WO2003068697A1 - Method for producing float glass - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a float glass, particularly a float glass suitable for a glass substrate of a flat panel display (hereinafter, referred to as FPD) such as a liquid crystal display (hereinafter, referred to as LCD), a plasma display panel (hereinafter, referred to as PDP). .
  • FPD flat panel display
  • LCD liquid crystal display
  • PDP plasma display panel
  • Float glass is used in a wide variety of applications, such as window glass and mirrors.
  • Such a float glass is manufactured by a well-known float method. That is, it is manufactured by continuously supplying molten glass onto molten tin, pulling the molten glass into lipon-like glass, separating the ripon-like glass from molten tin, cooling, and cutting after cutting.
  • the molten tin is contained in a float path, a large steel tank lined with a special refractory.
  • the atmosphere in the float bath is a reducing atmosphere containing nitrogen gas as a main component and further containing hydrogen gas and the like.
  • the temperature of the upstream of the molten tin that is, the temperature of the molten tin in the portion where the molten glass is continuously supplied, is 150 ° C
  • the temperature of the downstream of the molten tin that is, the shape of the molten tin
  • the temperature of the molten tin at the part where the glass is separated is 600 ° C.
  • the glass transition point of soda lime silica glass is 550 ° C.
  • the lipon glass separated from the molten tin is roll-transported to a lehr by a lift-out roll, and cooled while being roll-fed in the lehr.
  • This cooling is performed by adjusting the ambient temperature of the annealing furnace so that the time during which the temperature of the rifon-shaped glass is in the range from the annealing point to the strain point is as long as possible.
  • the annealing point is usually almost equal to the glass transition point.
  • the cooled lipon-shaped glass is cut into a desired size to form a float glass.
  • TFT-LCD In the manufacture of TFT-LCD, float glass on the array side with gate electrodes, TFTs, etc. formed on the float glass, and RGB color filters, black matrices, etc. were formed on a glass substrate obtained by cutting the float glass into desired dimensions. The filter and the filter-side substrate are bonded together. Thereafter, the array-side float glass on which the color-filled substrate is adhered is cut to fit the dimensions of the color-filled substrate, and is then designated as TFT-LCD.
  • An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a float glass that can solve the above problems. Disclosure of the invention
  • the present inventor has considered that the problem of the pattern shift accompanying the enlargement of the TFT-LCD is caused by plane distortion in float glass used for a glass substrate, and has reached the present invention. That is, in a float glass manufactured by continuous molding, a stress component in a plane direction, that is, a plane stress, is inevitably present. However, the float glass is cut into a glass substrate having a desired size (color-filled glass substrate). In doing so, the planar stress is released, so that the glass substrate is deformed.
  • the present invention has the following gist.
  • a method for producing a float glass by continuously supplying molten glass onto molten tin, pulling the molten glass into a lipon-shaped glass, separating the lipon-shaped glass from the molten tin, and cutting the glass.
  • the glass transition point of the float glass is defined as TG, and the temperature T of the rifon glass when separated from the molten tin. Is (T G — 5 0 ° C) to (T e + 30 ° C).
  • Float glass consists essentially of, as represented by mass percentage, S i 0 2 40 ⁇ 85%, A 1 2 0 3 0 ⁇ 35%, B 2 O 3 0 ⁇ 25%, MgO + C aO + S r 0 + BaO + ZnO 1 to 50%, Li 2 OH-Na 2 0 + K 2 ⁇ + Rb 2 O + Cs 2 O 0 to 1%, consisting of the float glass according to any one of 1 to 5 Production method
  • Float glass consists essentially of, as represented by mass percentage, S I_ ⁇ 2 40 ⁇ 85%, A 1 2 0 3 2 ⁇ 35%, B 2 0 3 0 ⁇ 25%, MgO + C A_ ⁇ + S r O + B aO + 1 ⁇ 50% ZnO , L i 2 O + N a 2 0 + K 2 ⁇ + R b 2 0+ C s 2 ⁇
  • Float glass consists essentially of, as represented by mass percentage, S i 0 2 40 ⁇ 80%, A 1 2 0 3 0 ⁇ 2%, Mg_ ⁇ + C aO + S r O + B aO + Z nO 1 ⁇ 50%, L i 2 0 + Na 2 0 + K 2 0 + Rb 2 ⁇ + C s 2 O 1. 1 ⁇ 30% , Ru Tona, method of manufacturing float glass according to any one of 1 to 5.
