WO2003105246A2 - Verfahren zur herstellung eines monolithischen vielschichtaktors sowie, monolithischer vielschichtaktor aus einem piezokeramischen oder elektrostriktiven material sowie elektrische aussenkontaktierung für einen monolithischen vielschichtaktor - Google Patents

Verfahren zur herstellung eines monolithischen vielschichtaktors sowie, monolithischer vielschichtaktor aus einem piezokeramischen oder elektrostriktiven material sowie elektrische aussenkontaktierung für einen monolithischen vielschichtaktor Download PDF

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Definitions

  • the targeted incorporation of weakened structures which act as a potential crack source, can be used to control further crack formation.
  • the internal mechanical stresses are reduced in such a way that no further crack formation is observed in the sections between the crack sources, even with cyclical loading of well over 10 9 cycles.

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines monolithischen Vielschichtaktors, einen entsprechenden Vielschichtaktor sowie eine Aussenkontaktierung für einen monolithischen Vielschichtaktor. Erfindungsgemäss sind entlang der Stapellängsachse des Aktors im wesentlichen parallel zu den Innenelektroden, von diesen beanstandet, im Bereich der mindestens zwei gegenüberliegenden Aussenflächen, zu denen die an sich bekannten Innenelektroden herausgeführt sind, gezielt Mikrostörungen im Aktorgefüge eingebaut, welche frühestens beim Polarisieren des Aktors einen vorgebenen, begrenzten, spannungsabbauenden Wachstum in das Innere und/oder zur Aussenelektrode unterliegt, wobei weiterhin die Grundmetallisierung und/oder Aussenkontaktierung mindestens im Bereich der Mikrostörungen im Aktorgefüge dehnungsresistent oder elastisch ausgebildet ist.

Description

Verfahren zur Herstellung eines monolithischen Vielschichtaktors sowie, monolithischer Vielschichtaktor aus einem piezokeramischen oder elektrostriktiven
Material sowie elektrische Aussenkontaktierung für einen monolithischen
Vielschichtaktor
Beschreibung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines monolithischen Vielschichtaktors aus einem piezokeramischen oder elektrostriktiven Material, wobei der Aktor als Stapelanordnung in quasi mechanischer Reihenschaltung einer Vielzahl von Piezoplatten durch Sintern durch Grünfolien ausgebildet wird, vorhandene Innen- elektroden im Plattenstapel zu gegenüberliegenden Außenflächen des Stapels geführt und dort mittels Grundmetallisierung sowie Außenkontaktierung jeweiliger Elektrodengruppen parallel verschalten sind gemäß Oberbegriff des Patentanspruches 1. Weiterhin betrifft die Erfindung einen monolithischen Vielschichtaktor aus einem piezokeramischen oder elektrostriktiven Material, wobei der Aktor eine Sta- pelanordnung von Piezoplatten ist, welche über innere Elektroden, eine gemeinsame Grundmetallisierung sowie Außenkontaktierung verfügt gemäß Oberbegriff des Patentanspruches 13 sowie eine elektrische Außenkontaktierung für einen monolithischen Vielschichtaktor aus einem piezokeramischen oder elektrostriktiven Material gemäß Oberbegriff des Patentanspruches 21.
Piezokeramische Aktoren sind elektro-mechanische Wandler, bei denen der reziproke piezoelektrische Effekt ausgenutzt wird. Legt man an eine piezokeramische Platte mit Elektroden auf ihren Hauptflächen, die in Richtung der Plattendicke polarisiert ist, eine elektrisches Feld an, so kommt es zu einer Formänderung. Konkret vollzieht sich eine Ausdehnung in Richtung der Plattendicke, wenn das angelegte elektrische Feld parallel zum ursprünglichen Polungsfeld gerichtet ist. Gleichzeitig kommt es senkrecht zur Feldrichtung zu einer Kontraktion.
Durch Übereinanderstapeln einer Vielzahl solcher Platten im Sinne einer mechanischen Reihenschaltung und elektrischer Parallelschaltung der Platten, können so die Deformationen der einzelnen Platten addiert werden. Bei einem Dehnvermögen von etwa 0,1 - 0,2 % bei Feldstärken von 2 kV/mm lassen sich so Auslenkungen von etwa 1 - 2 μm pro mm Bauhöhe realisieren. Bei monolithischen Vielschichtaktoren erfolgt das Stapeln bereits im grünen Zustand und die endgültige Verbindung wird durch Sintern vorgenommen. Hierbei werden bis zu einigen hundert piezokeramische Grünfolien alternierend mit metallischen Innenelektroden gestapelt, verpreßt und zu einem monolithischen Körper gesintert. Die Innenelektroden werden dabei wechselseitig auf die gegenüberliegenden Flächen bis zur jeweiligen Oberfläche herausgezogen und dort im Regelfall durch eine Grundmetallisierung in Dick- oder Dünnschichtausführung miteinander verbunden. Dieses Design wird auch als Ausführung mit Interdigitalelektroden bezeichnet. Ein piezoelektrischer Aktor umfasst also piezokeramische Schichten und Gruppen von inneren Elektroden, die jeweils auf gegenüberliegende Flächen bis an die Oberfläche führen. Eine Grundmetallisierung dient der Parallelschaltung der jeweiligen Elektrodengruppe. Weiterhin sind inaktive Bereiche vorhanden, die weder beim Polarisieren noch beim üblichen Betrieb des Aktors piezoelektrisch gedehnt werden.
Diese inaktiven Bereiche in den Multilayaktoren mit interdigitalen Elektroden stellen ein kritisches Moment für die Herstellbarkeit und Zuverlässigkeit derartige Produkte bzw. unter Rückgriff auf solche Produkte realisierter Finalerzeugnisse dar. Aufgrund der hohen Zug- Spannungskonzentrationen in den inaktiven Bereichen und in Verbindung mit der geringen Zugfestigkeit der piezokeramischen Werkstoffe kommt es bereits bei der Polarisation, die mit remanenten Dehnungen von bis zu 0,3 % verbunden ist oder aber später beim Betrieb zu unterwünschten Rissbildungen.
Die vorgenannte unkontrollierte Rissbildung hat verschiedenste Ausfallmechanismen der Aktoren zur Folge. Setzt sich das Risswachstum in das Innere des Aktors fort, kann dies einerseits zur mechanischen Zerstörung des Aktors führen, andererseits können hierdurch bedingt innere Überschläge auftreten, wenn der Riss von einer Elektrodenschicht zur anderen wächst. Mit einer geeigneten Prozessführung kann das Risswachstum in das Innere des Aktors begrenzt werden. Nicht verhindert werden kann allerdings das Risswachstum in Richtung der Aktoroberfläche. Erreicht der Riss die Aktoroberfläche, führt dies zur Unterbrechung der auf der Oberfläche aufgebrachten Grundmetallisierung. Hierdurch werden Teilbereiche des Aktors galvanisch von der Spannungszuführung abgetrennt und infolge dessen treten elektrische Überschläge an den Unterbrechungen der Grundmetallisierung auf. Diese Überschläge wiederum sind der Grund, die letztendlich zum Totalausfall des Aktors füh- ren. Zur Überwindung der zitierten Rissproblematik sind eine Vielzahl von Lösungen bekannt, die entweder die Verhinderung der Rissbildung oder bei nicht zu vermeidenden unkontrollierten Rissbildungen ein Reduzieren oder Eliminieren von Überschlägen an der Grundmetallisierung auf die Oberfläche durch zusätzliche Maßnahmen zum Ziel haben.
