WO2001020059A2 - Verfahren zum bilden eines leitermusters auf dielektrischen substraten - Google Patents

Verfahren zum bilden eines leitermusters auf dielektrischen substraten Download PDF

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    • H05K3/0026—Etching of the substrate by chemical or physical means by laser ablation
    • H05K3/0032—Etching of the substrate by chemical or physical means by laser ablation of organic insulating material

Definitions

  • a large number of different methods have been proposed in the past for producing conductor patterns on electrical circuit carriers.
  • a copper layer surrounding the drilled circuit board material is produced in the thickness required for the conductor structures.
  • the areas of the circuit board outer sides are then covered by a resist layer, which correspond to the conductor structures to be formed, so that these areas are retained in the subsequent etching process.
  • the pattern plating process only a thin copper layer is initially formed on the circuit board material.
  • a photoresist layer is applied, for example, and the copper layer is exposed again at the points by photostructuring that correspond to the conductor structures to be formed.
  • a metal layer is applied to the exposed copper areas.
  • the photoresist layer is then removed and the exposed copper layer is etched away.
  • a metal resist layer for example a tin / lead layer, is applied as the galvanoresist.
  • a layer formed from imidazole or benzimidazole derivatives has also been proposed as an alternative etch resist layer.
  • imidazole or benzimidazole derivatives has also been proposed as an alternative etch resist layer.
  • EP 0 178 864 A2 describes a process for the production of a circuit board which has been in contact with copper, which consists in first forming the desired circuit pattern on the copper cladding with an alkali-soluble resist, then an etch resist layer by bringing the board into contact with a aqueous solution of an alkylimidazole is formed at the exposed locations, the plate is then dried and the exposed copper is subsequently removed by etching with an alkaline etching solution.
  • EP 0 364 132 A1 mentions that solutions which are suitable for forming a protective layer against tarnishing can also be used as etching resists. Such solutions contain imidazole compounds with a C 5 . 21 -alkyl chain and additionally copper or zinc ions.
  • EP 0 619 333 A2 describes methods for producing conductor structures in which nitrogen-containing compounds are used to form an etch resist layer.
  • Compounds from the group imidazoles, benzimidazoles, triazoles, benzotriazoles, pyrroles, pyrazoles, oxazoles, isoxazoles, thiazoles, benzothiazoles, indoles, adenine, purine, quinolines, pyrazines, among others, are substituted as nitrogen-containing compounds with an alkyl chain with at least three carbon atoms , Quinazolines. Guanine, xanthine, hypoxanthine, indazole, creatinine, phenazine and copper ron are used.
  • a negative image is first formed using a customary alkali-removable resist, then the exposed areas are coated with the etch resist layer containing the nitrogen compounds, and the negative resist is then removed again.
  • the conductor structure can then be formed by etching.
  • DE 43 39 019 A1 describes a further method using a protective layer formed from imidazole and / or benzimidazole. In this case, the protective layer is formed exclusively on the hole walls after another layer has been formed on the outer sides of the printed circuit board up to the hole edges, which prevents the formation of the protective layer there. If a photosensitive lacquer is used for this other layer, the conductor structures can be produced by photostructuring.
  • DE 37 32 249 A1 specifies a method for producing three-dimensional circuit boards in subtractive / semi-additive technology with image transmission on an insulating substrate, in which the substrate coated with a copper layer is first coated on all sides with an electrolessly and / or electrodepositable tin-metal resist and the metal resist is then selectively irradiated with laser radiation without a mask, so that the conductor pattern is formed as a negative. The exposed copper areas can then be removed by etching.
  • DE 41 31 065 A1 specifies a method for producing printed circuit boards, in which a metal layer and an etch resist layer are applied in succession to an electrically insulating substrate, the etch resist layer in the regions immediately adjacent to the later conductor track pattern being removed again by electromagnetic radiation and the exposed areas of the metal layer up to the surface of the substrate are etched away in such a way that the conductor track pattern and island areas of the metal layer electrically isolated therefrom by etching trenches remain on the substrate.
  • the etch resist layer is preferably formed by electroless metal deposition. Alternatively, an organic material, for example an electrocoat, can also be used.
  • a laser in particular an Nd-YAG laser, is preferably used to generate the electromagnetic radiation.
  • the etched trenches are 150 ⁇ m wide.
  • EP 0 757 885 B1 discloses a method for forming metallic conductor patterns with solderable and / or bondable connection areas on electrically insulating substrates, in which first a metallization on the substrate and then an organic, galvano and etch-resistant protective layer in an electro-immersion bath the metallization is applied, then the protective layer in the subsequent connection areas is removed again by means of laser radiation, then an etch-resistant, solderable and / or bondable end surface is electrodeposited onto the exposed areas of the metallization, the protective layer adjoining the later conductor pattern at least in the area - The areas are removed by means of laser radiation and finally the exposed areas of the metallization are etched off to the surface of the base.
  • an Nd-YAG laser is mentioned as a radiation source.
  • the etched trenches formed have a width of 150 ⁇ m.
  • the known methods are either extremely complex and therefore expensive, or it is not possible to reproducibly produce very fine structures with a structure width of 50 ⁇ m and less, in particular of at most 20 ⁇ m.
  • the only known possibility is to start from a material that has a copper layer that is at most 5 ⁇ m thick.
  • it is extremely complex in terms of process engineering and therefore expensive to produce such materials.
  • the conductor structures usually do not have a rectangular cross section due to a not inconsiderable undercut, so that their contact surface on the substrate is very small and the desired adhesive strength of the conductor tracks is therefore not achieved.
  • the present invention is therefore based on the problem of avoiding the disadvantages of the known methods and, in particular, of finding a method with which an easy structuring, which can also be carried out in mass production, is possible, which allows finest structures with structure widths of 50 ⁇ m and less, in particular of 20 ⁇ m and less, reproducible.
  • the problems with the known methods with regard to the further processability of the finished conductor patterns should not occur.
  • the shape of the conductor tracks should also be reproducible and the cross-section as close as possible to a rectangular shape. This is also intended to ensure that the conductor tracks for the production of highly integrated circuits in the so-called “landless design" are securely connected to the metal layer in the recesses. With “landless design", no copper rings are formed around existing recesses which serve to electrically connect several conductors. Rather, the conductor lines merge into the metallization of the walls of the recesses without widening.
  • the method according to the invention is used to form a conductor pattern on dielectric substrates.
  • the process is used to generate highly integrated circuit boards for microelectronics.
  • the method can of course also be used for the production of other products, for example for the production of microreactors, storage media, solar collectors and metal patterns on plastics for producing decorative effects.
  • a substrate coated with a metal layer preferably a copper layer
  • the metal layer is removed by etching after the structuring according to the invention, so that the desired conductor pattern is produced.
  • the substrate is coated with a protective layer, which is formed by treating the metal layer with a solution containing at least one nitrogen-containing compound, and b) the protective layer is subsequently at least partially removed by UV radiation in the areas not corresponding to the conductor pattern to be formed, that the metal layer is exposed.
  • the exposed metal layer is removed by etching.
  • an excimer laser is preferably used, which can in particular be pulsed.
  • This radiation source is particularly well suited to remove the thin protective layers consisting of organic material without residue.
  • other types of lasers can also be used. When using these types of lasers, however, it cannot be guaranteed that the protective layers will be removed without residue.
  • conductor patterns can be formed which have structural widths of the conductor runs of 50 ⁇ m and less and in particular of 20 ⁇ m and less.
  • conductor tracks with an almost rectangular cross section with a base width of 15 ⁇ m can be formed.
  • the shape of the conductor track cross section corresponds essentially to a trapezoid, it being found that the base area of the conductor tracks lying against the dielectric is wider than the surface.
