Filtre à résonateur supraconducteur ayant une fréquence de résonance réglable.
La présente invention est relative aux filtres à résonateurs supraconducteurs ayant des fréquences de résonance réglables.
On connaît dans l'art antérieur de nombreux filtres de ce type, dont les résonateurs présentent l'avantage d'avoir un coefficient de qualité très élevé du fait de l'utilisation de matériaux supraconducteurs, ce qui permet notamment d'obtenir de très fortes pentes de coupure en fréquence et donc des filtres très sélectifs.
Toutefois, le problème du réglage de la fréquence centrale de résonance de tels filtres et de leur bande passante n'a jamais été résolu de façon satisfaisante.
Ainsi, par exemple, le document US-A-6 360 112 décrit un filtre connu de ce type qui fait appel à des pièces mécaniques mobiles pour accorder la fréquence de résonance. De tels moyens de réglage sont toutefois peu fiables et peuvent être instables dans le temps notamment lorsque le dispositif auquel appartient le filtre est soumis à des vibrations ou à des variations de température. En outre, ils sont fastidieux et lents à mettre en œuvre, ce qui exclut tout réglage dynamique de la fréquence de résonance.
D'autres solutions tout aussi peu satisfaisantes ont également été essayées dans l'art antérieur pour régler la fréquence de résonance de filtres à résonateurs supraconducteurs, notamment l'utilisation de matériaux ferroélectriques dont on fait changer la permittivité par application d'un champ électrique réglable (voir par exemple le document US-A-5 935 910) , mais toutes les solutions proposées souffrent de graves problèmes (en particulier l'utilisation de tels matériaux augmente les pertes par absorption des ondes électromagnétiques de haute fréquence, ce qui a pour effet de réduire le coefficient de
surtension du résonateur, en allant ainsi à l' encontre des avantages procurés par l'emploi du matériau supraconducteur .
La présente invention a notamment pour but de proposer un filtre comprenant au moins un résonateur supraconducteur dont la fréquence de résonance soit réglable aisément et très rapidement, de façon fiable et stable, sans augmenter sensiblement l'encombrement et la masse du filtre et sans introduire de pertes électromagnétiques supplémentaires.
A cet effet, selon l'invention, un filtre du genre en question est caractérisé en ce que le résonateur inclut au moins un élément actif qui comprend au moins une partie commutable adaptée pour être commandée par effet de champ, au moyen d'un champ électrique, pour être soit supraconductrice, soit non supraconductrice dans des conditions de température prédéterminées, le résonateur ayant une première fréquence de résonance lorsque la partie commutable dudit élément actif est supraconductrice et une deuxième fréquence de résonance lorsque ladite partie commutable de l'élément actif est non supraconductrice, et le filtre comportant en outre au moins un dispositif de commande électronique à effet de champ adapté pour appliquer une partie commutable en champ électrique, pour rendre ladite partie commutable de l'élément actif soit supraconductrice, soit non supraconductrice.
Grâce à ces dispositions, la fréquence de résonance du résonateur est réglable de façon précise, fiable, rapide, aisée et stable. Ce réglage peut être effectué lors de la fabrication ou de la mise en place du filtre dans une installation, et/ou de façon dynamique en cours d' utilisation.
Le filtre selon l'invention peut être utilisé notamment : - dans les stations de base de téléphonie cellulaire,
dans les récepteurs radio à très haute sélectivité, dans toutes les applications nécessitant une agilité en fréquence, notamment pour assurer une réduction de la sensibilité au bruits électromagnétiques ou pour assurer une discrétion ou une immunité aux contre-mesures, en technique radar ou radio.