Die JP 58-196077 offenbart einen Multilayeraktor und ein Verfahren zu seiner Herstellung, bei dem entlang der Aktorachse eine Vielzahl von Schlitzen mit einer Tiefe von etwa 0,5 mm parallel zu den inneren Elektroden in den Aktor eingebracht wird. Diese Schlitze führen ähnlich wie die aus anderen Bereichen der Technik bekannten Dehnungsfugen zum Abbau von Spannungskonzentrationen und verhindern somit eine unkontrollierte Rissbildung oder ein Wachstum des Risses im Aktorgefüge. Nachteilig ist jedoch die Tatsache, dass durch diese Schlitze auch der tragende Querschnitt des Aktors verringert ist, was gleichzeitig die Druckbelastbarkeit des Aktors im Einsatz verringert. Beim angegebenen Beispiel reduziert sich der tragende Querschnitt des Aktors auf 3x3 mm2 bei einem Gesamtquerschnitt von 4x4 mm2. Das zitierte Verfahren, bei dem die Schlitze durch thermisch zersetzbare Schichten auf den grünen Keramikfolien beim Sintern gebildet werden, weist auch auf weitere Probleme hin, die beim Sintern zu einem ebenfalls unkontrollierten Risswachstum führen können und die nur durch spezielle aufwendige Ausgestaltungen der inneren Elektroden verhinderbar sind. Als Ursache für die Rissbildung beim Sintern wird dort die inhomogene Verdichtung des grünen Stapels beim Verpressen erwähnt.
Bei der EP 0 844 678 AI wird ebenfalls auf die Problematik der Rissbildung und de- ren Folgen eingegangen, wenn durch die Risse die Grundmetallisierung zerstört wird.
Zur Vermeidung von Schädigungen des Aktors wird dort vorgeschlagen, zwischen der Spannungszuleitung und der Grundmetallisierung eine dreidimensional strukturierte elektrisch leitfähige Elektrode einzufügen, die nur partiell mit der Grundmetal- lisierung verbunden ist und die zwischen den Kontaktstellen dehnbar ausgebildet wird. Die praktische Realisierung einen solchen dreidimensionalen Struktur erfordert aber einen sehr hohen Aufwand, da die partiellen Kontaktstellen einen definierten Abstand in der Größenordnung des Abstandes der inneren Elektroden haben müssen. Bei der Anordnung für eine sichere Kontaktierung von piezoelektrischen Aktoren nach DE 196 46 676 Cl wird an der als Kontaktstreifen ausgebildeten Grundmetallisierung eine elektrische leitende Kontaktfahne mit hoher Rissfestigkeit so angebracht, dass ein überstehender Bereich der Kontaktfahne verbleibt. Dabei muss der überstehende Bereich der Kontaktfahne so groß ausgebildet werden, dass auftretende Risse die Kontaktfahne nicht vollständig durchtrennen. Eine solche Anordnung ist aber sehr empfindlich beim Handling. Bekanntlich besitzt die Grundmetallisierung auf der Oberfläche des piezokeramischen Aktors nur eine sehr geringe Schälfestigkeit. Bereits geringe Schälkräfte führen zur Ablösung der Grundmetallisierung von der Aktoroberfläche und somit zum teilweisen oder vollständigen Verlust der elektrischen Kontaktierung zu den Innenelektroden.
Eine weitere Variante, dass Risswachstum vom Aktorkörper zur Oberflächenelektrode zu entkoppeln ist in der DE 100 17 331 Cl offenbart. Dort wird vorgeschlagen, zwischen Grundmetallisierung und Außenelektrode eine elektrisch leitende Pulverschicht einzubringen. Eine solche Anordnung verhindert zwar den Rissfortschritt, ist aber technisch nur unter erheblichen Aufwendungen zuverlässig zu realisieren, da der elektrische Kontakt der Pulverteilchen mit der inneren und äußeren Elektrode und untereinander nur über Berührung erfolgt, was einen Kontaktmindestdruck er- fordert. Weiterhin sind berührende Kontakte sehr stark gegenüber Korrosionserscheinungen anfällig.
Die WO 00-79607 AI und WO 00-63980 AI offenbaren Lösungen, die darauf abzielen, jede der an die Oberfläche herausgeführten Elektroden einzeln zu kontaktieren. Bei Elektrodenabständen von 50 - 250 μm ist dies jedoch nicht kostengünstig umsetzbar.
Aus dem Vorgenannten ist es daher Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung eines monolithischen Vielschichtaktors aus einem piezokeramischen oder elektrostriktiven Material anzugeben, mit dessen Hilfe es gelingt einen Aktor mit hoher Zuverlässigkeit und Langzeitstabilität zu schaffen, welcher darüber hinaus in der Lage ist, hohen Druckkräften bei geringem Aktorquerschnitt Stand zu halten. Weiterhin ist es Aufgabe der Erfindung einen monolithischen Vielschichtaktor aus einem piezokeramischen oder elektrostriktiven Material zu schaffen, wobei dieser neuartige Aktor über verbesserte Gebrauchseigenschaften verfügen soll. Letztendlich gilt es, eine elektrische Außenkontaktierung für einen monolithischen Vielschichtaktor anzugeben, welche das Auftreten von Überschlägen aufgrund von Risserscheinungen hinein in die Grundmetallisierung wirksam verhindert und die mit üblichen Prozessen in der Elektronikindustrie hergestellt werden kann.
Die verfahrensseitige Lösung der Aufgabe der Erfindung erfolgt mit einer Lehre in der Definition nach Patentanspruch 1.
Bezüglich des Vielschichtaktors selbst sei auf die Merkmalskombination nach An- spruch 13 und mit Blick auf die elektrische Außenkontaktierung auf die Merkmale gemäß Anspruch 21 verwiesen.
Die Unteransprüche stellen jeweils mindestens zweckmäßige Ausgestaltungen und Weiterbildungen des Erfindungsgegenstandes dar.
Der Grundgedanke der Erfindung liegt unter Berücksichtigung der in den Ansprüchen konkretisierten Lehre darin, entlang der Aktorachse und im wesentlichen parallel zu den Innenelektroden im Bereich der mindestens zwei gegenüberliegenden Aussen- flächen, zu denen die inneren Elektroden wechselseitig herausgeführt werden, MikroStörungen im Aktorgefüge so einzubauen, dass diese als quasi am vorbekannten Ort stehende Rissquelle wirken, wobei das Risswachstum kontrollierbar ist. Die Aussenkontaktierung wird durch eine in Ansicht bekannter Weise mittels Dickoder Dünnschichttechnologie realisierte Grundmetallisierung gebildet, wobei die Elektrodenbereiche zwischen den Orten der MikroStörungen und möglicher, nach außen reichende Risse durch eine dehnungsresistente, zweite Aussenelektrode miteinander verbunden werden.
Durch den gezielten Einbau von Gefügeschwächungen, die als potentielle Rissquelle wirken, kann eine weitere Rissbildung gezielt gesteuert werden. Bei einem Abstand der Rissquellen im Bereich von ein 1 - 4, bevorzugt 2 - 3 mm werden die inneren mechanischen Spannungen so abgebaut, dass in den Abschnitten zwischen den Rissquellen auch bei zyklischer Belastung von weit über 109 Zyklen keine weitere Rissbildung beobachtet wird.
Von erfindungswesentlicher Bedeutung ist, dass die gezielt eingebrachten Mikrostö- rungen im Aktorgefüge selbst noch keinen Riss im eigentlichen Sinne darstellen. Der gezielt gesteuerte Riss entsteht erst nach der Polarisation des Aktors und zwar nur in dem Umfang, wie beim Polarisieren remanente Dehnungen gegeben sind. Dadurch, dass das Gefüge beim Schritt des Aufbringens der Grundmetallisierung noch geschlossen ist, dringt auch keine Metallisierungsmasse in das piezokeramische Material ein, was zu einer wesentlichen Qualitätsverbesserung derartig realisierter Aktoren führt.
Die MikroStörungen verhindern örtlich begrenzt das Zusammensintern der Grünfolien mit dem Ergebnis einer dezidierten Delaminierung.
Zum Erreichen dieses Delaminierens besteht die Möglichkeit im Bereich gewünschten MikroStörungen beim Stapelaufbau einer Schicht oder Mengen eines organischen Binders aufzubringen, welche einen Volumenanteil von bis zu 50% organischer Partikel mit einem Durchmesser < 200 nm enthält, die beim Sinterprozess nahezu vollständig ausbrennen.
