WO2004085373A1 - 新規ショウガオール系化合物および当該化合物によるチロシナーゼ活性阻害剤 - Google Patents

新規ショウガオール系化合物および当該化合物によるチロシナーゼ活性阻害剤 Download PDF

Info

Publication number
WO2004085373A1
WO2004085373A1 PCT/JP2004/004316 JP2004004316W WO2004085373A1 WO 2004085373 A1 WO2004085373 A1 WO 2004085373A1 JP 2004004316 W JP2004004316 W JP 2004004316W WO 2004085373 A1 WO2004085373 A1 WO 2004085373A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
compound
formula
group
choh
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2004/004316
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Shuhei Yamaguchi
Hisatoyo Kato
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toagosei Co Ltd
Original Assignee
Toagosei Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toagosei Co Ltd filed Critical Toagosei Co Ltd
Priority to JP2005504124A priority Critical patent/JP4329759B2/ja
Priority to US10/549,117 priority patent/US7355063B2/en
Priority to EP04723805A priority patent/EP1612201A4/en
Publication of WO2004085373A1 publication Critical patent/WO2004085373A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C59/00Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C59/40Unsaturated compounds
    • C07C59/76Unsaturated compounds containing keto groups
    • C07C59/90Unsaturated compounds containing keto groups containing singly bound oxygen-containing groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D317/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D317/08Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
    • C07D317/10Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings
    • C07D317/14Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • C07D317/30Radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P17/00Drugs for dermatological disorders
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P17/00Drugs for dermatological disorders
    • A61P17/16Emollients or protectives, e.g. against radiation
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P37/00Drugs for immunological or allergic disorders
    • A61P37/08Antiallergic agents
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P43/00Drugs for specific purposes, not provided for in groups A61P1/00-A61P41/00
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/20Unsaturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C49/255Unsaturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms containing ether groups, groups, groups, or groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C59/00Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C59/40Unsaturated compounds
    • C07C59/76Unsaturated compounds containing keto groups
    • C07C59/84Unsaturated compounds containing keto groups containing six membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D303/00Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D303/02Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/38Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C07D303/40Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals by ester radicals
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Definitions

  • the present invention relates to a novel compound having a chemical structure similar to shogaol and gingerol, which is useful in the fields of foods, pharmaceuticals, quasi-drugs, cosmetics, and the like, and an intermediate for producing the same. Further, the present invention relates to a tyrosinase activity inhibitor, a hyaluronic acid degrading enzyme inhibitor or an antioxidant containing the novel compound as an active ingredient.
  • Pigmentation due to spots, freckles, etc. occurs when melanin pigments are formed in epidermal pigment cells due to exposure to ultraviolet rays and abnormally deposit on the epidermis.
  • the melanin pigment is synthesized by the metabolism of L-tyrosine, a kind of amino acid, to L-dopa and L-dopaquinone by the action of oxidase, tyrosinase, and through various processes. (For example, Fine Chemicals Magazine, March 15, 1990, “Special Feature Development and Product Development of Whitening Agents” and Frederance Journal, September 1997, September, “Special Features Recent Whitening Research and Development Trends in Drugs ”). Therefore, in order to prevent pigmentation due to spots, freckles, etc., it is important to inhibit the activity of tyrosinase, which plays an important role in the synthesis of melanin pigment.
  • drugs such as placenta extract, vitamin C, a vitamin C derivative, kojic acid, and arbutin have been used to improve the prevention of spots and freckles.
  • drugs such as placenta extract, vitamin C, a vitamin C derivative, kojic acid, and arbutin have been used to improve the prevention of spots and freckles.
  • these have not achieved sufficient effects.
  • hydroquinone is used for depigmentation of pigment spots, but its use is restricted due to safety issues.
  • kojic acid may be carcinogenic, which has become a problem.
  • shogaol and gingerol are components of the ginger extract, and include, for example, a blood circulation promoting action (Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-189359) and a body odor suppressing effect (US Pat. 928), antioxidant effect (H.Kikuzaki, N.Nakatani, "Antioxidant Effects of Some Ginger Constituents", J. FoodScL, Vol58, No6, 1407-1410 (1993)), moisturizing effect (supervised by Masato Suzuki, It is known to have "New Cosmetic Functional Materials 300, Volume 1", pages 311-312, CMC Publishing, 2002).
  • the present inventors studied a method capable of mass-producing shogaol, created an industrial production method for a specific shogaol, and filed a patent application for the specific shogaol and the production method (Japanese Patent Application No. 20-203). 0 3—3 2 7 5 7 4) and found that ginger has the property of inhibiting tyrosinase activity.
  • shogaol obtained by this production method may be difficult to apply to humans because of insufficient water solubility, and a more water-soluble one is required.
  • the present invention is a compound similar to shogaol and gingerol which is useful in the fields of foods, pharmaceuticals, quasi-drugs, cosmetics, etc., and has higher activity than conventional shogaol and gingerol in tyrosinase activity inhibition and the like. It is an object to provide a compound.
  • the present inventors have conducted intensive studies to solve the above problems, and as a result, have found a novel compound having the same basic structure as that of gingerol and zingediol and having the same properties as known gingerol and gingerol. Furthermore, they have found that the compound works well as a tyrosinase activity inhibitor and the like, and completed the present invention.
  • the present invention is a compound represented by the following general formula (1).
  • R 1 is a protecting group for a hydrogen atom, a lower alkyl group or a phenolic hydroxyl group
  • R 2 is a protecting group for a hydrogen atom or a phenolic hydroxyl group
  • A is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • B is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms
  • the lower alkyl group in the formula (1) has 1 to 4 carbon atoms, and is preferably a methyl group.
  • one CHOH-1,2-epoxy is represented by the following formula (3).
  • the ketal derivative in the formula (1) is an acyclic ketal or a cyclic ketal, and is preferably a cyclic ketal.
  • this cyclic ketal include those obtained from ethylene glycol, 1,3-propanediol or 2,2-dimethyl-1,3-propanediol with respect to the carbonyl group.
  • the present invention relates to a tyrosinase inhibitor comprising a compound represented by the above formula (1), and a hyaluronic acid degrading enzyme inhibitor comprising a compound represented by the formula (1). And an antioxidant characterized by having a compound represented by the formula (1).
  • the present invention also provides a tyrosinase activity inhibitor, a hyaluronan degrading enzyme inhibitor and Z or an antioxidant, which comprises a compound represented by the following formula (2).
  • R 6 in the formula (2) is a hydrogen atom, a lower alkyl group or a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • A is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms
  • B is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R 7 is one COOR 8 (where R 8 is a protecting group for the lipoxyl group), lipoxyl group or one CH 2 ⁇ H
  • One CHOH-1, 2-epoxy one, single CO- CH 2 CH 2 -, one CH_ ⁇ _H-CH 2 CH 2 _, one CO- CH 2 CHOH- one CHOH- CH 2 CH_ ⁇ _H- one C ⁇ One CH 2 CHOR 9 —, one CHOH—CH 2 CHOR 9 —, _ CO—CH CH— ketal derivative, or — CO—CH 2 CH 2 — ketal derivative, and R 9 is a lower alkyl group is there.
  • R 1 is a protecting group for a hydrogen atom, a lower alkyl group or a phenolic hydroxyl group.
  • R 2 is a hydrogen atom or a protecting group for a phenolic hydroxyl group.
  • the protecting group for the phenolic hydroxyl group of R 1 and R 2 it is preferable that the protecting group is easily introduced and removed, and a silyl protecting group, an acyl protecting group, a benzyl protecting group, and an ether protecting group Etc. are shown.
  • a t-butyldimethylsilyl group, a propionyl group, a petyloyl group, an isoptyloyl group, a piperoyl group, a benzoyl group, a toluoyl group, a benzyl group, a tetrahydrobiranyl group, and a methoxymethyl group are preferred.
  • A is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, preferably an ethylene group or a butylene group, and more preferably an ethylene group.
  • B is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, preferably It is an alkylene group having 1 to 9 and more preferably an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.
  • R 3 is one C ⁇ R 4 group (where R 4 is a protecting group for a carbonyl group), a carboxyl group or one CH 2 ⁇ H.
  • R 4 is a protecting group for a carbonyl group
  • a protective group for a propyloxyl group a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group and a benzyl group are preferred. More preferably, it is a methyl group or an ethyl group.
  • R 3 is a carbonyl group
  • one CHOH_CH CH—, -CHOH-1, 2, 2-epoxy one, one CHOH— CH 2 CH 2 -, - CHOH- CH 2 CHOH- , _ CO- CH 2 CHOR 5 -,
  • R 5 is a lower alkyl group.
  • R 6 is a protecting group for a hydrogen atom, a lower alkyl group or a phenolic hydroxyl group.
  • the phenolic hydroxyl-protecting group for R 6 it is preferable that the protecting group is easily introduced and removed, and examples thereof include a silyl-type protecting group, an acyl-type protecting group, a benzyl-type protecting group, and an ether-type protecting group. Is done.
  • a t-butyldimethylsilyl group, a propionyl group, a butyroyl group, an isoptyloyl group, a piperoyl group, a benzoyl group, a toluoyl group, a benzyl group, a tetrahydrovinylil group, and a methoxymethyl group are preferred.
  • A is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, preferably an ethylene group or a butylene group, and more preferably an ethylene group.
  • B is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, preferably an alkylene group having 1 to 9 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.
  • R i—COOR 8 (where R 8 is a protective group for a lipoxyl group), a lipoxyl group or 1 CH 2 ⁇ H.
  • a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group and a benzyl group are preferred. More preferably, it is a methyl group or an ethyl group.
  • the compound of the formula (4) can be synthesized from a compound represented by the formula (7) (hereinafter, referred to as a compound of the formula (7).
  • the following compounds represented by other formulas are similarly abbreviated).
  • the compound of formula (7) is obtained by reacting a compound of formula (5) described below with a compound of formula (6).
  • the compound of formula (5) can be synthesized from the compound of formula (10).
  • the compound of formula (10) is obtained by reacting a compound of formula (8) described below with a compound of formula (9).
  • the compound of the formula (4) is prepared by preparing the compound of the following formula (7) using the compound of the following formula (5) and the compound of the following formula (6) as raw materials, and further removing HX from the compound of the following formula (7) it can.
  • R 4 represents a protecting group for a carbonyl group
  • B represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms
  • X represents a benzenesulfonyl group or a toluenesulfonyl group.
  • R 1 is a protecting group for a hydrogen atom, a lower alkyl group or a phenolic hydroxyl group
  • R 2 is a protecting group for a hydrogen atom or a phenolic hydroxyl group
  • A is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Shows a kylene group.
  • I 1 , R 2 , R 4 , A, and B are as defined in Formula (1), and X is as defined in Formula (5).
  • the compound of the formula (5) can be produced by performing a rearrangement reaction of the X group of the compound of the formula (10).
  • the compound of the formula (10) can be produced by reacting a compound of the following formula (8) with an alkyl metal compound and then reacting a compound of the following formula (9).
  • X in equation (8) is as defined in equation (5).
  • R 4 and B in the formula (9) are as defined in the formula (1), and I is an iodine atom.
  • R 4 and B in equation (10) are as defined in equation (1), and X is as defined in equation (5).
  • the ratio of the kill metal compound is preferably from 0.7 to 1.3 chemical equivalents, more preferably from 0.9 to 1.1 chemical equivalents.
  • the temperature of the above reaction is preferably from 100 ° C to 0 ° C, more preferably from 180 ° C to 120 ° C. If the reaction temperature is too low, cost is required to maintain the temperature, and if the reaction temperature is too high, side reactions may proceed.
  • the reaction between the compound of the formula (8) and the alkyl metal compound is preferably carried out in an aprotic solvent, such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, geethylether, 1,2-dimethoxetane, and hexamethylphosphoric acid.
  • an aprotic solvent such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, geethylether, 1,2-dimethoxetane, and hexamethylphosphoric acid.
  • Triamide, N, N-dimethylpropyleneurea, a mixed solvent thereof and the like can be suitably used.
  • the reaction time varies depending on conditions, but is usually several minutes to several ten minutes.
  • alkyl metal compound examples include alkyl lithium compounds such as n-butyllithium, s-butyllithium, t-butyllithium, and phenyllithium; n-butylmagnesium chloride, s-butylmagnesium chloride, t-butylmagnesium chloride, and n-butylmagnesium chloride.
  • alkyl lithium compounds such as n-butyllithium, s-butyllithium, t-butyllithium, and phenyllithium
  • n-butylmagnesium chloride examples include Grignard compounds such as —butyl magnesium bromide, s-butyl magnesium bromide, t-butyl magnesium bromide, and n-butyl lithium, n-butyl magnesium chloride, and n-butyl magnesium bromide are preferred.
  • an alkali metal such as lithium metal or sodium metal may be used instead of the alkyl metal compound.
  • the compound of formula (10) is obtained by reacting the compound of formula (8) with the alkyl metal compound as described above and subsequently reacting the compound of formula (9).
  • the temperature of the reaction system at the time of adding the compound of the formula (9) to the reaction product is preferably ⁇ 100 ° C. and preferably 0 ° C., and more preferably —8 O X to 120 ° C. If the reaction temperature is too low, it will be costly to maintain the temperature. If the reaction temperature is too high, side reactions may proceed.
  • the reaction time varies depending on the conditions, but is usually several minutes to several ten minutes.
  • the compound of the formula (10) can be isolated and purified by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • the compound of formula (5) can be obtained by rearranging the X group in the compound of formula (10).
  • a palladium catalyst can be exemplified as a preferable catalyst for the rearrangement reaction of the compound of the formula (10).
  • the palladium catalyst examples include tetrakistriphenylphosphine palladium (0), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0), form-adduct, palladium chloride (II) / triphenylphosphine mixture, palladium (II) acetate A z-triphenylphosphine mixture or a palladium acetate (II) Z-tributylphosphine mixture is preferably used.
  • the amount of the palladium catalyst to be used is preferably from 0.001 to 1mo1, more preferably from 0.001 to 0.1mo1, based on the compound (lmo1) of the formula (10). If the amount of the catalyst used is too small, the progress of the reaction may be slow, and if the amount used is too large, labor may be required to remove the catalyst.
  • This rearrangement reaction is preferably carried out in the presence of a solvent.
  • a mixed solvent of tetrahydrofuran and methanol can be used. Is preferred.
  • the reaction temperature of the rearrangement reaction is preferably from 0 ° C to 1201 and more preferably from 20 to 100 ° C.
  • the reaction time varies depending on conditions, but is usually several hours to several tens of hours.
  • the compound of the formula (5) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • the compound of the formula (6) can be synthesized by a method described in a literature such as G.Solidadie, eta1, J. Org. Chem., —58.2. 2181 (1993).
  • R 1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • R 2 represents a hydrogen atom or a protecting group for a phenolic hydroxyl group.
  • the lower alkyl group for R 1 in the formula (6) preferably has 1 to 3 carbon atoms, and more preferably is a methyl group.
  • the protecting group for the phenolic hydroxyl group of R 1 and R 2 in the formula (6) it is preferable that the protecting group is easily introduced and removed, and a silyl-type protecting group, an acyl-type protecting group, a benzyl-type protecting group, and Examples include ether-type protecting groups.
  • a silyl-type protecting group, an acyl-type protecting group, a benzyl-type protecting group, and Examples include ether-type protecting groups.
  • t-butyldimethylsilyl group Preferred are a pionyl group, a butyroyl group, an isobutyroyl group, a bivaloyl group, a benzoyl group, a toluene group, a benzyl group, a tetrahydroviranyl group, and a methoxymethyl group.
  • a in the formula (6) is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, preferably an ethylene group or a butylene group, and more preferably an ethylene group.
  • the compound of the formula (7) which is a compound for obtaining the compound of the formula (4), is obtained by reacting the compound of the formula (5), which can be produced by the above method, with an alkyl metal compound, and subsequently reacting the compound of the formula (6). It can be manufactured by doing.
  • the alkyl metal compound a compound which does not adversely affect the protecting group of the hydroxyl group in the compound of the formula (5) is preferable.
  • An amide can be preferably used.
  • the amount of the alkyl metal compound used is basically preferably from 0.7 to 1.3 chemical equivalents, more preferably from 0.9 to 1.1 chemical equivalents, based on the compound of the formula (5).
  • the above reaction is preferably performed in an aprotic solvent, such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, getyl ether, 1,2-dimethoxyethane, hexamethylphosphoric triamide, ⁇ , ⁇ -dimethylpropylene ⁇ Rare and mixed solvents thereof can be suitably used.
  • an aprotic solvent such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, getyl ether, 1,2-dimethoxyethane, hexamethylphosphoric triamide, ⁇ , ⁇ -dimethylpropylene ⁇ Rare and mixed solvents thereof can be suitably used.
  • the reaction temperature of the compound of formula (5) with the alkyl metal compound is preferably ⁇ 80 ° C. to 25, more preferably 150 to 0.
  • the reaction time is usually several minutes to several hours.
  • the compound of the formula (7) can be produced by reacting the compound of the formula (5) with the alkyl metal compound and subsequently reacting the compound of the formula (6).
  • the temperature of the reaction system at the time of adding the compound of the formula (6) to the reaction product is preferably from 10 to 25 ° C, more preferably from 180 to 0 ° C.
  • the reaction time is usually several minutes to several hours.
  • the compound of the formula (7) can be isolated and purified by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • the compound of the formula (4) in the present invention is prepared by reacting the compound of the formula (7) produced by the above-mentioned method and the like with a basic compound in the presence of a metal catalyst which forms a ⁇ -aryl complex. Combination Can be achieved.
  • a palladium complex can be preferably used as the metal catalyst for forming the ⁇ -aryl complex.
  • tetrakistriphenylphosphine palladium (0), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0) examples thereof include a form adduct, a palladium (II) chloride "triphenylphosphine mixture, a palladium (II) acetate / triphenylphosphine mixture, and a palladium (II) tributylphosphine mixture.
  • the amount is preferably from 0.000 l to lmo 1, more preferably from 0.001 to 0.1 lmo 1 based on the compound lmo 1 of the formula (7).
  • Preferred examples of the basic compound include triethylamine, diisopropylethylamine, and tertiary amines such as N-methylimidazole and pyridine.
  • the amount of the basic compound used is 0.9 mol or more with respect to the compound lmo 1 of the formula (7), and the range of 1. Omol to 1 Omo 1 is suitable. In addition, you may use such a basic compound as a solvent.
  • the above reaction is preferably carried out in the presence of a solvent, for example, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, geethylether, 1,2-dimethoxyethane, acetonitrile, chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, Hexamethylphosphoric triamide, N, N-dimethylpropylene perylene, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, ethylene glycol, glycerin, and a mixed solvent thereof can be used.
  • 1,2-dichloroethane A mixed solvent of alcohol and alcohol is preferred.
  • the reaction temperature is preferably from room temperature to 150 ° C, more preferably from 50 ° C to 120.
  • a suitable reaction time is several hours to several tens of hours.
  • the compound of formula (4) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • R 2 in the compound of the formula (4) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • the method for removing the protecting group of the phenolic hydroxyl group is generally used in the field of synthetic organic chemistry.
  • the method can be carried out according to a method known in the art, for example, the method described in TW Greene., “Protecti ve Grosin Sin Organic Synthes sis J, John Wi i ey & Sons.
  • R 3 is —COOR 4 and Z is
  • R 3 is -COOR 4 and Z is
  • a compound that is -CHOH-1,2-epoxy (hereinafter referred to as a compound of formula (12)) can be produced by epoxidizing a compound of formula (11).
  • R 1 , R 2 , R 4 , A and B in the equations (11) and (12) are as defined in the equation (1).
  • the metal hydride complex when the ketone of the compound of the formula (4) is reduced to a hydroxyl group lithium borohydride, sodium borohydride and the like can be preferably used.
  • the reaction can be carried out under the condition of using sodium borohydride and cerium (III) chloride in combination. In this reaction, it is preferable to use sodium borohydride and cerium (III) salt in combination.
  • the ratio of the metal-hydrogen complex compound to the compound of the formula (4) is preferably 0.5 to 10 chemical equivalents, more preferably 1 to 2 chemical equivalents.
  • the amount of cerium (III) chloride used is 0.01 to 5 chemical equivalents relative to the compound of formula (4). And more preferably Preferably 0.1 to 3 chemical equivalents.
  • the above reaction is preferably carried out in the presence of a solvent, such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dimethyl ether, 1,2-dimethoxyethane, acetonitrile, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and a mixed solvent thereof.
  • a solvent such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dimethyl ether, 1,2-dimethoxyethane, acetonitrile, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and a mixed solvent thereof.
  • the reaction temperature for producing the compound of the formula (11) is preferably from 100 to 100, more preferably from 178 ° C to room temperature. A suitable reaction time is several minutes to several hours.
  • the compound of the formula (11) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 7 is —CQOR 8
  • R 2 in the compound of the formula (11) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • Examples of the epoxidizing agent for producing the compound of formula (12) from the compound of formula (11) include peracids such as peracetic acid, trifluoroperacetic acid, perbenzoic acid and m-mouth perbenzoic acid, and hydrogen peroxide and t.
  • a peroxide such as butyl hydroperoxide can be suitably used.
  • the amount of the peroxide or peroxide used is preferably 1 to 10 chemical equivalents, more preferably 1.1 to 2 chemical equivalents.
  • the above reaction is preferably carried out in the presence of a solvent, such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dimethyl ether, 1,2-dimethoxyethane, acetonitrile, toluene, Water, a mixed solvent thereof and the like can be suitably used.
  • a solvent such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dimethyl ether, 1,2-dimethoxyethane, acetonitrile, toluene, Water, a mixed solvent thereof and the like can be suitably used.
  • the reaction temperature at the time of producing the compound of the formula (12) is preferably from 100 to 100 ° C, more preferably from 178 to 50 ° C.
  • the reaction time is suitably from tens of minutes to several hours.
  • the compound of formula (12) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • the compound wherein R 2 is a hydrogen atom is a compound represented by the general formula (2) of the present invention wherein R 7 is —COR 8 and Z is —CHOH—1, It represents the same compound as 2-epoxy.
  • R 2 of the compound of formula (12) is a phenolic hydroxyl group
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group of the phenolic hydroxyl group.
  • a compound in which R 3 is —C ⁇ R 4 and Z is —CO—CH 2 CH 2 — (hereinafter, referred to as a compound of the formula (13)) Can be produced by catalytic hydrogenation of the compound of formula (4).
  • a compound in which R 3 is —C ⁇ R 4 and Z is —CHO H—CH 2 CH 2 — (hereinafter, referred to as a compound of the formula (14)) Can be produced by reducing the compound of the formula (13) with a metal hydride complex compound.
  • RR 2 , R 4 , A and B in Equations (13) and (14) are as defined in Equation (1).
  • metal such as palladium monocarbon, platinum (IV) oxide, Raney nickel, platinum black, rhodium aluminum monoxide, triphenylphosphine rhodium monochloride, and palladium monosulfate It is preferable to use a catalyst and make the inside of the reaction vessel under a hydrogen atmosphere. In this reaction, the ratio of the metal catalyst to the compound of the formula (4) is preferably from 0.0 :! to 100% by weight, more preferably from 0.1 to 10% by weight.
  • the production of the compound of the formula (13) is preferably carried out in the presence of a solvent, such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, t-butyl alcohol, and n-pentane.
  • a solvent such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, t-butyl alcohol, and n-pentane.
  • N-hexane, toluene, ethyl acetate, Acetic acid, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, getyl ether, 1,2-dimethoxetane, acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylpropionerea, dimethylsulfoxide, water, and a mixed solvent thereof Can be used.
