WO2004019659A1 - 有機el装置及びその製造方法 - Google Patents

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WO2004019659A1
WO2004019659A1 PCT/JP2003/010346 JP0310346W WO2004019659A1 WO 2004019659 A1 WO2004019659 A1 WO 2004019659A1 JP 0310346 W JP0310346 W JP 0310346W WO 2004019659 A1 WO2004019659 A1 WO 2004019659A1
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organic
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bank
gap
opening end
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Kota Yoshikawa
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/17Passive-matrix OLED displays
    • H10K59/173Passive-matrix OLED displays comprising banks or shadow masks
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/12Light sources with substantially two-dimensional [2D] radiating surfaces
    • H05B33/22Light sources with substantially two-dimensional [2D] radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/10Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
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    • H05B33/12Light sources with substantially two-dimensional [2D] radiating surfaces
    • H05B33/14Light sources with substantially two-dimensional [2D] radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source

Definitions

  • the present invention relates to an organic EL device using a polymer material as an organic EL light emitting material, and an efficient manufacturing method thereof.
  • An organic EL device is a solid-state light-emitting device that can be driven at a lower voltage than an inorganic EL device, and can be manufactured without a complicated growth process as compared with a conventional inorganic EL device.
  • organic EL devices when applied to portable displays, are self-luminous and do not require a backlight, especially when compared to liquid crystal displays (LCDs), realizing lightweight and low-cost products. It is possible, and has the advantages such as fast response speed and strong impact because it is an all solid state device.
  • Organic EL devices are expected to be applied to flat panel displays and the like.
  • monomer-based materials and polymer-based materials are known as EL luminescent materials used in organic EL devices.
  • the monomer-based material is formed by vacuum evaporation, and the polymer-based material is formed by a coating method.
  • the film formation of the polymer-based material is practical because it does not require an expensive apparatus. It can be said that
  • the EL light emitting materials that emit light of three primary colors of blue (B), green (G), and red (R) are finely painted, respectively.
  • B blue
  • G green
  • R red
  • the polymer-based material was separately applied by a vacuum evaporation method using a metal mask.
  • the processing dimensions of the metal mask are limited, and the alignment accuracy of the mask is increased. Is difficult, and as a result, There was a problem that the resolution of painting could not be increased, and the equipment became expensive.
  • the polymer-based material can be effectively used (the amount of waste is small), and a pixel pattern with higher definition can be formed as compared with a case where the metal material is separately applied.
  • the polymer material used as the EL light emitting material is filled in a space defined by partition walls of an insulating bank formed between the positive electrode and the negative electrode. It is necessary to eject and supply the ink jet ink from the nozzle head as the ink jet ink. However, since the opening of the gap is small, the ink jet ink cannot be reliably supplied into the predetermined gap. There were problems such as color shift and short-circuit between the positive electrode and the negative electrode.
  • An object of the present invention is to have a plurality of high-definition pixels, to have no problems such as color misregistration, short circuit between a positive electrode and a negative electrode, to easily enlarge a substrate, and to eliminate a large vacuum device.
  • the organic EL device of the present invention has a plurality of punctures disposed between a positive electrode and a negative electrode to insulate the positive electrode and the negative electrode, and an organic EL device is provided in a plurality of voids defined by partition walls of the bank.
  • An organic EL device comprising a material, wherein at least one of the gaps has a distance d on the opening end side between the puncture walls in the gaps, and has a distance d 'on the other side than the opening end side.
  • d> d is the distance on the other end side with respect to the open end side
  • d is the distance between partition walls of the bank in the gap. Satisfies d-0 gradually from the opening end side to the other end side.
  • the opening diameter of the gap gradually increases from the opening end side to the other end side, the ink jet ink as the EL light emitting material is filled in the gap. It is possible to easily and reliably spray and supply from the nozzle head.
  • the organic EL device As a result, in the organic EL device, a plurality of pixels have high definition, there are no problems such as color misregistration, a short circuit between the positive electrode and the negative electrode, the mass can be easily mass-produced, and the organic EL device can be suitably used as a display or the like. .
  • the method for manufacturing an organic EL device according to the present invention is a method for manufacturing an organic EL device according to the present invention.
  • a puncture is formed by a material selected from the photoresist and the heat-resistant polymer, and then the pattern of the bank is changed. Plasma treated. Then, the vicinity of the opening in the space defined by the partition of the pattern is cut off, and the opening diameter becomes larger than the bottom side of the space.
  • the method for manufacturing an organic EL device according to the present invention in the case of the above (1), first, a puncture is formed by a material selected from the photoresist and the heat-resistant polymer, and then the pattern of the bank is changed. Plasma treated. Then, the vicinity of the opening in the space defined by the partition of the pattern is cut off, and the opening diameter
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating an example of a puncture in a conventional organic EL device.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating an example of a puncture in a conventional organic EL device.
  • FIG. 2 is a schematic explanatory diagram for explaining an example of a bank in the organic EL device of the present invention.
  • 3A, 3B, 3C, 3D, 3E and 3F are schematic explanatory views for explaining an example of a method for manufacturing an organic EL device of the present invention.
  • 4A, 4B, 4C, 4D, 4 £, and 4 are schematic illustrations for explaining another example of the method for manufacturing the organic EL device of the present invention.
  • An organic EL device includes a plurality of banks disposed between a positive electrode and a negative electrode to insulate the positive electrode and the negative electrode, and the organic EL device emits organic EL light in a plurality of gaps defined by partition walls of the bank.
  • the material further includes other layers and members such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and a sealing material as needed.
  • the organic EL device of the present invention it is necessary that at least one of the plurality of voids satisfies the following condition, and it is preferable that 90% or more of all the voids satisfy the following condition. More preferably, the following conditions are satisfied.
  • the condition is that a distance at the opening end side between the partitions of the bank in the gap is d, a distance other than the opening end side is d ′, and a distance at the other end side with respect to the opening end side is d.
  • d a distance at the opening end side between the partitions of the bank in the gap
  • d ′ a distance other than the opening end side
  • d a distance at the other end side with respect to the opening end side
  • the diameter of the opening in the gap is larger at the other end than at the end of the opening, so that the ink jet ink as the organic EL light emitting material can be easily filled in the gap.
  • the organic EL device that can be housed in a stable and reliable manner, is excellent in manufacturing efficiency, and has high definition pixels and high quality.
  • the organic EL device of the present invention at least one of the plurality of voids exists. However, it is necessary to satisfy the following conditions, and it is preferable that 90% or more of all voids satisfy the following conditions, and it is more preferable that all voids satisfy the following conditions.
  • the condition is defined by a punctured partition having n steps, and a distance between the punctured partitions at the bottom of the n steps from the opening end side to the other end side.
  • the bank has a multi-stage structure, and is shaved from the opening end side toward the other end side.
  • the opening diameter is larger at the other end side than at the opening end side, an ink jet ink as an organic EL light emitting material can be easily and reliably accommodated in the gap, and the manufacturing efficiency is improved.
  • the organic EL device obtained is excellent in quality and has high definition pixels and high quality.
  • At least one of the plurality of gaps needs to satisfy the following conditions. It is preferable that 90% or more of all voids satisfy the following conditions, and it is more preferable that all voids satisfy the following conditions.
  • condition is a condition that the partition wall of the bank which is located closest to the other end side and forms a step where the distance between the partition walls of the puncture is the largest is tapered.
  • the opening of the puncture has a tapered shape with a large opening diameter
  • the ink jet ink as an organic EL luminescent material is provided in the space defined by the partition of the puncture.
  • the organic EL device that can easily and surely accommodate the OLEDs, has excellent manufacturing efficiency, and has high definition pixels and high quality.
  • the puncture has two or more steps and the gap is defined by partition walls of the bank
  • at least one of the plurality of gaps needs to satisfy the following conditions. It is preferable that 90% or more of all voids satisfy the following conditions, and it is more preferable that all voids satisfy the following conditions. That is, the condition is a condition that each step formed on the partition wall of the bank has a tapered shape.
  • the ink jet as the organic EL light emitting material is formed along a tapered partition having a large opening diameter formed in the opening of the bank, and then a tapered shape having a smaller opening diameter.
  • the organic EL device which can be easily and reliably accommodated in the space along the partition wall, has excellent manufacturing efficiency, and has high definition pixels and high quality.
  • a bank having two steps is preferable in terms of manufacturing efficiency and the like, and a partition in the bank having two steps is a two-step taper. It is more preferable to have a shape in that the organic EL light emitting material can be efficiently and reliably accommodated in the gap by the ink jet method.
  • the puncture preferably has a taper angle of the step bottom on the opening end side smaller than a taper angle of the step bottom on the other end side.
  • the organic EL luminescent material can be efficiently and reliably accommodated in the gap defined by the partition walls of the bank by an ink jet method.
  • the open end side is the positive electrode side and the other end side is the negative electrode side in terms of production efficiency and the like.
  • the bank may be formed of an insulating material that can be patterned, and is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.
  • a photoresist, a heat-resistant polymer, and an inorganic material are preferably used.