Diese vorgeschriebene Schicht kann durch Siebdruck aufgebracht werden und wird vor dem Sintern durch Pressen derart verdichtet, dass die in den Grünfolien eingebetteten Keramikpartikel sich nur teilweise oder nicht berühren, um gezielt ein Zu- sammensintern ganz oder teilweise zu unterbinden.
Alternativ besteht die Möglichkeit die MikroStörungen durch eine Menge anorganischer Füllpartikel mit einem Durchmesser von < 1 μm auszubilden, wobei diese Füllpartikel nicht mit den piezoelektrischen Werkstoff des Stapels reagieren. Die Füll- partikel werden in an sich bekannter Weise dem Binder zugesetzt und stellen ein Bestandteil des Letzteren dar.
Bei einer weiteren Ausführungsform besteht die Möglichkeit die Mikrostörungen durch Kerbanrisse zu induzieren, wobei diese Kerbanrisse entweder im grünen oder gesinterten Zustand erzeugt werden, ohne jedoch die tragende Querschnittsfläche des Aktorstapels zu reduzieren.
Dadurch, dass die Lage potentieller Risse durch das definierte Einbringen der MikroStörungen bekannt ist, besteht die Möglichkeit in Kenntnis dieser Position oder Lage die Aussenkontaktierung auszugestalten. Erfindungsgemäß besteht die Aussenkontaktierung jeweils aus einer flächigen Biegegelenkelektrode, welche mit der Grund- metallisierung mindestens im Bereich zwischen den MikroStörungen elektrisch in Verbindung steht.
Konkret kann die flächige Biegelektrode einen aufgelöteten Kupfer/Berylliumstreifen umfassen, wobei der Streifen jeweils offene Ellipsenform aufweisende Abschnitte umfasst. Die Hauptachse der jeweiligen offenen Ellipsen verläuft im Bereich der jeweiligen Mikrostörung.
Bei einer Alternative ist die Biegeelektrode als Mäander- oder Doppelmäanderelekt- rode ausgeführt, wobei die Verbindungsabschnitte des Mäanders jeweils im Bereich der MikroStörungen verlaufen.
Auf den Biegeelektroden befinden sich Lötabschnitte oder Lötpunkte zur Kontaktierung mit der Grundmetallisierung und/oder zur weiteren Verdrahtung.
Die Stapelanordnung, welche den Aktor bildet, umfasst elektrodenfreie passive Endschichten als Kraftkoppelflächen.
Der Abstand der ersten Mikrostörung zur passiven Endschicht ist gleich dem ganzen oder halben Abstand der übrigen, über die Längsachse verteilten MikroStörungen gewählt.
Der erfindungsgemäße Vielschichtaktor aus einem piezokeramischen oder elektrostriktiven Material weist entlang der Stapellängsachse im wesentlichen parallel zu den Innenelektroden delaminierende Mikrogefügestörungen auf, wobei dort die Zugfestigkeit im Vergleich zum umgebenden Gefüge bei gleichzeitigem Erhalt der Druckfestigkeit des Stapels verringert ist.
Weiterhin besitzt der monolithische Vielschichtaktor jeweils dehnungsresistente, flächige Aussenelektroden, welche nur punktuell mit der Grundmetallisierung im Be- reich zwischen den delaminierenden Mikrogefügestörungen verbunden ist.
Die Aussenelektrode kann in einer Ausführungsform als Mäander oder Doppelmäander mit Biegegelenkfunktion gestaltet sein. Auch besteht die Möglichkeit diese Aussenelektrode als Aneinanderreihung offener Ellipsen im Sinne eines Ellipsenringes mit Biegegelenkfunktionen auszubilden, wobei zwischen den Ellipsen im wesentli- chen in Richtung der Nebenachsen verlaufend ein Verbindungs- und Kontaktierungs- steg vorhanden ist.
Die Hauptachse der jeweiligen offenen Ellipsen der Aussenelektrode verläuft im we- sentlichen im Bereich der Mikrogefügestörungen. Dort möglicherweise entstehende, nach aussen dringende Risse ziehen keine elektrische Unterbrechung der Kontaktierung nach sich.
Am oberen und/oder unteren Ende des Aktors ausgebildete passive Endschichten können als monolithische Isolatorschicht ausgebildet werden, welche Koppelelemente trägt oder aufnimmt.
Die erfindungsgemäße elektrische Außenkontaktierung für einen monolithischen Vielschichtaktor besteht aus Aussenelektroden in Form eines dehnungsresitenten, quasi elastischen, nur punktuell mit der Grundmetallisierung verbunden metallischen, respektive leitfähigen Streifen, welche eine Vielzahl von einzelnen, in einer Ebene befindlichen Biegegelenken besitzt. Die Streifen sind z. B. aus einer Kupfer/Beryllium-Legierung gefertigt oder bestehen aus einem vergleichbare Eigenschaften aufweisenden Material.
Zusammenfassend liegt der Lösungsansatz der Erfindung darin, gezielt in dem Aktormaterial für Gefügeschwächungen Sorge zu tragen, so dass an dann bekannten Stellen Risse entstehen und zwar erstmals dann, wenn der Aktor einer Polarisation unterworfen wird. Dadurch, dass die Lage der gezielten erzeugten Risse bekannt ist, kann durch eine entsprechende dehnbare Elektrodenkonfiguration dafür gesorgt werden, dass eine elektrische Kontaktierung in jedem Fall sicher stattfindet bzw. erhalten bleibt.
Bekanntermaßen findet ein Risswachstum im wesentlichen senkrecht zur Aktorläng- sachse und zwar in beiden Richtungen, das heißt sowohl ins Innere des Aktors hinein als auch nach aussen zur Grundmetallisierung hin statt. Dies ist üblicherweise ein negativer Effekt. Da aber erfindungsgemäß die Aussenkontaktierung aufgrund der bekannten Lage der Risse modifizierbar ist, können potentielle Risse von vornherein überbrückt werden und es werden die im Stand der Technik gegeben Ausfall- erscheinungen reduziert. Gemäß dem Stand der Technik ist es notwendig eine möglichst hohe Anzahl von Kerben oder Schlitze, insbesondere auch im Endbereich des Aktors einzubringen, da die Spannungsverhältnisse im Aktor selbst nicht bekannt sind. Jeder der einzubringenden Kerben oder Schlitze führt aber zu einer verringerten mechanischen Stabi- lität und damit Belastbarkeit des Aktors selbst.
Bei der vorliegenden Erfindung werden zwar gezielte Gefügeveränderungen eingebaut, die potentiell auch einen Riss nach sich ziehen können, wenn entsprechende Spannungen auftreten, dies ist aber nicht vergleichbar mit einer von vornherein unabwendbaren mechanischen Schwächung des Gefüges durch einen Schlitz, der beispielsweise durch Fräsen, Einkerben oder ähnlich erzeugt wird. Die aus dem Stand der Technik bekannten Schlitze entsprechen einem Materialabtrag. Der materialabgetragene Bereich des Aktors leistet aber augenscheinlich keinen Festigkeitsbeitrag mehr.
In dem Falle, wenn in die Binderschicht größere, ein zusammensintern verhindernde Partikel eingebracht werden verbleibt der vorteilhafte Effekt, dass eine Tragfähigkeit- oder Kraftübernahme durch diese Partikel gewährleistet ist, die einen nicht unwesentlichen Beitrag zur Gesamtstabilität leisten. Hierbei ist wesentlich, das beim Aktor selbst nur Druckkräfte in Richtung der Aktorlängsachse interessieren.
Die Kerbanrisse nach der Erfindung sind keinesfalls vergleichbar mit den makroskopischen Kerben nach dem Stand der Technik. Hier handelt es sich vielmehr um im Mikrometerbereich liegende Eindrücke, die quasi mit dem Eindrücken eines Probe- körpers, wie aus der Materialprüfung bekannt, vergleichbar sind.