Dans des modes de réalisation préférés de l'invention, on peut éventuellement avoir recours en outre à l'une et/ou à l'autre des dispositions suivantes : le résonateur inclut un nombre n au moins égal à 2 d'éléments actifs commandés par n dispositifs électroniques de commande permettant d'obtenir au moins n+1 fréquences de résonance différentes ; - le résonateur inclut des lignes supraconductrices couplées électromagnétiquement les unes aux autres, lesdites lignes supraconductrices incluant au moins une ligne active qui comprend au moins un élément actif adapté pour faire varier une longueur supraconductrice de ladite ligne active ; ladite ligne active est couplée à une ligne supraconductrice adjacente par une certaine zone de couplage, ledit élément actif appartenant à ladite zone de couplage et étant adapté pour faire varier une longueur de couplage supraconductrice entre ladite ligne active et ladite ligne supraconductrice adjacente ; ladite zone de couplage de la ligne active comprend plusieurs éléments actifs adaptés pour faire varier par incréments la longueur de couplage supraconductrice de ladite zone de couplage ; le résonateur comprend plusieurs lignes actives ; la partie commutable dudit élément actif appartient à la ligne active ; - la ligne active comprend au moins une zone de supraconductivité permanente dans lesdites conditions de
température prédéterminées et la partie commutable dudit élément actif est dopée chimiquement de façon différente de ladite zone de supraconductivité permanente pour ne pas être à l'état supraconducteur en l'absence de champ appliqué par le dispositif de commande dans lesdites conditions de température prédéterminées ; le dispositif de commande dudit élément actif comprend une première électrode en contact avec ladite partie commutable et une deuxième électrode isolée de ladite partie commutable, pour pouvoir sélectivement doper ou non la partie commutable par effet de champ lorsqu'une différence de potentiel électrique est appliquée entre les première et deuxième électrodes ; le dispositif de commande dudit élément actif comporte en outre une troisième électrode en contact avec la zone commutable de l'élément actif, les première et deuxième électrodes étant en contact avec deux zones de supraconductivité permanente de la ligne active qui sont reliées entre elles par ladite partie commutable (cette zone commutable constitue alors avec les première, deuxième et troisième électrodes un transistor supraconducteur à effet de champ) .
D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront au cours de la description suivante d'une de ses formes de réalisation, donnée à titre d'exemple non limitatif, en regard des dessins joints. Sur les dessins : la figure 1 est une vue schématique d'un exemple de filtre à résonateur supraconducteur selon une forme de réalisation de l'invention, le résonateur de ce filtre comprenant une série de lignes supraconductrices couplées les unes aux autres électromagnétiquement, la figure 2 est une vue en coupe agrandie d'une des lignes supraconductrices appartenant au résonateur du filtre de la figure 1, et la figure 3 est une vue similaire à la figure
2, dans une deuxième forme de réalisation de l'invention.
Sur les différentes figures, les mêmes références désignent des éléments identiques ou similaires.
Le filtre électronique 1 représenté sur la figure 1 comprend au moins un résonateur 2 (ou plusieurs résonateurs, similaires ou non, permettant d'obtenir un gabarit de filtre souhaité) qui est constitué par une série de lignes supraconductrices 3 couplées électromagnétiquement les unes aux autres, ces lignes supraconductrices étant déposées sur un substrat diélectrique 4 d'épaisseur d et de permittivité diélectrique relative ε. L'épaisseur d peut être comprise par exemple entre 10 μm et 1 mm, notamment de l'ordre de 300 μm, et la permittivité relative ε peut être comprise par exemple entre 2 et 100, notamment entre 2 et 10.
Dans l'exemple particulier considéré ici, toutes les lignes supraconductrices 3 sont sensiblement de même longueur L, ces lignes s'étendent sont toutes parallèles et disposées à espacements réguliers e en étant décalées successivement l'une par rapport à l'autre d'une longueur L' sensiblement égale à L/2 dans leur direction longitudinale, toujours dans le même sens X. Chaque ligne supraconductrice 3 s'étend dans le sens X entre une première extrémité située en regard de la ligne supraconductrice 3 précédente (sauf pour la première ligne supraconductrice) , et une deuxième extrémité située en regard de la ligne supraconductrice 3 suivante (sauf pour la dernière ligne supraconductrice) .