  • the photoresist is not particularly limited and may be appropriately selected from known photoresists according to the purpose. Examples thereof include a positive photoresist and a negative photoresist.
  • the heat-resistant polymer is not particularly limited and may be appropriately selected from known polymers in accordance with the intended use.
  • polyimide is preferably used.
  • the inorganic material is not particularly limited, and may be selected from known materials according to the purpose. For example, silicon nitride, silicon oxide, and the like are preferably used.
  • the puncture may be a laminated structure, and a preferable example of the laminated structure is a laminated structure of the silicon nitride and the silicon oxide.
  • the organic EL light-emitting material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.
  • the organic EL light-emitting material can be formed into a solution and sprayed from the nozzle head toward the gap by an inkjet method. And more preferably selected from polymer-based materials.
  • the polymer-based material is not particularly limited and can be appropriately selected from known materials used in a polymer organic EL device. Examples thereof include polyparaffinylene vinylene (PPV) and PV. .
  • a light-emitting layer is formed by the organic EL light-emitting material contained in the space, and a pixel is formed by each space having the light-emitting layer.
  • a full color display can be designed by appropriately selecting and combining an organic EL light emitting material accommodated in the gap from a red light emitting material, a green light emitting material, and a blue light emitting material.
  • the formation of the light emitting layer by the ink jet method can be performed by, for example, supplying the ink jet ink by spraying the ink jet toward the gap using a nozzle head, and then drying the ink jet ink as appropriate.
  • the thickness of the light emitting layer is preferably from 50 to 200 nm, more preferably from 70 to 150 nm.
  • the thickness of the light emitting layer is in the preferable numerical range, luminous efficiency, luminous luminance, and color purity of the organic EL device may be sufficient.
  • the organic EL device of the present invention includes the light emitting layer formed in a space defined by the partition wall of the bank between a positive electrode and a negative electrode, and the light emitting layer is appropriately selected according to the purpose. It may have a layer or a member.
  • the positive electrode is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. However, the positive electrode may be appropriately selected from the organic thin film layer, and more specifically, when the organic thin film layer has only the light emitting layer. When the organic thin film layer further has the hole transport layer, the hole transport layer is provided. When the organic thin film layer further has the hole injection layer, the hole injection layer is provided. (Carrier) is preferred.
  • the material of the positive electrode is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include metals, alloys, metal oxides, electrically conductive compounds, and mixtures thereof. Among them, a material having a work function of 4 eV or more is preferable. Specific examples of the material of the positive electrode include conductive metal oxides such as tin oxide, zinc oxide, indium oxide, and indium tin oxide (ITO); metals such as gold, silver, chromium, and nickel; and conductive metals such as these.
  • conductive metal oxides such as tin oxide, zinc oxide, indium oxide, and indium tin oxide (ITO)
  • metals such as gold, silver, chromium, and nickel
  • conductive metals such as these.
  • conductive metal oxides such as copper iodide and copper sulfide; organic conductive materials such as polyaniline, polythiophene, and polypyrrole; and laminates of these with ITO, etc. .
  • conductive metal oxides are preferable, and ITO is particularly preferable from the viewpoints of productivity, high conductivity, transparency, and the like.
  • the thickness of the positive electrode is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the material and the like.
  • the force is preferably from 30 to 500 nm, more preferably from 50 to 200 nm.
  • the positive electrode is usually formed on a substrate made of glass such as soda lime glass or non-alkali glass, or a transparent resin.
  • the above-mentioned soda lime glass coated with a barrier coat such as the alkali-free glass and silica is preferable from the viewpoint of reducing the ions eluted from the glass.
  • the thickness of the substrate is not particularly limited as long as it is a thickness sufficient to maintain mechanical strength, but when glass is used as the base material, it is usually 0.2 mm or more, and 0.7 mm or more. The above is preferred.
  • the positive electrode may be, for example, a vapor deposition method, a wet film formation method, an electron beam method, a sputtering method, a reactive sputtering method, an MBE (molecular beam epitaxy) method, a cluster ion.
  • a vapor deposition method a wet film formation method
  • an electron beam method a sputtering method, a reactive sputtering method
  • an MBE (molecular beam epitaxy) method a cluster ion.
  • the positive electrode can be subjected to washing or other treatment to lower the driving voltage of the organic EL device or increase the luminous efficiency.
  • the other treatment for example, when the material of the positive electrode is ITO, a UV-ozone treatment, a plasma treatment and the like are preferably exemplified.
  • the negative electrode is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.
  • the negative electrode may be appropriately selected from the organic thin film layer, and specifically, the organic thin film layer may include only the light emitting layer when the organic thin film layer has only the light emitting layer.
  • the organic thin film layer further has the electron transport layer, electrons are supplied to the electron transport layer, and when the organic thin film layer has an electron injection layer between the organic thin film layer and the negative electrode, electrons are supplied to the electron injection layer. Those that can do so are preferred.
  • the material of the negative electrode is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the adhesion between the layer or the molecule adjacent to the negative electrode such as the electron transport layer and the light emitting layer, ionization potential, stability, and the like. Examples thereof include metals, alloys, metal oxides, electrically conductive compounds, and mixtures thereof.
  • the material for the negative electrode include alkali metals (eg, Li, Na, K, Cs, etc.), alkaline earth metals (eg, Mg, Ca, etc.), gold, silver, lead, aluminum, Sodium-potassium alloy or a mixed metal thereof; lithium-aluminum alloy or a mixed metal thereof; magnesium-silver alloy or a mixed metal thereof; rare earth metals such as indium and ytterbium; and alloys thereof. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, a material having a work function of 4 eV or less is preferable, and aluminum, a lithium alloy or a mixed metal thereof, a magnesium silver alloy or a mixed metal thereof, and the like are more preferable.
  • alkali metals eg, Li, Na, K, Cs, etc.
  • alkaline earth metals eg, Mg, Ca, etc.
  • gold silver, lead, aluminum, Sodium-potassium alloy or a mixed metal thereof; lithium-alum
  • the thickness of the negative electrode is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the material of the negative electrode. 1 to: L0, OOO nm is preferable, and 20 to 200 nm is more preferable.
  • the negative electrode may be formed, for example, by a vapor deposition method, a wet film formation method, an electron beam method, a sputtering method, a reactive sputtering method, a MBE (molecular beam epitaxy) method, a cluster ion beam method, an ion plating method, a plasma polymerization method (high frequency). Excitation ion plating method), molecular lamination method, LB method, printing method, transfer method, etc., can be suitably formed.
  • the two or more materials may be simultaneously deposited to form an alloy electrode or the like, or an alloy electrode or the like may be formed by depositing a previously prepared alloy. It may be formed.
  • the resistance values of the positive electrode and the negative electrode are preferably low, and are preferably several hundreds,, /-or less.
  • the hole injection layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.
  • the hole injection layer preferably has a function of injecting holes from the positive electrode when an electric field is applied. .
  • the material for the hole injection layer is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.
  • P EDOT PSS (poly-3, 4-ethylenedioxythiophene doped with poly (styrene sulfonate), or Starburst tofumin (4, 4 ', 4 "-tris [3-methylphenyl (phenyl) amino] triphenylamine: m-MTDATA) represented by the formula, copper phthalocyanine, polyaniline, and the like.
  • the thickness of the hole injection layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose.
  • the thickness is preferably about 50 to 150 nm, and more preferably 70 to 100 nm.
  • the hole injection layer may be formed, for example, by a vapor deposition method, a wet film formation method, an electron beam method, a sputtering method, a reactive sputtering method, an MBE (molecular beam epitaxy) method, a cluster ion beam method, an ion plating method, or a plasma. It can be suitably formed by the above-mentioned methods such as a polymerization method (high-frequency excitation plating method), a molecular lamination method, an LB method, a printing method, and a transfer method.
  • the organic EL device of the present invention may have other layers or members appropriately selected according to the purpose.
  • the other layers include a protective layer and a sealing material.
  • the protective layer is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, molecules or substances such as moisture and oxygen that accelerate the deterioration of the organic EL device enter the organic EL device. What can suppress that is preferable.
  • the material of the protective layer for example, I n, S n, P b, Au, Cu, Ag, A 1, T i, metals such as N i, MgO, S i O , S i 0 2, A 1 2 0 3, Ge O, N i O, C a O, B aO, F e 2 0 3, Y 2 0 3, T i 0 metal oxides such as 2, S i N, such as S iN x 0 y nitride, Mg F 2, L i F , a l F 3, C a F 2 metal fluorides such as, polyethylene, polypropylene, polymethyl methacrylate Tari rate, Porii Mid, polyurea, polytetrafluoroethylene, polychlorinated trifluoroethylene, polydichlorodiphnoleoethylene, copolymer of chlorotrinoleoethylene and dichlorodifluoroethylene, tetrafluoroethylene and at least A copoly
  • the protective layer may be formed, for example, by vapor deposition, wet film formation, sputtering, reactive sputtering, MBE (molecular beam epitaxy), cluster ion beam, ion plating, or plasma polymerization (high frequency excitation ion plating). Forming method), a printing method, a transfer method, and the like.