  • the steepness of the conductor flanks which is referred to as undercut, is approximately 20 ⁇ m wide and approximately 20 ⁇ m high, in the range of 2.5 ⁇ m.
  • the base surface on each flank of the conductor tracks protrudes below the surface of the conductor tracks by the specified distance. If, for example, conductor tracks with a base area width of 15 ⁇ m are produced, the width of the conductor track surface is approximately 11 ⁇ m.
  • the conductor width can also be set reproducibly.
  • conductor tracks with an essentially constant structure width of approximately 20 ⁇ m or less (for example 10 ⁇ m) can be obtained.
  • the in any case, the fluctuation in the width lies within approximately ⁇ 1 ⁇ m. This ensures the electrical integrity of the entire electrical circuit, that is to say, for example, that a reproducible impedance of the circuit is ensured.
  • the conductor patterns produced with this method frequently cause problems in subsequent methods, for example in the application of a solder mask and in methods in which nickel / gold layer combinations are deposited as end layers.
  • the mask does not adhere sufficiently to the conductor structures
  • the copper structures freed from the tin layer cannot be properly etched to form the nickel / gold layer.
  • very expensive and wastewater-related etching solutions have to be used to remove the tin layer.
  • the protective layer can be removed from very narrow recesses and even blind holes with dilute inorganic acid.
  • the removal process according to the invention is considerably shorter and requires fewer process steps. In particular, no development step for the protective layer is required.
  • the copper layers are brought into contact with an acidic solution which preferably contains water as solvent, optionally also solvents other than water alone, in a mixture with water or with one another.
  • the solution contains at least one nitrogen-containing compound, for example a cyclic, preferably heterocyclic and / or aromatic compound, in particular substituted with alkyl side chains or an oligomer or polymer of the cyclic compounds, and further constituents.
  • Cyclic compounds substituted with alkyl, aryl and / or aralkyl groups are preferably used as nitrogen-containing compounds, for example compounds from the substance classes: imidazoles, benzimidazoles, triazoles, benzotriazoles, pyrroles, pyrazoles, oxazoles, isoxazoles, thiazoles, benzothiazoles, indoles , Adenine, purines, quinolines, pyrazines, quinazolines, guanine, xanthine, hypoxanthine, indazoles, creatinine, phenazines, copper rons, tetrazoles,
  • compounds containing oligomer or polymer chains can also be used as nitrogen-containing compounds, to which the above-mentioned compounds are bound.
  • polyvinylimidazole forms an extremely etch-resistant etch layer.
  • concentration of these substances in the solution can be used, for example, in the range from 0.001 g / 1 to 400 g / 1, preferably from 1 g / 1 to 50 g / 1.
  • the solution containing the nitrogen compounds contains at least one acid, for example phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphorous acid, formic acid, acetic acid, glycolic acid, oxalic acid, succinic acid, maleic acid, tartaric acid, adipic acid or lactic acid.
  • at least one acid for example phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphorous acid, formic acid, acetic acid, glycolic acid, oxalic acid, succinic acid, maleic acid, tartaric acid, adipic acid or lactic acid.
  • the solution is heated to a temperature of preferably 30 ° C. to 95 ° C. and brought into contact with the substrate for about 2 minutes to 10 minutes.
  • the substrate is electrically connected to the solution with an external power source and a counter electrode, which is also in contact with the solution, or directly with a second electrode, which is also brought into contact with the treatment solution
  • the protective layer is formed by an electrochemical reaction in that, when the copper layers are brought into contact with the solution containing the nitrogen-containing compounds, an electrical voltage is at least temporarily applied between the copper layers and the electrodes or due to the normal potential difference of the copper layers and the electrodes so that the copper layers as Anode and the electrode are polarized as a cathode. This causes an electrical current to flow between the copper layers and the electrodes.
  • the substrate is dried to solidify the protective layer.
  • the substrate is dried, for example, in a forced-air dryer or with this process, an IR radiation heater.
  • a forced-air dryer or with this process, an IR radiation heater.
  • a combination of a continuous dryer and IR radiation heating or a hot air duct can also be used.
  • a mask irradiated by the UV radiation can be used in particular.
  • An imaging arrangement in which the mask is brought into the parallel beam path of the laser at a distance from the substrate is particularly favorable (off-contact method).
  • the pattern of the mask is then transferred directly to the substrate.
  • a thin chrome layer structured with the conductor pattern on a quartz carrier is preferably used for the production of the mask.
  • Such masks can be produced with a resolution of approximately 0.2 ⁇ m.
  • Imaging optics can also be introduced into the beam path between the mask and the substrate, with which the mask image can be imaged on the protective layer in an enlarged or reduced manner. The substrate is then not in the focus of the imaging optics.
  • the mask can be moved perpendicular to the laser beam or the laser beam can be moved over the mask so that the laser beam sequentially covers all areas of the mask. This allows the pattern of the mask to be scanned. If the mask is moved, the substrate is also moved in a coordinated movement.
  • the mask can also be placed in direct contact with the protective layer surface. This makes under-radiation effects easier to avoid than with the off-contact process.
  • this arrangement has the disadvantage that imaging optics cannot be used to enlarge or reduce the mask image.
  • the pattern of the mask cannot be reproduced repeatedly on the protective layer surface by means of a suitable coordinated method of the mask relative to the substrate. The problem of under-radiation when using the off-contact method can largely be eliminated by using suitable additional aperture systems to suppress scattered radiation at the edge.
  • the conductor pattern can also be "written" on the protective layer surface with a focused laser beam without a mask (laser direct imaging).
  • laser direct imaging By using a very sharply focused laser beam, from the scattered radiation possibly also surrounding the main beam is hidden and which is moved over the protective layer surface, very fine structures can also be formed in the protective layer (50 ⁇ m).
  • the exposed copper areas are then removed in an etching process.
  • an alkaline copper etching solution (ammoniacal copper (II) chloride etching solution) is preferably used.
  • the conductor patterns are formed.
  • the protective layer is then removed from the copper structures formed.
  • An acidic solution is used for this.
  • an aqueous solution of an inorganic acid can be used, for example a dilute hydrochloric acid or sulfuric acid solution.
  • the resulting copper pattern has sharp-edged, very fine copper structures that have steep and straight flanks.
  • the copper layers can be treated in different process technologies.
  • the substrates provided with the copper layers can be immersed in the treatment solutions by being immersed in baths which are contained in containers.
  • a preferred method of bringing the substrates into contact with the treatment solutions is to use a horizontal continuous process to form the protective layer and to remove the exposed copper layers. This method consists in that the substrates are passed through such a system in the horizontal transport direction. The substrates are held either vertically or horizontally. The substrates can in turn be guided in a horizontal or vertical transport plane.
  • the solutions can be brought to the substrate surfaces by means of suitable nozzles, for example with surge, spray or spray nozzles. The nozzles ensure that even the finest recesses are flooded.
  • the dielectric layers can be applied on one or both sides of the carrier substrate.
  • the dielectric is first etched in a glow discharge and then - likewise in a glow discharge - coated with precious metal salts (PECVD process, physical application processes such as sputtering etc.), so that subsequently copper can be adhered with a currentless and optionally electrolytic process.
  • PECVD process physical application processes such as sputtering etc.
  • the electrolytic method for applying copper to the dielectric can be deposited in a conventional manner with direct current, but advantageously also with a pulse method (pulse plating), in which unipolar or bipolar current or voltage pulses are used.
  • a pulse method pulse plating
  • An approximately 10 ⁇ m to 20 ⁇ m thick copper layer is typically formed.
  • An insulating plate (FR4 material: glass fiber mats impregnated with flame-retardant resin, hardened) laminated on one side with 17.5 ⁇ m copper foil was placed in a galvanic sulfuric acid copper bath (20 g / 1 Cu 2+ as copper sulfate, 200 g / 1 H 2 S0 4 , 50 mg / 1 CI- as NaCI, brightener, leveler) reinforced to a thickness of 20 ⁇ m.