  • the thickness of the float glass (hereinafter, referred to as the glass of the present invention) produced by the method for producing the float glass of the present invention (hereinafter, referred to as the method of the present invention) is not limited, the thickness of the float glass is not limited. 0.3 mm or more or 1.5 mm or less when used; more than 1.5 mm or 3 mm when used for PDP glass substrates The following is preferred.
  • the plane stress of the glass of the present invention is preferably 400 kPa or less. If it exceeds 400 kPa, the glass may be severely deformed when the glass is cut into a glass substrate for TFT-LCD. It is more preferably at most 350 kPa, particularly preferably at most 300 kPa.
  • the plane stress was measured as follows. That is, the plane stress was measured in a lattice pattern at intervals of 5 Omm except for the peripheral portion of the glass having a width of 25 mm, and the maximum value was defined as the plane stress.
  • the temperature is raised from 20 ° C. to 100 ° C./h (hour), maintained at 450 ° C. for 1 hour, and then reduced to 100 ° C. Zh to 20 ° C.
  • the compaction when heat treatment A is performed that is, the rate of change of the distance between two points on the glass substrate surface before and after the heat treatment is preferably 15 ppm or less. If it exceeds 15 ppm, the pattern shift may be large during patterning on the array side.
  • the glass of the present invention is used for a glass substrate for a PDP, when a heat treatment is performed to increase the temperature from 20 ° C to 100 ° C / h, hold it at 580 ° C for 1 hour, and then reduce the temperature to 100 ° C to 20 ° C at a temperature of Zh. Is preferably less than 500 ppm. If it exceeds 50 O pm, there is a possibility that the pattern shift may become large during patterning on the array side.
  • the temperature T at which the lipon glass is separated from the molten tin Is preferably measured with a radiation thermometer, but the temperature of the molten tin within a distance of 700 mm from the part to be separated is measured. It may be.
  • T 0 is the plane stress becomes large in the greater (T e + 30 ° C) . It is preferably (T e +20) or less. In particular, when the thickness of the glass of the present invention is 1.5 mm or less, or when it is desired to reduce the compaction, T. Is preferably (at T G +20) or less.
  • T If it is less than (T G _50 ° C), the glass is easily broken. It is preferably at least (T e —30 ° C.), more preferably at least (T G —20 ° C.).
  • the mass percentage table Essentially at shows, S i 0 2 40 ⁇ 85%, ⁇ 1 2 ⁇ 3 0 ⁇ 35%, B 2 O 3 0 ⁇ 25%, MgO + CaO + S rO + BaO + 1 ⁇ 50% ZnO, L i 2 0 + Na 2 0 + K 2 0 + Rb 2 O + C s 2 O 0 ⁇ 1%, preferably made of.
  • the preferred glass of the present invention consists essentially of the above components, but may further contain other components, for example, in a total range of 5% or less.
  • T G is the in the 710, the mass percentage composition of the display is S i 0 2: 59. 3% , A 1 2 0 3: 17. 5%, B 2 0 3: 7. 7%, C a O: 4 . 05%, MgO: 3. 25 %, B aO: 0. 16%, S r O: 7. 64%, C 1: 0. 15%, F:. 0 18% Na 2 O: 0. 01% , Fe 2 0 3 : 0.056% float glass was produced as follows.
  • the raw material was melted in a glass melting furnace having a maximum temperature of 1600 ° C to obtain molten glass having no undissolved substances, and the molten glass was continuously supplied onto molten tin in a float bath.
  • the temperature of the molten glass continuously supplied on the molten tin was 1250.
  • the molten glass was stretched on the molten tin in the float path in the exit direction of the float path to form a lipon-shaped glass having a thickness of 0.8 mm.
  • an appropriate stretching force was applied to both ends of appropriate positions (plural) of the lipon-shaped glass using an assist roll pair for each position.
  • the exit of the float bath is a portion where the lipon-shaped glass is drawn out of the float path, and a portion where the molten glass is continuously supplied. That is, it is located opposite the entrance of the float bath.
  • the glass was separated from the molten tin at the temperature indicated by T Q (unit: C) in the table, transported to a lehr by a lift-out roll, and gradually cooled and cooled in the lehr.
  • T Q unit: C
  • the temperature of the Ripon glass in the annealing furnace was 670 to 710 ° C at the inlet of the annealing furnace, 490 to 520 ° C at the outlet of the annealing furnace, and the residence time of the Ripon glass in the annealing furnace was 3 minutes.