Wie oben erläutert, ist dafür Sorge zu tragen, dass bei dem Übereinanderschichten der einzelnen Folien zwischen ausgewählten Bereichen von Folien oder Schichen ein Delaminationseffekt eintritt. Dieses bedeutet, dass dort eine Zugbeanspruchung nicht möglich ist, jedoch die benachbarten Folien so dicht aufeinanderliegen, dass eine Druckkraftübertragung möglich wird und zwar im Gegensatz zu den Bereichen mit Schlitz oder Kerbe nach dem Stand der Technik.
Bei einer Ausführungsform kann der Abstand zwischen zwei wechselseitig heraus- geführten Elektroden in einem oberen und/oder unteren Endbereich des Aktors doppelt so groß sein wie zu den darunterliegenden, benachbarten Elektroden. Aufgrund des größeren Abstandes ist ein Hineinwandern eines durch das veränderte Mikroge- füge bedingten Risses in den Elektrodenbereich und damit ein Unterbrechen der Elektrode im Inneren des Aktors verhinderbar. Der Nachteil einer dort vorliegenden anderen Feldstärke wird auf jeden Fall vom Vorteil des aktiven Leistungsbeitrages des Aktors in diesem Bereich aufgehoben.
Der Erfindung soll nachstehend anhand von Ausführungsbeispielen sowie unter Zuhilfenahme von Figuren näher erläutert werden.
Hierbei zeigen:
Figur 1 eine prinzipielle Stapelaktoranordnung nach dem Stand der Technik;
Figur 2a ein erfindungsgemäßer Aktor vor der Polarisation;
Figur 2b ein Aktor nach der Polarisation;
Figur 3a eine Ausführungsform der Aussenkontaktierung mit Mäanderelektrode;
Figur 3b eine Ausführungsform der Aussenelektrode mit offenen Ellipsen;
Figur 4a eine Schnittdarstellung eines erfindungsgemäßen Aktors mit verändertem Abstand gegenüberliegender Innenelektroden in vorgegebenen Endbereichen und
Figur 4b eine Seitenansicht eines Teiles eines erfindungsgemäßen Aktors mit erkennbarer Elektrodenanordnung in Form von Biegegelenken, ausgebildet als offene, durch Stege verbundene Ellipsen.
Die in der Figur 1 gezeigte Ausführungsform eines Vielschichtaktors nach dem Stand der Technik geht von einer Interdigitalenelektrodenanordnung aus. Mit dem Bezugszeichen 1 ist der Aktor selbst, mit dem Bezugszeichen 2 sind die piezokeramischen Schichten benannt. Die inneren Elektroden 3 und 4 sind jeweils auf die gegenüberliegenden Flächen bis an die Oberfläche herausgeführt. Die Grundmetallisierung 5 dient der Parallelschaltung der jeweiligen Elekrodengruppe. Ein inaktiver Bereich 6 des Aktors 1 wird weder beim Polarisieren noch beim Betrieb des Aktors 1 piezoelektrisch gedehnt und bildet ein Spannungsrisspotential.
Der erfindungsgemäße Aktor gemäß dem Ausführungsbeispiel nach den Figuren 2a und 2b umfasst piezokeramische Schichten 2 mit einer Dicke im Bereich von 20 - 100 μm. Diese Schichten sind durch innere Elektroden 3 und 4, vorzugsweise bestehen aus einer AgPd-Legierung miteinander verbunden, die wechselseitig auf gegenüberliegende Oberflächen herausgeführt sind.
Die herausgezogene Elektroden 3, 4 werden über eine Grundmetallisierung 5, die auf den Seitenoberflächen aufgebracht wird, miteinander verbunden, so dass eine elektrische Parallelschaltung der einzelnen piezoelektrischen Schichten resultiert.
Im Bereich 6, der nicht bis zur Oberfläche herausgezogenen Elektroden 3, 4 entste- hen aufgrund der inhomogenen elektrischen Feldverläufe in bekannter Weise bei der Polarisation oder beim Betrieb des Aktors mechanische Spannungskonzentrationen, insbesondere Zugspannungen, die letztendlich Ursache für eine unerwünschte, unkontrollierte Rissbildung sind.
Durch den gezielten Einbau von Gefügeschwächungen, die als Rissquelle 7 wirken, kann die Rissbildung gesteuert werden.
Bei einem Abstand der Rissquellen 7 im Bereich von 1 - 4 mm, bevorzugt 2 - 3 mm können die inneren mechanischen Spannungen so abgebaut werden, dass in den Abschnitten zwischen den Rissquellen, auch bei Belastungen von weit über 109 Zyklen keine weitere Rissbildung beobachtet wird.
Figur 2b zeigt den erfindungsgemäßen Aktor nach der Polarisation. Hier ist die Entspannungswirkung schematisch dargestellt. Von der Rissquelle 7 geht dabei einer- seits ein gezieltes Risswachstum 8 in das Innere des Aktors aus, welches durch eine geeignete energiesenkende Gefügeausbildung über Vorgabe von Korngrößen und Porosität von selbst gestoppt oder unterbrochen wird.
Andererseits ergibt sich aber auch ein Risswachstum in die Grundmetallisierung an der Stelle 9 hinein, welches im ungünstigsten Fall zur Durchtrennung der Grundmetallisierungsschicht 5 führt. Beim gezeigten Ausführungsbeispiel erfolgt die elektrische Verbindung der einzelnen Bereiche durch einen bogenförmig verlegten Draht 10, der punktuell über einen Lötpunkt 11 mit der Grundmetallisierung verbunden ist.
Die vorstehend erwähnten Rissquellen sind auf verschiedene Weise in den Aktor implementierbar. Grundsätzlich gilt es, an vorbestimmten Stellen ein Zusammensintern der aufeinandergestapelten und verpressten Grünfolien ganz oder partiell zu verhindern, so dass an diesen Stellen die Zugfestigkeit im Vergleich zum umgebenden Gefüge verringerbar ist. Vorstehendes wird dadurch erreicht, dass in den vorge- gebenen Bereichen beim Aufbau der Stapel eine Schicht eines organisches Binders durch Siebdruck aufgetragen wird, die mit einem Volumenanteil von bis zu 50% mit organischen Partikeln mit einen Durchmesser < 200 nm, die beim Sinterprozess vollständig ausbrennen, gefüllt ist. Diese Schicht wird in den weiteren Verfahrens- oder Verarbeitungsstufen beim Ver- pressen auf eine Dicke < 1 μm zusammengepresst und sorgt dafür, dass die in den Grünfolien eingebetteten Keramikkörper sich nicht oder nur partiell berühren, so dass beim Sintern der Materialtransport von Korn zu Korn ganz oder teilweise verhindert ist.
Eine alternative Möglichkeit besteht darin, dass anstelle organischer Füllpartikel anorganische Partikel mit einem Durchmesser < 1 μm, die nicht mit dem piezoelektrischen Werkstoff reagieren, wie z.B. ZrO2 oder Pulver eines gesinterten PZT-Werk- stoffes mit einer im wesentlichen gleichen Zusammensetzung wie der Aktorwerkstoff dem Binder zugesetzt werden. Auch können Rissquellen dadurch erzeugt werden, indem entweder im grünen oder im gesinterten Zustand Mikro-Kerbanrisse ausgeführt werden.
Der oben beschriebene Abbau der inneren mechanischen Spannungen durch eine gezielte Risseinbringung in den Aktor besitzt gegenüber den bekannten Lösungen wesentliche Vorteile. So wird z.B. der belastbare Querschnitt des Aktors nur unwesentlich verringert, da die gezielt erzeugten Rissflächen bei Einwirkung einer Druckkraft in Richtung der Aktorachse aufeinandergepresst werden und somit zum tragenden Querschnitt beitragen. Ein weiterer Vorteil besteht darin, dass sich der Riss frühestens beim Polarisieren öffnet und somit beim Aufbringen der Grundmetallisierung keine Metallpartikel in das Innere des Aktors gelangen können. Hierdurch ergibt sich eine wesentlich ver- bessere Qualität entsprechend gestalteter Aktoren im Vergleich zum Stand der Technik.