  • FR4 material glass fiber mats impregnated with flame-retardant resin, hardened
  • This solution had the following composition:
  • the plate was treated in the solution heated to 40 ° C for 5 minutes, then rinsed with water and then dried in a forced air dryer at 130 ° C for 10 minutes. Treatment with the solution formed a thin (in the range from 1 to 10 ⁇ m thick) organic film as a protective layer on the copper layer.
  • the protective layer was then structured with a pulsed excimer laser with a laser output power of 50 W and an energy density of 150 mJ / cm 2 to 200 mJ / cm 2 to form conductor structures with structure widths of 20 ⁇ m.
  • a mask structured chrome layer with conductor pattern on a quartz plate
  • An imaging optic was positioned between the mask and the insulating material plate such that the insulating material plate was arranged beyond the focus of the beam when viewed from the optics.
  • the conductor pattern of the mask was thereby mapped onto the protective layer using a linear factor of 2.
  • the mask and the insulating material plate were moved in a coordinated manner perpendicular to the beam axis and in the opposite direction to one another, so that the entire conductor pattern was sequentially imaged on the protective layer.
  • the copper exposed during the laser structuring was then removed with an ammoniacal CuCl 2 etching solution.
  • a pattern consisting of copper conductor strips was formed, the conductor strips being approximately 20 ⁇ m wide (at the base) and 20 ⁇ m thick.
  • the etching result was verified by scanning electron micrographs: the conductor tracks had a very regular cross section, which was trapezoidal.
  • the contact area of the conductor tracks on the FR4- Material was larger than the surface of the conductor tracks.
  • the edges of the conductor tracks were regular, straight and so steep that the undercut was 2.5 ⁇ m.
  • Example 1 The experiment of Example 1 was repeated with the treatment in the benzimidazole solution to form the protective layer under current flow.
  • a further electrode made of platinum-coated titanium expanded metal was brought into contact with the solution and a voltage was set between the copper layers and the electrode, so that a current of about 0.2 A / dm 2 (based on the copper layers) flowed.
  • the etching result was the same as in Example 1.
  • Example 2 was repeated. However, a solution to form the protective layer that did not contain copper (II) chloride was used.
  • the etching result was the same as in Example 1.

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Abstract

Zum Bilden eines Leitermusters auf dielektrischen Substraten wird ein Verfahren vorgeschlagen, bei dem (a) ein mit einer Metallschicht überzogenes Substrat mit einer Schutzschicht beschichtet wird, die durch Behandeln der Metallschicht mit einer mindestens eine Stickstoff enthaltende Verbindung enthaltenden Lösung gebildet wird, (b) die Schutzschicht zumindest teilweise in den dem zu bildenden Leitermuster nicht entsprechenden Bereichen durch UV-Strahlung derart abgetragen wird, daß die Metallschicht freigelegt wird, und (c) die freigelegte Metallschicht durch Ätzen anschließend entfernt wird. Mit diesem Verfahren können äußerst feine Leitermuster auf dielektrischen Substraten reproduzierbar hergestellt werden.

Description

Verfahren zum Bilden eines Leitermusters auf dielektrischen Substraten
Beschreibung:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bilden eines Leitermusters auf mit einer Metallschicht, vorzugsweise Kupferschicht, überzogenen dielektrischen Substraten.
Zur Herstellung von Leitermustern auf elektrischen Schaltungsträgern sind in der Vergangenheit sehr viele unterschiedliche Verfahren vorgeschlagen worden. Beim Panel-Plating-Verfahren wird zunächst eine das gebohrte Leiterplattenmaterial allseitig umschließende Kupferschicht in der für die Leiterstrukturen erforderlichen Dicke erzeugt. Anschließend werden die Bereiche der Leiterplatten-Außenseiten durch eine Resistschicht abgedeckt, die den zu bildenden Leiterstrukturen entsprechen, so daß diese Bereiche beim anschließenden Ätzverfahren erhalten bleiben. Beim Pattern-Plating-Verfahren wird zunächst nur eine dünne Kupferschicht auf dem Leiterplattenmaterial gebildet. Darauf wird beispielsweise eine Photoresistschicht aufgetragen und die Kupfer- schicht an den Stellen durch Photostrukturierung wieder freigelegt, die den zu bildenden Leiterstrukturen entsprechen. Auf die freigelegten Kupferbereiche wird eine Metallschicht aufgebracht. Anschließend wird die Photoresistschicht entfernt und die freigelegte Kupferschicht weggeätzt. Beim Unterfall des Metall- resistverfahrens wird als Galvanoresist eine Metallresistschicht aufgebracht, beispielsweise eine Zinn/Blei-Schicht.
Diese Verfahren weisen erhebliche Nachteile auf. Insbesondere ist es nicht möglich, unter Produktionsbedingungen Leiterstrukturen mit Strukturbreiten von weniger als 100 μm reproduzierbar herzustellen. Zwar hat es nicht an Versu- chen gefehlt, dieses Ziel zu erreichen. Mit einigen aufwendigen Verfahren und Ausgangsmaterialien ist es auch gelungen, derartige Schaltungen herzustellen. Für die Massenfertigung kommen derartige Verfahren jedoch nicht in Betracht, da sie zu teuer und aufwendig sind und/oder sehr teure Ausgangsprodukte erfordern. Zur Herstellung von Schaltungen mit Strukturbreiten der Leiterzüge von weniger als 50 μm sind diese Verfahren aber nicht geeignet.
Als alternative Atzresistschicht wurde auch eine aus Imidazol- oder Benzimida- zolderivaten gebildete Schicht vorgeschlagen. Beispielsweise ist in
EP 0 178 864 A2 ein Verfahren zur Herstellung einer mit Kupfer durchkontak- tierten Leiterplatte beschrieben, das darin besteht, daß zuerst das gewünschte Schaltungsmuster auf der Kupferkaschierung mit einem alkalilöslichen Resist gebildet wird, anschließend eine Atzresistschicht durch In-Kontakt-Bringen der Platte mit einer wäßrigen Lösung eines Alkylimidazols an den freiliegenden Stellen gebildet wird, die Platte anschließend getrocknet und das freiliegende Kupfer nachfolgend mit einer alkalischen Ätzlösung durch Ätzen entfernt wird.
In EP 0 364 132 A1 ist erwähnt, daß Lösungen, die zum Bilden einer Schutzschicht gegen das Anlaufen geeignet sind, auch als Ätzresiste verwendet werden können. Derartige Lösungen enthalten Imidazolverbindungen mit einer C5.21-Alkylkette und zusätzlich Kupfer- oder Zinkionen.
In EP 0 619 333 A2 sind Verfahren zur Herstellung von Leiterstrukturen beschrieben, bei denen Stickstoff enthaltende Verbindungen verwendet werden, um eine Atzresistschicht zu bilden. Als Stickstoff enthaltende Verbindungen werden unter anderem mit einer Alkylkette mit mindestens drei Kohlenstoffatomen substituierte Verbindungen aus der Gruppe Imidazole, Benzimidazole, Triazole, Benzotriazole, Pyrrole, Pyrazole, Oxazole, Isoxazole, Thiazole, Ben- zothiazole, Indole, Adenin, Purin, Chinoline, Pyrazine. Chinazoline. Guanin, Xanthin, Hypoxanthin, Indazole, Kreatinin, Phenazine und Kupferron eingesetzt. Zur Herstellung der Leiterstrukturen wird zuerst ein Negativbild mit einem üblichen alkalisch entfernbaren Resist gebildet, dann die Platte an den freiliegenden Bereichen mit der die Stickstoffverbindungen enthaltenden Atzresistschicht überzogen und danach der Negativresist wieder entfernt. Anschließend kann die Leiterstruktur durch Ätzen gebildet werden. In DE 43 39 019 A1 ist ein weiteres Verfahren unter Verwendung einer aus Imidazol- und/oder Benzimidazol entstehenden Schutzschicht beschrieben. In diesem Falle wird die Schutzschicht ausschließlich auf den Lochwänden gebildet, nachdem auf den Leiterplatten-Außenseiten bis an die Lochränder heran eine andere Schicht gebildet worden ist, die die Bildung der Schutzschicht dort verhindert. Wird für diese andere Schicht ein photosensitiver Lack verwendet, so können die Leiterstrukturen durch Photostrukturierung erzeugt werden.