  • the cooled lipon-shaped glass was cut into 546 mm ⁇ 546 mm, and the plane strain S (unit: kPa) and compaction C (unit: ppm) in the heat treatment A were measured. The results are shown in the table.
  • the float glass suitable for glass substrates of FPD, such as LCD and PDP, with a small plane stress is obtained.

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Description

明細 ΐ フロートガラスの製造方法 背景技術
本発明は、 フロートガラス、 特に、 液晶ディスプレイ （以下 L C Dという。 ） 、 プラズマディスプレイパネル （以下 P D Pという。 ） 等フラットパネルデイス プレイ （以下 F P Dという。 ） のガラス基板に好適なフロートガラスの製造方法 に関する。
フロートガラスは、 窓ガラス、 鏡など多岐にわたって用いられているが、 近年 F P D、 特に T F T— L C D、 P D Pのガラス基板として用いられるものが多く なっている。
このようなフロートガラスは周知のフロート法によって製造される。 すなわち 、 溶融スズ上に溶融ガラスを連続的に供給し、 該溶融ガラスを引っ張ってリポン 状ガラスとし、 該リポン状ガラスを溶融スズから引き離し、 冷却した後に切断し て製造される。
前記溶融スズは、 特殊耐火物で内張りされた大きな鋼製タンクであるフロート パス内に収容されている。 なお、 フロートバス内の雰囲気は、 窒素ガスを主成分 としその他に水素ガス等を含有する還元雰囲気である。
ソーダライムシリカガラスからなるフロートガラスを製造する場合、 溶融スズ の上流温度すなわち溶融ガラスが連続的に供給される部分の溶融スズの温度は 1 0 5 0 °C、 溶融スズの下流温度すなわちリポン状ガラスが引き離される部分の溶 融スズの温度は 6 0 0 °Cである。 なお、 ソ一ダライムシリカガラスのガラス転移 点は 5 5 0 °Cである。
溶融スズから引き離されたリポン状ガラスはリフトアウトロールによつて徐冷 炉にロール搬送され、 当該徐冷炉内で同じくロール搬送されながら冷却される。 この冷却は、 リポン状ガラスの温度が徐冷点以下歪点以上の範囲にある時間をで きるだけ長くするべく徐冷炉の雰囲気温度を調整して行なわれる。 なお、 徐冷点 は通常、 ガラス転移点にほぼ等しい。 冷却されたリポン状ガラスは所望の寸法に切断されフロートガラスとされる。
T F T— L C Dの製造においては、 フロートガラスにゲート電極、 T F T等が 形成されたアレイ側フロートガラスと、 フロートガラスを所望の寸法に切断した ガラス基板に R G Bのカラーフィルタ、 ブラックマトリクス等が形成された力ラ 一フィルタ側基板とが張り合わされる。 その後、 カラーフィル夕側基板が張り合 わされたアレイ側フロートガラスはカラ一フィル夕側基板の寸法に合わせて切断 され、 T F T— L C Dとされる。
近年、 T F T— L C Dの大型化にともない、 アレイ側フロートガラスとカラー フィルタ側基板を張り合わせた際の T F Tとカラーフィルタのパターンずれが大 きくなる問題が起こっている。
本発明は、 以上の問題を解決できるフロートガラスの製造方法の提供を目的と する。 発明の開示
本発明者は、 前記 T F T - L C Dの大型化にともなうパターンずれの問題がガ ラス基板に用いられるフロートガラス中の平面歪に起因すると考え、 本発明に至 つた。 すなわち、 連続成形によって製造されるフロートガラス中には平面方向の 応力成分すなわち平面応力が不可避的に存在するが、 フロートガラスを切断して 所望の寸法のガラス基板 （カラーフィル夕側ガラス基板） とする際に前記平面応 力は解放され、 その結果ガラス基板は変形する。
ガラス基板が小さい場合、 前記ガラス基板の変形は小さくパターンずれの問題 として顕在化していなかったが、 T F T— L C Dの大型化にともなってガラス基 板が大きくなることにより前記ガラス基板の変形が大きくなってパターンずれの 問題が顕在化したと考えた。
かくして、 本発明は、 以下の要旨を有するものである。
1 . 溶融スズ上に溶融ガラスを連続的に供給し、 該溶融ガラスを引っ張ってリポ ン状ガラスとし、 該リポン状ガラスを溶融スズから引き離した後に切断してフロ ートガラスを製造する方法であって、 フロートガラスのガラス転移点を TG とし て、 溶融スズから引き離されるときのリポン状ガラスの温度 T。 が （TG — 5 0 °C) 〜 （Te +30°C) であることを特徴とするフロートガラスの製造方法。
2. T。 が （Te +20°C) 以下である、 1に記載のフロートガラスの製造方法
3. フロートガラスの厚みが 1. 5mm超である、 1または 2に記載のフロート ガラスの製造方法。
4. フロートガラスの厚みが 3 mm以下である、 1、 2または 3に記載のフロー トガラスの製造方法。
5. フロートガラスの厚みが 1. 5mm以下である、 2に記載のフロートガラ スの製造方法。