Comme il sera expliqué ci-après, la longueur supraconductrice des lignes 3 est réglable autour d'une longueur L0 moyenne, entre une longueur supraconductrice minimale et une longueur supraconductrice maximale égale à L.
Dans l'exemple considéré, le filtre est un filtre passe-bande à bande étroite centrée sur une fréquence fO
lorsque les lignes supraconductrices 3 sont supraconductrices sur la longueur L0. La longueur L0 de chaque ligne supraconductrice 3 vaut par exemple λ0/2, où λO est la longueur d'onde correspondant à la fréquence fO susmentionnée (λO = v/fO, où v est la célérité des ondes électromagnétiques dans le substrat diélectrique 4, célérité qui dépend en particulier de la permittivité ε du substrat) .
Toujours dans l'exemple considéré : - le décalage L' entre deux bandes supraconductrices 3 successives est d'environ λO/4, de sorte que la longueur de recouvrement entre deux lignes supraconductrices successives 3 est également de l'ordre de λO/4, lorsque les lignes 3 sont supraconductrices sur toute leur longueur, l'espacement e entre deux lignes supraconductrices 3 successives peut être notamment compris entre 10 μm et 1 mm et par exemple de l'ordre 150 μm, et la largeur 1 des lignes supraconductrices peut être notamment compris entre 10 μm et 1 mm et par exemple de l'ordre de 150 μm.
Bien entendu, l'espacement e entre deux lignes supraconductrices 3 et la largeur 1 des lignes supraconductrices 3 pourrait varier d'une ligne supraconductrice à l'autre.
La première extrémité de la première ligne supraconductrice 3 est reliée électriquement à une borne de connexion d'entrée 5a, tandis que la deuxième extrémité de dernière ligne supraconductrice 3 est reliée à une borne de connexion de sortie 5b.
En fonctionnement, le filtre est maintenu à une certaine température T0, par des moyens connus.
La ligne supraconductrice 3 qui est reliée à la borne de sortie 5b peut être constituée entièrement d'une zone S qui est dopée chimiquement et/ou par effet de champ
en permanence, de façon que toute cette ligne 3 soit à l'état supraconducteur lorsque le filtre 1 est maintenu à ladite température T0.
Les autres lignes supraconductrices 3, appelées ci- après "lignes actives" par souci de clarté, comprennent également une zone S qui est en permanence à 1 ' état supraconducteur à la température T0 et qui s ' étend dans le sens X depuis leur première extrémité, mais cette zone S s'interrompt avant la deuxième extrémité de la ligne 3. Entre la fin de cette zone S et la deuxième extrémité de la ligne 3 considérée, lesdites lignes actives comprennent également des zones successives Al, A2... An qui constituent des éléments actifs pouvant être commandés électriquement par dopage par effet de champ pour être soit à l'état non supraconducteur, soit à l'état supraconducteur à la température T0 à laquelle est maintenue le filtre 1. Ces éléments actifs Ai-An sont disposés en regard de la zone S de la ligne supraconductrice 3 suivante. Le nombre n est un entier au moins égal à 1 et de préférence au moins égal à 2, avantageusement supérieur à 10 et encore plus préférentiellement supérieur à 100.
Dans l'exemple considéré, les n éléments actifs de chaque ligne active constituent des zones successives ayant toutes une même longueur δ dans la direction X (mais ces zones pourraient avoir des longueurs δ différentes) . Les éléments actifs Ai-An peuvent être par exemple commandés tous de la même façon et en synchronisme sur l'ensemble des lignes actives.
On peut ainsi faire varier à volonté la longueur supraconductrice effective Li des lignes actives 3 par incréments de δ à partir de leur première extrémité et par voie de conséquence leur fréquence de résonance fi. On peut aussi faire varier la longueur de couplage Ci (c'est-à-dire la longueur de recouvrement supraconductrice) entre deux lignes supraconductrices successives, par incréments de δ.