In DE 37 32 249 A1 ist ein Verfahren zur Hersteilung von dreidimensionalen Leiterplatten in Subtraktiv/Semiadditiv-Technik mit Bildübertragung auf einem isolierenden Substrat angegeben, bei dem das mit einer Kupferschicht überzogene Substrat zunächst mit einem stromlos und/oder galvanisch abscheidbaren Zinn-Metallresist allseitig beschichtet und der Metallresist anschließend mit Laserstrahlung maskenlos selektiv bestrahlt wird, so daß das Leitermuster als Negativ entsteht. Die freigelegten Kupferbereiche können anschließend durch Ätzen entfernt werden.
In DE 41 31 065 A1 ist ein Verfahren zur Herstellung von Leiterplatten angegeben, bei dem auf ein elektrisch isolierendes Substrat nacheinander eine Metall- schicht und eine Atzresistschicht aufgebracht werden, die Atzresistschicht in den unmittelbar an das spätere Leiterbahnmuster angrenzenden Bereichen durch elektromagnetische Strahlung wieder entfernt wird und die freigelegten Bereiche der Metallschicht bis zur Oberfläche des Substrats derart weggeätzt werden, daß das Leiterbahnmuster und durch Ätzgräben elektrisch davon iso- lierte Inselbereiche der Metallschicht auf dem Substrat verbleiben. Vorzugsweise wird die Atzresistschicht durch stromlose Metallabscheidung gebildet. Alternativ dazu kann auch ein organisches Material, beispielsweise ein Elek- trotauchlack, verwendet werden. Zur Erzeugung der elektromagnetischen Strahlung wird vorzugsweise ein Laser, insbesondere ein Nd-YAG-Laser einge- setzt. Die Ätzgräben sind 150 μm breit. Beim Ätzen der Metallschicht, vorzugsweise einer Kupferschicht, wird an den Flanken der Ätzgräben eine Unterätzung von jeweils 35 μm festgestellt. In EP 0 757 885 B1 ist ein Verfahren zur Bildung metallischer Leitermuster mit löt und/oder bondbaren Anschlußbereichen auf elektrisch isolierenden Unterlagen offenbart, bei dem zunächst eine Metallisierung auf die Unterlage und dann eine organische, galvano- und ätzresistente Schutzschicht in einem Elektro- tauchbad auf die Metallisierung aufgebracht wird, danach die Schutzschicht in den späteren Anschlußbereichen mittels Laserstrahlung wieder entfernt wird, dann eine ätzresistente, löt- und/oder bondbare Endoberfläche auf die freigelegten Bereiche der Metallisierung galvanisch abgeschieden wird, die Schutzschicht zumindest in den unmittelbar an das spätere Leitermuster angrenzen- den Bereichen mittels Laserstrahlung entfernt wird und schließlich die freigelegten Bereiche der Metallisierung bis zur Oberfläche der Unterlage abgeätzt werden. Auch in diesem Falle wird beispielhaft ein Nd-YAG-Laser als Strahlungsquelle genannt. Die gebildeten Ätzgräben weisen eine Breite von 150 μm auf.
Die bekannten Verfahren sind entweder äußerst aufwendig und damit teuer, oder es gelingt nicht, sehr feine Strukturen mit einer Strukturbreite von 50 μm und weniger, insbesondere von höchstens 20 μm, reproduzierbar herzustellen. Die einzige bekannte Möglichkeit besteht darin, von einem Material auszugehen, das eine höchstens 5 μm dicke Kupferschicht aufweist. Jedoch ist es ver- fahrenstechnisch außerordentlich aufwendig und damit teuer, derartige Materialien herzustellen. Bei Verwendung der üblichen Materialien mit einer dicken Kupferschicht zeigt sich, daß die Leiterstrukturen wegen einer nicht unbeträchtlichen Unterätzung meist keinen rechteckigen Querschnitt aufweisen, so daß deren Auflagefläche auf dem Substrat sehr klein ist und damit die gewünschte Haftfestigkeit der Leiterzüge nicht erreicht wird.
Der vorliegenden Erfindung liegt von daher das Problem zugrunde, die Nachteile der bekannten Verfahren zu vermeiden und insbesondere ein Verfahren zu finden, mit dem eine leichte, auch in der Massenfertigung durchführbare Struk- turierung möglich ist, die es erlaubt, feinste Strukturen mit Strukturbreiten von 50 μm und weniger, insbesondere von 20 μm und weniger, reproduzierbar herzustellen. Außerdem sollen die mit den bekannten Verfahren bestehenden Probleme hinsichtlich der weiteren Prozessierbarkeit der fertiggestellten Leitermuster nicht auftreten. Auch die Form der Leiterzüge soll reproduzierbar sein und der Querschnitt einer Rechteckform möglichst nahekommen. Damit soll auch gewährleistet sein, daß die Leiterzüge zur Herstellung hochintegrierter Schaltungen im sogenannten "landless design" an die Metallschicht in den Ausnehmungen sicher ankontaktiert werden. Beim "landless design" werden keine Kup- ferringe um vorhandene zur elektrischen Verbindung mehrerer Leiterzugebenen dienende Ausnehmungen gebildet. Vielmehr gehen die Leiterzüge ohne Verbreiterung in die Metallisierung der Wände der Ausnehmungen über.
Gelöst wird dieses Problem durch das Verfahren nach Anspruch 1. Bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.
Das erfindungsgemäße Verfahren dient zum Bilden eines Leitermusters auf dielektrischen Substraten.
Insbesondere wird das Verfahren eingesetzt, um hochintegrierte Schaitungs- träger für die Mikroelektronik zu erzeugen. Das Verfahren kann natürlich auch zur Herstellung anderer Produkte angewendet werden, beispielsweise zur Herstellung von Mikroreaktoren, Speichermedien, Solarkollektoren und Metallmustern auf Kunststoffen zur Erzeugung dekorativer Effekte.
Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird ein mit einer Metallschicht, vorzugsweise Kupferschicht, überzogenes Substrat verwendet und die Metallschicht nach der erfindungsgemäßen Strukturierung durch Ätzen entfernt, so daß das gewünschte Leitermuster entsteht. Zur Strukturierung der Metall- Schicht wird
a) das Substrat mit einer Schutzschicht beschichtet, die durch Behandeln der Metallschicht mit einer mindestens eine Stickstoff enthaltende Verbindung enthaltenden Lösung gebildet wird, und b) die Schutzschicht anschließend zumindest teilweise in den dem zu bildenden Leitermuster nicht entsprechenden Bereichen durch UV-Strahlung derart abgetragen, daß die Metallschicht freigelegt wird.
Danach kann c) die freigelegte Metallschicht durch Ätzen entfernt werden.
Als Energiestrahlung wird vorzugsweise Laserstrahlung eingesetzt, da diese Strahlung die geforderten Eigenschaften aufweist, um die äußerst feinen Struk- turen herstellen zu können, und da in der Laserstrahlung auch eine genügend hohe Energiedichte erreicht wird, um die Schutzschicht abzutragen.