6. フロートガラスが、 質量百分率表示で本質的に、 S i 02 40〜85% 、 A 12 03 0〜35%、 B2 O3 0〜25%、 MgO + C aO+S r 0 + BaO + ZnO 1〜50%、 L i 2 OH-Na2 0 + K2 〇 + Rb2 O + C s 2 O 0〜1%、 からなる、 1〜5のいずれかに記載のフロートガラスの製造方法
7. フロートガラスが、 質量百分率表示で本質的に、 S i〇2 40〜85%、 A 12 03 2〜35%、 B2 03 0〜25 %、 MgO + C a〇 + S r O + B aO+ZnO 1〜50%、 L i 2 O+N a 2 0+K2 〇+R b 2 0+ C s 2 〇
1. 1〜30%、 からなる、 1〜5のいずれかに記載のフロートガラスの製造 方法。
8. フロートガラスが、 質量百分率表示で本質的に、 S i 02 40〜80%、 A 12 03 0〜2 %、 Mg〇 + C aO+S r O + B aO + Z nO 1〜50% 、 L i 2 0 + Na2 0 + K2 0 + Rb2 〇 + C s 2 O 1. 1〜30%、 からな る、 1〜 5のいずれかに記載のフロートガラスの製造方法。 発明を実施するための形態
本発明のフロートガラスの製造方法 （以下本発明の方法という。 ） によって製 造されるフロートガラス （以下本発明のガラスという。 ） の厚みは限定されない が、 T FT— LCD等 LCDのガラス基板に用いる場合は 0. 3 mm以上または 1. 5 mm以下、 PDPのガラス基板に用いる場合は 1. 5 mm超または 3 mm 以下であることが好ましい。
本発明のガラスの平面応力は 400 kP a以下であることが好ましい。 400 kP a超では、 当該ガラスを切断して TFT— LCD用ガラス基板としたときに その変形が大きくなるおそれがある。 より好ましくは 350 kP a以下、 特に好 ましくは 300 kP a以下である。
前記平面応力は次のようにして測定した。 すなわち、 ガラスの周縁部 25mm 幅の部分を除き 5 Omm間隔の格子状に平面応力を測定し、 その最大値を前記平 面応力とした。
本発明のガラスを TFT— LCD用ガラス基板に用いる場合、 20°Cから 10 0°C/h (時間） で昇温し 450°Cに 1 h保持後に 100°CZhで 20°Cまで降 温する熱処理 Aを行なったときのコンパクション、 すなわち当該熱処理前後にお けるガラス基板表面の 2点間の距離の変化率は、 好ましくは 15ppm以下であ る。 15 p pm超ではアレイ側パターニングに際しパターンずれが大きくなるお それがある。
本発明のガラスを PDP用ガラス基板に用いる場合、 20°Cから 100°C/h で昇温し 580°Cに 1 h保持後に 100°CZhで 20 °Cまで降温する熱処理を行 なったときのコンパクションは、 好ましくは 500 p pm以下である。 50 O p pm超ではアレイ側パターニングに際しパターンずれが大きくなるおそれがある 本発明の方法においてリポン状ガラスが溶融スズから引き離される温度 T。 は 放射温度計で測定することが好ましいが、 当該引き離される部分からの距離が 7 00mm以内の溶融スズの温度を Τ。 としてもよい。
Τ0 が （Te +30°C) 超では平面応力が大きくなる。 好ましくは （Te +2 0 ） 以下である。 特に、 本発明のガラスの厚みが 1. 5 mm以下の場合、 また はコンパクションをより小さくしたい場合、 T。 は （TG +20で） 以下である ことが好ましい。
T。が （TG _50°C) 未満ではガラスが割れやすくなる。 好ましくは （Te — 30°C) 以上、 より好ましくは （TG _20°C) 以上である。
本発明のガラスを TFT— LCD用ガラス基板等に用いる場合、 質量百分率表 示で本質的に、 S i 02 40〜85%、 Α12 Ο3 0〜35%、 B2 O3 0〜25%、 MgO + CaO+S rO + BaO + ZnO 1〜50%、 L i 2 0 + Na2 0 + K2 0 + Rb2 O + C s 2 O 0〜1%、 からなることが好ましい 。 当該好ましい本発明のガラスは本質的に上記成分からなるが、 その他の成分を たとえば合計が 5%以下の範囲で含有してもよい。
本発明のガラスを P DP用ガラス基板等に用いる場合、 質量百分率表示で本質 的に、 S i 02 40〜85%、 Α 12 Ο3 2〜35%、 B2 03 0〜25 %、 MgO + CaO + S rO + BaO + ZnO 1〜50%、 L i 2 O + N a2 0 + K2 0 + Rb2 O + C s 2 O 1. 1〜30%、 からなる、 または、 S i O 2 40〜80%、 Al 2 O3 0〜2%、 Mg〇 + C aO+S r O + B aO + ZnO 1〜50%、 L i 2 0 + Na2 0 + K2 0 + Rb2 〇+ C s 2 O 1. 1〜30%、 からなることが好ましい。 これら好ましい本発明のガラスは本質的 に上記成分からなるが、 その他の成分をたとえば合計が 5 %以下の範囲で含有し てもよい。
実施例