Ein Vorteil besteht auch darin, dass für eine sichere und langzeitstabile elektrische Kontaktierung des Aktors eine einfache, dehnungsresistente Aussenelektrode reali- sierbar ist, die nur punktuell mit der Grundmetallisierung zwischen den Entspannungsrissen zu verbinden ist.
Eine Ausgestaltung einer dehnungsresistenten bzw. elastischen Aussenelektrode 12 in Schlitz- oder Mäanderform zeigt Figur 3a. Dort sind auch passive Endschichten 14 ohne innere Elektroden gezeigt, die eine Kraftkoppelfläche bilden. Diese Endschichten 14 können z.B. aus einen monolithischen Isolationsmaterial bestehen und dienen der Aufnahme von verschiedenen Koppelelementen.
Eine ebenso mit passiven Endschichten 14 versehene Ausführungsform des Aktors zeigt Figur 3b.
Dort ist eine Festkörpergelenke umfassende Aussenelektrode in Form von offenen Ellipsen 13 vorhanden. Die Hauptachse der jeweiligen offenen Ellipse verläuft im wesentlichen im Bereich erwarteter Risse. Die einzelnen Ellipsen weisen Stege 15 auf, die der elektrischen Kontaktierung der Ellipsen 13 untereinander dienen. Im Bereich der Stege 15 ist jeweils ein Lötpunkt 11 ausgebildet.
Gemäß der Ausführungsform nach Figur 3 ist der Abstand vom ersten Entspan- nungsriss 7 zur passiven Endschicht 14 gleich dem Abstand der Entspannungsrisse untereinander gewählt. Bei der zweiten Ausführungsform nach Figur 3b beträgt der Abstand des ersten Entspannungsrisses 7 zur passiven Endschicht 14 gleich dem halben Abstand der übrigen Spannungsrisse untereinander.
Die Figur 4a offenbart einen in bestimmten Abschnitten des Aktors vorhandenen größeren Abstand der Innenelektroden 3 und 4. Dieser doppelte Abstand im Ver- gleich zu benachbarten Innenelektroden reduziert die Gefahr, dass ein dazwischen befindlicher Riss 7 zu den Innenelektroden wandert und deren Kontaktierung hin zur Grundmetallisierung bzw. entsprechende elektrische Verbindung unterbricht.
Die in den Figuren 3a und 3b schematisch gezeigte flächige Gestaltung der, z. B. aus Kupfer- Berylliummaterial bestehenden Aussenelektrode ist nur beispielhaft zu verstehen. Grundsätzlich ist jede flächige Aussenelektrodenform geeignet, die in lateraler Richtung zerstörungsfrei Dehnungs- bzw. Spannungskräfte aufnehmen kann.
Bezuqszeichenliste
1 Aktor
2 piezokeramische Schicht 3,4 innere Elektroden
5 Grundmetallisierung 6 inaktiver Bereich des Aktors
7 Mikrogefügeänderung
8 durch Polarisation ausgelöster gezielter Mikroriss
9 Unterbrechung der Grundmetallisierung
10 bogenförmig verlegter Draht 11 Lötpunkt
12 mäanderförmige Aussenelektrode
13 Ellipse einer entsprechend ausgebildeten Aussenelektrode
14 Endbereiche der Aktors, bevorzugt als monolithische Isolationsschicht ausgeführt 15 Verbindungsstege der Ellipsenform - Aussenkontaktierung

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zur Herstellung eines monolithischen Vielschichtaktors aus einem piezokeramischen oder elektrostriktiven Material, wobei der Aktor als Stapel- anordnung in quasi mechanischer Reihenschaltung einer Vielzahl von Piezoplatten durch Sintern von Grünfolien ausgebildet wird, vorhandene Innenelektroden im Plattenstapel zu gegenüberliegenden Aussenflächen des Stapels geführt und dort mittels Grundmetallisierung sowie Aussenkontaktierung jeweiliger Elektrodengruppen parallel verschalten sind, d ad u rch ge ken nzeich n et, dass entlang der Stapellängsachse im wesentlichen parallel zu den Innenelektroden, von diesen beabstandet, im Bereich der mindestens zwei gegenüberliegenden Aussenflächen, zu denen die Innenelektroden herausgeführt sind, gezielt MikroStörungen im Aktorgefüge eingebaut werden, welche frühestens beim Polarisieren des Aktors einem vorgegebenen, begrenztem, spannungsabbauendem Wachstum in das Innere des Aktors unterliegen und weiterhin die Grundmetallisierung und/oder die Aussenkontaktierung mindestens im Bereich der MikroStörungen im Aktorgefüge dehnungs- resistent oder elastisch ausgebildet ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, d ad u rch ge ken nzeich net, dass die MikroStörungen örtlich begrenzt ein Zusammensintern der Grünfolien verhindern.
3. Verfahren nach Anspruch 2, d ad u rch g eken nzeich net, dass im Bereich der MikroStörungen beim Stapelaufbau eine Schicht oder Menge eines organischen Binders aufgebracht wird, welche einen Volumenanteil von bis zu 50 % organischer Partikel mit einem Durchmesser < 200 nm enthält, die beim Sinter- prozess nahezu vollständig ausbrennen.
4. Verfahren nach Anspruch 3, d ad u rch ge ken nzeich net, dass die Schicht durch Siebdruck aufgebracht wird, wobei diese Schicht vor dem Sintern durch Pressen derart verdichtet wird, dass die in den Grünfolien eingebetteten Keramikpartikel sich nur teilweise oder nicht berühren, um gezielt ein Zusammensintern ganz oder teilweise zu unterbinden.
5. Verfahren nach Anspruch 2, d ad u rch gekennzei ch net, dass die MikroStrukturen durch eine Menge anorganischer Füllpartikel mit einem Durch- messer von < 1 μm, welche nicht mit dem piezoelektrischen Werkstoff des Stapels reagieren, ausgebildet sind, wobei die Füllpartikel dem Binder zugesetzt werden.
6. Verfahren nach Anspruch 2, dad u rch gekennzeichnet, dass die MikroStörungen durch Kerbanrisse induziert sind, welche entweder im grünen oder gesinterten Zustand erzeugt werden, jedoch ohne die tragende Querschnittsfläche des Aktorstapels zu reduzieren.
7. Verfahren nach einem der vorangegangen Ansprüche, da d u rch geken nzei ch net, dass die Aussenkontaktierung in Kenntnis der Lage der eingebrachten oder vorgesehenen MikroStörungen erstellt wird, wobei die Aussenkontaktierung jeweils eine flächige Biegegelenkelektrode umfasst, welche mit der Grundmetallisierung mindestens im Bereich zwischen den MikroStörungen punktuell oder abschnittsweise elektrisch in Verbindung steht.
8. Verfahren nach Anspruch 7, d ad u rch geken n zeich net, dass die Biegeelektrode aus einem aufgelöteten Kupfer/Beryllium-Streifen besteht und der Streifen jeweils offene Ellipsenform aufweisende Abschnitte umfasst, wobei die Hauptachse der jeweiligen offenen Ellipse jeweils im Bereich einer der Mikro- störungen verläuft.
9. Verfahren nach Anspruch 7, dad u rch geken nzei ch net, dass die Biegeelektrode als Mäander- oder Doppelmäanderelektrode ausgeführt ist, wobei die Verbindungsabschnitte des Mäanders jeweils im Bereich der MikroStörungen verlaufen.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dad u rch ge ken nzeich net, dass auf den Biegeelektroden Lötabschnitte oder Lötpunkte zur weiteren Verdrahtung vorgesehen sind.
11. Verfahren nach einem der vorangegangen Ansprüche, d ad u rch ge ken nzei ch net, dass auf die Stapelanordnung elektrodenfreie passive Endschichten als Kraftkoppelflächen aufgebracht werden.
12. Verfahren nach Anspruch 11, d ad u rch ge ken nzeich net, dass der Abstand der ersten Mikrostörung zur passiven Endschicht gleich dem ganzen oder halben Abstand der übrigen über die Längsachse verteilten MikroStörungen gewählt wird.