  • the reaction temperature for producing the compound of the formula (13) is preferably from 0 ° C to 100 ° C, more preferably from room temperature to 50 ° C.
  • the reaction time is suitably from tens of minutes to tens of hours.
  • the compound of the formula (13) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is —COOR 8 and Z is —C ⁇ —CH 2 Represents the same compound as CH 2 —.
  • R 2 in the compound of the formula (13) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • the metal hydride complex compound used in producing the compound of the formula (14) those which do not adversely affect the protecting group for the carboxyl group are preferable, and lithium borohydride, sodium borohydride and the like can be preferably used. More preferred is sodium borohydride.
  • the ratio of the metal hydride complex compound to the compound of the formula (13) is preferably 0.5 to 10 chemical equivalents, more preferably 1 to 2 chemical equivalents.
  • the production of the compound of the formula (14) is preferably carried out in the presence of a solvent, for example, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, geethylether, 1,2-dimethoxyethane, acetonitrile, methanol, ethanol , Isopropyl alcohol and a mixed solvent thereof can be used.
  • a solvent for example, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, geethylether, 1,2-dimethoxyethane, acetonitrile, methanol, ethanol , Isopropyl alcohol and a mixed solvent thereof can be used.
  • the reaction temperature for producing the compound of the formula (14) is preferably from 20 ° C to 100 ° C, more preferably from 0 ° C to room temperature.
  • a suitable reaction time is several minutes to several hours.
  • the compound of the formula (14) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is —COOR 8 and Z is —CHOH—CH 2 It represents the same compound as CH 2 —.
  • R 2 of the compound of the formula (14) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • R 2 is a hydrogen atom by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • a compound in which R 3 is _C ⁇ R 4 and Z is —CHO H—CH 2 CHOH— (hereinafter, referred to as a compound of the formula (16)) is It can be produced by reducing the compound of the formula (15) with a metal hydride complex compound.
  • RR 2 , R 4 , A and B in equations (15) and (16) are as defined in equation (1).
  • a metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide
  • the amount of the metal 7_K oxide to be used is preferably 1 to 10 chemical equivalents, more preferably 2 to 5 chemical equivalents, relative to the compound of the formula (4).
  • a phase transfer catalyst may be used in combination.
  • phase transfer catalyst quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide, benzyltriptylammonium bromide, and trioctylmethylammonium bromide are preferably used. It can.
  • the amount of the phase transfer catalyst to be used is preferably 0.001 to 1 chemical equivalent, more preferably 0.01 to 0.2 chemical equivalent to the compound of the formula (4).
  • the above reaction is preferably carried out in the presence of a solvent, such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, getyl ether, 1,2-dimethoxyethane, acetonitrile, toluene,
  • a solvent such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, getyl ether, 1,2-dimethoxyethane, acetonitrile, toluene
  • a solvent such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, getyl ether, 1,2-dimethoxyethane, acetonitrile, toluene
  • a solvent such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, getyl ether, 1,2-dimethoxyethane, acetonitrile, toluene
  • chloroform dichloromethane, 1,2-dichloroethane, t-buty
  • the reaction temperature at the time of producing the compound of the formula (15) is 0 to 150 ° C., preferably room temperature to 100 ° C.
  • a suitable reaction time is several hours to several tens of hours.
  • the compound of formula (15) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • R 4 is an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group during the above addition reaction of water molecules
  • hydrolysis may occur and R 4 may be removed.
  • esterification may be performed after isolation and purification to synthesize the compound of formula (15).
  • the conditions for this esterification are generally known in the field of synthetic organic chemistry, for example, described in TW Greene., "Protective Group Organic Synthesis", John Wi 1 e y & Sons. Can be performed according to the method described in
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is —COOR 8 and Z is —CO—CH 2 It represents the same compound as the compound that is CHOH_.
  • R 2 of the compound of the formula (15) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • the reducing agent used in producing the compound of the formula (16) is the same as the reducing agent used in producing the compound of the formula (14) from the compound of the formula (13), and is preferably sodium borohydride.
  • the solvent used in producing the compound of formula (16) is the same as the solvent used in producing the compound of formula (14) from the compound of formula (13).
  • the reaction temperature for producing the compound of the formula (16) is preferably from 20 to 100 ° C, more preferably from 0 ° C to room temperature. A suitable reaction time is several minutes to several hours. After completion of the reaction, the compound of formula (16) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 7 is —C ⁇ R 8 and Z is —CHOH — CH 2 CH ⁇ H— And the same compound.
  • R 2 of the compound of the formula (16) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • a compound in which R 3 is —COOR 4 and Z is one CO—CH 2 CHOR 5 — (hereinafter, referred to as a compound of the formula (17)) is The compound can be produced by adding a lower alcohol to the compound of the formula (4) in the presence of a basic compound.
  • R 1 , R 2 , R 4 , A and B in the formulas (17) and (18) are as defined in the formula (1), and R 5 represents a lower alkyl group.
  • an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.
  • the amount of the alkali metal hydroxide to be used is preferably 1 to 10 chemical equivalents, more preferably 2 to 5 chemical equivalents to the formula (4).
  • the lower alcohol used for producing the compound of the formula (17) from the formula (4) include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol and n-butyl alcohol.
  • the reaction temperature for producing the compound of the formula (17) from the formula (4) is preferably 0 to 150 ° C, more preferably room temperature to 100 ° C. An appropriate reaction time is several hours to several tens of hours. After completion of the reaction, the compound of formula (17) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • R 4 is an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group during the above addition reaction of a lower alcohol
  • hydrolysis may occur and R 4 may be removed.
  • esterification may be performed after isolation and purification to synthesize the compound of formula (17).
  • Conditions for this esterification include generally well-known methods in the field of synthetic organic chemistry, for example, TW Greene., "Protecti ve Grosin sin Organic Synthesis", John Wiiey ey & S. The method can be performed according to the method described in ons.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is a compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is —COOR 8 and Z is one CO—CH 2 This is the same compound as the compound in which CH ⁇ R 5 _.
  • R 2 is a phenolic hydroxyl-protecting group in the compound of the formula (17)
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the phenolic hydroxyl-protecting group.
  • the reducing agent used in producing the compound of formula (18) from the compound of formula (17) is the same as the reducing agent used in producing compound of formula (14) from compound of formula (13), Preferred is sodium borohydride.
  • the solvent used in producing the compound of formula (18) from the compound of formula (17) is the same as the solvent used in producing the compound of formula (14) from the compound of formula (13).
  • the reaction temperature for producing the compound of the formula (18) from the compound of the formula (17) is preferably from -20 ° C to 100 ° C, more preferably from 0 ° C to room temperature.
  • a suitable reaction time is several minutes to several hours.
  • the compound of formula (18) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • the compound wherein R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention wherein R 7 is —COOR 8 and Z is —CHOH—CH 2 It is the same compound as CH ⁇ R 5 —.
  • R 2 is a protecting group for a phenolic hydroxyl group in the compound of the formula (18)
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • Equation (4) The conversion from Equation (4) to Equation (19) and Equation (20) is shown below.
  • RR 2 , R 4 , A and B in the formulas (19) and (20) are as defined in the formula (1), and Y represents an acyclic ketal or a cyclic ketal.
  • acyclic ketones of the formulas (19) and (20) include dimethyl ketal and diacetyl ketal.
  • the cyclic ketals of the formulas (19) and (20) include those obtained from ethylene glycol, 1,3-propanediol or 2,2-dimethyl-1,1,3-propanediol with respect to the carbonyl group. .
  • the ketalization reaction of the formula (4) is generally performed by a method well known in the field of synthetic organic chemistry, for example, TW Greene., Protecti ve Grown Up Organic Synt he si sj, J on Wi 1ey & S. This can be performed according to the method described in ons.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is a compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is —C ⁇ R 8 and Z is —C ⁇ —
  • R 7 is —C ⁇ R 8 and Z is —C ⁇ —
  • R 7 is —C ⁇ R 8 and Z is —C ⁇ —
  • R 7 is —COOR 8 and Z is a ketal derivative of —CO—CH—CH—.
  • R 2 in the compound of the formula (19) or the compound of the formula (20) is a protecting group for the phenolic hydroxyl group
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • RR 2 , R 4 , A, and B in the formula (21) are as defined in the formula (1).
  • R 1 R 2 , R 4 , A and B in the formula (22) are as defined in the formula (1).
  • compounds in which R 3 is a carbonyl group and Z is —CHOH—1,2_epoxy (hereinafter, a compound of the formula (23) ) Can be synthesized from the compound of the above formula (12). See the formula below.
  • R 1 in the formula (23), R 2, R 4, A, B are as defined in formula (1) £
  • R 3 in the formula (1) of the present invention compounds in which R 3 is a carboxyl group and Z is —CHOH—CH 2 CH 2 — (hereinafter, referred to as a compound of the formula (24) ) Can be synthesized from the compound of the above formula (14). See the formula below.
  • R 1 R 2 in the formula (24), R 4, A, B in the same manner c are as defined in formula (1), among the compounds represented by the general formula (1) of the present invention, R 3 Is a carbonyl group and Z is —CH ⁇ H—CH 2 CHOH— (hereinafter referred to as the compound of formula (25)) can be synthesized from the compound of formula (16) described above. See the formula below.
  • RR 2 , R 4 , A, and B in equation (25) are as defined in equation (1).
  • a compound in which R 3 is a carbonyl group and Z is —CO—CH 2 CH ⁇ R 5 _ (hereinafter, a compound represented by the formula (26) Can be synthesized from the compound of the above formula (17). See the formula below.
  • R 1 R 2 , R 4 , R 5 , A and B in the formula (26) are as defined in the formula (1).
  • compounds in which R 3 is a carboxyl group and Z is —CH0H—CH 2 CH ⁇ R 5 — (hereinafter, a compound of the formula (27) ) Can be synthesized from the compound of the above formula (18). See the formula below.
  • R 1 R 2 , R 4 , R 5 , A and B in the formula (27) are as defined in the formula (1).
  • R 1 , R 2 , R 4 , A, B, and Y in the formula (28) are as defined in the formula (1).
  • compounds in which R 3 is a carbonyl group and Z is a ketal derivative of —CO—CH 2 CH 2 — ) Compound can be synthesized from the compound of the above formula (20). See the formula below.
  • R 1 R 2 , R 4 , A, B, and Y in the formula (29) are as defined in the formula (1).
  • C The reaction for removing a protecting group from a compound (protected compound) in which the carbonyl group is protected.
  • the conditions vary depending on the type of protecting group used. For example, when the protecting group of the lipoxyl group is an ethyl group, it can be removed in the presence of an alkali catalyst such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.
  • the amount of the alkali catalyst to be used varies depending on the structures of R 1 , R 2 , and R 4 of the protective compound and the type of the catalyst, but is preferably 1 to 10 chemical equivalents relative to the protective compound, and more preferably, 2 to 5 chemical equivalents. If the amount of the alkali catalyst used is too small, the progress of the reaction may be slow.If the amount is too large, a large amount of neutralizing agent is required for post-reaction treatment. There are cases.
  • a solvent may be used for the above reaction. Tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, methyl ether, 1,2-dimethoxyethane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylpropylene urea, water, methanol , Ethanol, isopropyl alcohol, t-butyl alcohol, and a mixed solvent thereof can be suitably used.
  • the reaction temperature of the above reaction is preferably from 20 to 80 ° C, more preferably from 0 ° C to 50.
  • the reaction time varies depending on conditions, but is usually several tens minutes to several hours.
  • the desired compound can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • R 2 of the compound of the formula (21) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • R 2 is a phenolic hydroxyl-protecting group in the compound of the formula (22)
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the phenolic hydroxyl-protecting group.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is a carbonyl group, and Z is —CHOH— 1, It is the same compound as 2-epoxy.
  • R 2 is a protecting group for a phenolic hydroxyl group in the compound of the formula (23)
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • the compound wherein R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is a carbonyl group and Z is —CHOH—CH— This is the same compound as CH—.
  • R 2 is a phenolic hydroxyl group protecting compound. When it is a group, the compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group of the phenolic hydroxyl group.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, in which R 7 is a carbonyl group and Z is —CH ⁇ H— It is the same compound as CH 2 CH ⁇ H—.
  • R 2 is a protecting group for a phenolic hydroxyl group in the compound of the formula (25)
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • the compound wherein R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is a carbonyl group and Z is —CO—CH 2 It is the same compound as CH ⁇ R 5 —.
  • R 2 is a phenolic hydroxyl-protecting group in the compound of the formula (26)
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the phenolic hydroxyl-protecting group.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, in which R 7 is a carbonyl group and Z is —CHOH—CH 2 This is the same compound as CHOR 5 _.
  • R 2 is a protecting group for a phenolic hydroxyl group in the compound of the formula (27)
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • R 2 of the formula (28) compound is a protective group of phenolic hydroxyl group, by removal of the protecting group of the phenolic hydroxyl group, to give compound R 2 is water atom.
  • the compound wherein R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is a carbonyl group and Z is —CO—CH 2 This is the same compound as the compound that is a ketal derivative of CH 2 —.
  • R 2 of the formula (29) compound is a protective group of phenolic hydroxyl group, by removal of the protecting group of Fueno Ichiru hydroxyl group, to give compound R 2 is water atom.
  • R 3 is —CH 2 ⁇ H
  • Equation (4) The conversion from Equation (4) to Equation (30) and Equation (31) is shown below.
  • RR 2 , R 4 , A and B in equations (30) and (31) are as defined in equation (1).
  • the conditions for the reduction reaction for producing the compound of the formula (30) from the formula (4) differ depending on the structures of RR 2 and R 4 in the formula (4).
  • the protecting group of the carbonyl group is an ethyl group.
  • the compound of the formula (30) can be obtained by using a metal hydride complex compound or a metal hydride.
  • the metal hydride complex include lithium aluminum hydride, aluminum tributoxy hydride, sodium aluminum bis (2-methoxyethoxy) hydride, and the like.
  • the metal hydride include diisobutylaluminum hydride.
  • Particularly preferred reducing agents are lithium aluminum hydride and aluminum disodium hydride.
  • the amount of the reducing agent used varies depending on the structure of R 1 , R 2 and R 4 in the formula (4) and the type of the reducing agent, but is 1 to 10 chemical equivalents relative to the compound represented by the formula (4). And more preferably 2 to 5 chemical equivalents.
  • the above reduction reaction is preferably carried out in the presence of a solvent, such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, getyl ether, 1,2-dimethoxyethane, diglyme, toluene, Dichloromethane and a mixed solvent thereof can be used.
  • a solvent such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, getyl ether, 1,2-dimethoxyethane, diglyme, toluene, Dichloromethane and a mixed solvent thereof can be used.
  • the reaction temperature of the above-mentioned reduction reaction is preferably in the range of 100 ° C to 80 ° C, and more preferably in the range of -78 ° C to room temperature.
  • a suitable reaction time is several minutes to several hours.
  • the compound of formula (30) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • R 2 in the compound of the formula (30) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • the epoxidizing agent used in producing the compound of the formula (31) is the same as the epoxylating agent used in producing the compound of the formula (12) from the compound of the formula (11).
  • the solvent used in producing the compound of the formula (31) is the same as the solvent used in producing the compound of the formula (12) from the compound of the formula (11).
  • the reaction temperature at the time of producing the compound of the formula (31) is preferably from 100 ° C to 80 ° C, more preferably from ⁇ 78 ° C to room temperature.
  • a suitable reaction time is several tens minutes to several hours.
  • the compound of formula (31) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is —CH 2 ⁇ H, and Z is —CHOH— This is equivalent to a compound that is 1,2-epoxy.
  • R 2 of the compound of the formula (31) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • a compound in which R 3 is —CH 2 ⁇ H and Z is one CHOH—CH 2 CHOH— (hereinafter, referred to as a compound of the formula (32)) is The compound can be synthesized by reducing the compound of the above formula (12).
  • Equation (12) Force The conversion to equation (32) is shown below.
  • R 1 R 2 R 4 A and B in the formula (32) are as defined in the formula (1).
  • the reducing agent used in producing the compound of the formula (32) from the compound of the formula (12) is the same as the reducing agent used in producing the compound of the formula (30) from the compound of the formula (4), and is preferably used.
  • the solvent used in producing the compound of the formula (32) is the same as the solvent used in producing the compound of the formula (30) from the compound of the formula (4).
  • the above reaction temperature is preferably ⁇ 100 ° C. and 80 ⁇ , more preferably in the range of ⁇ 78 ° C. to room temperature.
  • a suitable reaction time is several minutes to several hours.
  • the compound of the formula (32) can be obtained by a known method such as solvent extraction or column chromatography.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is —CH 2 ⁇ H and Z is —CH ⁇ This is the same compound as H—CH 2 CH ⁇ H—.
  • R 2 is a protecting group for a phenolic hydroxyl group in the compound of the formula (32)
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • a compound in which R 3 is a —CH 2 ⁇ H group and Z is —CO—CH 2 CH ⁇ R 5 — (hereinafter, a compound of the formula (34) )
  • a compound of the formula (34) Can be synthesized by adding a lower alcohol to a compound represented by the formula (33) described below (hereinafter, referred to as a compound of the formula (33)) in the presence of a basic compound. .
  • R 1 , R 2 R 5 A and B in the equation (34) are as defined in the equation (1).
  • the basic compound used in producing the compound of formula (34) from the compound of formula (33) is the same as the basic compound used in producing the compound of formula (17) from the compound of formula (4). is there. Also the formula
  • the lower alcohol used in producing the compound is the same as the lower alcohol used in producing the compound of formula (17) from the compound of formula (4).
  • the reaction temperature at the time of producing the compound of the formula (34) is preferably from 0 ° C to 150 ° C, more preferably from room temperature to 10 ox.
  • a suitable reaction time is several hours to several tens of hours.
  • the compound of the formula (34) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is a compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is —CH 2 OH and Z is —CO—CH This is the same compound as 2 CHOR 5 —.
  • R 2 of the compound of the formula (34) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • a compound in which R 3 is _CH 2 OH and Z is —CHOH—CH 2 CH ⁇ R 5 — (hereinafter, referred to as a compound of the formula (35)) Can be synthesized by reducing the ester and ketone of the compound of the above formula (17) to alcohol.
  • Equation (17) The conversion to force equation (35) is shown below.
  • RR 2 , R 4 , R 5 , A, and B in the formula (35) are as defined in the formula (1).
  • the agent is the same as the reducing agent used in producing the compound of the formula (30) from the compound of the formula (4), and is preferably lithium aluminum hydride and hydridiisobutylaluminum hydrogen.
  • the solvent used in producing the compound of the formula (35) is the same as the solvent used in producing the compound of the formula (30) from the compound of the formula (4).
  • the reaction temperature for producing the compound of the formula (35) is preferably from -100 ° C to 80 ° C, more preferably from -78 to room temperature. A suitable reaction time is several minutes to several hours. After completion of the reaction, the compound of formula (35) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is —CH 2 ⁇ H, and Z is —CHOH— The same compound as CH 2 CHOR 5 —.
  • R 2 is a protecting group for a phenolic hydroxyl group in the compound of the formula (35)
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • compounds in which R 3 is —CH 2 OH and Z is a ketal derivative of —CO—CH CHCH— (hereinafter, referred to as a compound of formula (36) ) can be synthesized by reducing the ester of the compound of the formula (19) to an alcohol. Further, by removing the ketal of the compound of the formula (36), the compound of the above formula (33) can be synthesized.
  • R: R 2 , A, B and Y in the equations (33) and (36) are as defined in the equation (1).
  • the reducing agent used in producing the compound of the formula (36) from the compound of the formula (19) is the same as the reducing agent used in producing the compound of the formula (30) from the compound of the formula (4).
  • the solvent used for producing the compound of the formula (36) is obtained by converting the compound of the formula (4) into the compound of the formula (30). It is the same as the solvent used when producing the product.
  • the reaction temperature at the time of producing the compound of the formula (36) is preferably from 100 ° C to 80 ° C, more preferably from 178 ° C to room temperature. A suitable reaction time is several minutes to several hours.
  • the compound of formula (36) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • R 2 is a phenolic hydroxyl-protecting group in the compound of the formula (36)
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the phenolic hydroxyl-protecting group.
  • the reaction for removing the ketal from the compound of the formula (36) is generally carried out by a method well known in the field of synthetic organic chemistry, for example, TW Greene., "Protecti ve Group Sin Organic Synthesis, John”. This can be performed according to the method described in Wi 1 ey & Sons, and the compound of formula (33) can be obtained.
  • R 2 of the compound of the formula (33) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • a compound of the formula (37) can be synthesized by reducing the ester of the compound of formula (20) to an alcohol. Further, by removing the ketal of the compound of the formula (37), a compound represented by the formula (38) (hereinafter, referred to as a compound of the formula (38)) can be synthesized.
  • R 1 , R 2 , A, B and Y in equations (37) and (38) are as defined in equation (1).
  • the reducing agent used in producing the compound of the formula (37) from the compound of the formula (20) is the same as the reducing agent used in producing the compound of the formula (30) from the compound of the formula (4).
  • the solvent used in producing the compound of the formula (37) is the same as the solvent used in producing the compound of the formula (30) from the compound of the formula (4).
  • the reaction temperature for producing the compound of the formula (37) is preferably from -100 ° C to 80, and more preferably from 78 ° C to room temperature.
  • a suitable reaction time is several minutes to several hours.
  • the compound of the formula (37) can be obtained by a known purification method such as solvent extraction or column chromatography.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is one CH 2 ⁇ H and Z is —CO— CH— This is the same compound as the compound that is the ketal derivative of CH—.
  • R 2 in the compound of the formula (37) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • the reaction for removing the ketal from the compound of the formula (37) is generally carried out by a method well known in the field of organic synthesis, for example, TW Greene., "Protective Growup sin Organic Synthesis", J
  • the method can be carried out according to the method described in ohn Wieey & Sons, and the compound of formula (38) can be obtained.
  • the compound wherein R 2 is a hydrogen atom is a compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is —CH 2 ⁇ H and Z is —CO— Compounds that are CH 2 CH 2 — Is the same compound as
  • R 2 is a protecting group for a phenolic hydroxyl group in the compound of the formula (38)
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • a compound represented by the general formula (38) (hereinafter referred to as the compound of the formula (39)) can be synthesized.
  • a compound represented by the general formula (40) (hereinafter, referred to as a compound of the formula (40)) can be synthesized from the compound of the formula (15) of the present invention. Wear.
  • the reaction conditions for producing the compound of formula (40) from the compound of formula (13) from the compound of formula (13) and the compound of formula (40) from the compound of formula (15) are the reaction conditions for producing the compound of formula (21) from the compound of formula (4). Same as the case.
  • the solvent used in producing the compound of the formula (39) and the compound of the formula (40) is the same as the solvent used in producing the compound of the formula (21) from the compound of the formula (4).
  • the reaction temperature for producing the compound of the formula (39) and the compound of the formula (40) is preferably from 20 to 80 ° C, more preferably from 0 to 50 ° C. If the reaction temperature is too low, the progress of the reaction may be slow, and if the reaction temperature is too high, a side reaction may proceed.
  • the reaction time varies depending on the conditions, but is usually several tens of minutes to several hours. After the reaction is complete, extract the solvent, The desired compounds can be obtained by known methods such as-.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, in which R 7 is a carboxyl group and Z is —CO—CH 2 CH It is the same compound as the compound that is 2— .
  • R 2 in the compound of the formula (39) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, in which R 7 is a carboxyl group and Z is —CO—CH 2 CH It is the same compound as the compound having ⁇ H—.
  • R 2 of the compound of the formula (40) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • a compound represented by formula (41) hereinafter, referred to as compound of formula (41)
  • R 1 , R 2 , A and B in the equation (41) are as defined in the equation (1).