TGが 710でであり、 質量百分率表示の組成が S i 02 : 59. 3 %、 A 1 2 03 : 17. 5 %、 B2 03 ： 7. 7%、 C a O : 4. 05%、 MgO : 3. 25%、 B aO : 0. 16%、 S r O : 7. 64%、 C 1 : 0. 15%、 F： 0 . 18 % Na2 O : 0. 01%, F e 2 03 : 0. 056 %であるフロートガ ラスを次のようにして製造した。
すなわち、 最高温度が 1600°Cであるガラス溶融窯で原料を溶解して未溶解 物が存在しない溶融ガラスとし、 この溶融ガラスをフロートバス内の溶融スズ上 に連続的に供給した。 当該溶融スズ上に連続的に供給される溶融ガラスの温度は 1250 であった。
前記溶融ガラスはフロートパス内の溶融スズ上でフロートパスの出口方向に引 つ張られ、 厚みが 0. 8mmのリポン状ガラスとされた。 この際、 当該リポン状 ガラスの適切な位置 （複数） の両端部に、 各位置ごとにアシストロール対を用い て適切な延伸力を与えた。 なお、 フロートバスの出口とはリポン状ガラスがフロ ートパスから引き出される部分であり、 溶融ガラスが連続的に供給される部分す なわちフロートバスの入口に対向して位置する。
このリポン状ガラスを表の TQ (単位：。 C) に示す温度で溶融スズから引き離 し、 リフトアウトロールによって徐冷炉に搬送し、 当該徐冷炉内で徐冷、 冷却し た。 なお、 徐冷炉内のリポン状ガラスの温度は徐冷炉入口において 670〜71 0°C、 徐冷炉出口において 490〜520°C、 また、 リポン状ガラスの徐冷炉内 における滞在時間は 3分間であった。
冷却されたリポン状ガラスを 546mmX 546mmに切断し、 平面歪 S (単 位： kP a) と、 前記熱処理 Aにおけるコンパクション C (単位： ppm) とを 測定した。 結果を表に示す。
表 1
Figure imgf000007_0001
産業上の利用の可能性
本発明によれば、 LCD、 P DP等の FPDのガラス基板に好適な平面応力が 小さいフロートガラスが得られる。

Claims

請求の範囲
1. 溶融スズ上に溶融ガラスを連続的に供給し、 該溶融ガラスを引っ張ってリ ボン状ガラスとし、 該リポン状ガラスを溶融スズから引き離した後に切断してフ ロートガラスを製造する方法であって、 フロートガラスのガラス転移点を Te と して、 溶融スズから引き離されるときのリポン状ガラスの温度 TQ が （Te — 5 0°C) 〜 （Tc + 30°C) であることを特徴とするフロートガラスの製造方法。
2. T0 が （Te +20°C) 以下である請求項 1に記載のフロートガラスの製造 方法。
3. フロートガラスの厚みが 1. 5 mm超である請求項 1または 2に記載のフ ロートガラスの製造方法。
4. フロートガラスの厚みが 3 mm以下である請求項 1、 2または 3に記載の フロートガラスの製造方法。
5. フロートガラスの厚みが 1. 5 mm以下である請求項 2に記載のフロート ガラスの製造方法。
6. フロートガラスが、 質量百分率表示で本質的に、 S i 02 40〜85% 、 A 12 03 0〜35%、 B2 O3 0〜25%、 MgO + C aO+S r 0 + B aO + Z ηθ 1〜50%、 L i 2 O + N a2 0 + K2 0 + Rb2 O + C s 2 O 0〜1%、 からなる請求項 1〜 5のいずれかに記載のフロートガラスの製造 方法。
7. フロートガラスが、 質量百分率表示で本質的に、 S i 02 40〜85% 、 A 12 03 2〜35%、 B2 〇3 0〜25%、 MgO + C aO+S r〇+ B aO + Z ηθ 1〜50%、 L i 2 0 + Na2 0 + K2 0 + Rb2 0 + C s 2 O 1. 1〜30 %、 からなる請求項 1〜5のいずれかに記載のフロートガラス の製造方法。
8. フロートガラスが、 質量百分率表示で本質的に、 S i 02 40〜80% 、 A 12 03 0〜2 %、 MgO + C aO + S r〇+ B aO + Z ηθ ；！〜 50 %、 L i 2 0+Na2 0+K2 0 + Rb2 O + C s 2 O 1. ：!〜 30%、 から なる請求項 1〜 5のいずれかに記載のフロー卜ガラスの製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006029765A1 (de) * 2004-09-18 2006-03-23 Schott Ag Verfahren und vorrichtung zur herstellung von flachglas nach dem floatverfahren

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4378769B2 (ja) * 2003-09-18 2009-12-09 日本電気硝子株式会社 ガラス基板
DE20321794U1 (de) * 2003-12-23 2010-03-04 Voith Patent Gmbh Vorrichtung zum Konditionieren eines Abkühlprozessbereiches zur Verringerung von Korrosion
FR2866328B1 (fr) * 2004-02-16 2006-05-26 Saint Gobain Verre plat au plomb par flottage sur un bain de metal