  • the structure of the organic EL device of the present invention is not particularly limited, a force S that can be appropriately selected according to the purpose, and the layer structure thereof includes, for example, the following layer structures (1) to (13). That is, (1) positive electrode / hole injection layer / hole transport layer Z light emitting layer / electron transport layer Z electron injection layer / negative electrode; (2) positive electrode / hole injection layer Z hole transport layer / light emitting layer / Electron transport layer / negative electrode, (3) positive electrode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / negative electrode, (4) positive electrode / hole transport layer Z light emitting layer / electron transport layer / negative electrode, ( 5) Positive electrode / Hole injection layer / Hole transport layer / Emitting layer / Electron transport layer / Electron transport layer / Negative electrode, (6) Positive electrode / Hole injection layer / Hole transport layer Z Emitting layer / Electron transport layer / Negative electrode , (7) positive electrode / hole transport layer / light
  • the organic EL device has the hole blocking layer
  • a layer in which the hole blocking layer is disposed between the light emitting layer and the electron transport layer is preferably exemplified.
  • the organic EL device may be a single-color light-emitting device, a multi-color light-emitting device, or a full-color light-emitting device.
  • a method for making the organic EL device a full-color type for example, as described in “Monthly Display”, September 2000, pages 33 to 37, three primary colors ( An organic EL device that emits light corresponding to blue (B), green (G), and red (R) is arranged on a substrate.
  • the color conversion method of converting blue light from organic EL devices for blue light emission into red (R) and green (G) through a fluorescent dye layer is known.
  • the three-color emission method can be particularly preferably employed.
  • the driving mode of the organic EL device is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.
  • “Nikkei Electronitas”, No. 765, 2000 Driving modes such as a passive matrix panel, an active matrix panel, and the like, as described in the May 13 issue, pages 55 to 62, are preferably used.
  • the organic EL device of the present invention includes, for example, a computer, an in-vehicle display, an outdoor display, a household appliance, a commercial appliance, a household appliance, a traffic display, a clock display, a calendar display, and a luminescent screen. It can be suitably used in various fields such as audio equipment and the like.
  • the method for manufacturing an organic EL device according to the present invention is a method for manufacturing an organic EL device according to the present invention described above, wherein (1) after forming a bank pattern using a material selected from a photoresist and a heat-resistant polymer, It is characterized by performing a plasma treatment, or (2) performing an etching treatment after patterning a bank with an inorganic material.
  • the processes and steps other than the above (1) and (2) are not particularly limited, and can be appropriately selected from known methods according to the purpose.
  • a positive electrode patterning step a step of forming a hole transport layer on the positive electrode, a step of forming a light emitting layer on the hole transport layer, a step of forming an electron transport layer on the light emitting layer, and electron transport Forming a negative electrode on the layer.
  • (1) includes a bank forming step and a plasma processing step
  • (2) includes a puncture forming step and an etching step.
  • the bank forming step for example, a material selected from the above-described photoresist and heat-resistant polymer is applied on the positive electrode to form a coating film, or the above-described inorganic material is vapor-deposited.
  • This is a step of forming a bank by forming a deposited film by photolithography and then patterning it by photolithography.
  • the conditions for forming the bank are not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose.
  • the coating method is not particularly limited, and may be appropriately selected from known methods such as a spin coating method.
  • the vapor deposition method is not particularly limited, and can be appropriately selected from known methods such as the CVD method.
  • the conditions of the plasma treatment step are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.
  • the plasma treatment step is preferably performed using a plasma gas selected from oxygen plasma and fluorine-based plasma.
  • a plasma gas selected from oxygen plasma and fluorine-based plasma.
  • the bank is formed of a resin material such as polyimide, the puncture can be efficiently removed.
  • the conditions of the etching process are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.
  • the etching process is preferably performed using two or more kinds of etching gases. In this case, when the bank is formed of the inorganic material, the puncture can be efficiently removed.
  • etching gas CF 4/0 2 gas, etc. CF 4 gas is suitably elevation up.
  • etching process using two types of etching gas in the etching process
  • the etching rate of the surface layer is higher than the etching rate of the lower layer.
  • the nozzle head is formed from the nozzle head by an inkjet method using a nozzle head.
  • the solution containing the above-mentioned organic EL light emitting material (the above-mentioned ink jet ink) is jetted and supplied. Thereafter, by appropriately performing drying or the like, a light emitting layer of the organic EL light emitting material can be formed in the gap.
  • the organic EL device of the present invention is efficiently manufactured.
  • the vicinity of the opening (exposed end) in the puncture barrier is shaved as compared with the conventional puncture, and the bank barrier of the bank is used.
  • the opening diameter of the defined space is larger than the bottom side of the space. Therefore, the organic EL light-emitting material is supplied to the gap defined by the partition walls of the bank according to the present invention more easily and more reliably than the gap defined by the conventional bank partition walls.
  • the puncture when the puncture has a two-stage structure and each stage has a tapered structure, the puncture is defined by a partition of the bank from the nozzle head.
  • the droplets of the ink jet ink (containing the organic EL light emitting material) ejected (discharged) toward the gap are rolled down along the upper tapered structure, and then, when approaching the lower tapered structure, Sky It can be reliably dropped into the gap.
  • the organic EL device has a plurality of high-definition pixels, has no problems such as color misregistration, short circuit between the positive electrode and the negative electrode, and can be suitably used as a display or the like.
  • ITO 2 as a positive electrode (lower electrode) was formed on a glass substrate 1 to a thickness of 2,000 A (200 nm) by a sputtering method.
  • ITO 2 was processed into a stripe shape by photolithography and wet etching.
  • Polyimide 3 was formed to a thickness of 5,000 A (500 nm) on the ITO by spin coating, and then, as shown in FIG. 3B, a bank was formed by photolithography. A pattern was formed.
  • the bank pattern was processed by O 2 plasma for 3 minutes to form a two-stage tapered structure.
  • the ink jet ink (containing an organic EL luminescent material) is passed from the nozzle head toward the gap formed between the bank patterns, that is, the gap defined by the partition walls of the bank. 4) was ejected (discharged) by the inkjet method. Then, as shown in FIG. 3E, the inkjet ink 4 was accommodated in each gap.
  • a 1 Li 5 is used as a negative electrode (upper electrode) and a metal mask is used to cover the ink jet ink and the surface of the bank. It was deposited on a stripe so as to have a thickness of 1000 OA (300 nm) to form a film.
  • Example 2 As shown in FIG. 4A, ITO 2 as a positive electrode (lower electrode) was formed on a glass substrate 1 by a sputtering method so as to have a thickness of 2,000 A (200 nm). Next, ITO 2 was processed into a stripe shape by photolithography and wet etching.
  • the ink jet ink (containing an organic EL luminescent material) is directed from the nozzle head toward the gap formed between the puncture patterns, that is, the gap defined by the partition walls of the bank. 4) was ejected (discharged) by the inkjet method. Then, as shown in FIG. 4E, the inkjet ink was contained in each gap.
  • A1Li5 was used as a negative electrode (upper electrode) and 3,000 A (300 A) using a metal mask so as to cover the surface of the inkjet ink and the bank. (nm) to form a film.
  • the organic EL device manufactured as described above When a current was applied to the organic EL device manufactured as described above so that the A 1 Li side was a negative electrode and the ITO side was a positive electrode, EL emission was observed from the ITO side.
  • the present invention has a plurality of high-definition pixels, has no problems such as color misregistration, a short circuit between the positive electrode and the negative electrode, can easily increase the size of the substrate, does not require a large vacuum device, and the like. It is possible to provide an organic EL device which does not require mask alignment, has a high material use efficiency, can be easily mass-produced, has high quality, can be suitably used as a display, and an efficient manufacturing method thereof.