  • the reducing agent used in producing the compound of the formula (41) from the compound of the formula (13) is the same as the reducing agent used in producing the compound of the formula (30) from the compound of the formula (4), and is preferably used.
  • the solvent used in producing the compound of the formula (41) is the same as the solvent used in producing the compound of the formula (30) from the compound of the formula (4).
  • the reaction temperature for producing the compound of the formula (41) is preferably from 1 to 80, more preferably from 1 to 78 and room temperature. A suitable reaction time is several minutes to several hours. After completion of the reaction, the compound of the formula (41) can be obtained by a known method such as solvent extraction or column chromatography.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is a compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is —CH 2 OH group, and Z is —CHOH— This is the same compound as CH 2 CH 2 —.
  • R 2 in the compound of the formula (41) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • a water molecule is added to the compound of the formula (33) of the present invention, a compound represented by the general formula (42) (hereinafter, referred to as a compound of the formula (42)) can be obtained.
  • RR 2 , A, and B in equation (42) are as defined in equation (1).
  • the reaction conditions for producing the compound of the formula (42) from the compound of the formula (33) are the same as the reaction conditions for producing the compound of the formula (15) from the compound of the formula (4).
  • the solvent used in producing the compound of the formula (42) is the same as the solvent used in producing the compound of the formula (15) from the compound of the formula (4).
  • the reaction temperature for producing the compound of the formula (42) is preferably from 0 ° C to 150 ° C, more preferably from room temperature to 100 ° C.
  • a suitable reaction time is several hours to several tens of hours.
  • the compound of the formula (42) can be obtained by a known method such as solvent extraction or column chromatography.
  • the compound in which R 2 is a hydrogen atom is the compound represented by the general formula (2) of the present invention, wherein R 7 is —CH 2 OH and Z is —CO—CH This is the same compound as the compound that is 2 CH ⁇ H—.
  • R 2 of the compound of the formula (42) is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • a compound in which R 2 is a hydrogen atom can be obtained by removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group.
  • the compounds represented by the general formulas (1) and (2) of the present invention there are compounds having one or two asymmetric carbon atoms. These are usually obtained as a racemic mixture, Separate and use only one optically active compound by asymmetric synthesis, if necessary, or by a method such as high-performance liquid chromatography using an optically active column. Is also possible.
  • the compound represented by the general formula (1) and the compound represented by the general formula (2) of the present invention can inhibit the activity of tyrosinase, an oxidase of L-tyrosine. Further, it is considered that the compound represented by the general formula (1) and the compound represented by the general formula (2) also have a hydroxyradical elimination action and a lipid peroxide production inhibitory action.
  • R 1 of the compound represented by the formula (1) is a lower alkyl group or a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • R 2 is a protecting group for a phenolic hydroxyl group
  • melanin pigment and suppress the pigment deposition on the skin and the like.
  • All of them can be used in the formulation of foods, pharmaceuticals, quasi-drugs, cosmetics, etc., and when used as an external preparation for the purpose of preventing or improving spots and freckles, It is preferably incorporated into lotions, serums, emulsions, creams, packs and the like.
  • the compound represented by the general formula (2) has an inhibitory effect on hyaluronan degrading enzyme, a free radical scavenging effect, and an inhibitory effect on lipid peroxide production, it can be used for prescription of foods, pharmaceuticals, quasi-drugs, and cosmetics. It can be suitably blended and used.
  • Compounds 6, 12, 17, 22, 26, 27, 28, 29, 30, 31, 32 and Z or 33 are tyrosinase activity inhibitors, hyaluronan degrading enzyme inhibitors, antioxidants, and hydroxyl radical scavengers And Z or can be used as a lipid peroxide production inhibitor.
  • Compounds 7, 8, 13, 18, 19, 23, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40, 41, 42, 43, 44, 45, 46, 47 and / or 48 inhibit tyrosinase activity Agents, hyaluronan degrading enzyme inhibitors, antioxidants, hydroxy radical scavengers and / or lipid peroxide production inhibitors.
  • T s represents a p-toluenesulfonyl group.
  • compound 5 was prepared via compound 1 and compound 3 using compound 1 as a starting material.
  • the compound 1 is a compound of the formula (8)
  • the compound 2 is a compound of the formula (10)
  • the compound 3 is a compound of the formula (5)
  • the compound 4 is a compound of the formula (6)
  • Compound 5 corresponds to the compound of formula (7).
  • the reaction was stopped by adding 5 Om 1 of a 5% aqueous solution of citrate.
  • the reaction mixture was partitioned by adding 10 Om 1 of a 10% aqueous sodium thiosulfate solution, 150 ml of saturated saline and 50 ml of ethyl acetate.
  • the organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted with 5 Oml of ethyl acetate.
  • the combined organic layers were dried over anhydrous magnesium sulfate. After drying, the solvent was distilled off, and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 49.5 g (yield: 94%) of a pale yellow, low-viscosity liquid compound.
  • the wave number (cm- 1 ) of the absorption in the infrared absorption spectrum was 2930, 2860, 1730, 1600, 1300, 1290, 1180, 1140, 940, 670.
  • the wave numbers (cm- 1 ) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 2930, 2860, 1730, 1600, 1320, 1150, 1090, 1030, 820, and 740.
  • the wave number (cm- 1 ) of the absorption in the infrared absorption spectrum was 3510, 2940, 2860, 1740, 1600, 1510, 1290, 1270, 1200, 1140, 1061, 1030, 710. there were.
  • Compound 6 of the present invention was prepared using compound 5 obtained in Synthesis Example 1 described above as a raw material.
  • the wave number (cm- 1 ) of the absorption in the infrared absorption spectrum was 2930, 2860, 1730, 1700, 1670, 1630, 1600, 1510, 1270, 1200, 1150, 1060, 1030, It was 710.
  • Compound 7 of the present invention was prepared using compound 6 obtained in Example 1 as a starting material.
  • the wave numbers (cm- 1 ) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 3530, 2930, 2850, 1700, 1660, 1640, 1520, 1280, 1230, and 1030.
  • compound 11 was prepared via compound 9 and compound 10, using compound 1 as a starting material in the same manner as in Synthesis Example 1.
  • the wave numbers (cm- 1 ) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 2980, 2930, 1730, 1600, 1300, 1290, 1140, 1090, 820, and 670.
  • this product contains 81% of compound 10 by mole fraction, and the remaining 19% is carbon in compound 10. -It was confirmed that the carbon double bond was a geometric isomer arranged in cis form.
  • the wave numbers (cm- 1 ) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 2980, 2930, 1730, 1600, 1320, 1300, 1150, 1090, 820, and 740.
  • the wave numbers (cm- 1 ) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 2980, 2930, 1730, 1600, 1320, 1300, 1150, 1090, 820, and 740.
  • the wave numbers (cm- 1 ) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 3510, 2940, 1730, 1600, 1510, 1290, 1270, 1150, 1060, and 710.
  • Compound 12 of the present invention was prepared using compound 11 obtained in Synthesis Example 2 as a raw material.
  • Compound 13 of the present invention was prepared using compound 12 obtained in Example 4 as a raw material.
  • the wave number (cm—) of the absorption in the infrared absorption spectrum is 3400, 2940, 1710, 1660, 1630, 1520, 1270, 1240, 1150, 1030, 820, 720.
  • compound 16 was prepared via compound 14 and compound 15 using compound 1 as a starting material in the same manner as in Synthesis Example 1.
  • the chemical shift values of the 1 H-NMR spectrum of this product measured in heavy-duty mouth form are 1.23 (3H, t), 1.80 -2.00 (1H, m), 2.30-2. 49 (6H, m), 3.64 (1H, dt), 4.10 (2H, d), 5.10 (1H, d), 5.33 (1H, d), 5.56-5. 68 (1 H, m), 7.33 (2H, d) and 7.71 (2H, d).
  • the wave numbers (cm—) of absorption in the infrared absorption spectrum were 2980, 1730, 1600, 1380, 1290, 1150, 1090, 940, 820, and 670.
  • the wave number (cm— 1 ) of the absorption in the infrared absorption spectrum is 2980, 2930, 1730, 1600, 1320, 1300, 1180, 1150, 1090, 820, 740.
  • the wave numbers (cm- 1 ) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 3450, 2940, 1740, 1600, 1510, 1270, 1200, 1150, 1060, 1030, and 710.
  • the wave numbers (cm- 1 ) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 2940, 1740, 1670, 1650, 1510, 1270, 1200, 1150, 1060, 1030, and 710.
  • the reaction mixture was partitioned by adding 6 Oml of saturated saline. The organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted with 5 Oml of ethyl acetate. The combined organic layers were dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off, and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 6.03 g (yield 29%) of a pale yellow compound having a medium viscosity.
  • the wave number (cm- 1 ) of the absorption in the infrared absorption spectrum was 3510, 2970, 2940, 2860, 1750, 1730, 1600, 1510, 1280, 1200, 1120, 1030, and 670. there were. In addition, elemental analysis showed 65.51% carbon and 7.45% hydrogen.
  • Compound 22 of the present invention was prepared using compound 21 obtained in Synthesis Example 4 as a raw material.
  • Compound 23 of the present invention was prepared using compound 22 obtained in Example 8 as a starting material.
  • Compound 25 was prepared from Compound 3 and Compound 24 as starting materials for obtaining the compound of Formula (4).
  • the wave number (cm- 1 ) of the absorption in the infrared absorption spectrum was 3510, 2970, 2940, 2860, 1750, 1730, 1600, 1510,
  • Compound 26 of the present invention was prepared using compound 25 obtained in Synthesis Example 5 as a starting material.
  • the wave numbers (cm— 1 ) of absorption in the infrared absorption spectrum were 2979, 1760, 1732, 1668, 1603, 1512, 1468, 1369, 1267, 1150, 1127, and 1038. .
  • the wave numbers (cm— 1 ) that were absorbed in the infrared absorption spectrum were 3504, 2974, 1761, 1736, 1606, 1511, 1467, 1418, 1280, 1182, 1127, 1098, and 1036. there were.
  • Example 11 The compound 27 obtained in Example 11 was epoxidized to obtain a compound 28 of the present invention.
  • Example 8 The compound 22 obtained in Example 8 was catalytically hydrogenated to obtain a compound 29 of the present invention.
  • the wave numbers (cm- 1 ) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 2,930, 1760, 1730, 1639, 1511, 1452, 1419, 1369, 1267, 1183, and 1126.
  • Example 10 The compound 26 obtained in Example 10 was catalytically hydrogenated to obtain a compound 30 of the present invention.
  • the wave number (cm—) of the absorption in the infrared absorption spectrum was 2930, 1760, 1730, 1639, 1511, 1452, 1419, 1369, 1267, 1183, 1126, 1098, 1029, and 1015. there were.
  • Example 10 The compound 26 obtained in Example 10 was ketalized to give a compound 32 of the present invention.
  • the wave number (cm— 1 ) at which the absorption was observed in the infrared absorption spectrum was 2924 1758 1737 1608 1510 1466 1420 1127 1042.
  • elemental analysis showed that carbon was 68.04% and hydrogen was 8.46%.
  • Example 13 The compound 29 obtained in Example 13 was ketalized to obtain a compound 33 of the present invention.
  • a water molecule was added to the compound 26 obtained in Example 10, and a protecting group for a phenolic hydroxyl group and a protecting group for a hydroxyl group were removed to obtain a compound 3 of the present invention.
  • the wave numbers (cm- 1 ) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 3336, 2943, 1723, 1710, 1603, 1514, 1426, 1275, and 1212.
  • the wave numbers (cm— 1 ) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 3448, 2924, 1701, 1621, 1560, 1524, 1410, 1212, 1127, 1098, and 1028.
  • Example 10 The compound 26 obtained in Example 10 was subjected to addition of methanol and removal of a protecting group for a phenolic hydroxyl group, to obtain a compound 36 of the present invention.
  • the ethyl group which was a protecting group for the carbonyl group, was substituted with a methyl group.
  • the wave number (cm—) of the absorption in the infrared absorption spectrum was 3413, 2931, 1733, 1604, 1515, 1436, 1364, 1267, 1238, 1196, 1155, 1127, 1084, 1072,
  • the result of elemental analysis was 66.29% for carbon and 8.48% for hydrogen.
  • the wave numbers (cm— 1 ) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 3403, 2926, 2858, 2368, 1700, 1515, 1417, 1274, and 1034.
  • the wave numbers (cm—) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 3414, 2935, 1703, 1611, 1520, 1466, 1409, 1279, 1228, 1122, and 1028.
  • the wave numbers (cm- 1 ) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 3413, 2931, 1705, 1612, 1515, 1435, 1367, 1264, 1154, and 1038.
  • the wave numbers (cm—) of absorption in the infrared absorption spectrum were 3349, 2930, 1666, 1602, 1516, 1464, 1453, 1431, 1368, 1273, 1236, 1154, and 1036. .
  • the wave numbers (cm— 1 ) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 3394, 2931, 1723, 1603, 1517, 1453, 1430, 1368, 1270, and 1035.
  • the wave numbers (cm— 1 ) that were absorbed in the infrared absorption spectrum were 3426, 2930, 1607, 1515, 1481, 1468, 1437, 1365, 1268, 1239, 1155, 1124, and 1039. there were.
  • Example 16 The compound 32 obtained in Example 16 was reduced with lithium aluminum hydride to obtain a compound 43 of the present invention.
  • the wave numbers (cm— 1 ) that were absorbed in the infrared absorption spectrum were 3415, 2920, 1705, 1611, 1520, 1463, 1455, 1365, 1278, 1236, 1151, 1122, 1064, 1028.
  • wave numbers had absorbed in the infrared absorption spectrum (KB r pellet method) (cm one 1), 3416, 2930, 1653, 1609, 1516, 1453, 1429, 1368, 1274, 1239, 1154, was 1030 .
  • the wave numbers (cm— 1 ) at which absorption was observed in the infrared absorption spectrum were 3389, 2932, 2857, 1602, 1516, 1453, 1428, 1371, 1272, 1238, 1084, and 1036. .
  • XI 00 T 1 Difference in absorbance of the sample-free solution after 2 minutes 45 seconds and 1 minute 45 seconds
  • ⁇ 2 Difference in absorbance between 2 min 45 sec and 1 min 45 sec of the solution to which the sample was added
  • the compound of the present invention and arbutin were added to the enzyme reaction mixture at 0.5 mgZml and 1 mgZm1, respectively. The results are shown in Table 1.
  • Example 24 Using compound 40 obtained in Example 24 and arbutin (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) as a comparative control, a tyrosinase activity inhibition test using L-dopa as a substrate was performed.
  • the test method was in accordance with Test Example 1.
  • Table 2 shows the results when the compound of the present invention and arbutin were used in the enzyme reaction solution at 0.125 mg / m 1, 0.25 Omg / m 1, and 0.5 Omg / m 1, respectively.
  • the absorbance at 490 nm after 2 s and 2 min 45 s was measured with a microplate reader.
  • Tyrosinase activity inhibition rate (%) [(T 1 — T 2 ) / T 1 ] XI 00
  • T 1 Difference in absorbance of the sample-free solution after 2 minutes 45 seconds and 1 minute 45 seconds
  • T 2 Difference in absorbance between 2 minutes 45 seconds and 1 minute 45 seconds of the solution to which the sample was added
  • the compound of the present invention and arbutin were added to the enzyme reaction mixture at 0.50 mg / ml and 1.0 OmgZml, respectively.
  • Table 3 shows the results of the use.
  • Table 4 shows the results when 0.02 mgZm 1, ⁇ and 0.125 mgZm1 were used.
  • Table 5 shows the results obtained when the compound of the present invention and arbutin were used in the enzyme reaction mixture at 1.0 mg / ml.
  • Table 6 shows the results when the compound of the present invention and arbutin were used in the enzyme reaction solution at 0.25 mgZml and 0.5 Omg / ml, respectively.
  • a 0.1 M acetate buffer was prepared by dissolving 0.60 g of acetic acid in 100 ml of distilled water.
  • a hyaluronidase solution was prepared by dissolving 7.2 mg of hyaluronan degrading enzyme (derived from bovine testes, type IV-S, manufactured by Sigma) in 3. Oml of acetate buffer (prepared in A above). .
  • An activator solution was prepared by dissolving Omg of compound48Z80 (a hyaluronidase activator manufactured by Sigma) in 10. Oml of acetate buffer (prepared in A).
  • a hyaluronic acid solution was prepared by dissolving 12.0 mg of potassium hyaluronate (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) in 15.Oml of acetate buffer (prepared in A).
  • Table 7 shows the results when the compound of the present invention and magnesium ascorbate were used in the enzyme reaction mixture at 0.1 mg / m 1, 0.2 mg / ml, and 0.4 mg Zm1, respectively. (Compound 7 was not tested because it did not dissolve at a concentration of 0.4 mg Zml.)
  • the compound of the present invention was found to have a radical scavenging activity higher than that of d 1 -hytocopherol. Therefore, it is considered that the compounds of the present invention can be used as scavengers for active oxygen, especially hydroxy radicals.
  • Linoleic acid 0.2 g, manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.
  • compound 7 (0.01 g)
  • surfactant Nissan OT-221 0.4 g, Japan
  • distilled water 17.39 g
  • HP LC analysis conditions were: detection wavelength: 210 nm, mobile phase: mixed solution of McI 1 Vaine buffer adjusted to pH 2.6 and methanol (10:90), flow rate: 1 ml 1 Zmin, power column : ODS-80Ts (4.6 ⁇ 150 mm), column temperature 40 ° C.