Zur selektiven Entfernung der Schutzschicht in den freizulegenden Metallschichtbereichen wird vorzugsweise ein Excimer-Laser eingesetzt, der insbe- sondere gepulst sein kann. Diese Strahlungsquelle ist besonders gut geeignet, um die aus organischem Material bestehenden dünnen Schutzschichten rückstandsfrei abzutragen. Grundsätzlich können auch andere Lasertypen eingesetzt werden. Bei Verwendung dieser Lasertypen kann jedoch nicht gewährleistet werden, daß die Schutzschichten rückstandsfrei entfernt werden.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren können Leitermuster gebildet werden, die Strukturbreiten der Leiterzüge von 50 μm und weniger und insbesondere von 20 μm und weniger aufweisen. Beispielsweise können Leiterzüge mit einem nahezu rechteckigen Querschnitt mit einer Basisbreite von 15 μm gebildet wer- den. Die Form des Leiterzug-Querschnitts entspricht im wesentlichen einem Trapez, wobei festgestellt wurde, daß die am Dielektrikum anliegende Basisfläche der Leiterzüge breiter ist als die Oberfläche. Dadurch wird eine große Kontaktfläche der Leiterzüge zum Dielektrikum und damit eine optimale Haftfestigkeit auf dem Substrat erreicht. Die als Unterätzung bezeichnete Steilheit der Leiterzugflanken liegt bei etwa 20 μm breiten und etwa 20 μm hohen Leiterzügen im Bereich von 2,5 μm. Das bedeutet, daß die Basisfläche an jeder Flanke der Leiterzüge um die angegebene Strecke unter der Oberfläche der Leiterzüge hervorragt. Werden beispielsweise Leiterzüge mit einer Basisflächenbreite von 15 μm hergestellt, so ergibt sich ein Breite der Leiterzugoberfläche von et- wa 1 1 μm.
Die Leiterzugbreite kann auch reproduzierbar eingestellt werden. Beispielsweise können Leiterzüge mit einer im wesentlichen konstanten Strukturbreite von etwa 20 μm oder auch weniger (beispielsweise 10 μm) erhalten werden. Die Schwankung der Breite liegt jedenfalls innerhalb von etwa ± 1 μm. Dadurch wird die elektrische Integrität der gesamten elektrischen Schaltung gesichert, d.h. beispielsweise, daß eine reproduzierbare Impedanz der Schaltung gewährleistet ist.
Insbesondere treten bei Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens nicht die Probleme auf, die mit dem in DE 37 32 249 A1 beschriebenen Verfahren beobachtet werden. Ausfälle beim nachfolgenden Ätzen der freigelegten Kupferschicht werden nicht beobachtet. Alle Oberflächenbereiche der zu bearbei- tenden Schaltung, in denen die Schutzschicht durch die Laserbehandlung entfernt wird, können problemlos geätzt werden, ohne daß Reste zurückbleiben. Bei Anwendung des in DE 37 32 249 A1 beschriebenen Verfahrens wird dagegen festgestellt, daß auch nach dem Laserabtrag noch erhebliche Mengen von Zinn in den an sich zuvor von Zinn befreiten Kupferoberflächenbereichen zu finden sind, so daß das Ätzresultat nicht befriedigend ist. Grundsätzlich ist dieses Verfahren nur zur Herstellung von Leiterzügen mit einer minimalen Breite von etwa 120 μm geeignet. Wird versucht, mit diesem Verfahren Schaltungsträger mit Strukturbreiten der Leiterzüge von weniger als 50 μm herzustellen, so werden keine reproduzierbaren Ergebnisse mehr erhalten. Die Form und Breite der Leiterzüge schwankt in sehr weiten Grenzen. Teilweise sind die Zwischenräume zwischen den Leiterzügen sogar entweder miteinander verbunden, oder es werden Unterbrechungen der Leiterzüge beobachtet. Teilweise wurden auch lochfraß-ähnliche Ausätzungen des Leitermusters nach dem Entfernen der Kupferschicht durch Ätzen beobachtet.
Außerdem bereiten die mit diesem Verfahren hergestellten Leitermuster häufig Probleme bei nachfolgenden Verfahren, beispielsweise beim Aufbringen einer Lötstopmaske und bei Verfahren, bei denen als Endschichten Nickel/Gold- Schichtkombiπationen abgeschieden werden. Im ersteren Falle haftet die Mas- ke nicht ausreichend auf den Leiterstrukturen, und im zweiten Falle können die von der Zinnschicht wieder befreiten Kupferstrukturen nicht einwandfrei angeätzt werden, um die Nickel/Gold-Schicht zu bilden. Ferner ist es nicht ohne weiteres möglich, die Zinnschicht nach dem Ätzen aus feinen Bohrungen wieder zu entfernen. Insbesondere bei der Bearbeitung von Substraten mit Sacklöchern stellen sich erhebliche Probleme bei der Entfernung der Zinnschicht aus den Löchern ein. Außerdem müssen sehr teure und abwassertechnisch bedenkliche Ätzlösungen zur Entfernung der Zinnschicht eingesetzt werden.
Beim Einsatz der in DE 41 31 065 A1 und EP 0 757 885 B1 beschriebenen Verfahren werden keine befriedigenden Ergebnisse bei der Herstellung von Schaltungsträgern mit Leiterzugbreiten von weniger als etwa 75 μm erhalten. In diesem Falle sind die Leiterzugflanken ebenfalls nicht exakt definiert, so daß der weiterführende Versuch, Leiterzüge mit einer Breite von 50 μm und weniger zu erzeugen, völlig fehlschlägt. Außerdem wird auch in diesem Falle beobachtet, daß beim Abtragen der organischen Schutzschichten mit der Laserstrahlung Rückstände auf den Metalloberflächen verbleiben, so daß sich Probleme beim nachfolgenden Ätzen ergeben.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es ferner problemlos möglich, Schaltungsträger im sogenannten "landless design" herzustellen. Indem der Querschnitt der Leiterzüge reproduzierbar gebildet wird, bestehen keine Probleme bei der Realisierung dieser Technik. Auch lochfraß-ähnliche Ausätzungen im Leitermuster nach dem Ätzen der Kupferschicht werden nicht beobachtet.
Ferner treten bei der Entfernung der Schutzschicht nach dem Ätzen der Kupferschicht keine Probleme auf. Darüber hinaus kann die Schutzschicht im Gegensatz zu den bekannten Verfahren aus sehr engen Ausnehmungen und sogar Sacklöchern mit verdünnter anorganischer Säure entfernt werden.
Ferner bestehen keine Probleme bei der weiteren Verarbeitung der geätzten Schaltungsträger, wenn das erfindungsgemäße Verfahren angewendet wird. Im Gegensatz zu den bekannten Verfahren bereitet das Aufbringen einer Lötstopmaske in diesem Falle ebenso wenig Schwierigkeiten wie die nachträgliche Abscheidung einer Nickel/Gold-Endschicht. Bei Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist die Haftfestigkeit der Lötstopmaske auf den Leiterzügen ausreichend hoch, nach Anwendung der bekannten Verfahren können die Oberflächen der Leiterzüge vor dem Aufbringen der Endschicht dagegen nicht befriedigend geätzt werden. Wird das erfindungsgemäße Verfahren eingesetzt, bereitet auch die abwassertechnische Behandlung der beim Entfernen der Schutzschicht entstehenden Flüssigkeiten keine Probleme.
Gegenüber den herkömmlichen Strukturierungstechniken unter Verwendung von Photo- oder Siebdruckresisten ist das erfindungsgemäße Abtragsverfahren wesentlich kürzer und beansprucht weniger Verfahrensschritte. Insbesondere ist kein Entwicklungsschritt für die Schutzschicht erforderlich.