FR2870842B1 (fr) * 2004-05-27 2007-11-02 Saint Gobain Procede et dispositif de fabrication du verre et produits obtenus a l'aide de ce procede
US20080090717A1 (en) * 2004-12-16 2008-04-17 Nippon Sheet Glass Company, Limited Glass Composition And Process For Producing The Same
WO2006088339A1 (en) * 2005-02-21 2006-08-24 Bong Ki Ryu Glass melting apparatus and method using high frequency induction heating
JP2006315937A (ja) * 2005-04-12 2006-11-24 Asahi Glass Co Ltd 板ガラス及び板ガラスの製造方法
CN104261675A (zh) * 2005-08-15 2015-01-07 安瀚视特股份有限公司 玻璃组合物以及玻璃组合物的制造方法
DE102006042620B4 (de) * 2006-09-04 2012-01-26 Schott Ag Verwendung eines Aluminoborosilikatglases als Substratglas
JP5483821B2 (ja) 2007-02-27 2014-05-07 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 表示装置用ガラス基板および表示装置
DE102007028976B9 (de) * 2007-06-23 2009-03-12 Schott Ag Floatbadwanne und Verfahren zur Herstellung von Flachglas
KR101347775B1 (ko) 2009-03-03 2014-01-07 주식회사 엘지화학 유리판 제조용 플로트 배스 시스템
KR101720349B1 (ko) * 2010-02-17 2017-03-27 코닝 인코포레이티드 유체 도포기와 유리 세정 공정
JP2013086989A (ja) * 2011-10-14 2013-05-13 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス板、その製造方法及び強化ガラス板
US9150448B2 (en) 2013-03-14 2015-10-06 Corning Incorporated Dimensionally-stable, damage-resistant, glass sheets
JP5672338B2 (ja) * 2013-06-04 2015-02-18 Smk株式会社 タッチパネルおよびタッチパネルの製造方法
GB201505091D0 (en) 2015-03-26 2015-05-06 Pilkington Group Ltd Glass
CN109153594B (zh) * 2016-07-04 2022-01-04 日本电气硝子株式会社 圆盘状玻璃及其制造方法
CN108658454A (zh) * 2018-07-31 2018-10-16 中南大学 一种低热膨胀系数无碱高铝硼硅酸盐玻璃及其制备方法
EP3887404A4 (en) 2018-11-30 2022-11-02 Cellphire, Inc. SLIDES LOADED WITH ANTI-CANCER AGENTS
US11767511B2 (en) 2018-11-30 2023-09-26 Cellphire, Inc. Platelets as delivery agents
AU2020267368B2 (en) 2019-05-03 2023-05-04 Cellphire, Inc. Materials and methods for producing blood products
EP4013496A4 (en) 2019-08-16 2023-10-18 Cellphire Inc. THROMBOSOMES AS AN AGENT FOR REMOVING THE THROMBOCYTE AGGREGATION-INHIBITING EFFECT
CA3170201A1 (en) 2020-02-04 2021-08-12 Cellphire, Inc. Methods of treating congenital hemophilia with anti-fibrinolytic loaded platelets
TW202245814A (zh) 2021-02-17 2022-12-01 美商賽菲爾公司 用於治療抗血小板誘導的凝血病之凍乾血小板衍生物組成物

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5776844A (en) * 1994-10-13 1998-07-07 Saint-Gobain Vitrage Compositions of silico-sodo-calcic glasses and their applications