  • the product of the present invention can be industrially produced, and has excellent tyrosinase activity inhibitory activity, hyaluronan degrading enzyme, hydroxyl radical scavenging activity, and inhibitory activity on lipid peroxide production. is there. From this, the compound of the present invention can be applied to fields such as foods, flavorings, pharmaceuticals, quasi-drugs, and cosmetics. As a specific example, it can be used to prevent freckles, freckles, skin aging and allergies.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Dermatology (AREA)
  • Pulmonology (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
  • Epoxy Compounds (AREA)
  • Cosmetics (AREA)

Description

明 細 書 新規ショウガオール系化合物および当該化合物によるチロシナーゼ活性阻害剤 <技術分野〉
本発明は、 食品、 医薬品、 医薬部外品、 化粧品等の分野で有用なショウガオールおよび ジンゲロールと類似の化学構造を有する新規な化合物およびその製造用中間体に関するも のである。 更には該新規化合物を有効成分とするチロシナーゼ活性阻害剤、 ヒアルロン酸 分解酵素阻害剤または抗酸化剤等に関するものである。
<背景技術 >
しみ、 そばかす等による色素沈着は、 紫外線の暴露等に起因して表皮色素細胞内でメラ ニン色素が形成され、 表皮に異常沈着することにより発生する。 メラニン色素は、 ァミノ 酸の一種である L—チロシンがこの酸化酵素であるチロシナ一ゼの作用により L—ド一パ そして L—ド一パキノンへと代謝され、 更に各種の過程を経ることにより合成される (例 えばファインケミカル誌、 1 9 9 9年 3月 1 5日号、 「特集 美白剤の開発と製品展開」お よびフレダランス ジャーナル誌、 1 9 9 7年 9月号、 「特集 最近の美白剤の研究開発動 向」 を参照)。従って、 しみ、 そばかす等による色素沈着を防止するには、 メラニン色素の 合成に重要な役割を果たしているチロシナーゼの活性を阻害することが重要である。
従来、 しみ、 そばかす等の予防'改善には、 胎盤抽出物、 ビタミン C、 ビタミン C誘導 体、 コウジ酸、 およびアルブチン等の薬剤が使用されている。 しかし、 これらでは充分な 効果が得られていない。 また、 欧米では、 ハイドロキノンが色素斑の脱色を目的に用いら れているが、 安全性の点で問題があるために使用制限がなされている。 更に最近、 コウジ 酸にも発ガン性がある可能性が指摘されて問題となっている。
一方、 ショウガオールおよびジンゲロールは、 生姜抽出物の成分であり、 これらには例 えば、血行促進作用 (特開平 6— 1 8 3 9 5 9号公報)、体臭抑制効果(米国特許 6 2 6 4 9 2 8号)、抗酸化効果(H.Kikuzaki, N.Nakatani, 「Antioxidant Effects of Some Ginger Constituents」、 J.FoodScL, Vol58,No6, 1407— 1410 (1993))、 保湿効果 (鈴木正人監修、 「新しい化粧品機能素材 3 0 0 上巻」、 3 1 1— 3 1 2頁、 シーエムシー出版、 2 0 0 2 年) 等を有することが知られている。 またショウガオールおよびジンゲロールの生体内で の代謝経路も研究されており、 これらの代謝産物の構造が報告されている (H. Takahash i,他 3名, Phytochemistry, vol.34, 1497— 1500 (1993)および S. S. Lee, Arch. Phar m. Res. , vol.18, 136— 137 (1995) )。
本発明者らは、 ショウガオールを大量に生産できる方法について検討し、 特定のショウ ガオールを対象とする工業的製造法を創作し、 その特定なショゥガオールおよびその製造 法に関して特許出願 (特願 2 0 0 3— 3 2 7 5 7 4号) をしたとともに、 ショウガオ一ル にチロシナ一ゼ活性を阻害する性質があることを見出し報告した。 しかし、 この製造法に よって得られるショウガオールは、 水溶性が不十分なことから、 人に適用することが困難 な場合があり、 より水溶性の大きいものが求められている。
<発明の開示 >
本発明は、 食品、 医薬品、 医薬部外品、 化粧品等の分野で有用なショウガオールおよび ジンゲロールと同類の化合物であって、 チロシナーゼ活性阻害性等において従来のショウ ガオールおよびジンゲロールよりも一層活性の高い化合物を提供することを課題とする。 本発明者らは、 上記課題を解決するため鋭意研究を行った結果、 ジンゲロールおよびジ ンゲジオールと基本構造が同一であり、 公知のショウガオ一ルおよびジンゲロールと同様 な特性を有する新規な化合物を見出すとともに、 更に当該化合物がチロシナーゼ活性阻害 剤等として良好に作用することを見出し、 本発明を完成させた。 本発明は、 下記一般式 (1 ) で表わされる化合物である。
Figure imgf000004_0001
式 (1 ) 中の R 1は水素原子、 低級アルキル基またはフエノール性水酸基の保護基であ り、 R 2は水素原子またはフエノール性水酸基の保護基であり、 Aは炭素数 1〜4のアル キレン基であり、 Bは炭素数 1~12のアルキレン基であり、 R3は一 COOR4 (ここで R4は力ルポキシル基の保護基であり)、 力ルポキシル基または— CH2OHであり、 R3が ー0〇〇1 4のときの2はー〇〇ー0^[=〇1^ー、 一 CH〇H— CH=CH—、
-CHOH- 1, 2—エポキシ一、 一 C〇— CH2CH2—、 一 CHOH— CH2 CH2—、 一 CO— CH2CH〇H—、 一 CHOH— CH2CH〇H—、 一 C〇一 CH2 C H〇R 5—、 — CHOH— CH2CH〇R5—、 一 CO— CH=CH—のケタール誘導体、 または 一 CO— CH2CH2—のケタール誘導体であり、 R 5は低級アルキル基であり、 R3がカル ポキシル基のときの Zは一 CO— CH=CH—、 一 CHOH— CH=CH—、 -CHOH ー1, 2—エポキシ—、 — CHOH— CH2CH2—、 — CHOH— CH2 CHOH―、 — CO— CH2CH〇R5—、 一CHOH— CH2CH〇R5—、 一 CO— CH = CH—のケ タール誘導体、 または一 CO— CH2CH2—のケタール誘導体であり、 R5は低級アルキ ル基であり、 R3がー CH2〇Hのときの Zは一 CHOH— CH=CH—、 一 CHOH— 1, 2—エポキシ一、 一 CHOH— CH2CHOH―、 一 C〇 _ CH2 CH〇 R 5—、 一CHO H— CH2CH〇R5—、 一 C〇一 CH=CH—のケタール誘導体、 または一 CO— CH2 C H 2—のケタール誘導体であり、 R 5は低級アルキル基である。
式(1)における低級アルキル基とは炭素数 1〜 4であり、好ましくはメチル基である。 また、 式 (1) における一 CHOH— 1, 2—エポキシ一とは、 下記式 (3) で表される ものである。
Figure imgf000005_0001
式 (1) におけるケタール誘導体とは、 非環状ケタールまたは環状ケタールであり、 好 ましくは環状ケタールである。 この環状ケタールとしては、 カルポニル基に対してェチレ ングリコール、 1, 3—プロパンジオールまたは 2, 2—ジメチルー 1, 3—プロパンジ オールから得られるものが挙げられる。
本発明は、 上記式 (1) で表わされる化合物を有することを特徴とするチロシナーゼ阻 害剤であり、 式 (1) で表わされる化合物を有することを特徴とするヒアルロン酸分解酵 素阻害剤であり、式(1)で表わされる化合物を有することを特徵とする抗酸ィ匕剤である。 また本発明は、 下記式 (2) で表わされる化合物を含有することを特徴とするチロシナ ーゼ活性阻害剤、 ヒアル口ン酸分解酵素阻害剤及び Z又は抗酸化剤である。
Figure imgf000006_0001
式 (2) 中の R6は水素原子、 低級アルキル基またはフエノール性水酸基の保護基であ り、 Aは炭素数 1〜4のアルキレン基であり、 Bは炭素数 1〜12のアルキレン基であり、 R7は一 COOR8 (ここで R8は力ルポキシル基の保護基であり)、 力ルポキシル基または 一 CH2〇Hであり、 Zは一 CO— CH=CH—、 一 CH〇H_ CH=CH—、
一 CHOH—1, 2—エポキシ一、 一 CO— CH2CH2—、 一 CH〇H—CH2CH2_、 一 CO— CH2CHOH—、 一 CHOH— CH2CH〇H—、 一 C〇一 CH2 CHOR9—、 一 CHOH—CH2CHOR9—、 _ CO— CH=CH—のケタール誘導体、 または — CO— CH2CH2—のケタール誘導体であり、 R 9は低級ァルキル基である。
<発明を実施するための最良の形態 >
以下、 本発明について更に詳しく説明する。
〇一般式 (1) で表わされる化合物について
一般式 (1) において、 R1は水素原子、 低級アルキル基またはフエノール性水酸基の 保護基である。 R 2は水素原子またはフエノール性水酸基の保護基である。 R1および R2 のフエノール性水酸基の保護基としては、 保護基の導入および除去が容易であることが好 ましく、 シリル型保護基、 ァシル型保護基、 ベンジル型保護基、 エーテル型保護基等が例 示される。 具体的には、 t一プチルジメチルシリル基、 プロピオニル基、 プチロイル基、 イソプチロイル基、 ピパロイル基、 ベンゾィル基、 トルオイル基、 ベンジル基、 テトラヒ ドロビラニル基、 メトキシメチル基が好適である。
一般式 (1) において、 Aは炭素数 1〜4のアルキレン基であり、 好ましくはエチレン 基またはプチレン基であり、 更に好ましくはエチレン基である。
一般式 (1) において、 Bは炭素数 1~12のアルキレン基であり、 好ましくは炭素数 1 ~ 9のアルキレン基であり、 更に好ましくは炭素数 2〜 6のアルキレン基である。 一般式 (1) において、 R3は一 C〇〇R4基 (ここで R4は力ルポキシル基の保護基で あり)、 カルボキシル基または一 CH2〇Hである。 力ルポキシル基の保護基としては、 メ チル基、 ェチル基、 プロピル基、 ブチル基、 ベンジル基が好適である。 更に好ましくはメ チル基またはェチル基である。
一般式 (1) において R3がー COOR4のときの Zは一 CO— CH=CH―、 -CHO H— CH-CH—、 -CHOH- 1, 2—エポキシ一、 一 CO— CH2CH2—、 -CHO H— CH2CH2—、 — CO— CH2CHOH—、 一 CHOH— CH2 CHOH—、 一 CO— CH2CHOR5—、 一 CHOH— CH2CH〇R5—、 一 C〇_ CH=CH—のケタ一ル誘 導体、 または一 CO— CH2CH2—のケ夕一ル誘導体であり、 R 5は低級アルキル基であ る。 また、 一般式 (1) において R3が力ルポキシル基のときの Zは一 C〇一CH=CH 一、 一 CHOH_CH=CH—、 -CHOH- 1 , 2—エポキシ一、 一 CHOH— CH2 CH2—、 - CHOH- CH2 CHOH-, _ CO— CH2 CHOR5—、
一 CHOH— CH2CH〇R5—、 一 CO— CH=CH—のケタール誘導体、 または一 CO _CH2CH2—のケタ一ル誘導体であり、 R 5は低級アルキル基である。また、一般式(1) において R3が一 CH2〇Hのときの Zは一 CHOH— CH=CH―、 一 CHOH— 1, 2 —エポキシ一、 一 CHOH— CH2CHOH—、 一 C O— C H2 CH〇 R 5—、 -CHOH ― CH2CHOR5—、 一 CO— CH=CH—のケタ一ル誘導体、 または— CO— CH2C H2—のケタール誘導体であり、 R 5は低級アルキル基である。
〇一般式 (2) で表わされる化合物について
一般式 (2) において R6は水素原子、 低級アルキル基またはフエノール性水酸基の保 護基である。 R 6のフエノール性水酸基の保護基としては、 保護基の導入および除去が容 易であることが好ましく、 シリル型保護基、 ァシル型保護基、 ベンジル型保護基、 エーテ ル型保護基等が例示される。具体的には、 t—プチルジメチルシリル基、 プロピオニル基、 プチロイル基、 イソプチロイル基、 ピパロイル基、 ベンゾィル基、 トルオイル基、 ベンジ ル基、 テトラヒドロビラ二ル基、 メトキシメチル基が好適である。
一般式 (2) において、 Aは炭素数 1~4のアルキレン基であり、 好ましくはエチレン 基またはブチレン基であり、 更に好ましくはエチレン基である。 一般式 (2) において、 Bは炭素数 1~12のアルキレン基であり、 好ましくは炭素数 ;!〜 9のアルキレン基であり、 更に好ましくは炭素数 2〜 6のアルキレン基である。 一般式 (2) において、 R i—COOR8 (ここで R 8は力ルポキシル基の保護基であ り)、 力ルポキシル基または一 CH2〇Hである。 力ルポキシル基の保護基としては、 メチ ル基、 ェチル基、 プロピル基、 ブチル基、 ベンジル基が好適である。 更に好ましくはメチ ル基またはェチル基である。
一般式 (2) において、 Zは一 CO— CH=CH—、 一 CHOH— CH=CH—、 -CHOH- 1, 2—エポキシ一、 一 CO— CH2CH2—、 一CHOH— CH2CH2—、 — CO— CH2CH〇H—、 一 CHOH— CH2CH〇H—、 一 CO— CH2CHOR9—、 —CHOH—CH2CHOR9—、 _ CO— CH=CH—のケタール誘導体、 または -CO-CH2CH2-のケタール誘導体であり、 R 9は低級アルキル基である。
一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 1 3が一〇〇01^4でぁり、 Zがー CO— CH =CH—である化合物 (以下、 式 (4) 化合物と呼ぶ) は、 他の一般式 (1) で表わされ る化合物を合成する際の中間体となる化合物である。
〇式 (4) 化合物の合成法について
式 (4) 化合物は、 式 (7) で表わされる化合物 (以下、 式 (7) 化合物という。 その 他の式で表わされる後記の化合物についても同様に略称する)から合成することができる。 この式 (7) 化合物は、 後記する式 (5) 化合物と式 (6) 化合物との反応で得られる。 そして式 (5) 化合物は、 式 (10) 化合物から合成できる。 この式 (10) 化合物は、 後記する式 (8) 化合物と式 (9) 化合物との反応により得られる。 式(4)化合物は、下記式(5)化合物と下記式(6)化合物とを原料として下記式(7) 化合物を調製し、 更に下記式 (7) 化合物から HXを脱離させることにより製造できる。
X-CH2-CH=CH-B-COOR4 (5)
式 (5) 中の R4は力ルポキシル基の保護基を、 Bは炭素数 1〜12のアルキレン基を、 Xはベンゼンスルホニル基またはトルエンスルホニル基を示す。
Figure imgf000009_0001
式 (6) 中の R1は水素原子、 低級アルキル基またはフエノール性水酸基の保護基であ り、 R 2は水素原子またはフエノール性水酸基の保護基であり、 Aは炭素数 1〜4のアル キレン基を示す。
Figure imgf000009_0002
式 (7) 中の I 1、 R2、 R4、 A、 および Bは式 (1) で定義したとおりであり、 Xは 式 (5) で定義したとおりである。 式 (5) 化合物は、 式 (10) 化合物の X基の転位反応を行うことにより製造すること ができる。 式 (10) 化合物は、 下記式 (8) 化合物にアルキル金属化合物を反応させた 後、 下記式 (9) 化合物を反応させて製造することができる。
CH2 = CH - CH2— X (8)
式 (8) 中の Xは式 (5) で定義したとおりである。
I -B-COOR4 (9)
式 (9) 中の R4および Bは式 (1) で定義したとおりであり、 Iはヨウ素原子である。
Figure imgf000009_0003
式 (10) 中の R4および Bは式 (1) で定義したとおりであり、 Xは式 (5) で定義 したとおりである。 式 (8) 化合物とアルキル金属化合物との反応において、 式 (8) 化合物に対してアル キル金属化合物の割合が 0 . 7〜1 . 3化学当量であることが好ましく、 更に好ましくは 0 . 9〜1 . 1化学当量である。
上記反応の温度は、 一 1 0 0 °C~ 0 °Cが好ましく、 より好ましくは一 8 0 °C〜一 2 0で である。 この反応温度が低すぎる場合は温度維持にコストがかかり、 また、 反応温度が高 すぎる場合は副反応が進行する場合がある。
式 (8 ) 化合物とアルキル金属化合物との反応は、 非プロトン性の溶媒中で行うことが 好ましく、 テトラヒドロフラン、 1 , 4一ジォキサン、 ジェチルェ一テル、 1, 2—ジメ トキシェタン、 へキサメチルホスホリックトリアミド、 N, N—ジメチルプロピレンウレ ァおよびこれらの混合溶媒等を好適に使用することができる。
この反応時間は条件により異なるが、 通常、 数分間〜数 1 0分間である。
アルキル金属化合物としては、 n—ブチルリチウム、 s—ブチルリチウム、 t一ブチル リチウム、 フエニルリチウム等のアルキルリチウム化合物; n—ブチルマグネシウムクロ リド、 s —ブチルマグネシウムクロリド、 t—ブチルマグネシウムクロリド、 n—ブチル マグネシウムプロミド、 s—ブチルマグネシウムブロミド、 t一ブチルマグネシウムプロ ミド等のグリニャール化合物を例示することができ、 n—ブチルリチウム、 n—ブチルマ グネシゥムクロリド、 n—ブチルマグネシウムプロミドを好適に使用することができる。 またアルキル金属化合物に代えて金属リチウム、 金属ナトリゥム等のアル力リ金属類を使 用してもよい。 上述のごとく式(8 )化合物とアルキル金属化合物とを反応させたものに、引き続いて、 上記式 (9 ) 化合物を反応させることにより、 式 (1 0 ) 化合物が得られる。
式 (9 ) 化合物を前記反応物に加える際の反応系の温度は、 —1 0 0で〜 0 °Cが好まし く、 — 8 O X〜一 2 0 °Cが好適である。 この反応温度が低すぎる場合は温度維持にコスト がかかり、 また、 反応温度が高すぎる場合は副反応が進行する場合がある。
本反応時間は条件により異なるが、 通常、 数分間〜数 1 0分間である。
この反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製方法により、 式 (1 0 ) 化合物を単離精製することができる。 式(1 0 )化合物中の X基を転位させることにより式(5 )化合物を得ることができる。 この式 (10) 化合物の転位反応の好ましい触媒としては、 パラジウム触媒を例示する ことができる。 このパラジウム触媒としては、 テトラキストリフエニルホスフィンパラジ ゥム (0)、 トリス (ジベンジリデンアセトン) ジパラジウム (0) クロ口ホルム付加物、 塩化パラジウム (II) /トリフエニルホスフィン混合物、 酢酸パラジウム (II) zトリフ ェニルホスフィン混合物、 または酢酸パラジウム (Π) Zトリブチルホスフィン混合物等 が好適に使用される。 当該パラジウム触媒の使用量は、 式 (10) 化合物 lmo 1に対し て 0. 000 l~lmo 1が好ましく、更に好ましくは 0. 001〜0. lmo 1である。 当該触媒の使用量が少なすぎる場合は反応の進行が遅くなることがあり、 使用量が多すぎ る場合は触媒の除去に労力を要する場合がある。
本転位反応は溶媒の存在下で実施することが好ましく、 テトラヒドロフラン、 1, 4— ジォキサン、 ジェチルエーテル、 1, 2—ジメトキシェタン、 トルエン、 ァセトニトリル、 クロ口ホルム、 ジクロロメタン、 1, 2—ジクロロェタン、 へキサメチルホスホリックト リアミド、 N, N—ジメチルプロピレンゥレア、 メタノール、 エタノール、 イソプロピル アルコール、 エチレングリコール、 グリセリンおよびこれらの混合溶媒等を使用すること ができ、 中でも、 テトラヒドロフランとメタノールとの混合溶媒が好適である。
本転位反応の反応温度は 0 °C〜 1201が好ましく、 更に好ましくは 20で〜 100 °C の範囲が好適である。 この反応時間は条件により異なるが、 通常、 数時間〜数 10時間で ある。
この反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製方法により、 式 (5) 化合物を得ることができる。 式 (6) 化合物は、 G. So l l ad i e, e t a 1., J. Org. Ch em., _5 8.. 2181 (1993) 等の文献に記載の方法により合成することができる。
式 (6) 化合物における R1は水素原子、 低級アルキル基またはフエノール性水酸基の 保護基を、 R 2は水素原子またはフエノール性水酸基の保護基を示す。 式 (6) の R1の低 級アルキル基としては、 炭素数 1~ 3が好ましく、 更に好ましくはメチル基である。
式 (6) の R1および R2のフエノール性水酸基の保護基としては、 保護基の導入および 除去が容易であることが好ましく、 シリル型保護基、 ァシル型保護基、ベンジル型保護基、 およびエーテル型保護基等が例示される。 具体的には、 t一プチルジメチルシリル基、 プ 口ピオニル基、 ブチロイル基、 イソプチロイル基、 ビバロイル基、 ベンゾィル基、 トルォ ィル基、 ベンジル基、 テトラヒドロビラニル基、 またはメトキシメチル基が好適である。 式 (6 ) の Aは炭素数 1〜4のアルキレン基であり、 好ましくはエチレン基またはプチ レン基であり、 更に好ましくはエチレン基である。 式 (4 ) 化合物を得るための化合物である式 (7 ) 化合物は、 前記方法等により製造で きる式 (5 ) 化合物とアルキル金属化合物とを反応させ、 引き続いて式 (6 ) 化合物を反 応させることにより製造できる。
このアルキル金属化合物としては、 式 (5 ) 化合物中の力ルポキシル基の保護基に対し て悪影響をおよぼさないものが好ましく、 例えば ί—ブチルリチウム、 リチウムジイソプ 口ピルアミド、 またはリチウムビス (トリメチルシリル) アミドが好ましく使用できる。 このアルキル金属化合物の使用量は、 基本的には式 (5 ) 化合物に対し、 0 . 7〜 1 . 3化学当量が好ましく、 更に好ましくは、 0 . 9〜1 . 1化学当量である。
上記反応は、 非プロトン性の溶媒中で行うことが好ましく、 テトラヒドロフラン、 1, 4一ジォキサン、 ジェチルエーテル、 1, 2—ジメトキシェタン、 へキサメチルホスホリ ックトリアミド、 Ν, Ν—ジメチルプロピレンゥレアおよびこれらの混合溶媒等を好適に 使用することができる。
式 (5 ) 化合物とアルキル金属化合物との反応温度は、 ー8 0 °C~ 2 5でが好ましく、 より好ましくは一 5 0で〜 0でである。 この反応時間は通常数分間〜数時間である。 上述のごとく式(5 )化合物とアルキル金属化合物とを反応させたものに、 引き続いて、 式 (6 ) 化合物を反応させることにより式 (7 ) 化合物を製造できる。
式 (6 ) 化合物を前記反応物に加える際の反応系の温度は、 一 1 0 :〜 2 5 °Cが好ま しく、 一 8 0で〜 0でが好適である。 反応時間は通常数分間〜数時間が適当である。 この反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製方法により、 式 (7 ) 化合物を単離精製することができる。 本発明における式 (4 ) 化合物は、 π—ァリル錯体を形成する金属触媒の存在下で、 上 記方法等によって製造された式 (7 ) 化合物と塩基性ィヒ合物とを作用させることにより合 成することができる。
π—ァリル錯体を形成する金属触媒としては、 パラジウム錯体を好適に使用することが でき、 具体的には、 テトラキストリフエニルホスフィンパラジウム (0)、 トリス (ジベン ジリデンアセトン) ジパラジウム (0) クロ口ホルム付加物、 塩化パラジウム (II) "ト リフエニルホスフィン混合物、 酢酸パラジウム (II) /トリフエニルホスフィン混合物、 および酢酸パラジウム (II) トリブチルホスフィン混合物等が例示される。 当該パラジ ゥム触媒の使用量は、 式 (7) 化合物 lmo 1に対して 0. 000 l~lmo 1が好まし く、 更に好ましくは 0. 001〜0. lmo 1である。
上記塩基性化合物としては、 卜リエチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 および N—メチルイミダゾール、 ピリジン等の第三級ァミン類が好適である。 この塩基性化合物 の使用量は、 式 (7) 化合物 lmo 1に対して 0. 9mo l以上であり、 1. Omo l〜 1 Omo 1の範囲が好適である。なお、かかる塩基性化合物を溶媒として使用しても良い。 上記反応は溶媒の存在下で実施することが好ましく、 テトラヒドロフラン、 1, 4ージ ォキサン、 ジェチルェ一テル、 1, 2—ジメトキシェタン、 ァセトニトリル、 クロ口ホル ム、 ジクロロメタン、 1 , 2—ジクロロェタン、 へキサメチルホスホリックトリアミド、 N, N—ジメチルプロピレンゥレア、 メタノール、 エタノール、イソプロピルアルコール、 エチレングリコール、 グリセリンおよびこれらの混合溶媒等を使用することができ、 中で も、 1, 2—ジクロロェタンとアルコール類との混合溶媒が好適である。
この反応温度は室温〜 150 °Cが好ましく、 更に好ましくは 50 °C〜 120 の範囲が 好適である。
この反応時間としては数時間〜数 10時間が適当である。
この反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製方法により、 式 (4) 化合物を得ることができる。
式 (4) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わさ れる化合物のうち、 R7がー COOR8基であり、 Zが— C〇— CH=CH—である化合物 と同じ化合物を表わしている。 式 (4) 化合物の R2がフエノール性水酸基の保護基であ る場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である化合物 を得ることができる。
フエノール性水酸基の保護基を除去する方法は、 一般に有機合成化学の分野において周 知の方法、 例えば T. W. Gr e ene., 「P r o t e c t i ve Gr ou s i n Or gan i c Syn t he s i sJ, J ohn W i 1 e y &S o n sに記載の方法に 準じて行うことができる。 本発明の式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3がー COOR4であり、 Zが
一 CHOH— CH=CH—である化合物 (以下、 式 (11) 化合物と呼ぶ) は、 前述の式 (4 )化合物を金属水素錯^合物等で水酸基に還元することにより製造することができる。 また一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3がー COOR4であり、 Zが
-CHOH- 1, 2—エポキシ—である化合物 (以下、 式 (12) 化合物と呼ぶ) は、 式 (11) 化合物をエポキシ化することで製造することができる。
式 (4) から式 (11) および式 (12) への変換を下記に示す。
Figure imgf000014_0001
式 (11) および式 (12) 中の R1, R2、 R4、 Aおよび Bは式 (1) で定義したと おりである。 式 (4) 化合物のケトンを水酸基に還元する際の金属水素錯ィ匕合物としては、 水素化ホ ゥ素リチウム、 水素化ホウ素ナトリウム等が好ましく使用できる。 また水素化ホウ素ナト リウムと塩化セリウム (III) を併用する条件で反応を行うこともできる。 本反応において 好ましくは水素化ホウ素ナトリウムと塩ィ匕セリウム (III) を併用する条件である。 本反応 においては、 式 (4) 化合物に対して、 金属水素錯化合物の割合が、 0. 5〜10化学当 量であることが好ましく、 更に好ましくは 1〜2化学当量である。 水素化ホウ素ナトリウ ムと塩ィ匕セリウム (III) とを併用する条件で還元反応を行う場合、 塩化セリウム (III) の 使用量は、 式 (4) 化合物に対して 0. 01~5化学当量であることが好ましく、 更に好 ましくは 0. 1〜 3化学当量である。
上記反応は溶媒の存在下で実施することが好ましく、 テトラヒドロフラン、 1, 4ージ' ォキサン、 ジェチルエーテル、 1, 2—ジメトキシェタン、 ァセトニトリル、 メタノール、 エタノール、イソプロピルアルコールおよびこれらの混合溶媒等を使用することができる。 式 (11) 化合物を製造する際の反応温度は一 100^〜100でが好ましく、 更に好 ましくは一 78 °C〜室温の範囲が好適である。 反応時間としては数分間〜数時間が適当で ある。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製方法により、 式 (11) 化合物を得ることができる。
式 (11) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7が— CQOR8であり、 Zが— CH〇H—CH=CH—である化 合物と同じ化合物を表わしている。 式 (11) 化合物の R 2がフエノール性水酸基の保護 基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である 化合物を得ることができる。
式 (11) 化合物から式 (12) 化合物を製造する際のエポキシ化剤としては過酢酸、 トリフルォロ過酢酸、 過安息香酸および m—ク口口過安息香酸等の過酸並びに過酸化水素 および t—ブチルハイドロペルォキシド等の過酸化物を好適に使用することができる。 過 酸や過酸化物の使用量は、 1〜10化学当量が好ましく、 更に好ましくは 1. 1〜2化学 当量である。
上記反応は溶媒の存在下で実施することが好ましく、 ジクロロメタン、 クロ口ホルム、 1, 2—ジクロロェタン、 テトラヒドロフラン、 1, 4一ジォキサン、 ジェチルエーテル、 1, 2—ジメトキシェタン、 ァセトニトリル、 トルエン、 水およびこれらの混合溶媒等を 好適に使用することができる。
式 (12) 化合物を製造する際の反応温度は一 100°C〜100^が好ましく、 更に好 ましくは一 78°C〜50 の範囲が好適である。 この反応時間としては数十分間〜数時間 が適当である。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製方法 により、 式 (12) 化合物を得ることができる。