Ces variations permettent de régler la fréquence de résonance fi du résonateur 2 (à une valeur éventuellement différente de fO) , et également la bande passante du filtre
1. Ce réglage est effectué de façon simple, précise et très rapide.
A titre d'exemple, la longueur L0 peut être de l'ordre de 25 mm pour un filtre travaillant à des fréquences de l'ordre de 2 GHz, et la longueur δ peut être de l'ordre de 1 μm à 1 mm pour ces fréquences (par exemple environ 10 à 200 μm.
On notera que chaque élément actif Ai-An pourrait le cas échéant comprendre, en série, une zone de matériau supraconducteur qui ne passe à l'état supraconducteur à la température T0 que par effet de champ, et une zone similaire aux zones S susmentionnées, qui reste en permanence à l'état supraconducteur à la température T0.
On notera également que les éléments actifs Ai-An pourraient être disposés aux premières extrémités des lignes 3 (sauf de la première) plutôt qu'aux deuxièmes extrémités.
La structure d'une ligne supraconductrice 3 est représentée plus en détails sur la figure 2. Cette ligne supraconductrice 3 peut avantageusement être une couche mince déposée sur le substrat 4 par épitaxie par jet moléculaire ("MBE"), sur une épaisseur h qui peut par exemple être de l'ordre de quelques nanomètres, par exemple 1 à 100 nm.
Le matériau constitutif de la ligne supraconductrice 3 peut être par exemple le matériau divulgué dans la demande de brevet français n° 02 00936 déposée le 25 janvier 2002 au nom de la Société INTICI, ce matériau étant dopé chimiquement de façon différente dans la zone S susmentionnée qui reste en permanence à l'état supraconducteur à la température T0 et dans la zone 3a qui correspond aux éléments actifs Ai-An (figure 2) .
Dans cet exemple, le substrat 2 peut être constitué par exemple de titanate de strontium SrTi03 orienté (100) ou d'oxyde de magnésium (MgO) , tandis que la couche de matériau actif 10 peut être constituée notamment d'une phase de cuprate de calcium CaCu02 dite phase infinie, dans laquelle sont inclus des réservoirs de charges, répartis de façon homogène et constitués par exemple d'oxyde de strontium SrO et d'oxyde de bismuth BiO.
Pour plus de détails sur la phase de cuprate de calcium CaCu02 dite phase infinie, on se reportera par exemple à l'article de revue "The infinité layer family of superconducting cuprates" [M. Laguës, CF. Beuran, C. Coussot, C. Deville Cavellin, B. Eustache, C. Hatterer, P. Laffez, V. airet, X.M. Xie and X.Z. Xu, Cohérence in superconductors, p70, Ed. G. Deutscher & A. Revcoleschi (World Scientific 1996)].
Les réservoirs de charges fournissent des charges, électrons ou trous, susceptibles de doper la phase conductrice du matériau constituant les lignes supraconductrices 3.
Le niveau de ce dopage dépend notamment : de la concentration en réservoirs de charges dans le matériau constituant les lignes supraconductrices 3
(il s'agit d'un dopage que l'on peut appeler dopage chimique, puisque dépendant de la constitution du matériau) , et de l'application éventuelle d'un champ notamment électrique dans le matériau (dopage par effet de champ), comme décrit notamment par J.H. Schon et al. ("Superconductivity in CaCu02 as a resuit of field-effect doping", Nature, Vol.414, page 434, Nov. 2001 et "Field- Induced Superconductivity in a Spin-Ladder Cuprate", Science, Vol. 293, pages 2430-2432, Sept. 2001).