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Description

明 細 書 有機 E L装置及びその製造方法 技術分野 本発明は、 有機 E L発光材料として高分子材料を用いた有機 E L装置及びその 効率的な製造方法に関する。 背景技術 有機 E L装置は、 無機 E L素子と比較して低電圧で駆動でき、 また、 従来の無 機 L E Dと比較しても、 複雑な成長プロセスを経ることなく作製できる固体自発 光装置である。 また、 携帯用ディスプレイへの適用を考えた場合、 有機 E L装置 は、 特に液晶ディスプレイ (L C D ) と比較すると、 自発光であるためバックラ ィトが不要であり、 軽量でしかも低価格な製品が実現可能であり、 応答速度が速 く、 全固体素子であるため衝撃に強いなどの利点を有する。 有機 E L装置は、 フ ラットパネルディスプレイ等への適用が期待されている。
ところで、 有機 E L装置に用いられる E L発光材料としては、 モノマー系材料 とポリマー系材料とが知られている。 一般に、 前記モノマー系材料は真空蒸着に より成膜され、 前記ポリマー系材料は塗布法により成膜されるが、 前記ポリマー 系材料の成膜の方が高価な装置を必要としない点で実用的であると言える。
しかし、 前記 E L発光材料として前記ポリマー系材料を用いてフルカラーディ スプレイとする場合、 青 (B )、 緑 (G) 及び赤 (R) の 3原色の発光を示す E L 発光材料をそれぞれ精細に塗り分けて画素を形成するのが難しいという問題があ る。 従来においては、 一般にメタルマスクを用いて真空蒸着法により前記ポリマ 一系材料を塗り分けていたが、 この場合、 前記メタルマスクの加工寸法に限界が あり、 また、 該マスクの位置合わせ精度を上げることが困難であり、 その結果、 塗り分けの解像度を上げることができず、 装置も高価になってしまうという問題 があった。
そこで、 インクジエツト法により、 青 (B )、 緑 (G) 及ぴ赤 (R) の 3原色の 発光を示す前記ポリマー系材料をそれぞれ精細に塗り分けて画素を形成すること も考えられてきている。 この場合、 前記ポリマー系材料を有効に利用でき (無駄 な量が少なく)、,また、メタルマスクで塗り分けるよりも高精細な画素パターンを 形成できる。
し力 し、 インクジェット法により塗り分けをする際、 正極と負極との間に形成 された絶縁性のバンクの隔壁により画成された空隙内に、 前記 E L発光材料とし て用いる前記ポリマー系材料をインクジエツトインクとしてノズルへッドから噴 射させて供給する必要があるが、 前記空隙の開口部が小さいために、 所定の前記 空隙内に前記インクジエツトインクを確実に供給することができず、 色ずれが生 じたり、 前記正極と前記負極との短絡を生じてしまう等の問題があった。 発明の開示 本発明の目的は、 高精細な複数の画素を有し、 色ずれ、 正極及ぴ負極間の短絡 などの問題がなく、 基板の大型化が容易であり、 大型真空装置等が不要であり、 マスク合わせが不要であり、 材料の利用効率が高く、 簡便に量産可能で高品質で あり、 ディスプレイ等として好適に使用可能な有機 E L装置及びその効率的な製 造方法を提供することである。 本発明の有機 E L装置は、 正極と負極との間に配置されて該正極及ぴ該負極を 絶縁するパンクを複数有し、 該バンクの隔壁によって画成される複数の空隙内に 有機 E L発光材料を有してなる有機 E L装置であって、 少なくとも 1つの前記空 隙が、 該空隙における前記パンクの隔壁間の開口端側における距離を dとし、 該 開口端側以外における距離を d 'とし、該開口端側に対する他端側における距離を d,,とした時、 d > d "であり、 かつ前記空隙における前記バンクの隔壁間の距離 が前記開口端側から前記他端側に向かって漸次、 d— 0を満たすことを特徴 とする。 この有機 E L装置においては、 前記開口端側から前記他端側にかけて前 記空隙の開口径が漸次大きくなつているため、 該空隙内に、 前記 E L発光材料と してのィンクジエツトインクを容易にかつ確実にノズルへッドから噴射して供給 することができる。 その結果、 該有機 E L装置においては、 複数の画素が高精細 であり、 色ずれ、 正極及ぴ負極間の短絡などの問題がなく、 簡便に量産可能であ り、 ディスプレイ等として好適に使用できる。
本発明の有機 E L装置の製造方法は、 本発明の有機 E L装置の製造方法であつ て、本発明の有機 E L装置の製造方法においては、 (1 ) フォトレジスト及び耐熱 性ポリマーから選択される材料によりバンクをパターン形成した後、 プラズマ処 理を行う、 又は、 (2 ) 無機材料によりバンクをパターン形成した後、 エッチング 処理を行うことを特徴とする。 本発明の有機 E L装置の製造方法においては、 前 記 (1 ) の場合には、 まず、 前記フォトレジスト及び耐熱性ポリマーから選択さ れる材料によりパンクがパターン形成された後、 該バンクのパターンがプラズマ 処理される。 すると、 該パターンの隔壁により画成された空隙における開口部近 傍が削られ、 その開口径が該空隙における底部側よりも大きくなる。 また、 前記
( 2 ) の場合には、 まず、 前記無機材料によりパンクがパターン形成された後、 該パンクのパターンがエッチング処理される。 すると、 該バンクのパターンの隔 壁により画成された空隙における開口部近傍が削られ、 その開口径が該空隙にお ける底部側よりも大きくなる。 前記 (1 ) 及び前記 (2 ) のいずれの場合におい ても、 前記空隙における開口部近傍の開口径が大きくなつているため、 該空隙内 に容易にかつ確実に E L発光材料が供給される。 その結果、 高精細な複数の画素 を有し、 色ずれ、 正極及び負極間の短絡などの問題がなく、 ディスプレイ等とし て好適な本発明の有機 E L装置が効率よく製造される。 図面の簡単な説明 図 1は、 従来の有機 E L装置におけるパンクの一例を説明するための概略説明 図である。
図 2は、 本発明の有機 E L装置におけるバンクの一例を説明するための概略説 明図である。
図 3 A、 3 B、 3 C、 3 D、 3 E及ぴ 3 Fは、 本発明の有機 E L装置の製造方 法の一例を説明するための概略説明図である。
図 4 A、 4 B、 4 C、 4 D、 4 £及び4 は、 本発明の有機 E L装置の製造方 法の他の例を説明するための概略説明図である。 発明を実施するための最良の形態 ぐ有機 E L装置 >
本発明の有機 E L装置は、 正極と負極との間に配置されて該正極及ぴ該負極を 絶縁するバンクを複数有し、 該バンクの隔壁によって画成される複数の空隙内に 有機 E L発光材料を有してなり、 更に必要に応じて、 正孔注入層、 正孔輸送層、 電子輸送層、 電子注入層、 封止材などその他の層乃至部材を有してなる。
本発明の有機 E L装置においては、 複数存在する空隙の少なくとも 1つが、 以 下の条件を満たすことが必要であり、 全空隙の 9 0 %以上が以下の条件を満たす ことが好ましく、 全空隙が以下の条件を満たすことがより好ましい。
即ち、 前記条件とは、 前記空隙における前記バンクの隔壁間の開口端側におけ る距離を dとし、 該開口端側以外における距離を d 'とし、 該開口端側に対する他 端側における距離を d "とした時、 d > d "であり、 かつ前記空隙における前記バ ンクの隔壁間の距離が前記開口端側から前記他端側に向かって漸次、 d— d,≥ 0 を満たすという条件である。
この条件を満たす場合には、 前記空隙における開口径が前記開口端側よりも前 記他端側の方が大きくなつているため、 該空隙内に有機 E L発光材料としてのィ ンクジェットインクを容易にかつ確実に収容させることができ、製造効率に優れ、 しかも得られる有機 E L装置は、 高精細な画素を有し高品質である。
また、 本発明の有機 E L装置においては、 複数存在する空隙の少なくとも 1つ が、 以下の条件を満たすことが必要であり、 全空隙の 9 0 %以上が以下の条件を 満たすことが好ましく、 全空隙が以下の条件を満たすことがより好ましい。
即ち、 前記条件とは、 n段の段差を有するパンクの隔壁によって画成されてな り、 該 n段の段差底部における前記パンクの隔壁間の距離を開口端側から他端側 に向かって、 d l、 ο! 2、 · · ·、 d n— 1、 d n、 とした時、 d 1 > d 2 > · · · > d n— l > d n、 を満たすという条件である。
この条件を満たす場合には、 前記バンクが多段構造を有し、 前記開口端側から 前記他端側に向かってより削られており、 該バンクの隔壁によって画成される空 隙部においては、 その開口径が前記開口端側よりも前記他端側の方が大きくなつ ているため、 該空隙内に有機 E L発光材料としてのインクジエツトインクを容易 にかつ確実に収容させることができ、 製造効率に優れ、 しかも得られる有機 E L 装置は、 高精細な画素を有し高品質である。
前記バンクが 2段以上の段差を有し、 前記空隙が、 該パンクの隔壁により画成 されてなる場合には、 複数存在する該空隙の少なくとも 1つが、 以下の条件を満 たすことが必要であり、 全空隙の 9 0 %以上が以下の条件を瀹たすことが好まし く、 全空隙が以下の条件を満たすことがより好ましい。
即ち、 前記条件とは、 最も前記他端側に位置し、 前記パンクの隔壁間の距離が 最大である段差を形成する該バンクの隔壁がテーパー形状であるという条件であ る。
この条件を満たす場合には、 前記パンクの開口部が開口径の大きなテーパー形 状を有しているため、 該パンクの隔壁により画成される空隙内に有機 E L発光材 料としてのインクジエツトインクを容易にかつ確実に収容させることができ、 製 造効率に優れ、 しかも得られる有機 E L装置は、 高精細な画素を有し高品質であ る。