式 (12) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7が— C0OR8であり、 Zがー CHOH— 1, 2—エポキシ一で ある化合物と同じ化合物を表わしている。 式 (12) 化合物の R 2がフエノール性水酸基 の保護基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子 である化合物を得ることができる。 本発明の式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3がー C〇〇R4であり、 Zが— CO— CH2CH2—である化合物 (以下、 式 (13)化合物と呼ぶ) は、 式 (4)化合物に対し て接触水素添加を行うことにより製造することができる。
また一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3が— C〇〇R4であり、 Zが— CHO H—CH2CH2—である化合物 (以下、 式 (14) 化合物と呼ぶ) は、 式 (13) 化合物 を金属水素錯化合物で還元することにより製造することができる。
式 (4) から式 (13) および式 (14) への変換を下記に示す。
Figure imgf000016_0001
式 (13) および式 (14) 中の R R2、 R4、 Aおよび Bは式 (1) で定義したと おりである。 式 (13) 化合物を製造する際には、 パラジウム一炭素、 酸化白金 (IV)、 ラネ一ニッ ケル、 白金黒、 ロジウム一酸化アルミニウム、 トリフエニルホスフィン一塩化ロジウム、 およびパラジウム一硫酸バリゥム等の金属触媒を用い、 反応容器内を水素雰囲気下にする ことが好ましい。 本反応においては、 式 (4) 化合物に対して、 金属触媒の割合が 0. 0 :!〜 100重量パーセントであることが好ましく、 更に好ましくは 0. 1〜10重量パー セントである。
式 (13) 化合物を製造する際には、 溶媒の存在下で実施することが好ましく、 メタノ ール、 エタノール、 n—プロピルアルコール、 イソプロピルアルコール、 n—ブチルアル コール、 t一ブチルアルコール、 n—ペンタン、 n—へキサン、 トルエン、 酢酸ェチル、 酢酸、 テトラヒドロフラン、 1, 4—ジォキサン、 ジェチルエーテル、 1, 2—ジメトキ シェタン、 ァセトニトリル、 N, N—ジメチルホルムアミド、 N, N—ジメチルプロピオ ンゥレア、ジメチルスルホキシド、水およびこれらの混合溶媒等を使用することができる。 式 (13) 化合物を製造する際の反応温度は 0°C〜100°Cが好ましく、 更に好ましく は室温〜 50°Cの範囲が好適である。 この反応時間としては数十分間〜数十時間が適当で ある。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製方法により、 式 (13) 化合物を得ることができる。
式 (13) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7がー COOR8であり、 Zが— C〇— CH2CH2—である化合物 と同じ化合物を表わしている。 式 (13) 化合物の R 2がフエノール性水酸基の保護基で ある場合は、 フヱノ一ル性水酸基の保護基を除去することで、 R2が水素原子である化合 物を得ることができる。
式 (14) 化合物を製造する際に使用する金属水素錯化合物としては、 カルボキシル基 の保護基に悪影響を及ぼさないものが好ましく、 水素化ホウ素リチウム、 水素化ホウ素ナ トリウム等が好ましく使用できる。 更に好ましくは水素化ホウ素ナトリウムである。 本反 応においては、 式 (13) 化合物に対して金属水素錯化合物の割合が 0. 5〜10化学当 量であることが好ましく、 更に好ましくは 1〜2化学当量である。
式 (14) 化合物を製造する際には、 溶媒の存在下で実施することが好ましく、 テトラ ヒドロフラン、 1, 4一ジォキサン、 ジェチルェ一テル、 1, 2—ジメトキシェタン、 ァ セトニトリル、 メタノール、 エタノール、 イソプロピルアルコールおよびこれらの混合溶 媒等を使用することができる。
式 (14) 化合物を製造する際の反応温度は一 20°C〜100°Cが好ましく、 更に好ま しくは 0°C〜室温の範囲が好適である。 この反応時間としては数分間〜数時間が適当であ る。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製方法により、 式 (14) 化合物を得ることができる。
式 (14) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7がー COOR8であり、 Zがー CHOH— CH2CH2—である化 合物と同じ化合物を表わしている。 式 (14) 化合物の R 2がフエノール性水酸基の保護 基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である 化合物を得ることができる c 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3がー COOR4であり、 Zが — CO— CH2CHOH—である化合物 (以下、 式 (15) 化合物と呼ぶ) は、 式 (4) 化合物に対して水分子の付加を行うことで製造することができる。
また一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3が _C〇〇R4であり、 Zがー CHO H— CH2CHOH—である化合物 (以下、 式 (16) 化合物と呼ぶ) は、 式 (15) 化 合物を金属水素錯化合物で還元することにより製造することができる。
式 (4) から式 (15) および式 (16) への変換を下記に示す。
Figure imgf000018_0001
式 (15) および式 (16) 中の R R2、 R4、 Aおよび Bは式 (1) で定義したと おりである。 式 (15) を得るため式 (4) 化合物に対して水分子の付加を行う際には、 水酸化ナト リウム、 水酸化カリウム等の金属水酸化物を水溶液として使用することが好ましい。 金属 7_K酸化物の使用量は、 式 (4) 化合物に対して 1〜10化学当量が好ましく、 更に好まし くは、 2〜 5化学当量である。 またこのとき相間移動触媒を併用しても良い。 この相間移 動触媒としては、 臭化テトラプチルアンモニゥム、 臭化べンジルトリプチルアンモニム、 臭ィ匕トリォクチルメチルァンモニゥム等の第四級ァンモニゥム塩を好ましく使用すること ができる。 この相間移動触媒の使用量は、 式 (4) 化合物に対して 0. 001〜1化学当 量であることが好ましく、 更に好ましくは 0. 01〜0. 2化学当量である。
上記反応は溶媒の存在下で実施することが好ましく、 テトラヒドロフラン、 1, 4—ジ ォキサン、 ジェチルエーテル、 1, 2—ジメトキシェタン、 ァセトニトリル、 トルエン、 クロ口ホルム、 ジクロロメタン、 1, 2—ジクロロェタン、 t—プチルアルコール、 N, N—ジメチルホルムアミド、 N, N—ジメチルプロピレンゥレア、 ジメチルスルホキシド およびこれらの混合溶媒等を使用することができる。
式 (15) 化合物を製造する際の反応温度は 0で〜 150°Cが好ましく、 更に好ましく は室温〜 100 Cの範囲が好適である。反応時間としては数時間〜数十時間が適当である。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製方法により、 式 (1 5) 化合物を得ることができる。
なお、 上記水分子の付加反応の際に、 R 4がメチル基やェチル基のようなアルキル基の 場合は、 加水分解が起き、 R4が除去される可能性がある。 このような場合は単離精製後 エステル化を行い、式(15)化合物を合成すれば良い。 このエステル化の条件としては、 一般に有機合成化学の分野において周知の方法、 例えば T. W. Gr e ene., 「P r o t e c t i v e Gr ou s i n Or gan i c Syn t he s i s」, J ohn Wi 1 e y&S o n sに記載の方法に準じて行うことができる。
式 (15) 化合物のうち R2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7が— COOR8であり、 Zが— CO—CH2CHOH_である化 合物と同じ化合物を表わしている。 式 (15) 化合物の R2がフエノール性水酸基の保護 基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R2が水素原子である 化合物を得ることができる。
式 (16) 化合物を製造する際に使用する還元剤は、 式 (13) 化合物から式 (14) 化合物を製造する際に使用する還元剤と同様であり、 好ましくは水素化ホウ素ナトリウム である。
式 (16) 化合物を製造する際に使用する溶媒は、 式 (13) 化合物から式 (14) ィ匕 合物を製造する際に使用する溶媒と同様である。
式 (16) 化合物を製造する際の反応温度は一 20で〜 100°Cが好ましく、 更に好ま しくは、 0°C〜室温の範囲が好適である。 この反応時間としては数分間〜数時間が適当で ある。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製方法により、 式 (16) 化合物を得ることができる。
式 (16) 化合物のうち R2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7がー C〇〇R8であり、 Zがー CHOH— CH2CH〇H—であ る化合物と同じ化合物を表わしている。 式 (16) 化合物の R2がフエノール性水酸基の 保護基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R2が水素原子で ある化合物を得ることができる。 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3がー COOR4であり、 Zが 一 CO— CH2CHOR5—である化合物 (以下、 式 (17) 化合物と呼ぶ) は、 式 (4) 化合物に対して塩基性化合物存在下、 低級アルコールの付加を行うことで製造することが できる。
また一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 1 3がー〇0〇1 4でぁり、 Zが — CHOH— CH2CH〇R5—である化合物(以下、式(18)化合物と呼ぶ)は、式(1 7 ) 化合物を金属水素錯化合物で還元することにより製造することができる。
式 (4) から式 (17) および式 (18) への変換を下記に示す。
Figure imgf000020_0001
式 (17) 及び式 (18) 中の R1, R2、 R4、 Aおよび Bは式 (1) で定義したとお りであり、 R 5は低級アルキル基を表わす。 式 (4) から式 (17) 化合物を製造する際に使用する塩基性物質としては、 水酸化ナ トリウム、 水酸ィヒカリウム等のアルカリ金属水酸化物類を使用することが好ましい。 アル カリ金属水酸化物類の使用量は、 式 (4) に対して 1〜10化学当量が好ましく、 更に好 ましくは、 2〜5化学当量である。 式 (4) から式 (17) 化合物を製造する際に使用す る低級アルコールとしては、 メタノール、 エタノール、 n—プロピルアルコール、 イソプ 口ピルアルコール、 n—プチルアルコール等が挙げられ。 また、 低級アルコールを溶媒と して使用して良い。 式 (4) から式 (17) 化合物を製造する際の反応温度は 0で〜 150°Cが好ましく、 更に好ましくは室温〜 100°Cの範囲が好適である。 この反応時間としては数時間〜数十 時間が適当である。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製 方法により、 式 (17) 化合物を得ることができる。
なお、 上記低級アルコールの付加反応の際に、 R4がメチル基、 ェチル基のようなアル キル基の場合は、 加水分解が起き、 R4が除去される可能性があるが、 そのような場合は 単離精製後にエステル化を行い、 式 (17) 化合物を合成すれば良い。 このエステル化の 条件としては、 一般に有機合成化学の分野において周知の方法、 例えば T. W. Gr e e n e., 「 P r o t e c t i ve Gr oup s i n Or gan i c Syn t he s i s」, J ohn W i 1 e y & S o n sに記載の方法に準じて行うことができる。
式 (17) 化合物のうち R2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7が— COOR8であり、 Zが一 CO— CH2CH〇R5_である化 合物と同じ化合物である。 式 (17) 化合物のうち R2がフエノール性水酸基の保護基で ある場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である化合 物を得ることができる。
式 (17) ィ匕合物から式 (18) 化合物を製造する際に使用する還元剤は、 式 (13) 化合物から式 (14) 化合物を製造する際に使用する還元剤と同様であり、 好ましくは水 素化ホウ素ナトリウムである。
式 (17) 化合物から式 (18) 化合物を製造する際に使用する溶媒は、 式 (13) 化 合物から式 (14) 化合物を製造する際に使用する溶媒と同様である。
式 (17) 化合物から式 (18) 化合物を製造する際の反応温度は— 20°C~100°C が好ましく、 更に好ましくは 0°C〜室温の範囲が好適である。 この反応時間としては数分 間〜数時間が適当である。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知 の精製方法により、 式 (18) 化合物を得ることができる。
式 (18) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7がー COOR8であり、 Zがー CHOH—CH2CH〇R5—であ る化合物と同じ化合物である。 式 (18) 化合物のうち R2がフエノール性水酸基の保護 基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である 化合物を得ることができる。 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3が— COOR4であり、 Zが 一 CO— CH==CH—のケタール誘導体である化合物 (以下、 式 (19) 化合物と呼ぶ) は、 式 (4) 化合物を、 非環状ケタールまたは環状ケタールに変換することで製造するこ とができる。
同様の方法で一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3が— C〇〇R4であり、 Zが 一 CO— CH2CH2—のケタール誘導体である化合物 (以下、 式 (20) 化合物と呼ぶ) は、 式 (13) 化合物から製造できる。
式 (4) から式 (19) および式 (20) への変換を下記に示す。
Figure imgf000022_0001
式 (19) および式 (20) 中の R R2、 R4、 Aおよび Bは式 (1) で定義したと おりであり、 Yは非環状ケタールまたは環状ケタールを表す。 式 (19) および式 (20) の非環状ケ夕一ルとしては、 ジメチルケタールまたはジァ セチルケタール等が挙げられる。 式 (19) および式 (20) の環状ケタールとしては、 カルポニル基に対してエチレングリコール、 1, 3—プロパンジオールまたは 2, 2—ジ メチル一 1, 3—プロパンジオールから得られるものが挙げられる。
式 (4) のケタール化反応は、 一般に有機合成化学の分野において周知の方法、 例えば T. W. Gr e ene., P r o t e c t i ve Gr oup s i n Or g an i c Sy n t he s i sj, J o n Wi 1 e y &S o n sに記載の方法に準じて行うことが できる。
式 (19) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7が— C〇〇R8であり、 Zがー C〇— CH=CH—のケタール誘 導体である化合物と同じ化合物である。 また式 (20) 化合物のうち R 2が水素原子であ る化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わされる化合物のうち、 R7がー COOR8であり、 Zがー CO— CH— CH—のケタール誘導体である化合物と同じ化合物である。
式 (19) 化合物または式 (20) 化合物のうち R 2がフエノール性水酸基に保護基で ある場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R2が水素原子である化合 物を得ることができる。 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R 3が力ルポキシル基であり、 が — CO— CH=CH—である化合物 (以下、 式 (21) 化合物と呼ぶ) は、 前述の式 (4) 化合物における力ルポキシル基の保護基を取り外すことにより得られる。 下記式参照。
Figure imgf000023_0001
式 (21) 中の R R2、 R4、 A、 Bは式 (1) で定義したとおりである, 同様にして、 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3が力ルポキシル基 であり、 Zがー CHOH— CH=CH—である化合物 (以下、 式 (22) 化合物と呼ぶ) は、 前述の式 (11) 化合物から合成できる。 下記式参照。
Figure imgf000023_0002
式 (22) 中の R1 R2、 R4、 A、 Bは式 (1) で定義したとおりである。 同様にして、 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R 3が力ルポキシル基 であり、 Zがー CHOH— 1, 2 _エポキシ一である化合物 (以下、 式 (23) 化合物と 呼ぶ) は、 前述の式 (12) 化合物から合成できる。 下記式参照。
Figure imgf000023_0003
式 (23) 中の R1, R2、 R4、 A、 Bは式 (1) で定義したとおりである £ 同様にして、 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3がカルボキシル基 であり、 Zが— CHOH—CH2CH2—である化合物 (以下、 式 (24) 化合物と呼ぶ) は、 前述の式 (14) 化合物から合成できる。 下記式参照。
Figure imgf000024_0001
式 (24) 中の R1 R2、 R4、 A、 Bは式 (1) で定義したとおりである c 同様にして、 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3が力ルポキシル基 であり、 Zがー CH〇H—CH2CHOH—である化合物 (以下、 式 (25) 化合物と呼 ぶ) は、 前述の式 (16) 化合物から合成できる。 下記式参照。
Figure imgf000024_0002
式 (25) 中の R R2、 R4、 A、 Bは式 (1) で定義したとおりである。 同様にして、 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R 3が力ルポキシル基 であり、 Zが— CO— CH2CH〇R5_である化合物 (以下、 式 (26) 化合物と呼ぶ) は、 前述の式 (17) 化合物から合成できる。 下記式参照。
Figure imgf000024_0003
式 (26) 中の R1 R2、 R4、 R5、 A、 Bは式 (1) で定義したとおりである。 同様にして、 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3がカルボキシル基 であり、 Zがー CH0H— CH2CH〇R5—である化合物 (以下、 式 (27) 化合物と呼 ぶ) は、 前述の式 (18) 化合物から合成できる。 下記式参照。
Figure imgf000025_0001
式 (27) 中の R1 R2、 R4、 R5、 A、 Bは式 (1) で定義したとおりである。 同様にして、 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R 3が力ルポキシル基 であり、 Zが— C〇— CH=CH—のケタール誘導体である化合物 (以下、 式 (28) 化 合物と呼ぶ) は、 前述の式 (19) 化合物から合成できる。 下記式参照。
Figure imgf000025_0002
式 (28) 中の R1, R2、 R4、 A、 B、 Yは式 (1) で定義したとおりである。 同様にして、 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R 3が力ルポキシル基 であり、 Zが— CO— CH2CH2—のケタール誘導体である化合物 (以下、 式 (29) 化 合物と呼ぶ) は、 前述の式 (20) 化合物から合成できる。 下記式参照。
Figure imgf000025_0003
式 (29) 中の R1 R2、 R4、 A、 B、 Yは式 (1) で定義したとおりである c これらの力ルポキシル基を保護した化合物 (保護化合物) から保護基を取り外す反応の 条件は使用する保護基の種類により異なるが、 例えば、 力ルポキシル基の保護基がェチル 基である場合には、 水酸化ナトリウム、 水酸化カリウム等のアルカリ触媒存在下で除去で きる。
前記アルカリ触媒の使用量は、 保護化合物の R1, R2、 および R 4の構造およびアル力 リ触媒の種類により異なるが、 保護化合物に対し 1〜10化学当量が好ましく、 更に好ま しくは、 2〜 5化学当量である。 このアルカリ触媒の使用量が少なすぎる場合は反応の進 行が遅い場合があり、 使用量が多すぎる場合は反応後の処理に多量の中和剤が必要となる 場合がある。
上記反応には溶媒を用いても良く、 テトラヒドロフラン、 1, 4一ジォキサン、 ジェチ ルエーテル、 1, 2—ジメトキシェタン、 N, N—ジメチルホルムアミド、 N, N—ジメ チルプロピレンゥレア、 水、 メタノール、 エタノール、 イソプロピルアルコール、 t—プ チルアルコールぉよびこれらの混合溶媒等を好適に使用することができる。
上記反応の反応温度は、 一 20で〜 80 °Cが好ましく、 更に好ましくは 0 °C〜 50 で ある。 反応温度が低すぎる場合は反応の進行が遅い場合があり、 また反応温度が高すぎる 場合は副反応が進行する場合がある。 この反応時間は条件により異なるが、 通常、 数 10 分間〜数時間である。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精 製方法により、 それぞれ目的の化合物を得ることができる。 式 (21) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R 7がカルボキシル基であり、 Zがー CO— CH=CH—である化 合物と同じ化合物である。 式 (21) 化合物のうち R2がフエノール性水酸基の保護基で ある場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である化合 物を得ることができる。
式 (22) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R 7が力ルポキシル基であり、 Zがー CHOH— CH=CH—であ る化合物と同じ化合物である。 式 (22) 化合物のうち R2がフエノール性水酸基の保護 基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である 化合物を得ることができる。
式 (23) 化合物のうち R2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R 7が力ルポキシル基であり、 Zが— CHOH— 1, 2—エポキシ —である化合物と同じ化合物である。 式 (23) 化合物のうち R2がフエノール性水酸基 の保護基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子 である化合物を得ることができる。
式 (24) 化合物のうち R2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R 7が力ルポキシル基であり、 Zがー CHOH— CH— CH—であ る化合物と同じ化合物である。 式 (24) 化合物のうち R 2がフエノール性水酸基の保護 基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である 化合物を得ることができる。
式 (25) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7が力ルポキシル基であり、 Zが— CH〇H— CH2CH〇H—で ある化合物と同じ化合物である。 式 (25) 化合物のうち R2がフエノール性水酸基の保 護基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子であ る化合物を得ることができる。
式 (26) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R 7が力ルポキシル基であり、 Zが— CO— CH2CH〇R5—であ る化合物と同じ化合物である。 式 (26) 化合物のうち R 2がフエノール性水酸基の保護 基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である 化合物を得ることができる。
式 (27) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R 7が力ルポキシル基であり、 Zが— CHOH— CH2CHOR5_ である化合物と同じ化合物である。 式 (27) 化合物のうち R2がフエノール性水酸基の 保護基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R2が水素原子で ある化合物を得ることができる。
式 (28) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R 7が力ルポキシル基であり、 Zが— CO— CH=CH—のケタ一 ル誘導体である化合物と同じ化合物である。 式 (28) 化合物のうち R2がフエノール性 水酸基の保護基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R2が水 素原子である化合物を得ることができる。
式 (29) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R 7が力ルポキシル基であり、 Zが— CO— CH2CH2—のケター ル誘導体である化合物と同じ化合物である。 式 (29) 化合物のうち R2がフエノール性 水酸基の保護基である場合は、 フエノ一ル性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水 素原子である化合物を得ることができる。 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3が— CH2〇Hであり、 Zが 一 CHOH— CH=CH—である化合物 (以下、 式 (30) 化合物と呼ぶ) は、 前述の式 (4) 化合物のエステルおよびケトンをアルコールに還元することで合成することができ る。
また本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3がー CH2〇Hであり、 Zが -CHOH- 1, 2—エポキシ—である化合物 (以下、 式 (31) 化合物と呼ぶ) は、 式 (30) 化合物をエポキシ化することで合成することができる。
式 (4) から式 (30) および式 (31) への変換を下記に示す。
Figure imgf000028_0001
式 (30) および式 (31) 中の R R2、 R4、 Aおよび Bは式 (1) で定義したと おりである。 式 (4) から式 (30) 化合物を製造する還元反応の際の条件は、 式 (4) の R R2、 R4の構造により異なるが、 例えば、 力ルポキシル基の保護基がェチル基である場合には、 金属水素錯化合物または金属水素化物を使用することで、 式 (30) 化合物が得られる。 この金属水素ィ匕錯ィ匕合物としては、 水素化アルミニウムリチウム、 水素化トリブトキシリ チウムアルミニウム、 水素化ビス (2—メトキシェトキシ) アルミニウムナトリウム等が 挙げられる。 また金属水素化物は水素化ジイソブチルアルミニウム等があげられる。 特に 好ましく使用できる還元剤としては水素化アルミニゥムリチウムおよび水素化ジィソプチ ルアルミニウムである。
前記還元剤の使用量は、 式 (4) の R1, R2、 および R 4の構造および還元剤の種類に より異なるが、 式 (4) で表される化合物に対し 1〜10化学当量が好ましく、 更に好ま しくは、 2〜 5化学当量である。
上記還元反応は、 溶媒の存在下で実施することが好ましく、 テトラヒドロフラン、 1, 4一ジォキサン、 ジェチルエーテル、 1, 2—ジメトキシェタン、 ジグライム、 トルエン、 ジクロロメタンおよびこれらの混合溶媒等を使用することができる。
上記還元反応の反応温度は一 100 °C〜 80 °Cが好ましく、 更に好ましくは、 — 78 °C 〜室温の範囲が好適である。 反応時間としては数分間〜数時間が適当である。 反応終了後 は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製方法により、 式 (30) 化合物 を得ることができる。
式 (30) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7が _CH2〇Hであり、 Zがー CHOH— CH=CH—である化 合物と同じ化合物である。 式 (30) 化合物のうち R2がフエノール性水酸基の保護基で ある場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である化合 物を得ることができる。
式(31)化合物を製造する際に使用するエポキシ化剤は、式(11)化合物から式(1 2 ) 化合物を製造する際に使用するェポキシ化剤と同様である。
式 (31) 化合物を製造する際に使用する溶媒は、 式 (11) 化合物から式 (12) 化 合物を製造する際に使用する溶媒と同様である。
式 (31) 化合物を製造する際の反応温度は一 100°C〜80°Cが好ましく、 更に好ま しくは— 78 °C〜室温の範囲が好適である。 反応時間としては数十分間〜数時間が適当で ある。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製方法により、 式 (31) 化合物を得ることができる。
式 (31) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7がー CH2〇Hであり、 Zがー CHOH—1, 2—エポキシ一で ある化合物と同意義である。 式 (31) 化合物の R 2がフエノール性水酸基の保護基であ る場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である化合物 を得ることができる。 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3がー CH2〇Hであり、 Zが 一 CHOH— CH2CHOH—である化合物 (以下、 式 (32) 化合物と呼ぶ) は、 前述 の式 (12) 化合物を還元することで合成することができる。
式 (12) 力 式 (32) への変換を下記に示す。