JPH11228163A (ja) * 1998-02-12 1999-08-24 Asahi Glass Co Ltd リボン状材の搬送方法及び装置
JP2000302474A (ja) * 1999-04-13 2000-10-31 Asahi Glass Co Ltd ディスプレイ基板用フロートガラス
JP2001013488A (ja) * 1999-06-29 2001-01-19 Asahi Glass Co Ltd 液晶ディスプレイ
JP2001354446A (ja) * 2000-04-08 2001-12-25 Carl Zeiss:Fa 平板フロートガラス

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3615315A (en) * 1962-04-19 1971-10-26 Ppg Industries Inc Method and apparatus having sealing means and gaseous takeoff for float glass
FR1382304A (fr) * 1963-11-07 1964-12-18 Moulage de feuilles de verre
FR86222E (fr) * 1964-04-02 1966-01-03 Saint Gobain Perfectionnement à la fabrication du verre en feuille
CH463033A (fr) * 1964-04-02 1968-09-30 Saint Gobain Procédé de fabrication du verre en feuille et installation pour la mise en oeuvre de ce procédé
GB2171990B (en) * 1985-03-08 1988-12-07 Central Glass Co Ltd Method of strengthening glass article formed of float glass by ion exchange and strengthened glass article
US5489558A (en) * 1994-03-14 1996-02-06 Corning Incorporated Glasses for flat panel display
US5508237A (en) * 1994-03-14 1996-04-16 Corning Incorporated Flat panel display
US6101845A (en) * 1996-02-29 2000-08-15 Asahi Glass Company Ltd. Process for forming a glass sheet
US6060168A (en) * 1996-12-17 2000-05-09 Corning Incorporated Glasses for display panels and photovoltaic devices
DE69801712T2 (de) * 1997-06-10 2002-07-04 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Verbundglasscheibe für Fahrzeuge

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5776844A (en) * 1994-10-13 1998-07-07 Saint-Gobain Vitrage Compositions of silico-sodo-calcic glasses and their applications
JPH11228163A (ja) * 1998-02-12 1999-08-24 Asahi Glass Co Ltd リボン状材の搬送方法及び装置
JP2000302474A (ja) * 1999-04-13 2000-10-31 Asahi Glass Co Ltd ディスプレイ基板用フロートガラス
JP2001013488A (ja) * 1999-06-29 2001-01-19 Asahi Glass Co Ltd 液晶ディスプレイ
JP2001354446A (ja) * 2000-04-08 2001-12-25 Carl Zeiss:Fa 平板フロートガラス

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP1475355A4 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006029765A1 (de) * 2004-09-18 2006-03-23 Schott Ag Verfahren und vorrichtung zur herstellung von flachglas nach dem floatverfahren
WO2006029695A1 (de) * 2004-09-18 2006-03-23 Schott Ag Verfahren und vorrichtung zur herstellung von flachglas nach dem floatverfahren

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