13. Monolithischer Vielschichtaktor aus einem piezokeramischen oder elektrostriktiven Material, wobei der Aktor eine Stapelanordnung von Piezoplatten ist, welche über innere Elektroden, eine gemeinsame Grundmetallisierung sowie Aussenkontaktierung verfügt, dad u rch ge ken nzei ch net, daß entlang der Stapellängsachse im wesentlichen parallel zu den Innenelektroden, delaminierende Mikrogefügestörungen vorhanden sind, welche die Zugfestigkeit im Vergleich zum umgebenden Gefüge bei gleichzeitigem Erhalt der Druckfestigkeit des Stapels verringern.
14. Monolithischer Vielschichtaktor nach Anspruch 13, gekennzeichnet durch eine dehnungsresistente, flächige Aussenelektrode, welche nur punktuell mit der Grundmetallisierung im Bereich zwischen den delaminierenden Mikrogefügestörungen verbunden ist.
15. Monolithischer Vielschichtaktor nach Anspruch 14, dad urch ge ken nzeich net, dass die Aussenelektrode ein flächig strukturierter Kupfer/Beryllium-Streifen ist.
16. Monolithischer Vielschichtaktor nach Anspruch 14, dad u rch geken nzeich net, dass die Aussenelektrode die Form eines Mäanders oder Doppelmäanders mit Biege- gelenkfunktion aufweist.
17. Monolithischer Vielschichtaktor nach Anspruch 14, da d u rch geken nzeich n et, dass die Aussenelektrode die Form aneinandergereihter, offener Ellipsen mit Biege- gelenkfunktion aufweist, wobei zwischen den Ellipsen im wesentlichen in Richtung der Nebenachsen ein Verbindungs- und Kontaktierungssteg vorhanden ist.
18. Monolithischer Vielschichtaktor nach Anspruch 17, da d u rch geken nzeich n et, dass die Hauptachse der jeweiligen offenen Ellipsen der Aussenelektrode im wesentlichen im Bereich der Mikrogefügestörungen verläuft.
19. Monolithischer Vielschichtaktor nach einem der Ansprüche 13 bis 18, dad u rch geken nzeich net, dass elektrodenfreie passive Endschichten am oberen und/oder unteren Ende des Aktors ausgebildet sind.
20. Monolithischer Vielschichtaktor nach Anspruch 19, dad u rch geken nzeich net, dass die passiven Endschichten eine monolithische Isolationsschicht umfassen, welche Koppelelemente trägt oder aufnimmt.
21. Elektrische Aussenkontaktierung für einen monolithischen Vielschichtaktor aus einem piezokeramischen oder elektrostriktiven Material, wobei der Aktor eine Stapelanordnung von Piezoplatten mit inneren Elektroden und einer Grundmetallisierung umfasst, dad u rch geken nzeich net, dass die Aussenelektrode einen dehnungsresistenten, nur punktuell mit der Grundmetallisierung verbundenen metallischen Streifen aufweist, welcher eine Vielzahl von einzelnen, in einer Ebene befindlichen Biegegelenken besitzt.
22. Elektrische Aussenkontaktierung nach Anspruch 21, dad u rch geken nzeich n et, dass der Streifen aus einer Kupfer/Beryllium-Materiallegierung besteht.
23. Elektrische Aussenkontaktierung nach Anspruch 21 oder 22, dadu rch geken nzeichnet, dass der Streifen die Form eines Mäanders oder Doppelmäanders aufweist.
24. Elektrische Aussenkontaktierung nach Anspruch 21 oder 22, dad u rch geken nzeich net, dass der Streifen aus einer Aneinanderreihung von durch Stege verbundenen offenen Ellipsen besteht, wobei die Kontaktierung bevorzugt im Bereich der Stege erfolgt.
PCT/EP2003/005051 2002-06-07 2003-05-14 Verfahren zur herstellung eines monolithischen vielschichtaktors sowie, monolithischer vielschichtaktor aus einem piezokeramischen oder elektrostriktiven material sowie elektrische aussenkontaktierung für einen monolithischen vielschichtaktor Ceased WO2003105246A2 (de)

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US10/517,192 US7449077B2 (en) 2002-06-07 2003-05-14 Method for the production of monolithic multilayer actuator monolithic multilayer actuator made of a piezoceramic or electrostrictive material and external electrical contact for a monolithic multilayer actuator
AU2003233327A AU2003233327A1 (en) 2002-06-07 2003-05-14 Method for the production of a monolithic multilayer actuator, monolithic multilayer actuator made of a piezoceramic or electrostrictive material, and external electrical contact for a monolithic multilayer actuator
JP2004512212A JP4667863B2 (ja) 2002-06-07 2003-05-14 圧電セラミック又は電歪材料から作られたモノリシック多層アクチュエータ
EP03727478.4A EP1512183B1 (de) 2002-06-07 2003-05-14 Monolithischer vielschichtaktor aus einem piezokeramischen oder elektrostriktiven material sowie herstellungsverfahren und elektrische aussenkontaktierung

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Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004077583A1 (de) 2003-02-24 2004-09-10 Epcos Ag Elektrisches vielschichtbauelement und schichtstapel
WO2006111206A1 (de) * 2005-04-20 2006-10-26 Siemens Aktiengesellschaft Piezoaktor und verfahren zu seiner herstellung
JP2006303319A (ja) * 2005-04-22 2006-11-02 Tdk Corp 積層型圧電素子
EP1764844A1 (de) * 2005-09-16 2007-03-21 Delphi Technologies, Inc. Piezoelektrischer Aktor
EP1821341A1 (de) * 2006-02-16 2007-08-22 Siemens Aktiengesellschaft Elektrische Anordnung mit einer Drahtverbindungsanordnung und Verfahren zum Herstellen einer derartigen elektrischen Anordnung
WO2007118879A1 (de) 2006-04-19 2007-10-25 Robert Bosch Gmbh PIEZOAKTOR MIT AUßEN KONTAKTIERTEN INNENELEKTRODEN EINES PIEZOELEMENTS
EP1978567A1 (de) * 2007-02-19 2008-10-08 Siemens Aktiengesellschaft Piezokeramischer Mehrschichtaktor und Verfahren zur Herstellung eines piezokeramischen Mehrschichtaktors
EP1978569A1 (de) * 2007-02-19 2008-10-08 Siemens Aktiengesellschaft Piezokeramischer Mehrschichtaktor und Verfahren zur Herstellung eines piezokeramischen Mehrschichtaktors
EP1978568A1 (de) * 2007-02-19 2008-10-08 Siemens Aktiengesellschaft Piezokeramischer Vielschichtaktor und Herstellungsverfahren dafür
WO2008119702A1 (de) * 2007-03-30 2008-10-09 Siemens Aktiengesellschaft Piezoelektrisches bauteil mit sicherheitsschicht und infiltrationsbarriere und verfahren zu dessen herstellung
DE102007037500A1 (de) * 2007-05-11 2008-11-13 Epcos Ag Piezoelektrisches Vielschichtbauelement
WO2009090142A1 (de) * 2008-01-14 2009-07-23 Robert Bosch Gmbh Piezoelektrischer aktor
US7679273B2 (en) * 2006-07-31 2010-03-16 Delphi Technologies, Inc. Strain tolerant metal electrode design
DE102008052914A1 (de) * 2008-08-01 2010-04-08 Epcos Ag Piezoaktor mit Sollbruchschicht