Figure imgf000030_0001
式 (32) 中の R1 R2 R4 Aおよび Bは式 (1) で定義したとおりである。 式 (12) 化合物から式 (32) 化合物を製造する際に使用する還元剤は、 式 (4) 化 合物から式 (30) 化合物を製造する際に使用する還元剤と同様であり、 好ましくは水素 化アルミニウムリチウムおよび水素化ジイソブチルアルミニウムである。
式 (32) 化合物を製造する際に使用する溶媒は、 式 (4) 化合物から式 (30) 化合 物を製造する際に使用する溶媒と同様である。
上記の反応温度は— 100 °C 80 Xが好ましく、 更に好ましくは一 78 °C〜室温の範 囲が好適である。反応時間としては数分〜数時間が適当である。反応終了後は、溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の方法により、式(32)化合物を得ることができる。 式 (32) 化合物のうち R2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7がー CH2〇Hであり、 Zがー CH〇H— CH2CH〇H—であ る化合物と同じ化合物である。 式 (32) 化合物のうち R 2がフエノール性水酸基の保護 基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R2が水素原子である 化合物を得ることができる。 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3がー CH2〇H基であり、 Zが — CO— CH2CH〇R5—である化合物 (以下、 式 (34) 化合物と呼ぶ) は、 後述する 式 (33) で表わされる化合物 (以下、 式 (33) 化合物と呼ぶ) に対して、 塩基性化合 物存在下、 低級アルコールの付加を行うことで合成することができる。
式 (33) から式 (34) への変換を下記に示す。
Figure imgf000030_0002
式 (34) 中の R1, R2 R5 A、 および Bは式 (1) で定義したとおりである。 式(33)化合物から式(34)化合物を製造する際に使用する塩基性化合物は、式(4) 化合物から式 (17) 化合物を製造する際に使用する塩基性ィヒ合物と同様である。 また式
(34) 化合物を製造する際に使用する低級アルコールは式 (4) 化合物から式 (17) 化合物を製造する際に使用する低級アルコールと同様である。
式 (34) 化合物を製造する際の反応温度は 0°C〜150°Cが好ましく、 更に好ましく は室温〜 10 oxの範囲が好適である。反応時間としては数時間〜数十時間が適当である。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製方法により、 式 (3 4) 化合物を得ることができる。
式 (34) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7が— CH2OHであり、 Zが— CO— CH2CHOR5—である化 合物と同じ化合物である。 式 (34) 化合物のうち R 2がフヱノール性水酸基の保護基で ある場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である化合 物を得ることができる。 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3が _CH2OHであり、 Zが — CHOH— CH2CH〇R5—である化合物 (以下、 式 (35) 化合物と呼ぶ) は、 前述 の式 (17) 化合物のエステルおよびケトンをアルコールに還元することで合成すること ができる。
式 (17) 力 式 (35) への変換を下記に示す。 B-CH2OH
Figure imgf000031_0001
式 (35) 中の R R2、 R4、 R5、 A、 および Bは式 (1) で定義したとおりである < 式 (17) 化合物から式 (35) 化合物を製造する際に使用する還元剤は、 式 (4) 化 合物から式 (30) 化合物を製造する際に使用する還元剤と同様であり、 好ましくは水素 化アルミニウムリチウムおよび水素ィヒジイソプチルアルミニウムである。
式 (35) 化合物を製造する際に使用する溶媒は、 式 (4) 化合物から式 (30) 化合 物を製造する際に使用する溶媒と同様である。 式 (35) 化合物を製造する際の反応温度は— 100°C〜80°Cが好ましく、 更に好ま しくは、 — 78 〜室温の範囲が好適である。 反応時間としては数分間〜数時間が適当で ある。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィ一等の公知の精製方法により、 式 (35) 化合物を得ることができる。 式 (35) 化合物のうち R2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7がー CH2〇Hであり、 Zがー CHOH— CH2CHOR5—であ る化合物と同じ化合物である。 式 (35) 化合物のうち R2がフエノール性水酸基の保護 基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である 化合物を得ることができる。
本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3がー CH2OHであり、 Zが — CO— CH=CH—のケタール誘導体である化合物 (以下、 式 (36) 化合物と呼ぶ) は、 式 (19) 化合物のエステルをアルコールに還元することで合成することができる。 更に式 (36) 化合物のケタールを取り外すことで、 前出の式 (33) 化合物を合成す ることができる。
式 (19) から式 (34) および式 (33) への変換を下記に示す。
Figure imgf000032_0001
式 (33) および式 (36) 中の R: R2、 A、 Bおよび Yは式 (1) で定義したとお りである。 式 (19) 化合物から式 (36) 化合物を製造する際に使用する還元剤は、 式 (4) 化 合物から式 (30) 化合物を製造する際に使用する還元剤と同様であり、 好ましくは水素 化アルミニウムリチウムおよび水素化ジイソプチルアルミニウムである。
式 (36) 化合物を製造する際に使用する溶媒は、 式 (4) 化合物から式 (30) 化合 物を製造する際に使用する溶媒と同様である。
式 (36) 化合物を製造する際の反応温度は一 100°C~80でが好ましく、 更に好ま しくは、 一 78°C〜室温の範囲が好適である。 反応時間としては数分間〜数時間が適当で ある。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製方法により、 式 (36) 化合物を得ることができる。
式 (36) 化合物のうち R2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7が— CH2OH基であり、 Zが— CO— CH = CH—のケタール 誘導体である化合物と同じ化合物である。 式 (36) 化合物のうち R2がフエノール性水 酸基の保護基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R2が水素 原子である化合物を得ることができる。
式 (36) 化合物からケタールを除去する反応は、 一般に有機合成化学の分野において 周知の方法、 例えば T. W. Gr e ene., 「P r o t e c t i ve Gr oup s i n Or g an i c Syn t he s i s」, J ohn Wi 1 ey&Sonsに記載の 方法に準じて行うことができ、 式 (33) 化合物を得ることができる。
式 (33) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7が— CH2〇Hであり、 Zがー C〇一 CH=CH—である化合物 と同じ化合物である。 式 (33) 化合物のうち R 2がフエノール性水酸基の保護基である 場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である化合物を 得ることができる。 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物のうち、 R3がー CH2〇Hであり、 Zが 一 CO— CH2CH2—のケタール誘導体である化合物 (以下、 式 (37) 化合物と呼ぶ) は、 式 (20) 化合物のエステルをアルコールに還元することで合成することができる。 更に式(37)化合物のケタールを取り外すことで、式(38)で表わされる化合物(以 下、 式 (38) 化合物と呼ぶ) を合成することができる。
式 (20) から式 (37) および式 (38) への変換を下記に示す。
Figure imgf000034_0001
式 (37) および式 (38) 中の R1, R2、 A、 Bおよび Yは式 (1) で定義したとお りである。 式 (20) 化合物から式 (37) 化合物を製造する際に使用する還元剤は、 式 (4) 化 合物から式 (30) 化合物を製造する際に使用する還元剤と同様であり、 好ましくは水素 化アルミニウムリチウムおよび水素化ジイソブチルアルミニウムである。
式 (37) 化合物を製造する際に使用する溶媒は、 式 (4) 化合物から式 (30) 化合 物を製造する際に使用する溶媒と同様である。
式 (37) 化合物を製造する際の反応温度は— 100°C~80でが好ましく、 更に好ま しくは、 一 78 °C〜室温の範囲が好適である。 反応時間としては数分間〜数時間が適当で ある。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の精製方法により、 式 (37) 化合物を得ることができる。
式 (37) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7が一 CH2〇Hであり、 Zがー CO— CH— CH—のケタール誘 導体である化合物と同じ化合物である。 式 (37) 化合物のうち R2がフエノール性水酸 基の保護基である場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原 子である化合物を得ることができる。
式 (37) 化合物からケタールを除去する反応は、 一般に有機合成ィ匕学の分野において 周知の方法、 例えば T. W. Gr e ene., 「P r o t e c t i ve Gr oup s i n Or gan i c Syn t he s i s」, J ohn W i 1 e y &S o n sに記載の 方法に準じて行うことができ、 式 (38) 化合物を得ることができる。
式 (38) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7がー CH2〇Hであり、 Zが— CO— CH2CH2—である化合物 と同じ化合物である。 式 (38) 化合物のうち R2がフエノール性水酸基の保護基である 場合は、 フヱノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である化合物を 得ることができる。 本発明の式 (13) 化合物から力ルポキシル基の保護基を取り外すことで、 一般式 (3 8) で表わされる化合物 (以下、 式 (39) 化合物と呼ぶ) を合成することができる。 同様に力ルポキシル基の保護基を取り外すことで、 本発明の式 (15) 化合物から、 一 般式 (40) で表わされる化合物 (以下、 式 (40) 化合物と呼ぶ) を合成することがで きる。
式 (13) から式 (39) への変換および式 (15) から式 (40) への変換を下記に 示す。
Figure imgf000035_0001
式 (39) および式 (40) 中の R R2、 Aおよび Bは式 (1) で定義したとおりで ある。 式 (13) 化合物から式 (39) 化合物および式 (15) 化合物から式 (40) 化合物 を製造する際の反応条件は、 式 (4) 化合物から式 (21) 化合物を製造する際の反応条 件と同様である。
式 (39) 化合物および式 (40) 化合物を製造する際に使用する溶媒は、 式 (4) 化 合物から式 (21) 化合物を製造する際に使用する溶媒と同様である。
式 (39) 化合物および式 (40) 化合物を製造する際の反応温度は一 20で〜 80°C が好ましく、 更に好ましくは 0°C~50 である。 反応温度が低すぎる場合は反応の進行 が遅い場合があり、 また反応温度が高すぎる場合は副反応が進行する場合がある。 反応時 間は条件により異なるが、 通常数 10分〜数時間である。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラ —等の公知の方法により、それぞれ目的の化合物を得ることができる。 式 (39) 化合物のうち R2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R 7がカルボキシル基であり、 Zが— CO— CH2CH2—である化 合物と同じ化合物である。 式 (39) 化合物のうち R 2がフエノール性水酸基の保護基で ある場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R2が水素原子である化合 物を得ることができる。
式 (40) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R 7がカルボキシル基であり、 Zがー CO— CH2CH〇H—である 化合物と同じ化合物である。 式 (40) 化合物の R 2がフエノール性水酸基の保護基であ る場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R2が水素原子である化合物 を得ることができる。 本発明の式(13)化合物を還元すると、式(41)で表わされる化合物(以下、 式(4 1) 化合物と呼ぶ) を合成することができる。
式 (13) から式 (41) への変換を下記に示す。
Figure imgf000036_0001
式 (41) 中の R1, R2、 Aおよび Bは式 (1) で定義したとおりである。 式 (13) 化合物から式 (41) 化合物を製造する際に使用する還元剤は、 式 (4) 化 合物から式 (30) 化合物を製造する際に使用する還元剤と同様であり、 好ましくは水素 化アルミニウムリチウムおよび水素化ジイソブチルアルミニウムである。
式 (41) 化合物を製造する際に使用する溶媒は、 式 (4) 化合物から式 (30) 化合 物を製造する際に使用する溶媒と同様である。
式 (41) 化合物を製造する際の反応温度は一 100 〜 80でが好ましく、 更に好ま しくは、 一 78で〜室温の範囲が好適である。 反応時間としては数分間〜数時間が適当で ある。反応終了後は、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー等の公知の方法により、式(4 1) 化合物を得ることができる。 式 (41) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7が— CH2OH基であり、 Zがー CHOH— CH2CH2—である 化合物と同じ化合物である。 式 (41) 化合物の R 2がフエノール性水酸基の保護基であ る場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である化合物 を得ることができる。 本発明の式 (33) 化合物に対して、 水分子の付加反応を行うと一般式 (42) で表わ される化合物 (以下、 式 (42) 化合物と呼ぶ) を得ることができる。
式 (33) から式 (42) への変換を下記に示す。
Figure imgf000037_0001
式 (42) 中の R R2、 A、 および Bは式 (1) で定義したとおりである。 式 (33) 化合物から式 (42) 化合物を製造する際の反応条件としては、 式 (4) 化 合物から式 (15) 化合物を製造する際の反応条件と同様である。
式 (42) 化合物を製造する際の使用する溶媒は、 式 (4) 化合物から式 (15) 化合 物を製造する際に使用する溶媒と同様である。
式 (42) 化合物を製造する際の反応温度は 0°C~150°Cが好ましく、 更に好ましく は室温から 100°Cの範囲が好適である。 反応時間としては数時間〜数十時間が適当であ る。 反応終了後は、 溶媒抽出、 カラムクロマトグラフィー等の公知の方法により、 式 (4 2) 化合物を得ることができる。
式 (42) 化合物のうち R 2が水素原子である化合物は、 本発明の一般式 (2) で表わ される化合物のうち、 R7が— CH2OHであり、 Zがー CO— CH2CH〇H—である化 合物と同じ化合物である。 式 (42) 化合物のうち R 2がフエノール性水酸基の保護基で ある場合は、 フエノール性水酸基の保護基を除去することで、 R 2が水素原子である化合 物を得ることができる。
本発明の一般式 (1) および式 (2) で表わされる化合物のなかには、 一つ、 もしくは 二つの不斉炭素を有している化合物がある。これらは通常ラセミ混合物として得られるが、 必要に応じて不斉合成にて一方の光学活性体のみを合成する方法や、 もしくは光学活性力 ラムを用いる高速液体クロマトグラフィー等の方法により、 一方の光学活性体のみを分離 して使用することも可能である。 本発明の一般式 (1) で表わされる化合物および一般式 (2) で表わされる化合物は、 Lーチロシンの酸化酵素であるチロシナ一ゼの活性を阻害することができる。 また、 一般 式 (1) で表わされる化合物および一般式 (2) で表わされる化合物は、 ヒドロキシラジ カルの消去作用および過酸化脂質生成抑制作用をも有すると考えられる。 なお、 式 (1) で表される化合物の R 1が低級ァルキル基またはフヱノール性水酸基の保護基であり、 R 2 がフエノール性水酸基の保護基である場合、 i n V i t r oでこれらの活性が発現しな いことがある。 当該化合物は生体内でこれらの活性を期待することができる。
このことから、 メラニン色素の生成を抑制し皮膚等への色素沈着を抑制することが可能 と予測される。 それらはいずれも、 食品、 医薬品、 医薬部外品、 化粧品等の処方に配合し て使用することができ、 しみ、 そばかすの予防'改善を目的とした皮膚外用剤として使用 する場合は、 ィ匕粧水、 美容液、 乳液、 クリーム、 パック等に配合することが好ましい。 また一般式 (2) で表わされる化合物はヒアルロン酸分解酵素阻害効果、 更にはフリー ラジカル消去効果、過酸化脂質生成抑制効果があることから、食品、 医薬品、 医薬部外品、 化粧品等の処方に好適に配合して使用することができる。 化合物 6、 12、 17、 22、 26、 27、 28、 29、 30、 31、 32および Zま たは 33は、 チロシナーゼ活性阻害剤、 ヒアルロン酸分解酵素阻害剤、 抗酸化剤、 ヒドロ キシラジカル消去剤および Zまたは過酸化脂質生成抑制剤として使用することができる。 化合物 7、 8、 13、 18、 19、 23、 34、 35、 36、 37、 38、 39、 40、 41、 42、 43、 44、 45、 46、 47および/または 48は、 チロシナーゼ活性阻 害剤、 ヒアルロン酸分解酵素阻害剤、 抗酸化剤、 ヒドロキシラジカル消去剤および/また は過酸化脂質生成抑制剤として使用することができる。 <実施例 >
以下、 実施例により本発明を詳細に説明するが、 本発明はこれらの実施例に限定される ものではない。 なお、 T sは p—トルエンスルホニル基を示す。
<合成例 1 >
本発明の式 (4 ) 化合物を合成するための原料として、 化合物 1を出発物質とし、 化合 物 2、 化合物 3を経由して、 化合物 5を調製した。
なお、 化合物 1は, 式 (8 ) 化合物に、 化合物 2は, 式 (1 0 ) 化合物に、 化合物 3は, 式 (5 ) 化合物に、 ィ匕合物 4は, 式 (6 ) 化合物に、 化合物 5は, 式 (7 ) 化合物に対応 する。
•化合物 1
Figure imgf000039_0001
化合物 2
(CH2)5-COOCH2CH3
Figure imgf000039_0002
化合物 3 Ts (CH2)5-COOCH2CH 化合物 4
Figure imgf000039_0003
化合物 5
(CH2)5-COOCH2CH¾
Figure imgf000039_0004
はじめに、 6—ブロモへキサン酸ェチルの 6—ョードへキサン酸ェチルへの変換反応を 行った。 即ち、 250m 1のアセトンに 39. 1 g ( 175mmo 1 ) の 6—ブロモへキ サン酸ェチルを溶解し、 29. l g (175mmo 1) のヨウ化カリウムを加えて、 20 時間にわたって加熱還流した。 つぎに、 反応溶液を室温まで放冷した後、 溶媒を留去し、 残渣を 150mlの酢酸ェチルエステルで抽出した。 得られた有機層を蒸留水 5 Omlで 洗浄後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 乾燥後、 溶媒を留去し、 減圧乾燥することに より、 47. 4 gの粗生成物を得た。 このものの1 H— NMR分析を行った結果、 本粗生 成物はモル分率で約 90%の 6—ョードへキサン酸ェチルを含有することが分かった。 本 粗生成物はそのまま次工程に使用した。
つぎに、 45 Om 1のテトラヒドロフランに 30. 5 g ( 155 mm o 1 ) の化合物 1 を溶かした溶液を、 ドライアイス Zアセトンで一 78°Cに冷却した。 この溶液に、 1. 5 6 Mの n—ブチルリチウム/ n—へキサン溶液 100ml (156mmo 1 )を滴下した。 そして同温度で 45分間攪拌後、 上述で調製した 6—ョードへキサン酸ェチルの粗生成物 を 50mlのテトラヒドロフランに溶かした溶液を滴下した。 滴下後、 同温度で 10分間 攪拌後、 徐々に昇温した。 反応溶液の温度が— 1 Ot:になったところで、 5 Om 1の 5 % クェン酸水溶液を加えて反応を停止させた。 この反応混合物に、 10 Om 1の 10 %チォ 硫酸ナトリゥム水溶液、 150mlの飽和食塩水および 50mlの酢酸ェチルエステルを 加えて分配した。 有機層を分取し、 水層を 5 Omlの酢酸ェチルエステルで抽出した。 合 わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 乾燥後、 溶媒を留去し、 シリカゲル力 ラムクロマトグラフィーによる精製を行い、 淡黄色の低粘度液状の化合物 49. 5g (収 率 94%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 20- 1. 70 (9H, m)、 2. 03-2. 15 (2H, m)、 2. 23— 2. 35 (2 H, m)、 2. 44 (3H, s)、 3. 43— 3. 55 (1H, m)、 4. 11 (2H, q)、 5. 04 (1H, d)、 5. 25 - 5. 35 ( 1 H, m)、 5. 53 - 5. 68 ( 1 H, m)、 7. 32 (2H, d)、 7. 70 (2H, d) であった。
赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 293 0, 2860, 1730, 1600, 1300, 1290, 1180, 1140, 940, 670であった。
元素分析の結果は、 炭素 64. 09%、 水素 7. 87%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 2であることを確認した。 つぎに、 化合物 2から化合物 3への変換を行った。
49. 5 g (146mmo 1 ) の化合物 2を 360mlのテトラヒドロフランおよび 1 20m 1のメタノールに溶かし、 3. 38 g (2. 92 mm o 1 ) のテトラキストリフエ ニルホスフィンパラジウムを加えた。 この反応溶液を 16時間にわたって加熱還流した。 つぎに、 反応溶液を室温まで放冷した後、 溶媒を留去し、 シリカゲルカラムクロマトダラ フィ一による精製を行い、 淡褐色の低粘度液状の化合物 47. 1 g (95%) を得た。 下 記に示した1 H— NMR分析、 赤外線吸収スペクトル分析、 および、 元素分析の結果、 本 品は、 モル分率で 73%の化合物 3を含有し、 残りの 27%は化合物 3中の炭素—炭素二 重結合がシス型に配置した幾何異性体であることを確認した。
化合物 3の重クロ口ホルム中で測定した — NMRスペクトルのケミカルシフト値は、 1. 20 - 1. 33 (7H, m)、 1. 50- 1. 60 (2H, m)、 1. 99 (2H, t)、 2. 20 - 2. 30 (2H, m)、 2. 45 (3H, s), 3. 73 (2H, d)、 4. 08 -4. 15 (2H, q)、 5. 35— 5. 55 (2H, m)、 7. 34 (2H, d)、 7. 7 2 (2H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 2930, 2860, 1730, 1600, 1320, 1150, 1090, 1030, 820, 740であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 64. 03%、 水素 7. 57%であった。 つぎに化合物 3から化合物 5への変換を行つた。
8. 75 g (25. 8mmo 1 ) の化合物 3を 75m 1のテトラヒドロフランに溶解し た溶液を、 ドライアイス Zアセトンで— 78°Cに冷却した。 この溶液に、 2. 0Mのリチ ゥムジイソプロピルアミド /ヘプ夕ンーテトラヒドロフラン一ェチルベンゼン溶液 13. Oml (26. Ommo 1) を滴下した。そして同温度で 60分間攪拌後、 7. 34 g (2 5. 8 mm o 1 ) の化合物 4を 3 Om 1のテトラヒドロフランに溶解した溶液を加えた。 滴下後、 同温度で 30分間攪拌後、 徐々に昇温した。 反応溶液の温度が— 30でになった ところで、 3. 0 gのクェン酸を 10mlのメタノールに溶解した溶液を加えて反応を停 止させた。 この反応混合物に、 30mlの蒸留水、 50mlの飽和食塩水および 50ml の酢酸ェチルエステルを加えて分配した。 この有機層を分取し、 水層を 50mlの酢酸ェ チルエステルで抽出した。 合せた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を留去 し、 シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、 淡黄色の中粘度液状の化合 物 6. 15 g (収率 38%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 25 (3H, t), 1. 44-2. 04 (1 OH, m), 2. 15-2. 29 (2H, m), 2. 45 (3H, s), 2. 57 - 3. 00 (2H, m), 3. 12— 4. 62 (8H, m), 4. 95-5. 83 (2H, m), 6. 71— 6. 88 (2H, m), 6. 97-7. 06 (1H, m), 7. 34 (2H, d), 7. 45- 7. 54 (2H, m), 7. 58— 7. 7 7 (3H, m), 8. 20 (2H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 3510, 2940, 2860, 1740, 1600, 1510, 1290, 1270, 1200, 1140, 1061, 1030, 710であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 67. 27%、 水素 6. 95%であった。
以上の分析により、 得られた化合物がィヒ合物 5であることを確認した。
<実施例 1 >
上述の合成例 1で得た化合物 5を原料として、 本発明の化合物 6を調製した。
•化合物 6 (CH2)5-COOCH2CH3
Figure imgf000042_0001
5. 00 g (8. 03mmo 1 ) の化合物 5を 120 gの 1, 2—ジクロロェタン、 4 0 gのイソプロピルアルコール、 および、 40 gのグリセリンに溶 j¾?した溶液に、 3. 4 Oml (24. 4mm 01 ) のトリエチルアミン、 105mg (0. 40 Ommo 1 ) の トリフエニルホスフィン、 および 462mg (0. 40 Ommo 1) のテトラキストリフ ェニルホスフィンパラジウムを加えて、 パス温 100°Cで 16時間攪拌した。 放冷、 濃縮 後、 10 Omlの蒸留水、 5 Om 1の飽和食塩水、 および、 5 Om 1の酢酸ェチルエステ ルを加えて分配した。 有機層を分取し、 3 Omlの飽和食塩水で洗浄した。 合わせた水層 を 3 Om 1の酢酸ェチルエステルで抽出した。 合せた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾 燥した。 溶媒を留去し、 シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、 淡黄色 の中粘度液状の化合物 1. 5 g (収率 39%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 25 (3H, t), 1. 30 - 1. 53 (6H, m), 1. 57— 1. 67 (2H, m), 2. 16-2. 32 (4H, m), 2. 84— 3. 00 (4H, m), 3. 80 (3H, s), 4. 12 (2H, d)、 6. 11 (1H, d), 6. 77— 6. 88 (3H, m), 7. 05 (1 H, d), 7. 46-7. 53 (2H, m), 7. 59— 7. 67 (1H, m), 8. 21 (2 H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 2930, 2860, 1730, 1700, 1670, 1630, 1600, 1510, 1270, 1200, 1150, 1060, 1030, 710であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 71. 81%、 水素 7. 25%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 6であることを確認した。 く実施例 2 >
実施例 1で得た化合物 6を原料として、 本発明の化合物 7を調製した。
•化合物 7 (CH2)5-COOH
Figure imgf000043_0001
467mg (1. 0 Ommo 1) の化合物 6を 7mlの 1, 4—ジォキサンに溶解した 溶液に 3 m 1の 1 N水酸化ナトリゥム水溶液を加えて、 攪拌した。 4時間攪拌後、 3 m 1 の 1 N塩酸を加えて中和した。 反応溶液に 30mlの飽和食塩水を加え、 1 Om 1のクロ 口ホルムによる抽出を 3回繰り返した。合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 濃縮した。 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、 無色結晶 性の化合物 174mg (52%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 23 - 1. 50 (6H, m), 1. 57— 1. 69 (2H, m), 2. 19 (2H, q), 2. 34 (2H, t), 2. 79-2. 90 (4H, m), 3. 87 (3H, s), 6. 08 (1 H, d), 6. 64- 6. 85 (4H, m), であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 3530, 2930, 2850, 1700, 1660, 1640, 1520, 1280, 1230, 1030であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 68. 48%, 水素 8. 11%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 7であることを確認した。