Zur Herstellung der Schutzschicht werden die Kupferschichten mit einer sauren Lösung in Kontakt gebracht, die vorzugsweise Wasser als Lösungsmittel enthält, gegebenenfalls auch andere Lösungsmittel als Wasser allein, in einer Mischung mit Wasser oder untereinander. Die Lösung enthält mindestens eine Stickstoff enthaltende Verbindung, beispielsweise eine cyclische, vorzugsweise heterocyclische und/oder aromatische Verbindung, insbesondere substituiert mit Alkylseitenketten oder ein Oligomeres oder Polymeres der cyclischen Verbindungen, sowie weitere Bestandteile.
Als Stickstoff enthaltende Verbindungen werden vorzugsweise mit Alkyl-, Aryl- und/oder Aralkylgruppen substituierte cyclische Verbindungen eingesetzt, beispielsweise Verbindungen aus den Substanzklassen: Imidazole, Benzimidazole, Triazole, Benzotriazole, Pyrrole, Pyrazole, Oxazole, Isoxazole, Thiazole, Ben- zothiazole, Indole, Adenin, Purine, Chinoline, Pyrazine, Chinazoline, Guanin, Xanthin, Hypoxanthin, Indazole, Kreatinin, Phenazine, Kupferron, Tetrazole,
Thiadiazole, Thiatriazole, Isothiazole sowie deren Derivate, wobei die Alkylgrup- pen mindestens drei Kohlenstoffatome aufweisen.
Alternativ können als Stickstoff enthaltende Verbindungen auch Oligomer- oder Polymerketten enthaltende Verbindungen verwendet werden, an die die vorstehend genannten Verbindungen gebunden sind. Beispielsweise bildet Polyvi- nylimidazol eine äußerst ätzresistente Ätzschicht. Die Konzentration dieser Stoffe in der Lösung kann beispielsweise im Bereich von 0,001 g/1 bis 400 g/1 eingesetzt werden, vorzugsweise von 1 g/1 bis 50 g/1.
Außerdem enthält die die Stickstoffverbindungen enthaltende Lösung minde- stens eine Säure, beispielsweise Phosphorsäure, Schwefelsäure, Salzsäure, phosphorige Säure, Ameisensäure, Essigsäure, Glykolsäure, Oxalsäure, Berπ- steinsäure, Maleinsäure, Weinsäure, Adipinsäure oder Milchsäure.
Der pH-Wert der Lösung soll kleiner als 7 sein und liegt vorzugsweise im Be- reich von 2 bis 5.
Die Lösung kann auch weitere Bestandteile enthalten, beispielsweise basische Substanzen zur pH-Stabilisierung (Pufferung), Kupfer- und/oder andere Schwermetallsalze zur Härtung der Schicht. Als basische Substanzen können vorzugsweise aliphatische Amine eingesetzt werden, beispielsweise Ethylen- diamin, Monoalkylamine, Dialkylamine und Ethanolamine, wie Mono-, Di- und Triethanolamin.
Zur Bildung der Schutzschicht wird die Lösung auf eine Temperatur von vor- zugsweise 30°C bis 95°C erwärmt und etwa 2 min bis 10 min lang mit dem Substrat in Kontakt gebracht.
In einer Verfahrensvariante wird das Substrat während des In-Kontakt-Bringens mit der Lösung mit einer externen Stromquelle und einer ebenfalls mit der Lö- sung in Kontakt stehenden Gegenelektrode oder direkt mit einer zweiten Elektrode elektrisch verbunden, die ebenfalls mit der Behandlungslösung in Kontakt gebracht wird. Dabei wird die Schutzschicht durch elektrochemische Reaktion gebildet, indem während des In-Kontakt-Bringens der Kupferschichten mit der die Stickstoff enthaltende Verbindungen enthaltenden Lösung zumindest zeit- weise eine elektrische Spannung zwischen den Kupferschichten und den Elektroden angelegt wird oder sich auf Grund der Normalpotentialdifferenz der Kupferschichten und der Elektroden derart einstellt, daß die Kupferschichten als Anode und die Elektrode als Kathode polarisiert werden. Dadurch fließt ein elektrischer Strom zwischen den Kupferschichten und den Elektroden.
Die Spannung zwischen der zweiten Elektrode bzw. der Gegenelektrode und dem Substrat wird vorzugsweise im Bereich von 0,5 Volt bis 1 ,5 Volt eingestellt. Der sich einstellende Strom liegt vorzugsweise im Bereich von 0,1 A/dm2 und 1 A/dm2.
Falls keine externe Stromquelle verwendet und das Substrat mit der zweiten Elektrode direkt verbunden wird, wird als Material für die Elektrode ein Metall verwendet, das sich edler als Kupfer verhält, beispielsweise Edelstahl oder Gold.
Nach der Bildung der Schutzschicht wird das Substrat getrocknet, um die Schutzschicht zu verfestigen. Hierzu wird das Substrat beispielsweise in einem Umluft-Trockner oder mit diesem Verfahren einer IR-Strahlungsheizung getrocknet. Es kann auch eine Kombination aus Durchlauftrockner und IR-Strahlungsheizung oder Heißluftstrecke eingesetzt werden.
Danach wird das Substrat mit UV-Strahlung belichtet, vorzugsweise mit Laserstrahlung. Die Schutzschicht kann dadurch abgetragen werden, daß ein Laserstrahl über die Schutzschicht gefahren wird. Dadurch werden die Bereiche der Schutzschicht entfernt, die dem zu bildenden Leitermuster nicht entsprechen. Der Laser dient dazu, das organische Material der Schutzschicht aufzuschlie- ßen und in die Gasphase zu überführen. Als Laser ist vorzugsweise ein gepulster Excimer-Laser geeignet, mit der die Bindungen in den organischen Molekülen (photolytisch) aufgebrochen werden. Die entstehenden gasförmigen Produkte können über geeignete Pumpsysteme aus der unmittelbaren Umgebung des Substrats abgezogen werden, um eine erneute Schichtbildung zu verhin- dem.
Zur Abbildung des Leitermusters auf das mit der Metallschicht überzogene Substrat kann insbesondere eine von der UV-Strahlung durchstrahlte Maske eingesetzt werden. Besonders günstig ist eine Abbildungsanordnung, bei der die Maske beabstandet zum Substrat in den parallelen Strahlengang des Lasers gebracht wird (off- contact- Verfahren). Das Muster der Maske wird dann direkt auf das Substrat übertragen. Für die Herstellung der Maske wird vorzugsweise eine mit dem Leiterzugmuster strukturierte dünne Chromschicht auf einem Quarzträger verwendet. Derartige Masken können mit einer Auflösung von etwa 0,2 μm hergestellt werden. In den Strahlengang zwischen Maske und Substrat kann ferner eine Abbildungsoptik eingebracht werden, mit der das Maskenbild auf die Schutzschicht vergrößert oder verkleinert abgebildet werden kann. Das Sub- strat befindet sich dann nicht im Fokus der Abbildungsoptik. Falls die Maske von dem Laserstrahl nicht vollständig ausgeleuchtet wird, weil der Laserstrahl keinen ausreichend großen Strahlquerschnitt aufweist, kann entweder die Maske senkrecht zum Laserstrahl verfahren oder der Laserstrahl über die Maske gefahren werden, so daß der Laserstrahl sequentiell alle Bereiche der Maske erfaßt. Dadurch kann das Muster der Maske abgerastert werden. Wird die Maske verfahren, so wird das Substrat in dazu koordinierter Bewegung ebenfalls verfahren.