WO2011095481A1 (de) * 2010-02-02 2011-08-11 Epcos Ag Piezoelektrisches bauelement
WO2020161353A1 (de) 2019-02-08 2020-08-13 Pi Ceramic Gmbh Verfahren zur herstellung eines piezoelektrischen stapelaktors und piezoelektrischer stapelaktor

Families Citing this family (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10241992B4 (de) * 2002-09-11 2005-05-04 Siemens Ag Piezoelektrischer Aktor
DE10348836B3 (de) * 2003-06-25 2005-03-24 Physik Instrumente (Pi) Gmbh & Co. Kg Vielschichtaktor
US7385337B2 (en) * 2004-06-18 2008-06-10 Tdk Corporation Multilayer piezoelectric element
DE102004031404B4 (de) * 2004-06-29 2010-04-08 Siemens Ag Piezoelektrisches Bauteil mit Sollbruchstelle und elektrischem Anschlusselement, Verfahren zum Herstellen des Bauteils und Verwendung des Bauteils
DE102004031402A1 (de) * 2004-06-29 2006-02-09 Siemens Ag Piezoelektrisches Bauteil mit Sollbruchstelle, Verfahren zum Herstellen des Bauteils und Verwendung des Bauteils
DE102004050803A1 (de) * 2004-10-19 2006-04-20 Robert Bosch Gmbh Piezoaktor
DE102005015405B3 (de) * 2005-02-08 2006-07-20 Pi Ceramic Gmbh Keramische Technologien Und Bauelemente Anordnung zur elektrischen Kontaktierung von piezoelektrischen Vielschicht-Stapelaktoren
DE102005015112B4 (de) * 2005-04-01 2007-05-24 Siemens Ag Monolithisches piezoelektrisches Bauteil mit mechanischer Entkopplungsschicht, Verfahren zum Herstellen des Bauteils und Verwendung des Bauteils
DE102005021275B4 (de) * 2005-05-09 2007-07-26 Siemens Ag Verfahren zum Vermeiden einer Längsrissbildung eines piezoelektrischen oder elektrostriktiven Bauteils
KR100876533B1 (ko) * 2005-11-02 2008-12-31 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 압전소자
DE102006006077B4 (de) * 2006-02-09 2009-04-09 Continental Automotive Gmbh Piezokeramischer Vielschicht-Aktor, Verfahren zum Herstellen eines piezokeramischen Vielschicht-Aktors und Einspritzsystem
JP5431155B2 (ja) 2006-08-09 2014-03-05 コンチネンタル オートモーティヴ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 信頼性の高いセラミック多層構造のピエゾアクチュエータ
EP2124268B1 (de) * 2006-11-29 2015-04-15 Kyocera Corporation Laminiertes piezoelektrisches element, mit dem laminierten piezoelektrischen element ausgestattete einspritzanordnung und kraftstoffeinspritzsystem
DE102006062076A1 (de) 2006-12-29 2008-07-10 Siemens Ag Piezokeramischer Vielschichtaktor und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102007005341A1 (de) 2007-02-02 2008-08-07 Epcos Ag Vielschichtbauelement sowie Verfahren zur Herstellung eines Vielschichtbauelements
DE102007011652B4 (de) 2007-02-23 2008-12-11 Pi Ceramic Gmbh Keramische Technologien Und Bauelemente Anordnung zur elektrischen Kontaktierung von piezoelektrischen Vielschichtaktoren
EP2140507B1 (de) 2007-03-27 2014-02-26 Kyocera Corporation Mehrschichtiges piezoelektrisches element und verfahren zu seiner herstellung
DE102007022093A1 (de) 2007-05-11 2008-11-13 Epcos Ag Piezoelektrisches Vielschichtbauelement
DE112008003054T5 (de) * 2007-11-14 2010-10-14 Interplex Nas, Inc. Ebene Federanordnung mit angebrachtem Lotstreifen
WO2009082006A1 (ja) * 2007-12-26 2009-07-02 Kyocera Corporation 積層型圧電素子、これを用いた噴射装置及び燃料噴射システム
CN101978519B (zh) 2008-01-23 2013-12-18 埃普科斯股份有限公司 压电多层部件
EP2232599B1 (de) * 2008-01-23 2014-12-24 Epcos AG Piezoelektrisches vielschichtbauelement
CN101978520B (zh) 2008-01-23 2014-01-29 埃普科斯股份有限公司 压电多层部件
DE102008011414A1 (de) 2008-02-27 2009-09-10 Continental Automotive Gmbh Verfahren zum Polarisieren einer Piezokeramik
DE102009043000A1 (de) 2009-05-29 2010-12-02 Epcos Ag Piezoelektrisches Vielschichtbauelement
DE102009043220A1 (de) 2009-05-29 2010-12-02 Epcos Ag Piezoelektrisches Bauelement
DE102009049718B3 (de) * 2009-10-17 2011-03-03 Pi Ceramic Gmbh Keramische Technologien Und Bauelemente Piezoelektrischer Mehrschichtaktuator
WO2011065182A1 (ja) * 2009-11-26 2011-06-03 京セラ株式会社 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置ならびに燃料噴射システム
DE102010005403A1 (de) 2010-01-22 2011-07-28 Epcos Ag, 81669 Verfahren zur Herstellung eines piezoelektrischen Vielschichtbauelements und piezoelektrisches Vielschichtbauelement
DE102010005906A1 (de) 2010-01-27 2011-07-28 Epcos Ag, 81669 Piezoelektrisches Bauelement
JP5604251B2 (ja) * 2010-09-30 2014-10-08 太平洋セメント株式会社 圧電素子
JP5604250B2 (ja) * 2010-09-30 2014-10-08 太平洋セメント株式会社 圧電素子
DE102011081276A1 (de) 2011-08-19 2013-02-21 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung eines piezokeramischen Biegewandlers
DE102011081279A1 (de) 2011-08-19 2013-02-21 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur elektrischen Passivierung elektromechanischer Bauelemente
DE102011081278A1 (de) 2011-08-19 2013-02-21 Siemens Aktiengesellschaft Piezokeramisches Mehrschicht-Bauelement
JP5842635B2 (ja) * 2012-01-27 2016-01-13 Tdk株式会社 積層型圧電素子
CN104205386A (zh) * 2012-02-14 2014-12-10 丹佛斯聚能公司 聚合物换能器以及用于换能器的连接器
DE102012212222B4 (de) * 2012-03-12 2018-05-30 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Dielektrisches Elastomer auf Fluorosilicon-Basis und Verfahren zu seiner Herstellung
CN104205387B (zh) * 2012-05-07 2017-03-22 京瓷株式会社 压电振动元件、使用其的压电振动装置以及便携终端
DE102012105517B4 (de) * 2012-06-25 2020-06-18 Tdk Electronics Ag Vielschichtbauelement mit einer Außenkontaktierung und Verfahren zur Herstellung eines Vielschichtbauelements mit einer Außenkontaktierung
DE102012107343B4 (de) * 2012-08-09 2018-11-22 Epcos Ag Verfahren zur Polung eines Vielschichtbauelements
DE102013106223A1 (de) * 2013-06-14 2014-12-18 Epcos Ag Vielschichtbauelement mit einer Außenkontaktierung, einer Weiterkontaktierung und einem Verbindungselement
DE102014111285A1 (de) 2013-08-07 2015-02-12 Pi Ceramic Gmbh Keramische Technologien Und Bauelemente Piezokeramischer Werkstoff mit reduziertem Bleigehalt
DE102014211465A1 (de) 2013-08-07 2015-02-12 Pi Ceramic Gmbh Keramische Technologien Und Bauelemente Bleifreier piezokeramischer Werkstoff auf Bismut-Natrium-Titanat (BNT)-Basis
US10622542B2 (en) * 2014-08-29 2020-04-14 Wisol Co., Ltd. Stacked piezoelectric ceramic element
DE102014219147A1 (de) * 2014-09-23 2016-03-24 Robert Bosch Gmbh Aktormodul mit einem Stapel von Piezokeramiken
JP6367693B2 (ja) * 2014-11-21 2018-08-01 京セラ株式会社 圧電素子、圧電振動装置、音響発生器、音響発生装置および電子機器
CN106486594B (zh) * 2016-10-12 2019-01-11 哈尔滨工业大学 压电自感知执行器及其电场干扰的滤波方法