La température de transition entre les états supraconducteur et non supraconducteur de la phase cuprate
varie en fonction de son niveau de dopage par des porteurs de charges, électrons ou trous. Ainsi : le niveau de dopage chimique dans les zones S est choisi de façon que ces zones S soient à l'état supraconducteur à la température T0 à laquelle est maintenu le filtre 1, comme déjà indiqué ci-dessus, et dans les zones 3a (dites zones commutables) des éléments actifs Ai-An, le niveau de dopage chimique est adapté pour que le matériau soit normalement, à la température T0, non supraconducteur mais proche de la transition de l'état non supraconducteur à l'état supraconducteur : un dopage additionnel par effet de champ dans ces zones 3a provoque donc la transition du matériau de son état non supraconducteur à son état supraconducteur.
A titre d'exemple, pour une température T0=40K, le matériau des zones S peut être dopé chimiquement à 0,1 porteur de charges par maille Cu02 de façon à être en permanence supraconducteur, tandis que le matériau des zones 3a peut être dopé chimiquement à un niveau de dopage de 0,05 porteur de charges par maille Cu02, l'application d'un champ électrique (par exemple de l'ordre de quelques 106 à 109 Volts/m) permet d'augmenter le niveau de dopage jusqu'à 0,1 porteur de charges par maille Cu02, en passant de l'état non supraconducteur à l'état supraconducteur.
Dans l'exemple représenté sur la figure 2, le champ électrique est appliqué dans chaque zone Al, A2, ... Ai, ... An par un dispositif de commande 6 à effet de champ qui comprend deux électrodes 7, 8. Chacune de ces deux électrodes 7, 8 peut être constituée par exemple par une couche mince d'or ou autre matériau conducteur déposé notamment par épitaxie par jet moléculaire sur la ligne supraconductrice 3, sur une épaisseur qui peut typiquement être comprise par exemple entre 10 et 1000 nm, notamment de l'ordre de 100 nm.
Dans l'exemple considéré, l'électrode 7 est déposée directement sur la ligne supraconductrice 3 correspondante, tandis que l'électrode 8 est isolée de ladite ligne supraconductrice et de l'autre électrode 7 par une couche mince de matériau isolant, par exemple de l'alumine AL203 ou du titanate de strontium SrTi03, ou autre, déposé notamment par épitaxie par jet moléculaire.
Les deux électrodes 7, 8 de chaque dispositif de commande 6 sont reliées à des moyens de commandes extérieurs (non représentés) par des lignes conductrices
(également non représentées) qui sont déposées sur le substrat 4 selon des techniques connues dans la réalisation de circuits électroniques. Ces moyens de commandes extérieurs permettent de mettre les électrodes 7, 8 de chaque dispositif de commande 6, soit au même potentiel électrique, auquel cas la zone de matériau 3a de l'élément actif Ai correspondant est à l'état non supraconducteur, soit à des potentiels électriques différents permettant d'appliquer au matériau de la zone commutable 3a correspondante un champ électrique faisant passer cette zone de l'état non supraconducteur à l'état supraconducteur .
On notera que les électrodes 7, 8 des éléments actifs successifs doivent être connectées de façon que les potentiels des électrodes successives 7, 8 , 7, etc. soient alternés sur toute la longueur Li de la ligne 3 qui doit être à l'état supraconducteur (autrement dit toutes les électrodes 7 sont à un premier potentiel et toutes les électrodes 8 sont à un deuxième potentiel sur toute cette longueur supraconductrice Li, allant de la première extrémité de la ligne 3 à l'élément actif Ai).
En variante, comme représenté sur la figure 3, chaque élément actif Ai pourrait comprendre, en série dans le sens X susmentionné : - une zone commutable 3a de la ligne
supraconductrice 3 qui est normalement à 1 ' état non supraconducteur à la température T0 en l'absence de champ électrique appliqué, comme déjà explicité ci-dessus en regard de la figure 2, - et une zone de supraconductivité permanente 3b de la ligne supraconductrice 3 qui est similaire à la zone S susmentionnée et qui est en permanence à l'état supraconducteur à la température T0.