前記パンクが 2段以上の段差を有し、 前記空隙が、 該バンクの隔壁により画成 されてなる場合には、 複数存在する該空隙の少なくとも 1つが、 以下の条件を満 たすことが必要であり、 全空隙の 9 0 %以上が以下の条件を満たすことが好まし く、 全空隙が以下の条件を満たすことがより好ましい。 即ち、 前記条件とは、 前記バンクの隔壁に形成された各段がいずれもテーパー 形状であるという条件である。
この条件を満たす場合には、 前記有機 E L発光材料としてのインクジエツトイ ンクを、 前記バンクの開口部に形成された開口径の大きなテーパー形状の隔壁に 沿って、 次に、 より開口径の小さなテーパー形状の隔壁に沿って、 容易にかつ確 実に前記空隙内に収容させることができ、 製造効率に優れ、 しかも得られる有機 E L装置は、 高精細な画素を有し高品質である。
2段以上の段差を有する前記パンクの中でも、 本発明においては、 製造効率等 の点で、 2段の段差を有するバンクが好ましく、 該 2段の段差を有するバンクに おける隔壁が 2段のテーパー形状を有するのが、 インクジエツト法により該空隙 内に効率よくかつ確実に有機 E L発光材料を収容させることができる点でより好 ましい。
また、 前記バンクが 2段以上の段差を有する場合、 該パンクは、 前記開口端側 の段差底部のテーパー角が、 前記他端側の段差底部のテーパー角よりも小さくな つているのが好ましい。 この場合、 該バンクの隔壁により画成される空隙内に、 インクジエツト法により効率よくかつ確実に有機 E L発光材料を収容させること ができる。
なお、 本発明においては、 前記開口端側が正極側であり、 前記他端側が負極側 であるのが、 製造効率等の点で好ましい。
前記バンクとしては、 パターニング可能な絶縁材料で形成されていればよく、 特に制限はなく、 目的に応じて適宜選択することができるが、 フォトレジスト及 び耐熱性ポリマー、 無機材料などが好適に挙げられる。
前記フォトレジストとしては、 特に制限はなく、 公知のものの中から目的に応 じて適宜選択することができ、 例えば、 ポジ型フィ トレジスト、 ネガ型フオトレ ジスト、 などが挙げられる。
前記耐熱性ポリマーとしては、 特に制限はなく、 公知のものの中から目的に応 じて適宜選択することができ、 例えば、 ポリイミ ド、 などが好適に挙げられる。 前記無機材料としては、 特に制限はなく、 公知のものの中から目的に応じて適 宜選択することができ、 例えば、 窒化ケィ素、 酸化ケィ素などが好適に挙げられ る。
これらは、 1種単独で使用してもよいし、 2種以上を併用してもよい。 また、 前記パンクは、 積層構造体であってもよく、 該積層構造体としては、 前記窒化ケ ィ素と前記酸化ケィ素との積層構造体などが好適に挙げられる。
前記有機 E L発光材料としては、 特に制限はなく、 目的に応じて適宜選択する ことができるが、 溶液化されて、 インクジェット法によりノズルヘッドから前記 空隙に向けて噴射することができるものであるのが好ましく、 ポリマー系材料か ら選択されるのがより好ましい。
前記ポリマー系材料としては、 特に制限はなく、 高分子有機 E L装置において 使用されている公知のものの中から適宜選択することができるが、 例えば、 ポリ パラフエ二レンビニレン (P P V)、 P Vなどが挙げられる。
本発明においては、 前記空隙内に収容された前記有機 E L発光材料により発光 層が形成され、 該発光層を有する個々の空隙により画素が構成される。 ここで、 前記空隙内に収容させる有機 E L発光材料を、 赤色発光材料、 緑色発光材料、 青 色発光材料から適宜選択して組み合わせることにより、 フルカラーディスプレイ を設計ずることができる。
インクジェット法による前記発光層の形成は、 例えば、 ノズルヘッドを用いて 前記ィンクジェットインクを前記空隙に向けて嘖射させて供給した後、 適宜乾燥 等させることにより行うことができる。
前記発光層の厚みとしては、 5 0〜2 0 0 n mが好ましく、 7 0〜1 5 0 n m がより好ましい。
前記発光層の厚みが、 前記好ましい数値範囲であると、 該有機 E L装置による 発光効率 ·発光輝度 ·色純度が十分であることがある。
本発明の有機 E L装置は、 正極及ぴ負極の間に、 前記バンクの隔壁により画成 された空隙内に形成された前記発光層を有してなり、 目的に応じて適宜選択した 前期その他の層乃至部材を有していてもよい。
—正極 _ 前記正極としては、 特に制限はなく、 目的に応じて適宜選択することができる が、 前記有機薄膜層に、 具体的には該有機薄膜層が前記発光層のみを有する場合 には該発光層に、 該有機薄膜層が更に前記正孔輸送層を有する場合には該正孔輸 送層に、 該有機薄膜層が更に前記正孔注入層を有する場合には該正孔注入層に、 正孔 (キャリア) を供給することができるものが好ましい。
前記正極の材料としては、 特に制限はなく、 目的に応じて適宜選択することが できるが、 例えば、 金属、 合金、 金属酸化物、 電気伝導性化合物、 これらの混合 物などが挙げられ、 これらの中でも仕事関数が 4 e V以上の材料が好ましい。 前記正極の材料の具体例としては、 酸化スズ、 酸化亜鉛、 酸化インジウム、 酸 化インジウムスズ ( I T O ) 等の導電性金属酸化物、 金、 銀、 クロム、 ニッケル 等の金属、 これらの金属と導電性金属酸化物との混合物又は積層物、 ヨウ化銅、 硫化銅等の無機導電性物質、 ポリア二リン、 ポリチォフェン、 ポリピロール等の 有機導電性材料、 これらと I T Oとの積層物、 などが挙げられる。 これらは、 1 種単独で使用してもよいし、 2種以上を併用してもよい。 これらの中でも、 導電 性金属酸化物が好ましく、 生産性、 高伝導性、 透明性などの観点からは I T Oが 特に好ましい。
前記正極の厚みとしては、 特に制限はなく、 材料等により適宜選択可能である 力 3 0〜 5 0 0 n mが好ましく、 5 0〜 2 0 0 n mがより好ましい。
前記正極は、 通常、 ソーダライムガラス、 無アルカリガラス等のガラス、 透明 樹脂等の基板上に形成される。
前記基板として前記ガラスを用いる場合、 該ガラスからの溶出イオンを少なく する観点からは、 前記無アルカリガラス、 シリカなどのバリアコートを施した前 記ソーダライムガラスが好ましい。
前記基板の厚みとしては、 機械的強度を保つのに充分な厚みであれば特に制限 はないが、 該基材としてガラスを用いる場合には、 通常 0 . 2 mm以上であり、 0 . 7 mm以上が好ましい。
前記正極は、例えば、蒸着法、湿式製膜法、電子ビーム法、スパッタリング法、 反応性スパッタリング法、 M B E (分子線エピタキシー) 法、 クラスターイオン ビーム法、 イオンプレーティング法、 プラズマ重合法 (高周波励起イオンプレー ティング法)、 分子積層法、 L B法、 印刷法、 転写法、 化学反応法 (ゾルーゲル法 など) により該 I T Oの分散物を塗布する方法、 などの上述した方法により好適 に形成することができる。
前記正極は、 洗浄、 その他の処理を行うことにより、 該有機 E L装置の駆動電 圧を低下させたり、 発光効率を高めることも可能である。 前記その他の処理とし ては、 例えば、 前記正極の素材が I T Oである場合には、 U V—オゾン処理、 プ ラズマ処理などが好適に挙げられる。
""負極一
前記負極としては、 特に制限はなく、 目的に応じて適宜選択することができる が、 前記有機薄膜層に、 具体的には該有機薄膜層が前記発光層のみを有する場合 には該発光層に、 該有機薄膜層が更に前記電子輸送層を有する場合には該電子輸 送層に、 該有機薄膜層及ぴ該負極間に電子注入層を有する場合には該電子注入層 に、 電子を供給することができるものが好ましい。
前記負極の材料としては、 特に制限はなく、 前記電子輸送層、 前記発光層など の該負極と隣接する層乃至分子との密着性、 イオン化ポテンシャル、 安定性等に 応じて適宜選択することができ、 例えば、 金属、 合金、 金属酸化物、 電気伝導性 化合物、 これらの混合物などが挙げられる。
前記負極の材料の具体例としては、 アルカリ金属 (例えば L i、 N a、 K、 C sなど)、 アルカリ土類金属 (例えば M g、 C aなど)、 金、 銀、 鉛、 アルミニゥ ム、 ナトリウム一カリウム合金又はそれらの混合金属、 リチウム一アルミニウム 合金又はそれらの混合金属、 マグネシウム一銀合金又はそれらの混合金属、 イン ジゥム、 イッテルビウム等の希土類金属、 これらの合金、 などが挙げられる。 これらは 1種単独で使用してもよいし、 2種以上を併用してもよい。 これらの 中でも、 仕事関数が 4 e V以下の材料が好ましく、 アルミニウム、 リチウムーァ ルミニゥム合金又はそれらの混合金属、 マグネシゥムー銀合金又はそれらの混合 金属、 などがより好ましい。
前記負極の厚みとしては、 特に制限はなく、 該負極の材料等に応じて適宜選択 することができるが、 1〜: L 0, O O O nmが好ましく、 20〜 200 n mがよ り好ましい。
前記負極は、例えば、蒸着法、湿式製膜法、電子ビーム法、スパッタリング法、 反応性スパッタリング法、 MB E (分子線エピタキシー) 法、 クラスターイオン ビーム法、 イオンプレーティング法、 プラズマ重合法 (高周波励起イオンプレー ティング法)、 分子積層法、 LB法、 印刷法、 転写法、 などの上述した方法により 好適に形成することができる。
前記負極の材料として 2種以上を併用する場合には、 該 2種以上の材料を同時 に蒸着し、 合金電極等を形成してもよいし、 予め調製した合金を蒸着させて合金 電極等を形成してもよい。
前記正極及び前記負極の抵抗値としては、 低い方が好ましく、 数百 ,, /-以下 であるのが好ましい。
一正孔注入層一
前記正孔注入層としては、 特に制限はなく、 目的に応じて適宜選択することが できるが、 例えば、 電界印加時に前記正極から正孔を注入する機能を有している ものであるのが好ましい。