GB2573534A (en) 2018-05-08 2019-11-13 Xaar Technology Ltd An electrical element comprising a multilayer thin film ceramic member, an electrical component comprising the same, and uses thereof
CN111584708A (zh) * 2020-05-29 2020-08-25 深圳振华富电子有限公司 压电驱动器
CN111682102A (zh) * 2020-05-29 2020-09-18 深圳振华富电子有限公司 一种压电驱动器堆栈的制备方法
CN111682103A (zh) * 2020-05-29 2020-09-18 深圳振华富电子有限公司 一种带电极片式压电驱动器堆栈的制备方法
DE102020118857B4 (de) 2020-07-16 2023-10-26 Tdk Electronics Ag Vielschichtkondensator
DE102022115666A1 (de) 2022-06-23 2023-12-28 Pi Ceramic Gmbh Piezoelektrisches Material mit Perowskitstruktur für hohe Einsatztemperaturen und dessen Herstellungsverfahren

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4932119A (en) * 1989-03-28 1990-06-12 Litton Systems, Inc. Method of making standard electrodisplacive transducers for deformable mirrors
US4903166A (en) * 1989-06-09 1990-02-20 Avx Corporation Electrostrictive actuators
US5089739A (en) * 1990-03-19 1992-02-18 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Laminate type piezoelectric actuator element
DE4029972A1 (de) * 1990-09-21 1992-03-26 Siemens Ag Ultraschallwandler aus piezokeramik
JPH04214686A (ja) * 1990-10-05 1992-08-05 Nec Corp 電歪効果素子
DE19648545B4 (de) * 1996-11-25 2009-05-07 Ceramtec Ag Monolithischer Vielschichtaktor mit Außenelektroden
DE19928189A1 (de) * 1999-06-19 2001-04-19 Bosch Gmbh Robert Piezoaktor
DE50014127D1 (de) * 1999-06-29 2007-04-19 Siemens Ag Piezoaktor mit einer elektrisch leitenden Mehrschichtfolie
CN1114231C (zh) * 1999-08-20 2003-07-09 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种全电极陶瓷驱动器的制备技术
JP2002054526A (ja) * 2000-05-31 2002-02-20 Denso Corp インジェクタ用圧電体素子
JP4158338B2 (ja) * 2000-06-06 2008-10-01 株式会社デンソー インジェクタ用圧電体素子
DE10152490A1 (de) * 2000-11-06 2002-05-08 Ceramtec Ag Außenelektroden an piezokeramischen Vielschichtaktoren
JP3964184B2 (ja) * 2000-12-28 2007-08-22 株式会社デンソー 積層型圧電アクチュエータ
DE10206115A1 (de) * 2001-03-06 2002-09-19 Ceramtec Ag Piezokeramische Vielschichtaktoren sowie ein Verfahren zu ihrer Herstellung
DE10307825A1 (de) * 2003-02-24 2004-09-09 Epcos Ag Elektrisches Vielschichtbauelement und Schichtstapel
ATE557426T1 (de) * 2003-12-26 2012-05-15 Murata Manufacturing Co Mehrschichtiges piezoelektrisches bauelement mit dickfilm-aussenelektrode
US7385337B2 (en) * 2004-06-18 2008-06-10 Tdk Corporation Multilayer piezoelectric element
DE102004047105A1 (de) * 2004-09-29 2006-05-24 Robert Bosch Gmbh Piezoaktor mit spannungsabbauenden Strukturen
ATE538502T1 (de) * 2005-02-15 2012-01-15 Murata Manufacturing Co Mehrschichtiges piezoelektrisches bauelement
JP2006303044A (ja) * 2005-04-18 2006-11-02 Denso Corp 積層型圧電体素子

Cited By (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7358655B2 (en) 2003-02-24 2008-04-15 Epcos Ag Electrical multilayered component and layer stack
JP2006518934A (ja) * 2003-02-24 2006-08-17 エプコス　アクチエンゲゼルシャフト 電気的な多層構成部材及び層スタック
WO2004077583A1 (de) 2003-02-24 2004-09-10 Epcos Ag Elektrisches vielschichtbauelement und schichtstapel
WO2006111206A1 (de) * 2005-04-20 2006-10-26 Siemens Aktiengesellschaft Piezoaktor und verfahren zu seiner herstellung
JP2006303319A (ja) * 2005-04-22 2006-11-02 Tdk Corp 積層型圧電素子
EP1764844A1 (de) * 2005-09-16 2007-03-21 Delphi Technologies, Inc. Piezoelektrischer Aktor
WO2007031700A1 (en) * 2005-09-16 2007-03-22 Delphi Technologies, Inc. Piezoelectric actuator
EP1944813A1 (de) * 2005-09-16 2008-07-16 Delphi Technologies, Inc. Piezoelektrischer Aktor
EP1821341A1 (de) * 2006-02-16 2007-08-22 Siemens Aktiengesellschaft Elektrische Anordnung mit einer Drahtverbindungsanordnung und Verfahren zum Herstellen einer derartigen elektrischen Anordnung
WO2007118879A1 (de) 2006-04-19 2007-10-25 Robert Bosch Gmbh PIEZOAKTOR MIT AUßEN KONTAKTIERTEN INNENELEKTRODEN EINES PIEZOELEMENTS
US7679273B2 (en) * 2006-07-31 2010-03-16 Delphi Technologies, Inc. Strain tolerant metal electrode design
EP1978568A1 (de) * 2007-02-19 2008-10-08 Siemens Aktiengesellschaft Piezokeramischer Vielschichtaktor und Herstellungsverfahren dafür
EP1978569A1 (de) * 2007-02-19 2008-10-08 Siemens Aktiengesellschaft Piezokeramischer Mehrschichtaktor und Verfahren zur Herstellung eines piezokeramischen Mehrschichtaktors
US7851974B2 (en) 2007-02-19 2010-12-14 Siemens Aktiengesellschaft Piezoceramic multilayer actuator manufactured according to particular sintering parameters and corresponding method of manufacturing
EP1978567A1 (de) * 2007-02-19 2008-10-08 Siemens Aktiengesellschaft Piezokeramischer Mehrschichtaktor und Verfahren zur Herstellung eines piezokeramischen Mehrschichtaktors
US7948150B2 (en) 2007-02-19 2011-05-24 Siemens Aktiengesellschaft Piezoceramic multilayer actuator and method of manufacturing a piezoceramic multilayer actuator
US7843114B2 (en) 2007-02-19 2010-11-30 Siemens Aktiengesellschaft Piezoceramic multilayer actuator and method of manufacturing a piezoceramic multilayer actuator
WO2008119702A1 (de) * 2007-03-30 2008-10-09 Siemens Aktiengesellschaft Piezoelektrisches bauteil mit sicherheitsschicht und infiltrationsbarriere und verfahren zu dessen herstellung
US8264125B2 (en) 2007-03-30 2012-09-11 Siemens Aktiengesellschaft Piezoelectric component comprising a security layer and an infiltration barrier and a method for the production thereof
DE102007037500A1 (de) * 2007-05-11 2008-11-13 Epcos Ag Piezoelektrisches Vielschichtbauelement
US7982373B2 (en) 2007-05-11 2011-07-19 Epcos Ag Piezoelectric multilayer component
WO2009090142A1 (de) * 2008-01-14 2009-07-23 Robert Bosch Gmbh Piezoelektrischer aktor
DE102008052914A1 (de) * 2008-08-01 2010-04-08 Epcos Ag Piezoaktor mit Sollbruchschicht
US8304963B2 (en) 2008-08-01 2012-11-06 Epcos Ag Piezoactuator with a predetermined breaking layer
WO2011095481A1 (de) * 2010-02-02 2011-08-11 Epcos Ag Piezoelektrisches bauelement
JP2013519223A (ja) * 2010-02-02 2013-05-23 エプコス アーゲー 圧電コンポーネント
US9130152B2 (en) 2010-02-02 2015-09-08 Epcos Ag Piezoelectric component
WO2020161353A1 (de) 2019-02-08 2020-08-13 Pi Ceramic Gmbh Verfahren zur herstellung eines piezoelektrischen stapelaktors und piezoelektrischer stapelaktor
US12010922B2 (en) 2019-02-08 2024-06-11 Pi Ceramic Gmbh Method for producing a piezoelectric stack actuator, and piezoelectric stack actuator

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