De plus, chaque élément actif Ai de ce deuxième mode de réalisation comporte un dispositif de commande 11 qui comprend : une première électrode 12, déposée directement sur la ligne supraconductrice 3, à cheval sur la zone 3a de l'élément actif Ai considéré et sur la zone 3b de l'élément actif précédent Ai-1 (ou, lorsque i=l, à cheval sur la zone 3a de l'élément actif Al et sur la zone S de la ligne supraconductrice) , une électrode 13 déposée directement sur la ligne supraconductrice 3 à cheval sur les zones 3a et 3b de l'élément actif Ai, et une électrode 14 déposée entre les électrodes 12 et 13 mais isolée desdites électrodes et de la ligne supraconductrice 3 par une couche isolante 15.
Les électrodes 12, 13, 14 et la couche isolante 15 sont similaires aux électrodes 7, 8 et à la couche isolante 9 décrites ci-dessus en regard de la figure 2, et sont reliées de façon analogue à un dispositif de commande électronique extérieur (non représenté) .
Le dispositif de commande 11 constitue, avec la zone 3a correspondante, un transistor supraconducteur à effet de champ dont la source est constituée par exemple par l'électrode 12, dont le drain est constitué par exemple par l'électrode 13 et dont la grille est constituée par l'électrode 14, le canal de ce transistor à effet de champ étant constitué par la zone commutable 3a susmentionnée.
Ainsi, à la température T0, tant que les électrodes 12 et 14 sont au même potentiel, la zone commutable 3a reste à l'état non supraconducteur et l'élément actif Ai se comporte comme une coupure de la ligne supraconductrice 3. En revanche, lorsqu'une différence de potentiel est appliquée entre les électrodes 12 et 14, la zone de matériau 3A devient supraconductrice et le transistor supraconducteur à effet de champ constitué par le dispositif de commande 11 et la zone de matériau 3a devient passant, de sorte que l'élément actif Ai devient supraconducteur dans son ensemble et ne se comporte plus comme une coupure de la ligne supraconductrice 3.
On notera que, dans la deuxième forme de réalisation de l'invention représentée sur la figure 3, il serait possible de réaliser des transistors supraconducteurs à effet de champ qui relient entre elles la zone S et les différentes zones 3b d'une même ligne supraconductrice 3 active, autrement que par des zones de la ligne 3 ayant un dopage chimique différent du reste de la ligne 3. En particulier, les transistors supraconducteurs à effet de champ en question pourraient être constitués par des couches de matériau distinctes de la couche constituant la ligne 3, auquel cas les zones S et 3B de chaque ligne supraconductrice 3 serait séparée les unes des autres et reliées les unes aux autres par les transistors supraconducteurs à effet de champ.
Dans tous les exemples décrits ci-dessus, le matériau supraconducteur pourrait éventuellement être à l'état supraconducteur en l'absence de champ électrique, et non supraconducteur en présence du champ électrique de commande .
Par ailleurs, on notera également que l'ordre de dépôt des différentes couches susmentionnées pourrait être modifié sans pour autant sortir du cadre de l'invention : en particulier, les électrodes 7, 8, 12, 13 et 14
pourraient être déposées sur le substrat 4, les lignes supraconductrices 3 étant alors déposées au dessus de ces électrodes, avec interposition des couches isolantes 9, 15, selon le cas. Enfin, on notera que l'invention n'est pas limitée à exemple particulier de résonateur représenté sur les dessins. En particulier, l'invention est également applicable à un résonateur constitué de lignes supraconductrices couplées électromagnétiquement les unes aux autres, mais présentant des formes autres que rectilignes. Plus généralement, l'invention s'appliquerait également à tout autre résonateur supraconducteur qui pourrait être raccordé sélectivement à des composants tels que capacités, selfs ou autres par des éléments actifs supraconducteurs similaires à ceux décrits ci-dessus afin de modifier sa fréquence de résonance.