前記正孔注入層の材料としては、 特に制限はなく、 目的に応じて適宜選択する ことができる力 例えば、 P EDOT: P S S (poly— 3, 4-ethylenedioxythiophene doped with poly(styrene sulfonate)、 あるいは下記式で表されるスターバース トフ ミン (4, 4', 4"-tris [3-methylphenyl (phenyl) amino] triphenylamine : m— MTDATA)、 銅フタロシアニン、 ポリア二リン、 などが挙げられる。
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前記正孔注入層の厚みとしては、 特に制限はなく、 目的に応じて適宜選択する ことができるが、 例えば、 50〜 150 nm程度が好ましく、 70〜100 nm がより好ましい。
前記正孔注入層は、 例えば、 蒸着法、 湿式製膜法、 電子ビーム法、 スパッタリ ング法、 反応性スパッタリング法、 MBE (分子線エピタキシー) 法、 クラスタ 一イオンビーム法、 イオンプレーティング法、 プラズマ重合法 (高周波励起ィォ ンプレーティング法)、 分子積層法、 LB法、 印刷法、 転写法、 などの上述した方 法により好適に形成することができる。
一その他の層乃至部材ー
本発明の有機 EL装置は、 目的に応じて適宜選択したその他の層乃至部材を有 していてもよく、 該その他の層としては、 例えば、 保護層、 封止材などが好適に 挙げられる。
前記保護層としては、 特に制限はなく、 目的に応じて適宜選択することができ るが、 例えば、 水分や酸素等の有機 EL装置を劣化促進させる分子乃至物質が有 機 E L装置内に侵入することを抑止可能であるものが好ましい。
前記保護層の材料としては、 例えば、 I n、 S n、 P b、 Au、 Cu、 Ag、 A 1、 T i、 N i等の金属、 MgO、 S i O、 S i 02 、 A 12 03 、 Ge O、 N i O、 C a O、 B aO、 F e 2 03 、 Y2 03 、 T i 02 等の金属酸化物、 S i N、 S iNx 0y 等の窒化物、 Mg F2 、 L i F、 A l F3 、 C a F2 等の金属 フッ化物、 ポリエチレン、 ポリプロピレン、 ポリメチルメタタリレート、 ポリイ ミ ド、 ポリウレア、 ポリテトラフルォロエチレン、 ポリクロ口 トリフルォロェチ レン、 ポリジクロロジフノレオ口エチレン、 クロロ トリフノレオ口エチレンとジクロ ロジフルォロエチレンとの共重合体、 テトラフルォロエチレンと少なく とも 1種 のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、 共重合 主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、 吸水率 1 %以上の吸水性物質、 吸水 率 0 . 1 %以下の防湿性物質などが挙げられる。
前記保護層は、 例えば、 蒸着法、 湿式製膜法、 スパッタリング法、 反応性スパ ッタリング法、 M B E (分子線エピタキシー) 法、 クラスターイオンビーム法、 イオンプレーティング法、プラズマ重合法(高周波励起イオンプレーティング法)、 印刷法、 転写法、 などの上述した方法により好適に形成することができる。
本発明の有機 E L装置の構造としては、 特に制限はなく、 目的に応じて適宜選 択することができる力 S、その層構成としては、例えば、以下の(1)〜(13)の層構成、 即ち、(1)正極/正孔注入層/正孔輸送層 Z発光層/電子輸送層 Z電子注入層/負 極、 (2)正極/正孔注入層 Z正孔輸送層/発光層/電子輸送層/負極、 (3)正極/ 正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/負極、(4)正極/正孔輸送層 Z発 光層/電子輸送層/負極、(5)正極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層兼電子輸送 層/電子注入層/負極、 (6)正極/正孔注入層/正孔輸送層 Z発光層兼電子輸送層 /負極、 (7)正極/正孔輸送層/発光層兼電子輸送層 Z電子注入層/負極、 (8)正 極/正孔輸送層/発光層兼電子輸送層 Z負極、(9)正極ノ正孔注入層/正孔輸送層 兼発光層/電子輸送層ノ電子注入層/負極、 (10)正極/正孔注入層/正孔輸送層 兼発光層/電子輸送層/負極、 (11)正極/正孔輸送層兼発光層/電子輸送層/電 子注入層/負極、 (12)正極/正孔輸送層兼発光層/電子輸送層/負極、 (13)正極 正孔輸送層兼発光層兼電子輸送層/負極、 などが好適に挙げられる。
なお、前記有機 E L装置が前記正孔ブロッキング層を有する場合には、前記(1 ) 〜 (13) において、 前記発光層と前記電子輸送層との間に該正孔ブロッキング層 が配置される層構成が好適に挙げられる。
前記有機 E L装置は、 単色発光のものであってもよいし、 多色発光のものであ つてもよいし、 フルカラータイプのものであってもよい。 前記有機 E L装置をフルカラータイプのものとする方法としては、 例えば 「月 刊ディスプレイ」、 2 0 0 0年 9月号、 3 3〜3 7ページに記載されているように、 色の 3原色 (青色 (B )、 緑色 (G)、 赤色 (R) ) に対応する光をそれぞれ発光す る有機 E L装置を基板上に配置する 3色発光法、 白色発光用の有機 E L装置によ る白色発光をカラーフィルターを通して 3原色に分ける白色法、 青色発光用の有 機 E L装置による青色発光を蛍光色素層を通して赤色 (R) 及び緑色 (G) に変 換する色変換法、 などが知られているが、 本発明においては、 3色発光法を特に 好適に採用することができる。
前記有機 E L装置の駆動態様としては、 特に制限はなく、 目的に応じて適宜選 択することができるが、例えば、 「日経エレクトロ二タス」、 N o . 7 6 5 , 2 0 0 0年 3月 1 3日号、 5 5〜6 2ページに記載されているような、 パッシブマトリ タスパネル、 アクティブマトリクスパネルなどの駆動態様が好適に挙げられる。 本発明の有機 E L装置は、例えば、 コンピュータ、車載用表示器、野外表示器、 家庭用機器、 業務用機器、 家電用機器、 交通関係表示器、 時計表示器、 カレンダ 表示器、 ルミネッセントスクリーン、 音響機器等をはじめとする各種分野におい て好適に使用することができる。
<有機 E L装置の製造方法 >
本発明の有機 E L装置の製造方法は、 上述した本発明の有機 E L装置の製造方 法であって、 (1 ) フォトレジスト及ぴ耐熱性ポリマーから選択される材料により バンクをパターン形成した後、 プラズマ処理を行う、 又は、 (2 ) 無機材料により バンクをパターン形成した後、 エッチング処理を行うことを特徴とする。
本発明の有機 E L装置の製造方法においては、 前記 (1 ) 又は (2 ) 以外の処 理乃至工程については特に制限はなく、 目的に応じて公知の方法の中から適宜選 択することができ、 例えば、 正極のパターユング工程、 正極上に正孔輸送層を形 成する工程、 正孔輸送層上に発光層を形成する工程、 発光層上に電子輸送層を形 成する工程、 電子輸送層上に負極を形成する工程、 などが挙げられる。
なお、 前記 (1 ) は、 バンク形成工程とプラズマ処理工程とを含み、 前記 (2 ) は、 パンク形成工程とエッチング工程とを含む。 前記バンク形成工程は、 例えば、 前記正極上に、 上述したフォ トレジス ト及ぴ 耐熱性ポリマーから選択される材料を塗付して塗付膜を形成した後、 又は、 上述 した無機材料を蒸着して蒸着膜を形成した後、 フォ トリソグラフィ一にてパター ユングすることによりバンクを形成する工程である。
前記バンクを形成する際の条件等については、 特に制限はなく、 目的に応じて 適宜選択することができる。
前記塗付の方法としては、 特に制限はなく、 スピンコート法等の公知の方法の 中から適宜選択することができる。
前記蒸着の方法としては、 特に制限はなく、 C V D法等の公知の方法の中から 適宜選択することができる。
前記プラズマ処理工程としては、 その条件等については特に制限はなく、 目的 に応じて適宜選択することができ、 酸素プラズマ及びフッ素系プラズマから選択 されるプラズマガスを用いて行うのが好ましい。 この場合、 前記バンクがポリイ ミ ド等の樹脂材料で形成されている場合に、 該パンクを効率よく削ることができ る。
前記エッチング処理工程としては、 その条件等については特に制限はなく、 目 的に応じて適宜選択することができ、 2種以上のエッチングガスを用いて行うの が好ましい。 この場合、 前記バンクが前記無機材料で形成されている場合に、 該 パンクを効率よく削ることができる。
前記エッチングガスとしては、 C F 4 /0 2 ガス、 C F 4 ガスなどが好適に挙 げられる。
前記エッチング処理工程において、 2種のエッチングガスを用いてエッチング 処理を行う場合には、 例えば、 以下のようにして行うのが好ましい。 即ち、 C F 4 /0 2 ガスから C F 4 ガスへの切り替えを行う場合には、 プラズマ N 2 をモニ タリングすることにより行うのが好ましく、 C F 4 ガスから C F 4 /0 2 ガスへ の切り替えを行う場合には、 プラズマ F 2 をモニタリングすることにより行うの が好ましい。 そして、 この際、 モニタリングするプラズマ F 2 又はプラズマ N 2 の強度が 1 5〜 2 5 %になった時にエッチングガスを切り替えるのが好ましい。 なお、 2種の無機材料によりバンクをパターン形成した場合には、 表層のエツ チングレートが下層のエッチングレートよりも大きくなるようにするのが好まし レ、。
前記発光層を形成する工程においては、 前記プラズマ工程又は前記エッチング 処理工程により形成されたバンクの隔壁により画成される空隙内に、 ノズルへッ ドを用いてインクジェット法により該ノズルへッドから上述した有機 E L発光材 料を含有する溶液(上述したインクジエツトインク)を噴射し供給する。その後、 適宜乾燥等を行うことにより、 該有機 E L発光材料による発光層を前記空隙内に 形成することができる。