<実施例 3>
実施例 1で得た化合物 6を原料として、 本発明の化合物 7および化合物 8の混合物を得 た。
•化合物 8
Figure imgf000044_0001
467mg (1. O Ommo l) の化合物 6を 7m 1のエタノールに溶解した溶液に、 3 ml ©1 N水酸化ナトリゥム水溶液を加えた。 3時間攪拌後、 3 m 1の 1 N塩酸を加え て反応を停止した。 反応溶液に 3 Om 1の飽和食塩水を加え、 1 Omlのクロ口ホルムに よる抽出を 3回繰り返した。合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。 得られた残渣をシリ力ゲル力ラムクロマトグラフィーにより精製し、 淡黄色中粘度液状の 化合物 237mgを得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルを解析した結果、化合物 7、 および、 化合物 7の二重結合に溶媒として使用したェタノ一ルが付加した化合物 8の混合 物 (化合物 7と化合物 8の存在モル比は 35 : 65) であることを確認した。 なお、 化合 物 8中のエトキシ基のケミカルシフト値は 1. 12 (3H, t) および 3. 35-3. 5 0 (2H, m) であり、 エトキシ基が結合した CHのケミカルシフト値は 3. 68— 3. 78 (1H, m) であった。
<合成例 2>
式 (4) 化合物を得るための原料として、 合成例 1と同様にして化合物 1を出発物質と し、 化合物 9、 化合物 10を経由して、 化合物 11を調製した。
•化合物 9
(CH2)3-COOCH2CH
Figure imgf000045_0001
化合物 10
Ts (CH2)3-COOCH2CH! 化合物 1
(CH2)3-COOCH2CH3
Figure imgf000045_0002
はじめに、 4—ブロモ酪酸ェチルの 4—ョード酪酸ェチルへの変換反応を行った。 250m 1のアセトンに 34. 2 g (175mmo 1 ) の 4一ブロモ酪酸ェチルを溶解 し、 29. 1 g ( 175 mm 01 ) のヨウ化カリウムを加えて、 20時間にわたって加熱 還流した。 つぎに、 反応溶液を室温まで放冷した後、 溶媒を留去し、 残渣を 15 Omlの 酢酸ェチルエステルで抽出した。 得られた有機層を蒸留水 5 Om 1で洗浄後、 無水硫酸マ グネシゥムで乾燥した。 溶媒を留去し、 減圧乾燥することにより、 43. 2 gの粗生成物 を得た。 1H— NMR分析を行った結果、 本粗生成物はモル分率で 92 %の 4—ョード酪 酸ェチルを含有することがわかった。 本粗生成物をそのまま次工程に使用した。 つぎに、 450m 1のテトラヒドロフランに 30. 5 g (155 mm o 1 ) の化合物 1 を溶かした溶液を、 ドライアイス Zアセトンで一 78°Cに冷却した。 この溶液に、 1. 5 6Mの n—プチルリチウム/ n—へキサン溶液 100ml (156mmo 1 )を滴下した。 そして同温度で 45分間攪摔後、 上述のごとく調製した 4—ョード酪酸ェチルの粗生成物 を 50mlのテトラヒドロフランに溶かした溶液を滴下した。 滴下後、 同温度で 10分間 攪拌後、 徐々に昇温した。 反応溶液の温度が一 10 °Cになったところで、 50 m 1の 5 % クェン酸水溶液を加えて反応を停止させた。 この反応混合物に、 10 Om 1の 10 %チォ 硫酸ナトリゥム水溶液、 150mlの飽和食塩水および 50mlの酢酸ェチルエステルを 加えて分配した。 有機層を分取し、 水層を 5 Omlの酢酸ェチルエステルで抽出した。 合 わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を留去し、 シリカゲルカラムクロ マトグラフィ一による精製を行い、淡黄色の低粘度液状の化合物 46. 0 g (収率 96%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 23 (3H, t)、 1. 52 - 1. 63 ( 1 H, m)、 1. 65— 1. 80 (2H, m)、 2. 07 - 2. 15 (1H, m)、 2. 25— 2. 37 (2H, m)、 2. 44 (3H, s)、 3. 45- 3. 55 (1H, m)、 4. 10 (2H, q)、 5. 08 ( 1 H, d)、 5. 31 (1 H, d)、 5. 57 - 5. 66 (1 H, m)、 7. 32 (2H, d)、 7. 70 (2H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 2980, 2930, 1730, 1600, 1300, 1290, 1140, 1090, 820, 670であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 61. 73%、 水素 6. 92%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 9であることを確認した。 つぎに、 化合物 9から化合物 10への変換を行った。
すなわち、 46. 0 g ( 148 mm o 1 ) の化合物 9を 360 m 1のテトラヒドロフラン および 12 Om 1のメタノールに溶かし、 3. 42g (2. 96 mmo 1 ) のテトラキス トリフエニルホスフィンパラジウムを加えた。 この反応溶液を 16時間にわたって加熱還 流した。 つぎに、 反応溶液を室温まで放冷した後、 溶媒を留去し、 シリカゲルカラムクロ マトグラフィ一による精製を行い、 淡褐色の低粘度液状の化合物 41. 0 g (89%) を 得た。 下記に示した1 H— NMR分析、 赤外線吸収スペクトル分析、 および、 元素分析の 結果、 本品は、 モル分率で 81 %の化合物 1 0を含有し、 残りの 19%は化合物 10中の 炭素—炭素二重結合がシス型に配置した幾何異性体であることを確認した。
化合物 1 0の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスペクトルのケミカルシフト値 は、 1. 25 (3H, t)、 1. 57 - 1. 65 (2H, m)、 2. 03-2. 1 0 (2H, m)、 2. 20 (2H, t)、 2. 44 (3H, s)、 3. 73 (2H, d)、 4. 12 (2 H, q)、 5. 37 - 5. 55 (2H, m)、 7. 33 (2H, d)、 7. 73 (2H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 2980, 2930, 1 730, 1 600, 1320, 1300, 1 1 50, 1 090, 820, 740であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 6 1. 81%、 水素 7. 01%であった。 化合物 10から化合物 1 1を調製した。
すなわち、 6. 63 g (21. 4mmo 1 ) の化合物 10を 65m 1のテトラヒドロフ ランに溶解した溶液を、 ドライアイス Zアセトンで一 78でに冷却した。 この溶液に、 2. 0Mのリチウムジイソプロピルアミド ヘプタンーテトラヒドロフラン一ェチルベンゼン 溶液 1 1. 0ml (22. Ommo 1) を滴下した。 そして同温度で 60分間攪拌後、 6. 09 g (2 1. 4mmo 1) の化合物 4を 25m lのテトラヒドロフランに溶解した溶液 を加えた。滴下後、同温度で 30分間攪拌後、徐々に昇温した。反応溶液の温度が一 20°C になったところで、 3. 0 gのクェン酸を 1 Omlのメタノールに溶解した溶液を加えて 反応を停止させた。 この反応混合物に、 30m lの蒸留水、 50m lの飽和食塩水および 5 Omlの酢酸ェチルエステルを加えて分配した。 有機層を分取し、 水層を 5 Om 1の酢 酸ェチルエステルで抽出した。 合せた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を 留去し、 シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、 淡黄色の中粘度液状の 化合物 4. 33 g (収率 34%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 24 (3H, t), 1. 38 -2. 5 0 (1 1 H, m), 2. 59— 3. 00 (2H, m), 3. 15-4. 58 (8H, m), 5. 08— 5. 86 (2H, m), 6. 69— 6. 91 (2H, m), 7. 00— 7. 12 ( 1 H, m), 7. 28— 7. 38 (2H, m), 7. 4 5-7. 55 (2H, m), 7. 58— 7. 79 (3H, m), 8. 21 (2H, d) であ つた。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 3510, 2940, 1730, 1600, 1510, 1290, 1270, 1150, 1060, 710であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 66. 53%、 水素 6. 58%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 11であることを確認した。
<実施例 4>
合成例 2で得た化合物 11を原料として、 本発明の化合物 12を調製した。
•化合物 12 (CH2)3-COOCH2CH3
Figure imgf000048_0001
3. 57 g (6. 0 Ommo 1) の化合物 11を 90 gの 1, 2—ジクロロェタン、 3 0 gのイソプロピルアルコール、 および、 30 gのグリセリンに溶解した溶液に、 2. 5 Oml (17. 9 mm o 1 ) のトリエチルァミン、 78. 7mg (0. 30 Ommo 1 ) のトリフエニルホスフィン、 および 347 mg (0. 30 Ommo 1 ) のテトラキストリ フエニルホスフィンパラジウムを加えて、 バス温 100°Cで 16時間攪拌した。 放冷、 濃 縮後、 8 Omlの蒸留水、 4 Omlの飽和食塩水、 および、 4 Om 1の酢酸ェチルエステ ルを加えて分配した。 有機層を分取し、 25mlの飽和食塩水で洗净した。 合わせた水層 を 25mlの酢酸ェチルエステルで抽出した。 合せた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾 燥した。 溶媒を留去し、 シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、 淡黄色 の中粘度液状の化合物 613mg (収率 23%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 25 (3H, t), 1. 46- 1. 56 (2H, m), 1. 61— 1. 72 (2H, m), 2. 21-2. 35 (4H, m), 2. 86— 3. 00 (4H, m), 3. 80 (3H, s), 4.
13 (2H, q)、 6. 12 ' ( 1 H, d), 6. 77— 6. 87 (3H, m), 7. 03— 7
08 (1H, d), 7. 47- 7. 54 (2H, m), 7. 59— 7. 66 (1 H, m), 8,
21 (2H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、
2940, 1740, 1670, 1630, 1600, 1510, 1270, 1200,
1150, 1060, 710であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 70. 91%、 水素 7. 17%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 12であることを確認した。 ぐ実施例 5 >
上記の実施例 4で得た化合物 12を原料として、 本発明の化合物 13を調製した。
•化合物 13 (CH2)3-COOH
Figure imgf000049_0001
439mg (1. 0 Ommo 1) の化合物 12を 7mlの 1, 4一ジォキサンに溶解し た溶液に 3m 1の 1N水酸化ナトリウム水溶液を加えて、 攪拌した。 4時間攪拌後、 3m 1の 1 N塩酸を加えて中和した。 反応溶液に 30mlの飽和食塩水を加え、 1 Om 1のク 口口ホルムによる抽出を 3回繰り返した。 合わせた有機層を無水硫酸マグネシゥムで乾燥 後、 濃縮した。 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、 淡黄 色の中粘度液状化合物 90. Omg (29%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 46- 1. 56 (2H, m), 1. 60— 1. 72 (2H, m), 2. 23 (2H, q), 2. 38 (2H, t), 2. 79-2. 91 (4H, m), 3. 86 (3H, s), 6. 10 (1 H, d), 6. 64-6. 85 (4H, m), であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm— は、 3400, 2940, 1710, 1660, 1630, 1520, 1270, 1240, 1150, 1030, 820, 720であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 66. 90%、 水素 7. 11%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 13であることを確認した。
<合成例 3 >
本発明の式 (4) 化合物を得るための原料として、 合成例 1と同様にして、 化合物 1を 出発物質とし、 化合物 14、 化合物 15を経由して、 化合物 16を調製した。
•化合物 14
(CH2)2-COOCH2CH¾
Figure imgf000050_0001
化合物 15
Ts (CH2)2-COOCH2CH3 化合物 16
(CH2)2-COOCH CH3
Figure imgf000050_0002
はじめに、 ィ匕合物 1から化合物 14への変換を行った。
80mlのトルエンに 4. 91 g (25. Ommo 1)の化合物 1および 656mg (2. 50 mm o 1 ) のトリフエニルホスフィンを溶かした溶液を、 ドライアイス /アセトンで —78でに冷却した。 この溶液に、 2. 0Mのリチウムジイソプロピルアミド ヘプタン ーテトラヒドロフラン一ェチルベンゼン溶液 13. Oml (26. Ommo 1 ) を滴下し た。 そして同温度で 30分間攪拌後、 3. 0 Oml (27. 7 mm o 1 ) のアクリル酸ェ チルエステルを 15mlのトルエンに溶かした溶液を滴下した。 滴下後、 同温度で 30分 間攪拌後、 3. 0 gのクェン酸を 1 Omlのメタノールに溶かした溶液を加えて反応を停 止させた。 この反応混合物に、 60mlの飽和食塩水および 5 Omlの酢酸ェチルエステ ルを加えて分配した。有機層を分取し、水層を 20m 1の酢酸ェチルエステルで抽出した。 合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を留去し、 シリカゲルカラムク 口マトグラフィ一による精製を行い、淡黄色の低粘度液状の化合物 2.99 g (収率 40%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスペクトルのケミカルシフト値は、 1. 23 (3H, t)、 1. 80 -2. 00 (1H, m)、 2. 30— 2. 49 (6H, m)、 3. 64 (1H, d t)、 4. 10 (2H, d)、 5. 10 (1H, d), 5. 33 ( 1 H, d)、 5. 56 - 5. 68 (1 H, m)、 7. 33 (2H, d)、 7. 71 (2H, d) であった。 また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm— は、 2980, 1730, 1600, 1380, 1290, 1150, 1090, 940, 8 20, 670であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 60. 97%、 水素 6. 75%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 14であることを確認した。 つぎに、 化合物 14から化合物 15への変換を行った。
4. 75 g (16. 0 mm o 1 ) の化合物 14を 36m 1のテトラヒドロフランおよび 12m 1のメタノールに溶かし、 277mg (0. 24 Ommo 1 ) のテトラキストリフ ェニルホスフィンパラジウムを加えた。 この反応溶液を 6時間にわたって加熱還流した。 つぎに、 反応溶液を室温まで放冷した後、 溶媒を留去し、 シリカゲルカラムクロマトダラ フィ一による精製を行い、 淡褐色の低粘度液状の化合物 3. 64 g (77%) を得た。 下 記に示した 1H— NMR分析、 赤外線吸収スペクトル分析、 および、 元素分析の結果、 本 品は、 モル分率で 83%の化合物 15を含有し、 残りの 17%は化合物 15中の炭素—炭 素二重結合がシス型に配置した幾何異性体であることを確認した。
化合物 15の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値 は、 1. 25 (3H, t)、 2. 22-2. 38 (4H, m)、 2. 45 (3H, s)、 3. 73 (2H, d)、 4. 12 (2H, Q)、 5. 40— 5. 59 (2H, m)、 7. 34 (2 H, d)、 7. 72 (2H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 2980, 2930, 1730, 1600, 1320, 1300, 1180, 1150, 1090, 820, 740であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 60. 54%、 水素 7. 67%であった。 つぎに化合物 15から化合物 16への変換を行った。
すなわち、 3. 64 g (12. 3mmo 1) の化合物 15を 50mlのテトラヒドロフ ランに溶解した溶液を、 ドライアイス/アセトンで一 78°Cに冷却した。 この溶液に、 2. 0 のリチウムジィソプロピルァミド /ヘプタンーテトラヒドロフラン一ェチルベンゼン 溶液 6. 80ml (13. 6mmo 1) を滴下した。 そして同温度で 60分間攪拌後、 3. 85 g (13. 5 mm o 1 ) の化合物 4を 20m 1のテトラヒドロフランに溶解した溶液 を加えた。滴下後、同温度で 30分間攪拌後、徐々に昇温した。反応溶液の温度が— 15 °C になったところで、 1. 0 gのクェン酸を 5m 1の蒸留水に溶解した溶液を加えて反応を 停止させた。 この反応混合物に、 30mlの飽和食塩水および 2 Om 1の酢酸ェチルエス テルを加えて分配した。 有機層を分取し、 水層を 2 Om 1の酢酸ェチルエステルで抽出し た。 合せた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を留去し、 シリカゲルカラム クロマトグラフィーによる精製を行い、 淡黄色の中粘度液状の化合物 2. 39 g (収率 3 3%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 18-1. 32 (3H, m), 1. 53— 2. 38 (6H, m), 2. 46 (3H, s), 2. 56 - 3. 03 (2H, m), 3. 18— 4. 59 (8H, m), 4. 90— 5. 80 (2 H, m), 6. 72 - 6. 80 (2H, m), 6. 97— 7. 09 (1H, m), 7. 30 -
7. 39 (2H, m), 7. 40— 7. 56 (2H, m), 7. 61-7. 73 (3H, m),
8. 21 (2H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 3450, 2940, 1740, 1600, 1510, 1270, 1200, 1150, 1060, 1030, 710であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 65. 93 %、 水素 6. 13%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 16であることを確認した。 ぐ実施例 6 >
合成例 3で得た化合物 16を原料として、 本発明の化合物 17を調製した。
•化合物 17 (CH2)2-COOCH2CH3
Figure imgf000053_0001
2. 33 g (4. 01 mm o 1 ) の化合物 16を 60 gの 1 , 2—ジクロロェタン、 2 0 gのイソプロピルアルコール、 および、 20 gのグリセリンに溶解した溶液に、 0. 5 6ml (4. 02mmo 1 ) のトリエチルアミン、 105mg (0. 40 Ommo 1 ) の トリフエニルホスフィン、 および 232mg (0. 20 lmmo 1 ) のテトラキストリフ ェニルホスフィンパラジウムを加えて、 バス温 100°Cで 14時間攪拌した。 放冷、 濃縮 後、 30mlの蒸留水、 20mlの飽和食塩水、 および、 50mlの酢酸ェチルエステル を加えて分配した。 有機層を分取し、 1 Omlの飽和食塩水で洗浄した。 合わせた水層を 2 Omlの酢酸ェチルエステルで抽出した。 合せた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥 した。 溶媒を留去し、 シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、 淡黄色の 中粘度液状の化合物 744m g (収率 44%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 25 (3H, t), 1. 74- 1. 86 (2H, m), 2. 21— 2. 40 (4H, m), 2. 86-2. 99 (4H, m), 3. 80 (3H, s), 4. 12 (2H, q)、 6. 13 (1 H, d), 6. 76 - 6. 88 (3H, m), 7. 03 - 7. 08 ( 1 H, d), 7. 45- 7. 54 (2H, m), 7. 58— 7. 65 (1 H, m), 8. 21 (2H, d) であった。 また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 2940, 1740, 1670, 1650, 1510, 1270, 1200, 1150, 1060, 1030, 710であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 71. 00%、 水素 6. 43%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 17であることを確認した。 <実施例 7>
実施例 6で得た化合物 17を原料として、 本発明の化合物 18および化合物 19の混合 物を調製した。
•化合物 18
Figure imgf000054_0001
化合物 19
Figure imgf000054_0002
506mg (0. 922mmo 1 ) の化合物 17を 5m 1のエタノールに溶解した溶液 に、 5 m 1の 1 N水酸化ナトリゥム水溶液を加えた。 1時間攪拌後、 5 m 1の 1 N塩酸を 加えて反応を停止した。 反応溶液に 50mlの飽和食塩水を加え、 10mlのクロ口ホル ムによる抽出を 3回繰り返した。 合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 濃縮 した。 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、 淡黄色中粘度 液状の化合物 303mgを得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスペクトルを解析した結果、 化合物 1 8、 および、 化合物 18の二重結合に溶媒として使用したエタノールが付加した化合物 1 9の混合物(化合物 18と化合物 19の存在モル比は 45 : 55)であることがわかった。 なお、 化合物 19中のエトキシ基のケミカルシフト値は 1. 13 (3H, t) および 3. 37— 3. 50 (2 H, m)であり、 エトキシ基が結合した CHのケミカルシフト値は 3. 68-3. 83 (1 H, m) であった。
<合成例 4>
式 (4) 化合物を得るための原料として、 化合物 3および化合物 20を原料とし、 化合 物 21を調製した。
•化合物 20
Figure imgf000055_0001
化合物 21
(CH2)5-COOCH2CH3
Figure imgf000055_0002
11. 9 g (35. 2mmo 1 ) の化合物 3を 100m 1のテトラヒドロフランに溶解 した溶液を、 ドライアイス Zアセトンで一 78°Cに冷却した。 この溶液に、 1. 40Mの t一プチルリチウム Zヘプタン溶液 26. Oml (36. 4mmo 1 ) を滴下した。 そし て同温度で 10分間攪拌後、 9. 00 g (34. 0 mm o 1 ) の化合物 20を 5 Omlの テトラヒドロフランに溶解した溶液を加えた。 滴下後、 同温度で 5分間攪拌後、 徐々に昇 温した。 反応溶液の温度が一 5°Cになったところで、 3 Om 1の 10 %クェン酸水溶液を 加えて反応を停止させた。 この反応混合物に、 6 Omlの飽和食塩水を加えて分配した。 有機層を分取し、 水層を 5 Omlの酢酸ェチルエステルで抽出した。 合せた有機層を無水 硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を留去し、 シリカゲルカラムクロマトグラフィーによ る精製を行い、 淡黄色の中粘度液状の化合物 6. 03 g (収率 29%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 17 -2. 30 (24H, m), 2. 45 (3H, s), 2. 56- 2. 92 (2H, m), 3. 15-4. 58 (8H, m), 4. 95— 5. 83 (2H, m), 6. 65-6. 94 (3H, m), 7. 29 - 7. 38 (2H, m), 7. 63— 7. 77 (2H, m) であつ た。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 3510, 2970, 2940, 2860, 1750, 1730, 1600, 1510, 1280, 1200, 1120, 1030, 670であった。 更に、 元素分析の結果は、 炭素 65. 51%、 水素 7. 45%であった。
以上の分析により、 得られた化合物がィヒ合物 21であることを確認した。
<実施例 8>
合成例 4で得た化合物 21を原料として、 本発明の化合物 22を調製した。
•化合物 22 (CH2)5-COOCH2CH3
Figure imgf000056_0001
6. 00 g (9. 95mmo 1) の化合物 21を 60 gの 1, 2—ジクロロェタン、 お よび、 15 gのメタノールに溶解した溶液に、 2. 10ml (15. lmmo l) のトリ ェチルァミン、 130mg (0. 496 mm o 1 ) のトリフエニルホスフィン、 および 5 75mg (0. 498mmo 1 ) のテトラキストリフエニレホスフィンパラジウムを加え て、 バス温 100°Cで 16時間攪拌した。放冷、濃縮後、 50mlの飽和食塩水、 および、 50mlの酢酸ェチルエステルを加えて分配した。 有機層を分取し、 10mlの飽和食塩 水で洗浄した。 合わせた水層を 30mlの酢酸ェチルエステルで抽出した。 合せた有機層 を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を留去し、 シリカゲルカラムクロマトグラフィ —による精製を行い、 淡黄色の中粘度液状の化合物 936m g (収率 21%) を得た。 本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 25 (3H, t), 1. 29 - 1. 52 ( 15 H, m), 1. 57— 1. 68 (2H, m), 2. 16-2. 33 (4H, m), 2. 82- 2. 96 (4H, m), 3. 80 (3H, s), 4. 13 (2H, q)、 6. 10 ( 1 H, d), 6. 70— 6. 94 (4H, m) であった。 また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 2970, 2930, 2860, 1750, 1740, 1670, 1630, 1610, 1510, 1270, 1200, 1120, 1040であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 70. 17%、 水素 8. 80%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 22であることを確認した。 <実施例 9>
実施例 8で得た化合物 22を原料として、 本発明の化合物 23を調製した。
•化合物 23 (CH2)5-COOH
Figure imgf000057_0001
197mg (0. 44 lmmo 1 ) の化合物 22を 3. Om 1のメタノールに溶解した 溶液に、 1. 5mlの 酸化ナトリウム水溶液を加えて、 攪拌した。 1時間攪拌後、 反応混合物に 1. 5m 1の 1 N塩酸を加えて、 中和した。 つぎに、 30mlの飽和食塩水 を加え、 1 Omlのクロ口ホルムによる抽出を 3回繰り返した。 合わせた有機層を無水硫 酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を留去した。 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ ラフィ一により精製し、 淡黄色の低粘度液状ィ匕合物 59. 7mg (44%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1.
