckel-Master weitere Deckel-Mikrostrukturen (86) vorgesehen werden, wobei die weiteren Mikrostrukturen (6) des Masters (11) den weiteren Deckel-Mikrostrukturen (86) des Deckel- Masters (81) in Anordnung, Form und Größe gleichen.
5. Verfahren nach Anspruch 2 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen den Schritten i. und j. ein k. -Generation- Tochter-Deckel auf das Substrat (2) gelegt wird, wobei k ungeradzahlig, größer als oder gleich eins und kleiner als oder gleich m ist.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß n=3.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche , dadurch gekennzeichnet, daß j=i+l.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß vor dem Kunststoffabformen kleine Magnete und /oder ferromagnetische Körper auf die i.- und/oder j . -Generation-Töchter gelegt werden, so daß das Substrat und/oder die Steckverbindung mit einem Magnet oder Ferromagnet versehen werden, die durch wechselseitige Anziehung das Substrat und die Steckverbindung zusammenführen .
9. Verfahren zur Herstellung eines ersten und eines zweiten mikrostrukturierten Körpers, wobei der erste mikrostrukturierte Körper mit dem zweiten mikrostrukturierten Körper in eine rastende und zerstörungsfrei wieder trennbare Verbindung gebracht werden kann, wobei der erste und der zweite mikrostrukturierte Körper durch die Verbindung relativ zueinander positioniert werden, und wobei wenigstens einer der mikrostrukturierten Körper mit einem Leiter, insbesondere für Licht oder Elektrizität, verbunden ist, dadurch gekennzeichnet, daß ein mikrostrukturiertes Master bereitgestellt wird, daß das Master wenigstens zwei aufeinanderfolgende Male galvanisch abgeformt wird, so daß eine erste und eine zweite Generation-Tochter entsteht, daß durch wenigstens bereichsweise Kunststoffabformung einer geradzahlig-Generation-Tochter ein erster mikrostrukturierter Körper erzeugt wird, daß durch wenigstens bereichsweise Abformung einer ungeradzahlig-Generation-Tochter ein zweiter mikrostrukturierter Körper erzeugt wird, daß bei einem der Kunststoffabformschritte der Leiter auf die abzuformende Tochter aufgelegt wird und Bestandteil des mikrosturkturierten Körpers wird, daß die abzuformenden Bereiche für den ersten und den zweiten mikrostrukturierten Körper so gewählt werden, daß Teile des Masters sowohl in den ersten als auch in den zweiten mikrostrukturierten Körper abgeformt werden und durch die Teile die rastende Verbindung geschaffen wird.
10. Verfahren zur Herstellung eines ersten und eines zweiten mikrostrukturierten Körpers, wobei der erste mikrostrukturierte Körper mit dem zweiten mikrostrukturierten Körper in eine rastende und zerstörungsf ei wieder trennbare Verbindung gebracht werden kann, wobei der erste und der zweite mikrostrukturierte Körper durch die Verbindung relativ zueinander positioniert werden, und wobei wenigstens einer der mikrostrukturierten Körper mit einem Leiter, insbesondere für Licht oder Elektrizität, verbunden ist, dadurch gekennzeichnet, daß ein erstes mikrostrukturiertes Master bereitgestellt wird, daß das erste Master wenigstens ein Mal galvanisch abgeformt wird, so daß eine erste Generation- Tochter des ersten Masters entsteht, daß ein zweites mikrostrukturiertes Master bereitgestellt wird, wobei das erste und das zweite Master in einem vorgegeben Bereich identische Strukturen aufweisen, vorzugsweise dadurch, daß die Master durch Ätztechnik mit bereichsweise identischen Masken hergestellt wurden, daß das zweite Master wenigstens zwei aufeinanderfolgende Male galvanisch abgeformt wird, so daß eine erste und eine zweite Generation-Tochter des zweiten Masters entsteht, daß durch wenigstens bereichsweise
Kunststoffabformung einer geradzahlig-Generation-Tochter des ersten oder des zweiten Masters ein erster mikrostrukturierter Körper erzeugt wird, daß durch wenigstens bereichsweise Abformung einer ungeradzahlig-Generation-Tochter desjenigen Masters, dessen ungeradzahlig-Generation-Tochter nicht zur Herstellung des ersten mikrostrukturierten Körpers herangezogen wurde, ein zweiter mikrostrukturierter Körper erzeugt wird, daß bei einem der Kunststoffabformschritte der Leiter auf die abzuformende Tochter aufgelegt wird und Teil des mikrostrukturierten Körpers wird, daß die abzuformenden Bereiche für den ersten und den zweiten mikrostrukturierten Körper so gewählt werden, daß der vorgegebene Bereich sowohl in den ersten als auch in den zweiten mikrostrukturierten Körper übertragen werden und durch den vorgegebenen Bereich die rastende Verbindung geschaffen wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß anstelle des Leiters ein optoelektonisches Bauelement beliebiger Bauart in den zweiten mikrostrukturierten Körper eingebracht wird.
12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Kunststoffabformschritte bei unterschiedlichen Temperaturen vorgenommen werden.
13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Aushärten der beiden abgeformten Kunststoffbauteile bei unterschiedlichen Temperaturen vorgenommen wird.
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