以上説明した本発明の有機 E L装置の製造方法によると、 本発明の有機 E L装 置が効率よく製造される。
製造された本発明の有機 E L装置においては、 図 1及び図 2に示すように、 従 来のパンクに比べて、 パンクの隔壁における開口部 (露出端) 近傍が削られ、 該 バンクの隔壁により画成される空隙の開口径が該空隙における底部側よりも大き くなつている。 このため、 本発明のバンクの隔壁により画成される空隙には、 従 来のバンクの隔壁により画成される空隙に比べて、 容易にかつ確実に有機 E L発 光材料が供給される。
このとき、 図 1に示す従来例のように、 前記バンクが 1段構造であり、 テーパ 一構造が 1種である場合には、 それを緩やかなテーパー構造とすると、 前記イン クジエツトインクを前記空隙内に確実に収容させることはできるものの、 該空隙 の開口部が大きく広がってしまうため、 高精細化できない。 一方、 急峻なテーパ 一構造とすると、 微細な空隙による微細な開口は形成できるものの、 前記ノズル ヘッドから噴出 (吐出) させた前記インクジェットインクが所定の空隙内に収容 させるのが困難になる。 しかし、 図 2に示す本発明のように、 例えば、 前記パン クが 2段構造であり、 各段がテーパー構造を有している場合には、 ノズルヘッド から前記バンクの隔壁により画成された空隙に向けて噴射 (吐出) されたインク ジェットインク (有機 E L発光材料を含有) の液滴を、 上段のテーパー構造に沿 つて下方に転がらせ、 次に、 下段のテーパー構造にさしかかったところで前記空 隙内に確実に落下させることができる。 その結果、 該有機 E L装置は、 高精細な 複数の画素を有し、 色ずれ、 正極及び負極間の短絡などの問題がなく、 ディスプ レイ等として好適に使用可能である。
以下、 本発明の実施例を具体的に説明するが、 本発明はこれらの実施例に何ら 限定されるものではない。
(実施例 1 )
図 3 Aに示すように、 ガラス基板 1上に正極 (下部電極) としての I T O 2を 2, 0 0 0 A ( 2 0 0 n m) の厚みになるようにしてスパッタリング法により形 成した。 次に、 フォ トリソグラフィ一とゥエツトエッチングとにより I T O 2を ストライプ状に加工した。
該 I T O上にポリィミ ド 3を 5, 0 0 0 A ( 5 0 0 n m) の厚みになるように してスピンコーティングにより成膜した後、 図 3 Bに示すように、 フォ トリソグ ラフィ一によりバンクパターンを形成した。
次に、 図 3 Cに示すように、 該バンクパターンを O 2 プラズマにより 3分間処 理することにより、 2段のテーパー構造を形成した。
次に、 図 3 Dに示すように、 該バンクパターン間に形成された空隙、 即ち前記 バンクの隔壁により画成された空隙に向けて、 ノズルへッドからインクジエツト インク (有機 E L発光材料を含有) 4をインクジェット法により噴射 (吐出) さ せた。 そして、 図 3 Eに示すように、 各空隙内に前記インクジェットインク 4を 収容させた。
その後、 図 3 Fに示すように、 前記インクジヱットインク及ぴ前記バンクの表 面を被覆するようにして、 負極 (上部電極) として A 1 L i 5を、 メタルマスク を用いて 3, 0 0 O A ( 3 0 0 n m) の厚みになるようにしてストライプ上に蒸 着させ成膜させた。
以上により製造された有機 E L装置に対し、 前記 A 1 L i側が負極となるよう にし、 I T O側が正極となるようにして、 電流を流したところ、 I T O側から E L発光が観測された。
(実施例 2 ) 図 4 Aに示すように、 ガラス基板 1上に正極 (下部電極) としての I TO 2を 2, 000 A (200 nm) の厚みになるようにしてスパッタリング法により形 成した。 次に、 フォトリソグラフィ一とゥエツトエッチングとにより I TO 2を ストライプ状に加工した。
次に、 図 4 Bに示すように、 該 I TO上に S i 02 (厚み: 2, 000 A [2 00 nm]) 6、 S I N (厚み: 3, O O OA [300 nm]) 7をこの順で積層 した積層膜を CVD法により形成した。 続いて、 フォ トリソグラフィ一でバンク のパターンを形成後、 図 4 Cに示すように、 反応性イオンエッチングによりバン クの開口部近傍をエッチング処理した。 具体的には、 S i Nを CF4 Ζθ2 ガス を用いてエッチング処理し、 S i O2 を CF4 ガスを用いてエッチング処理した。 そして、 エッチング処理中に N2 の発光をモニタリングし、 この強度が 20%と なったときにエッチングガスの切り替えを行なった。 その結果、 図 4 Cに示すよ うに、 2段のテーパー構造を有するバンクが形成された。
次に、 図 4 Dに示すように、 該パンクパターン間に形成された空隙、 即ち前記 バンクの隔壁により画成された空隙に向けて、 ノズルへッドからインクジヱット インク (有機 EL発光材料を含有) 4をインクジェット法により噴射 (吐出) さ せた。 そして、 図 4 Eに示すように、 各空隙内に前記インクジェットインクを収 容させた。
その後、 図 4 Fに示すように、 前記インクジェットインク及び前記バンクの表 面を被覆するようにして、 負極 (上部電極) として A 1 L i 5を、 メタルマスク を用いて 3, 000 A (300 nm) の厚みになるようにしてストライプ上に蒸 着させ成膜させた。
以上により製造された有機 EL装置に対し、 前記 A 1 L i側が負極となるよう にし、 I TO側が正極となるようにして、 電流を流したところ、 I TO側から E L発光が観測された。 本発明によると、 高精細な複数の画素を有し、 色ずれ、 正極及び負極間の短絡 などの問題がなく、 基板の大型化が容易であり、 大型真空装置等が不要であり、 マスク合わせが不要であり、 材料の利用効率が高く、 簡便に量産可能で高品質で あり、 ディスプレイ等として好適に使用可能な有機 E L装置及びその効率的な製 造方法を提供することができる。

Claims

請 求 の 範 囲
1. 正極と負極との間に配置されて該正極及ぴ該負極を絶縁するバンクを複 数有し、 該パンクの隔壁によって画成される複数の空隙内に有機 E L発光材料を 有してなる有機 EL装置であって、
少なくとも 1つの前記空隙が、 該空隙における前記バンクの隔壁間の開口端側 における距離を dとし、 該開口端側以外における距離を d'とし、 該開口端側に対 する他端側における距離を d"とした時、 d>d "であり、 かつ前記空隙における 前記バンクの隔壁間の距離が前記開口端側から前記他端側に向かって漸次、 d— d'≥0を満たすことを特徴とする有機 E L装置。
2. 少なくとも 1つの空隙が、 n段の段差を有するバンクの隔壁によって画成 されてなり、 該 n段の段差底部における前記バンクの隔壁間の距離を開口端側か ら他端側に向かって、 d l、 d 2、 ' · ·、 d n_ l、 d n、 とした時、 d l >d 2 > - . - >d n- l >d n, を満たすクレーム 1に記載の有機 E L装置。
3. d l >d 2> - - - >d n- l >(i n, を満たす空隙が全空隙の 90 %以 上であるクレーム 2に記載の有機 E L装置。
4. 少なくとも 1つの空隙が、 2段以上の段差を有するバンクの隔壁によって 画成されてなり、 最も他端側に位置し、 バンクの隔壁間の距離が最大である段差 を形成する該バンクの隔壁がテーパー形状であるクレーム 1に記載の有機 E L装
5. パンクの隔壁に形成された各段がいずれもテーパー形状であるクレーム 4に記載の有機 EL装置。
6. 少なくとも 1つの空隙が、 2段のテーパー形状を有するパンクの隔壁によ つて画成されてなるクレーム 1に記載の有機 EL装置。
7. 開口端側の段差底部のテーパー角が、他端側の段差底部のテーパー角より も小さいクレーム 6に記載の有機 EL装置。
8. 開口端側が正極側であり、他端側が負極側であるクレーム 1に記載の有機 E L装置。
9. バンク力 パターニング可能な絶縁材料で形成されたクレーム 1に記載の 有機 EL装置。
10. パターニング可能な絶縁材料が、フォトレジスト及ぴ耐熱性ポリマーから 選択されるクレーム 9に記載の有機 EL装置。
1 1. パターユング可能な絶縁材料が、ポリイミ ドであるクレーム 9に記載の有 機 EL装置。
12. パターニング可能な絶縁材料が、無機材料から選択されるクレーム 9に記 載の有機 EL装置。
13. 無機材料が、窒化ケィ素及び酸化ケィ素から選択されるクレーム 12に記 載の有機 EL装置。
14. バンク力、窒化ケィ素及び酸化ケィ素の積層構造体であるクレーム 1に記 載の有機 EL装置。
15. 有機 EL発光材料が、ポリマー系材料から選択されるクレーム 1に記載の 有機 EL装置。
1 6. 空隙内における有機 EL発光材料により画素が構成されるクレーム 1に 記載の有機 EL装置。
1 7. 空隙内における有機 E L発光材料が、赤色発光材料、緑色発光材料、及び 青色発光材料から選択されるクレーム 16に記載の有機 E L装置。
18. フォトレジスト及び耐熱性ポリマーから選択される材料によりパンクを パターン形成した後、 プラズマ処理を行うことを特徴とする有機 EL装置の製造 方法であって、
該有機 E L装置が、 正極と負極との間に配置されて該正極及び該負極を絶縁する パンクを複数有し、 該バンクの隔壁によって画成される複数の空隙内に有機 EL 発光材料を有してなり、 少なくとも 1つの前記空隙が、 該空隙における前記バ ンクの隔壁間の開口端側における距離を dとし、 該開口端側以外における距離を d,とし、該開口端側に対する他端側における距離を d"とした時、 d> d "であり、 かつ前記空隙における前記バンクの隔壁間の距離が前記開口端側から前記他端側 に向かって漸次、 d— d'≥0を満たすことを特徴とする、 有機 EL装置の製造方 法。