In einer alternativen Anordnung kann die Maske auch in direkten Kontakt mit der Schutzschichtoberfläche gelegt werden. Dadurch sind Unterstrahlungseffekte zwar leichter als beim off-contact-Verfahren vermeidbar. Diese Anordnung weist jedoch den Nachteil auf, daß eine Abbildungsoptik zur Vergrößerung oder Verkleinerung des Maskenbildes nicht eingesetzt werden kann. Außerdem kann das Muster der Maske durch geeignetes koordiniertes Verfahren der Maske re- lativ zum Substrat nicht mehrfach auf die Schutzschichtoberfläche abgebildet werden. Das Problem der Unterstrahlung bei Anwendung des off-contact-Ver- fahrens kann dadurch weitgehend behoben werden, daß geeignete zusätzliche Blendensysteme zur Ausblendung von Streustrahlung am Rand eingesetzt werden.
Grundsätzlich kann das Leitermuster auch mit einem fokussierten Laserstrahl ohne Maske auf die Schutzschichtoberfläche "geschrieben" werden (Laser Direct Imageing). Indem ein sehr scharf fokussierter Laserstrahl verwendet wird, aus dem gegebenenfalls auch den Hauptstrahl umgebende Streustrahlung ausgeblendet wird und der über die Schutzschichtoberfläche verfahren wird, können ebenfalls sehr feine Strukturen in der Schutzschicht gebildet werden (50 μm).
Anschließend werden die freigelegten Kupferbereiche in einem Ätzverfahren entfernt. Hierzu wird vorzugsweise eine alkalische Kupferätzlösung (ammonia- kalische Kupfer(ll)chlorid-Ätzlösung) eingesetzt. Dabei werden die Leitermuster gebildet.
Danach wird die Schutzschicht von den gebildeten Kupferstrukturen entfernt. Hierzu wird eine saure Lösung verwendet. Unter anderem kann eine wäßrige Lösung einer anorganischen Säure eingesetzt werden, beispielsweise eine verdünnte Salzsäure- oder Schwefelsäurelösung.
Das entstandene Kupfermuster weist scharfkantige, sehr feine Kupferstrukturen auf, die steile und gerade Flanken besitzen.
Die Kupferschichten können in unterschiedlichen Verfahrenstechniken behandelt werden. Beispielsweise können die mit den Kupferschichten versehenen Substrate in die Behandlungslösungen eingetaucht werden, indem sie in Bäder eingesenkt werden, die in Behältern enthalten sind. Eine bevorzugte Methode zum In-Kontakt-Bringen der Substrate mit den Behandlungslösungen besteht darin, daß ein Horizontal-Durchlaufverfahren für die Bildung der Schutzschicht und zur Entfernung der freigelegten Kupferschichten angewendet wird. Dieses Verfahren besteht darin, daß die Substrate in horizontaler Transportrichtung durch eine derartige Anlage hindurchgeführt werden. Dabei werden die Substrate entweder senkrecht oder waagerecht gehalten. Dabei können die Substrate wiederum in einer horizontalen bzw. vertikalen Transportebene geführt werden. Die Lösungen können mittels geeigneter Düsen an die Substratober- flächen herangeführt werden, beispielsweise mit Schwall-, Spritz- oder Sprühdüsen. Mit den Düsen wird eine Zwangsdurchflutung auch feinster Ausnehmungen gewährleistet. Zur Herstellung der hochintegrierten Schaltungsträger können Basismaterialien eingesetzt werden, die aus einem Dielektrikum bestehen, das an einer oder beiden Seiten mit Kupferschichten versehen ist. Derartige Basismaterialien können zum einen auf herkömmlichem Wege durch Laminieren von Kupferfo- lien mit einem noch nicht ausgehärteten harzgetränkten Glasfasergewebe oder durch Aufgießen oder Auflaminieren von Harz auf ein stabiles Trägersubstrat und Aushärten des Harzes hergestellt werden. Das Trägersubstrat wird vorzugsweise bereits auf konventionelle Weise als mehrlagiger Schaltungsträger mit gröberen Schaltungsstrukturen, beispielsweise zur Erdung, Stromversor- gung oder Abschirmung, ausgebildet, die in geeigneter Weise über durchkon- taktierte Ausnehmungen untereinander und/oder mit Signalverdrahtungsebenen auf den zusätzlich aufgebrachten Dielektrikumslagen elektrisch verbunden sind.
Entsprechend dem Bedarf an Verdrahtungsdichte können die Dielektrikums- schichten ein- oder beidseitig auf das Trägersubstrat aufgetragen werden.
Denkbar sind auch Mehrfachbeschichtungen unter jeweiliger Ausbildung eines Leitermusters in der neuen Lage möglich. Dadurch läßt sich die Signalverdrahtungsdichte nahezu beliebig steigern. Dabei versteht es sich von selbst, daß vor jedem weiteren Aufbau einer zusätzlichen Dielektrikumsschicht das jeweilige Leiterbild fertig ausgebildet sein muß.
Die Kupferschichten in den einzelnen Lagen können durch Metallisierung der Dielektrika hergestellt werden. Metallisierungsverfahren, mit denen ein ausrei- chend haftfester Verbund zwischen der Kupferschicht und dem Dielektrikum erzielbar ist, sind bekannt. Beispielsweise kann das Harz nach geeigneter (Ätz)vorbehandlung auf chemischem Wege metallisiert werden. Hierzu wird das Dielektrikum beispielsweise zuerst mit Edelmetallsalzen aktiviert und dann stromlos und gegebenenfalls elektrolytisch verkupfert. In einer anderen Verfah- rensweise kann das Dielektrikum auch mit einem Plasmaverfahren metallisiert werden. Hierzu wird das Dielektrikum zuerst in einer Glimmentladung geätzt und danach - ebenfalls in einer Glimmentladung - mit Edelmetallsalzen beschichtet (PECVD-Verfahren, physikalische Auftragsverfahren, wie Sputtern usw.), so daß anschließend haftfest Kupfer mit einem stromlosen und gegebenenfalls elektrolytischen Verfahren abgeschieden werden kann.
Das elektrolytische Verfahren zum Aufbringen von Kupfer auf das Dielektrikum kann in herkömmlicher Weise mit Gleichstrom, vorteilhafterweise aber auch mit einem Pulsverfahren abgeschieden werden (pulse plating), bei dem uni- oder bipolare Strom- bzw. Spannungspulse angewendet werden. Typischerweise wird eine etwa 10 μm bis 20 μm dicke Kupferschicht gebildet.
Zur näheren Erläuterung der Erfindung dienen die nachfolgenden Beispiele:
Beispiel 1 :
Eine einseitig mit 17,5 μm dicker Kupferfolie kaschierte Isolierstoffplatte (FR4- Material: mit flammhemmendem Harz getränkte Glasfasermatten, ausgehärtet) wurde in einem galvanischen schwefelsauren Kupferbad (20 g/1 Cu2+ als Kupfersulfat, 200 g/1 H2S04, 50 mg/1 CI- als NaCI, Glanzbildner, Einebner) auf 20 μm Dicke verstärkt.
Anschließend wurde die verkupferte Platte in eine Beschichtungslösung zur Bildung der Schutzschicht eingetaucht. Diese Lösung wies folgende Zusammensetzung auf:
2-n-Peπtylbenzimidazol 10 g Ameisensäure 32 g
Kupfer(II)chlorid 1 ,0 g
Auffüllen mit Wasser auf 1 1.
Die Platte wurde 5 Minuten lang in der auf 40°C erwärmten Lösung behandelt, anschließend mit Wasser gespült und danach in einem Umluft-Trockner 10 min lang bei 130°C getrocknet. Durch die Behandlung mit der Lösung wurde ein dünner (im Bereich von 1 bis 10 μm dicker) organischer Film als Schutzschicht auf der Kupferschicht gebildet.
In einem Alternativversuch wurde anstelle von 2-n-Pentylbenzimidazol die Verbindung 2-n-Heptylbenzimidazol verwendet. Es wurde dasselbe Ergebnis erhalten.