19. パンク力、フォトレジスト及ぴ耐熱性ポリマーから選択される材料を正極 上に塗付して塗付膜を形成した後、 フォ トリソグラフィ一によりパターユングさ れて形成され、 該パンクにより画成される空隙内にインクジヱット法により有機 EL材料が付与された後、 負極が形成されるクレーム 18に記載の有機 EL装置 の製造方法。
20. プラズマ処理が、酸素プラズマ及びフッ素系プラズマから選択されるブラ ズマガスを用いて行われるクレーム 18に記載の有機 E L装置の製造方法。
21. 無機材料によりパンクをパターン形成した後、エッチング処理を行う有機 E L装置の製造方法であって、
該有機 E L装置が、 正極と負極との間に配置されて該正極及び該負極を絶縁する バンクを複数有し、 該バンクの隔壁によって画成される複数の空隙内に有機 E L 発光材料を有してなり、 少なくとも 1つの前記空隙が、 該空隙における前記バン クの隔壁間の開口端側における距離を dとし、該開口端側以外における距離を d' とし、 該開口端側に対する他端側における距離を d"とした時、 d>d "であり、 かつ前記空隙における前記バンクの隔壁間の距離が前記開口端側から前記他端側 に向かって漸次、 d_d'≥0を満たすことを特徴とする、 有機 EL装置の製造方 法。
22. バンク力 S、無機材料を正極上に CVD法により蒸着して蒸着膜を形成した 後、 フォトリソグラフィ一によりパターニングされて形成され、 該バンクにより 画成される空隙内にインクジエツト法により有機 E L発光材料が付与された後、 負極が形成されるクレーム 21に記載の有機 E L装置の製造方法。
23. エッチング処理が、 2種以上のエッチングガスを用いて行われるクレーム 21に記載の有機 E L装置の製造方法。
24. エッチング処理が、 CF42 ガス及ぴ CF4 ガスを用いて行われるク レーム 21に記載の有機 E L装置の製造方法。
25. CF4 /02 ガスから C F4 ガスへの切り替えをプラズマ N2 をモニタ リングすることにより行い、 C F4 ガスから CF42 ガスへの切り替えをプ ラズマ F 2 をモニタリングすることにより行うクレーム 2 4に記載の有機 E L装 置の製造方法。
2 6 . モニタリングするプラズマ F 2 又はプラズマ N 2 の強度が 1 5〜 2 5 % になった時にエッチングガスを切り替えるクレーム 2 5に記載の有機 E L装置の 製造方法。
2 7 . 2種の無機材料によりバンクをパターン形成し、表層のエッチングレート が下層のエッチングレートよりも大きくなるようにしたクレーム 2 1に記載の有 機 E L装置の製造方法。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006041027A1 (ja) * 2004-10-13 2006-04-20 Sharp Kabushiki Kaisha 機能基板
JP4731159B2 (ja) * 2004-12-06 2011-07-20 シャープ株式会社 表示装置用基板
GB2458454B (en) * 2008-03-14 2011-03-16 Cambridge Display Tech Ltd Electronic devices and methods of making the same using solution processing techniques
US8183763B2 (en) * 2008-07-08 2012-05-22 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light emitting display and method of fabricating the same
GB201314657D0 (en) * 2013-08-16 2013-10-02 Cambridge Display Tech Ltd Film profiles

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10106747A (ja) * 1996-09-26 1998-04-24 Mitsubishi Electric Corp 有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびその製法
JPH1174082A (ja) * 1997-08-29 1999-03-16 Seiko Epson Corp 発光ディスプレイ
WO1999048339A1 (en) * 1998-03-17 1999-09-23 Seiko Epson Corporation Substrate for patterning thin film and surface treatment thereof
JP2000202357A (ja) * 1998-04-24 2000-07-25 Cambridge Display Technol Ltd 高分子膜の選択的付着方法
JP2001126867A (ja) * 1999-10-26 2001-05-11 Seiko Epson Corp 表示装置の製造方法
WO2001063975A1 (en) * 2000-02-25 2001-08-30 Seiko Epson Corporation Organic el device and method of manufacture thereof
JP2001291583A (ja) * 2000-04-07 2001-10-19 Seiko Epson Corp 有機el素子および有機el素子の製造方法
JP2001345179A (ja) * 2000-03-27 2001-12-14 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置およびその作製方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4075028B2 (ja) * 1999-06-14 2008-04-16 セイコーエプソン株式会社 回路基板、表示装置、および電子機器
TW484238B (en) * 2000-03-27 2002-04-21 Semiconductor Energy Lab Light emitting device and a method of manufacturing the same
TW512646B (en) * 2000-03-31 2002-12-01 Seiko Epson Corp Organic EL device and production method thereof
US6739931B2 (en) * 2000-09-18 2004-05-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and method of fabricating the display device
JP4094863B2 (ja) * 2002-02-12 2008-06-04 三星エスディアイ株式会社 有機el表示装置
US7230592B2 (en) * 2002-03-04 2007-06-12 Hitachi, Ltd. Organic electroluminescent light emitting display device
JP4266648B2 (ja) * 2003-01-21 2009-05-20 三洋電機株式会社 エレクトロルミネッセンス表示装置
KR100908234B1 (ko) * 2003-02-13 2009-07-20 삼성모바일디스플레이주식회사 전계 발광 표시 장치 및 이의 제조방법

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10106747A (ja) * 1996-09-26 1998-04-24 Mitsubishi Electric Corp 有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびその製法
JPH1174082A (ja) * 1997-08-29 1999-03-16 Seiko Epson Corp 発光ディスプレイ
WO1999048339A1 (en) * 1998-03-17 1999-09-23 Seiko Epson Corporation Substrate for patterning thin film and surface treatment thereof
JP2000202357A (ja) * 1998-04-24 2000-07-25 Cambridge Display Technol Ltd 高分子膜の選択的付着方法
JP2001126867A (ja) * 1999-10-26 2001-05-11 Seiko Epson Corp 表示装置の製造方法
WO2001063975A1 (en) * 2000-02-25 2001-08-30 Seiko Epson Corporation Organic el device and method of manufacture thereof
JP2001345179A (ja) * 2000-03-27 2001-12-14 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置およびその作製方法
JP2001291583A (ja) * 2000-04-07 2001-10-19 Seiko Epson Corp 有機el素子および有機el素子の製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
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