Zur Bildung von Leiterstrukturen mit Strukturbreiten von 20 μm wurde die Schutzschicht danach mit einem gepulsten Excimer-Laser mit einer Laser-Ausgangsleistung von 50 W und einer Energiedichte von 150 mJ/cm2 bis 200 mJ/cm2 strukturiert. Hierzu wurde eine Maske (strukturierte Chromschicht mit Leitermuster auf einer Quarzplatte) in den Strahlengang des Lasers gebracht. Zwischen der Maske und der Isolierstoffplatte wurde eine Abbildungs- optik so positioniert, daß die Isolierstoffplatte von der Optik aus gesehen jenseits des Fokus des Strahles angeordnet war. Das Leitermuster der Maske wurde dadurch mit einem linearen Faktor 2 auf die Schutzschicht abgebildet. Da der Laserstrahl nur einen kleinen Teil der Maske ausleuchtete, wurden die Maske und die Isolierstoffplatte senkrecht zur Strahlachse und in entgegenge- setzter Richtung zueinander koordiniert bewegt, so daß das gesamte Leitermuster sequentiell auf die Schutzschicht abgebildet wurde.
Das beim Laserstrukturieren freigelegte Kupfer wurde dann mit einer ammonia- kalischen CuCI2-Ätzlösung entfernt.
Im Anschluß daran wurde die organische Schicht in einer 3 Gew.-%igen HCI- Lösung wieder entfernt.
Es wurde ein aus Kupferleiterzügen bestehendes Muster gebildet, wobei die Leiterzüge etwa 20 μm Breite (an der Basis) und 20 μm Dicke aufwiesen.
Das Ätzergebnis wurde durch rasterelektronenmikroskopische Aufnahmen verifiziert: Die Leiterzüge wiesen einen sehr regelmäßigen Querschnitt auf, der trapezförmig ausgebildet war. Die Auflagefläche der Leiterzüge auf dem FR4- Material war größer als die Oberfläche der Leiterzüge. Die Flanken der Leiterzüge waren regelmäßig, gerade gebildet und so steil, daß die Unterätzung 2,5 μm betrug.
Einkerbungen, trichterförmige Ausätzungen und andere Unregelmäßigkeiten wurden nicht festgestellt.
Diese Ergebnisse wurden sowohl mit der Beschichtungslösung, enthaltend 2-n-Pentylbenzimidazol, als auch mit der Beschichtungslösung, enthaltend 2-n-Heptylbenzimidazol, erhalten.
Beispiel 2:
Der Versuch von Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei die Behandlung in der Benzimidazollösung zur Bildung der Schutzschicht unter Stromfluß durchgeführt wurde. Hierzu wurde eine weitere Elektrode aus platiniertem Titanstreckmetall mit der Lösung in Kontakt gebracht und zwischen den Kupferschichten und der Elektrode eine Spannung eingestellt, so daß ein Strom von etwa 0,2 A/dm2 (bezogen auf die Kupferschichten) floß.
Es wurde dieselbe Lösung zur Bildung der Schutzschicht wie in Beispiel 1 und dieselbe Anordnung zur Bildung des Leitermusters in der Schutzschicht mit dem Excimerlaser verwendet.
Das Ätzergebnis war dasselbe wie in Beispiel 1.
Beispiel 3:
Beispiel 2 wurde wiederholt. Allerdings wurde eine Lösung zur Bildung der Schutzschicht verwendet, die kein Kupfer(II)chlorid enthielt.
Das Ätzergebnis war dasselbe wie in Beispiel 1.

Claims

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Bilden eines Leitermusters auf dielektrischen Substraten, bei dem
a) ein mit einer Metallschicht überzogenes Substrat mit einer Schutzschicht beschichtet wird, die durch Behandeln der Metallschicht mit einer mindestens eine Stickstoff enthaltende Verbindungen enthaltenden Lösung gebildet wird, b) die Schutzschicht zumindest teilweise in den dem zu bildenden Leitermuster nicht entsprechenden Bereichen durch UV-Strahlung derart abgetragen wird, daß die Metallschicht freigelegt wird, und c) die freigelegte Metallschicht durch Ätzen entfernt wird.
2. Verfahren nach Anspruch , dadurch gekennzeichnet, daß das Leitermuster auf einem mit einer Kupferschicht überzogenen Substrat gebildet wird.
3. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß Laserstrahlung als UV-Strahlung eingesetzt wird.
4. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzschicht in den freizulegenden Metallschichtbereichen in Verfahrensschritt b) unter Verwendung eines gepulsten Excimer-Lasers entfernt wird.
5. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine von der UV-Strahlung durchstrahlte Maske zur Abbildung des Leitermusters auf das mit der Metallschicht überzogene Substrat eingesetzt wird.
6. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Stickstoff enthaltenden Verbindungen ausgewählt werden aus der Gruppe der Verbindungen, bestehend aus mit Alkyi-, Aryl- und/oder Aralkyl- gruppen substituierten Imidazolen, Benzimidazolen, Triazolen, Benzotriazolen, Pyrrolen, Pyrazolen, Oxazolen, Isoxazolen, Thiazolen, Benzothiazolen, Indolen, Adenin, Purin, Chinolinen, Pyrazinen, Chinazolinen, Guanin, Xanthin, Hypoxanthin, Indazolen, Kreatinin, Phenazinen, Kupferron, Tetrazolen, Thiadiazolen, Thiatriazolen, Isothiazolen sowie deren Derivaten, wobei die Alkylgruppen mindestens drei Kohlenstoffatome aufweisen.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Stickstoff enthaltenden Verbindungen Oligomer- oder Polymerketten enthalten, an die Verbindungen gebunden sind, die ausgewählt werden aus der Gruppe der Verbindungen, bestehend aus mit Alkyl-, Aryl- und/oder Aralkyl- gruppen substituierten Imidazolen, Benzimidazolen, Triazolen, Benzotriazolen, Pyrrolen, Pyrazolen, Oxazolen, Isoxazolen, Thiazolen, Benzothiazolen, Indolen, Adenin, Purin, Chinolinen, Pyrazinen, Chinazolinen, Guanin, Xanthin, Hypoxanthin, Indazolen, Kreatinin, Phenazinen, Kupferron, Tetrazolen, Thiadiazolen, Thiatriazolen, Iso-thiazolen sowie deren Derivaten, wobei die Alkylgruppen min- destens drei Kohlenstoffatome aufweisen.
8. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzschicht durch In-Kontakt-Bringen der Metallschichten mit einer wäßrigen, sauren Lösung der mindestens einen Stickstoff enthaltenden Verbindung gebildet wird.
9. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösung zur Bildung der Schutzschicht mindestens eine Säure enthält, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Phosphorsäure, Schwefelsäu- re, Salzsäure, phosphorige Säure, Ameisensäure, Essigsäure, Glykolsäure, Oxalsäure, Bernsteinsäure, Maleinsäure, Weinsäure, Adipinsäure und Milchsäure.
10. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzschicht durch elektrochemische Reaktion gebildet wird, indem während des In-Kontakt-Bringens der Metallschichten mit der die Stickstoff enthaltende Verbindungen enthaltenden Lösung zumindest zeitweise eine elektrische Spannung zwischen den Metallschichten und mit der Lösung in Kontakt gebrachten Elektroden angelegt wird oder sich auf Grund der Normalpotentialdifferenz der Metallschichten und der Elektroden derart einstellt, daß die Metallschichten als Anode und die Elektrode als Kathode polarisiert werden, so daß ein elektrischer Strom zwischen den Metallschichten und den Elektro- den fließt.
11. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die freigelegte Metallschicht mit einer alkalischen Metall-Ätzlösung entfernt wird.
12. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Horizontal-Durchlaufverfahren für die Bildung der Schutzschicht und die Entfernung der freigelegten Metallschichten angewendet wird.
13. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzschicht nach dem Entfernen der Metallschicht abgetragen wird.
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