22 - 1. 53 (8H, m), 1. 57— 1. 70 (2H, m), 2. 32-2. 44 (3 H, m), 2. 58— 2. 88 (5H, m), 3. 28 (3H, s), 3. 60- 3. 69 (1 H, m), 3. 87 (3H, s), 5. 56 (1H, b r), 6. 63— 6. 72 (2H, m), 6. 78-6. 85 (1H, m) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、
3410, 2930, 2860, 1710, 1610, 1520, 1270, 1240, 1150, 1120, 1030, 820, 800であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 78. 56%、 水素 10. 05%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 23であることを確認した。 ぐ合成例 5 >
式 (4) 化合物を得るための原料として、 化合物 3および化合物 24を原料とし、 化合 物 25を調製した。
•化合物 24 (CH3)2CHCOO
化合物 25
(CH2)5-COOCH2CH3
Figure imgf000058_0001
合成例 1の方法に従い 1. 19 g (3. 52mmo 1)の化合物 3および 85 lmg (3. 4 Ommo 1) の化合物 20から、 淡黄色の中粘度液状の化合物として 663mg (収率 32%) の化合物 25を得た。
化合物 25の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値 は、 1. 22— 1. 60 (18H, m), 1. 99— 2. 2. 45 (4H, m), 2. 78
(3H, s), 2. 77-2. 84 (2H, m), 2. 94 ( 1 H, t), 3. 71— 3. 8
0 (4H, m), 4. 12 (2H, q), 5. 37 - 5. 5. 43 (1H, m), 5. 47- 5. 53 (1H, m), 6. 74-6. 94 (3H, m), 7. 30 - 7..35 (2H, m), 7. 72 - 7. 77 (2H, m) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 3510, 2970, 2940, 2860, 1750, 1730, 1600, 1510,
1280, 1200, 1120, 1030, 670であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 65. 28%、 水素 7. 53%であった。
<実施例 10 >
合成例 5で得た化合物 25を原料として、 本発明の化合物 26を調製した。
•化合物 26
0
CH O (CH2)5-COOCH 2CH3
(CH 3)2CHCOO 実施例 1の方法に従い 6 g (9. 95mmo 1) の化合物 25から、 淡黄色の中粘度液 状の化合物として 936mg (収率 21%) の化合物 26を得た。
化合物 26の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値 は、 1. 23— 1. 73 (17H, m), 2. 18-2. 31 (4H, m), 2. 79-2. 93 (5H, m), 3. 79 (3H, s), 4. 12 (2H, q), 6. 09 ( 1 H, d), 6. 75- 6. 83 (3H, m), 6. 91 ( 1 H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 2979、 1760、 1732、 1668、 1603、 1512、 1468、 1369、 1267、 1150、 1127、 1038であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 69. 42%、 水素 8. 39%であった。
<実施例 11>
実施例 10で得た化合物 26を還元し、 本発明の化合物 27を得た。
'化合物 27
(CH2)5-COOCH2CH-a
Figure imgf000059_0001
588mg (1. 36mmo 1) の化合物 26、 および 1. 52 g (4. 08mmo 1) の塩ィ匕セリウム 7水和物を 24m 1のメタノールに溶解した溶液をドライアイス ァセト ンで— 78 °Cに冷却した。 この溶液に 77. lmg (2. 04mmo 1) の水素化ホウ素 ナトリゥムを加え、 同温度で 15分間攪拌した。 この反応混合物に 40mlの食塩水およ び 80m 1の酢酸ェチルエステルを加えて分配した。 有機層を分取し、 水層を 4 Om 1の 酢酸ェチルエステルで抽出した。 合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒 を留去し、減圧乾燥することにより、淡黄色中粘度液状の化合物 575mg (97. 3%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 23— 1. 64 (17H, m), 1. 82— 1. 84 (2H, m), 2. 04 (2H, dd), 2. 29 (2H, t), 2. 64-2. 70 (2H, m), 2. 70— 2. 84 ( 1 H, m), 3. 80 (3H, s), 4. 07-4. 15 (3H, m), 5. 46- 5. 52 (1H, m), 5. 61— 5. 68 (1 H, m), 6. 75— 6. 79 (2H, m), 6. 90 (1H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 3504、 2974、 1761、 1736、 1606、 1511、 1467、 1418、 1280、 1182、 1127、 1098、 1036であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 69. 10%、 水素 8. 81%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 27であることを確認した。 <実施例 12 >
実施例 11で得た化合物 27をエポキシ化し、 本発明の化合物 28を得た。
•化合物 28
Figure imgf000060_0001
257mg (0. 59 lmmo 1 ) の化合物 27を 9m 1のジクロロメタンにを溶解し た溶液に、 氷冷下、 204mg (1. 18 mm o 1 ) の m—クロ口過安息香酸を 3m 1の ジクロロメタンに溶解した溶液を滴下した。 同温で 4時間攪拌後、 反応混合物に 10ml の 10%チォ硫酸ナトリウム水溶液を加え、 10mlのクロ口ホルムによる抽出を 2回繰 り返した。 合わせた有機層を、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を留去した。 得られ た残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーにより精製し、 淡黄色中粘度液状の化合物 2 57mg (収率 97%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 23— 1. 95 (21 H, m), 2. 29 (2H, t), 2. 72— 2. 91 (5H, m), 3. 51-3. 53 (1H, m), 3. 80 (3H, s), 4. 12 (2H, q), 6. 76 —6. 80 (2H, m), 6. 92 (1H, d) であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 66. 64%、 水素 8. 50%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 28であることを確認した。 <実施例 13 >
実施例 8で得た化合物 22を接触水素添加し、 本発明の化合物 29を得た。
•化合物 29
(CH2)5-COOCH2CH3
Figure imgf000061_0001
1 g (2. 24mmo 1 ) の化合物 22を 25 m 1のエタノールに溶解した溶液に、 1 0 Omgのパラジウム—炭素を加えた。 反応系内を水素雰囲気下 3. 5時間攪拌した後、 反応液をセライトろ過し、 パラジウム触媒をろ別した。 ろ液を減圧下濃縮すると、 淡黄色 の中粘度液状の化合物 0. 97 g (収率 97%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスペクトルのケミカルシフト値は、 1. 23— 1. 61 (24H, m), 2. 28 (2H, t), 2. 37 (2H, t), 2. 71 (2 H, t), 2. 87 (2H, t), 3. 78 (3H, s), 4. 12 (2H, q), 6. 72 -6. 77 (2H, m), 6. 89 ( 1 H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 2930、 1760、 1730、 1639、 1511、 1452、 1419、 1369、 1267、 1183、 1126であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 69. 61%、 水素 8. 99%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 29であることを確認した。 <実施例 14>
実施例 10で得た化合物 26を接触水素添加し、 本発明の化合物 30を得た。
•化合物 30
( H2)5-COOCH2Cn3
Figure imgf000061_0002
実施例 13の方法に従い、 161mg (0. 379mmo 1 ) の化合物 26から、 淡黄 色中粘度液状の化合物として 148 m g (収率 91 %) の化合物 30を得た。
化合物 30の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値 は、 1. 23— 1. 71 (21H, m), 2. 28 (2H, t), 2. 38 (2H, t), 2. 43— 2. 45 (1H, m), 2. 72 (2H, t), 2. 87 (2H, t), 3. 79 (3 H, s), 4. 12 (2H, q), 6. 72— 6. 78 (2H, m), 6. 90 (1 H, d) であった
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm— は、 2930、 1760、 1730、 1639、 1511、 1452、 1419、 1369、 1267、 1183、 1126、 1098、 1029、 1015であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 69. 10%、 水素 8. 81%であった。
<実施例 15 >
実施例 14で得た化合物 30を水素化ホウ素ナトリゥムで還元し、 本発明の化合物 31 を得た。
•化合物 31
(CH2)5-COOCH2CH
Figure imgf000062_0001
188mg (0. 433 mm o 1 ) の化合物 30を 5 m 1のメタノールに溶解した溶液 に、 氷冷下 16. 4mg (0. 433mmo 1) の水素化ホウ素ナトリウムを加えた。 室 温にて 2時間攪姅後、 反応混合物に 10mlの飽和食塩水、 および 10mlの酢酸ェチル エステルを加え分配した。 有機層を分取後、 水層を 10mlの酢酸ェチルエステルにより 抽出した。 合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を留去し、 減圧乾燥す ることにより、 淡黄色中粘度液状の化合物 187mg (99%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 20— 1. 72 (28H, m), 2. 26 (2H, t), 2. 55— 2. 65 ( 1 H, m), 2. 70 - 2. 80 (1 H, m), 3. 54- 3. 63 (1H, m), 3. 76 (3H, s), 4. 09 (2H, q), 6. 72- 6. 75 (2H, m), 6. 86 ( 1 H, d) であった。 また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm— は、 3466 2933 1739 1600 1513 1465 1371 1267 1142 1040であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 68. 78%、 水素 9. 23%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 31であることを確認した。
<実施例 16 >
実施例 10で得た化合物 26をケタールィヒし、 本発明の化合物 32を得た。
•化合物 32
l2)5-COOCH2CH3
Figure imgf000063_0001
本反応は窒素雰囲気下で行った。 11 1 (0. 0614mmo 1) のトリフルォロメ タンスルホン酸トリメチルシリル、 および 0. 9ml (3. 69 mm o 1 ) の 1 2—ピ ストリメチルシ口キシェタンを 6m 1のジクロロメタンに溶解した溶液に、 氷冷下 133 mg (0. 307 mm o 1 ) の化合物 26を lm 1のジクロロメタンに溶解した溶液を滴 下した。 50分間攪拌後、 反応混合物にトリエヂルァミンを加え反応を停止させた。 次に 5mlの飽和重曹水おょぴ 5mlのクロ口ホルムを加え分配した。 有機層を分取し、 無水 硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を留去し、 得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトダラ フィ一により精製し、 淡黄色中粘度液状の化合物 114mg (78%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 23- 1. 64 (17H, m), 1. 98— 2. 06 (4H, m), 2. 28 (2H, t),
2. 67-2. 71 (2H, m), 2. 80— 2. 84 (1H, m), 3. 79 (3H s),
3. 91-3. 98 (4H, m), 4. 12 (2H, q), 5. 38 (1 H, d), 5. 81 (1H d t), 6. 74- 6. 78 (2H, m), 6. 89 ( 1 H d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 2924 1758 1737 1608 1510 1466 1420 1127 1042であった。 更に、 元素分析の結果は、 炭素 68. 04%、 水素 8. 46%であった。
以上の分析により、 得られた化合物がィヒ合物 32であることを確認した。
<実施例 17>
実施例 13で得た化合物 29をケタール化し、 本発明の化合物 33を得た。
•化合物 33
Figure imgf000064_0001
実施例 16の方法に従い、 234mg (0. 522mmo 1 ) の化合物 29から、 淡黄 色中粘度液状の化合物として 200mg (78%) の化合物 33を得た。
化合物 33の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値 は、 1. 23— 1. 35 (22H, m), 1. 59— 1. 64 (4H, m), 1. 90-1.
94 (2H, m), 2. 28 (2H, t), 2. 64— 2. 68 (2H, m), 3. 78 (3
H, s), 3. 98 (4H, s), 4. 12 (2H, q), 6. 74— 6. 78 (2H, m),
6. 88 (1 H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、
2936、 1755、 1735、 1606、 1511、 1464、 1418、 1266、
1203、 1117、 1036あった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 68. 54%、 水素 8. 63%であった。 <実施例 18 >
実施例 10で得た化合物 26に水分子の付加、 並びにフエノール性水酸基の保護基およ び力ルポキシル基の保護基の除去を行い、 本発明の化合物 3 を得た。
•化合物 34
Figure imgf000065_0001
43mg (99. 4 βπιο 1 ) の化合物 26を 3m 1のトルエンに溶解した溶液に 0. 2mlの 1N水酸ィ匕ナトリウム水溶液および 3. 5mg (9. 9 imo 1 ) 臭ィヒベンジル トリプチルアンモニゥムを加えて、 室温にて 1 8時間攪拌した。 反応混合物から、 有機層 を分取し、 水層に 1N塩酸を加えて中和した。 この水層を 5m 1のクロ口ホルムにより 3 回抽出を行った。 合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を留去した。 得 られた残渣をシリ力ゲル薄層クロマトグラフィーにより精製し、 黄色中粘度液状の化合物 23. 2mg (66%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 00— 1. 77 (1 OH, m), 2. 18-2. 33 (2H, m), 2. 65 (2H, t), 2. 88 (2H, t), 3. 20-3. 24 (2H, m), 3. 72-3. 86 (4H, m), 4. 75 (1H, s), 5. 30 ( 1 H, b r), 6. 68— 6. 72 (2H, m), 6. 8 3 (1H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 3336、 2943、 1 723、 1710、 1 603、 1 5 14、 1426、 1275、 1212であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 64. 75%、 水素 8. 0 1%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 34であることを確認した。 <実施例 1 9 >
実施例 1 8で得た化合物 34を還元し、 本発明の化合物 35を得た c
•化合物 35
Figure imgf000065_0002
35. 2mg (0. 1 03mmo 1 ) の化合物 34を 2m 1のメタノールに溶解した溶 液に、 氷冷下 5. 8mg (0. 154mmo 1 ) の水素化ホウ素ナトリウムを加えた。 パ ス温 60 °Cにて 6時間攪拌後、 反応混合物に 5 m 1の飽和食塩水、 および 5 m 1の酢酸ェ チルエステルを加え分配した。 有機層を分取後、 水層を 5m 1の酢酸ェチルエステルによ り 3回抽出した。 合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を留去した。 得 られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーにより精製し、無色結晶性の化合物 7. 4mg (21 %) を得た。
本品の重メタノール中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 10-1. 90 (12H, m), 2. 18— 2. 33 (2H, m), 2. 39-2. 43 (2 H, m), 2. 79-2. 83 (2H, m), 3. 64-3. 87 (4H, m), 6. 65- 6. 68 (2H, m), 6. 74 ( 1 H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 3448、 2924、 1701、 1621、 1560、 1524、 1410、 1212、 1127、 1098、 1028あった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 64. 38%、 水素 8. 53%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 35であることを確認した。 ぐ実施例 20>
実施例 10で得た化合物 26に対してメ夕ノールの付加およびフエノール性水酸基の保 護基の除去を行い、 本発明の化合物 36を得た。 なお化合物 26において力ルポキシル基 の保護基であったェチル基は、 メチル基に置換されていた。
•化合物 36
(CH2)5-COOCH3
Figure imgf000066_0001
432mg (0. 999mmo 1 ) の化合物 26を 6 m 1のメタノールに溶解した溶液 に、 あらかじめ 80mg ( 2 mm o 1 ) の水酸化ナトリウムを 4m 1のメタノールに溶解 した溶液を加えた。 室温にて 4時間攪拌後、 1N塩酸を加えて中和した。 溶媒を留去した 後、 得られた残渣に 10mlの飽和食塩水を加え、 10m 1の酢酸ェチルエステルによる 抽出を 3回繰り返した。合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、 得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーにより精製し、 淡黄色中粘度液状の化 合物 154mg (41%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 29 - 1. 63 (10H, m), 2. 30 (2H, t), 2. 39 (1H, dd), 2. 64 (1H, dd), 2. 73-2. 76 (2H, m), 2. 81-2. 83 (2H, m), 3. 25 (3H, s), 3. 64-3. 67 (4H, m), 3. 88 (3H, s), 5. 51 (1 H, s), 6. 66- 6. 70 (2H, m), 6. 82 ( 1 H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm— は、 3413、 2931、 1733、 1604、 1515、 1436、 1364、 1267、 1238、 1196、 1155、 1127、 1084、 1072、 1028であった。 更に、 元素分析の結果は、 炭素 66. 29%、 水素 8. 48%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 36であることを確認した。 <実施例 21 >
実施例 11で得た化合物 27を加水分解し、 本発明の化合物 37を得た。
•化合物 37
Figure imgf000067_0001
209mg (0. 480 mm o 1 ) の化合物 27を 4m 1のエタノールに溶解した溶液 に 2 m 1の 1 N水酸化ナトリゥム水溶液を加えて、 攪拌した。 バス温 80でにて 6時間攪 拌後、 1N塩酸を加えて中和した。 反応溶液を減圧下濃縮しエタノールを留去した後、 1 0m 1の飽和食塩水を加え、 1 Omlの酢酸ェチルエステルによる抽出を 3回繰り返した。 合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を留去し、 得られた残渣をシリカ ゲル薄層クロマトグラフィーにより精製し、 黄色中粘度液状の化合物 l O Omg (6 2%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 12-2. 35 (14H, m), 2. 60— 2. 90 (2H, m), 3. 86 (3H, s), 4. 07-4. 13 (1H, m), 5. 36 - 5. 53 (1H, m), 5. 59-5. 67 (1H, m), 6. 64-6. 70 (2H, m), 6. 81 (1H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 3403、 2926、 2858、 2368、 1700、 1515、 1417、 1274、 1034であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 67. 83 %、 水素 8. 39%であった。
以上の分析により、 得られた化合物がィ匕合物 37であることを確認した。
<実施例 22 >
実施例 14で得た化合物 30を加水分解し、 本発明の化合物 38を得た。
•化合物 38
Figure imgf000068_0001
実施例 21の方法に従い、 199mg (0. 457mmo 1) の化合物 30から、 無色 結晶性の化合物として 136mg (89%) の化合物 38を得た。
化合物 38の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値 は、 1. 11— 1. 64 (12H, m), 2. 32— 2. 38 (4H, m), 2. 69 (2 H, t), 2. 82 (2H, t), 3. 87 (3H, s), 5. 55 ( 1 H, b r), 6. 6 5-6. 69 (2H, m), 6. 81 ( 1 H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm— は、 3414、 2935、 1703、 1611、 1520、 1466、 1409、 1279、 1228、 1122、 1028であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 67. 83 %、 水素 8. 39%であった。 <実施例 23>
実施例 15で得た化合物 31を加水分解し、 本発明の化合物 39を得た。 化合物 39
Figure imgf000069_0001
実施例 21の方法に従い、 187mg (0. 433mmo 1 ) の化合物 31から、 無色 結晶性の化合物として 134mg (91%) の化合物 39を得た。
化合物 39の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値 は、 1. 23— 1. 77 (16H, m), 2. 33 (2H, t), 2. 56— 2. 63 (1 H, m), 2. 68 -2. 74 (1H, m), 3. 59— 3. 66 (1 H, m), 3. 87 (3 H, s), 5. 50 (1H, b r), 6. 67 - 6. 70 (2H, m), 6. 82 ( 1 H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 3413、 2931、 1705、 1612、 1515、 1435、 1367、 1264、 1154、 1038であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 67. 43%、 水素 8. 93%であった。
<実施例 24>
実施例 8で得た化合物 22を水素化アルミニウムリチウムで還元し、 本発明の化合物 4 0を得た。
•化合物 40
Figure imgf000069_0002
594mg (1. 33mmo 1 ) の化合物 22を 40m 1のテトラヒドロフランに溶解 した溶液に、 氷冷下 202mg (5. 32mmo 1) の水素化アルミニウムリチウムを加 えた。 室温にて 1時間攪拌後、 反応混合物に 1N塩酸を加えて反応を停止させた。 次に 1 5mlの蒸留水を加え、 2 Om 1の酢酸ェチルエステルによる抽出を 2回繰り返した。 合 わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を留去した。 得られた残渣をシリカ ゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、 無色中粘度液状の化合物 315mg (7 3 %) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 23— 1. 83 (12H, m), 2. 02 (2H, m), 2. 56 - 2. 69 (2H, m), 3. 61 (2H, t), 3. 84 (3H, s), 4. 04 (1H, d d) 5. 45-5. 4 9 (1H, m), 5. 58- 5. 66 (1 H, m), 6. 65 - 6. 67 (2H, m), 6. 79 (1H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm— は、 3349、 2930、 1666、 1602、 1516、 1464、 1453、 1431、 1368、 1273、 1236、 1154、 1036であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 70. 77%、 水素 9. 38%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 40であることを確認した。 <実施例 25 >
実施例 24で得た化合物 40をエポキシ化し、 本発明の化合物 41を得た。
•化合物 41
Figure imgf000070_0001
87. 3mg (0. 27 lmmo 1) の化合物 40を 5mlのジクロロメタンにを溶解 した溶液に、 氷冷下、 93. 6mg (0. 542mmo 1) の —クロ口過安息香酸を 3 m 1のジクロロメタンに溶解した溶液を滴下した。 同温で 6. 5時間攪拌後、 反応混合物 に 5mlの 10%チォ硫酸ナトリウム水溶液を加え、 5m 1のクロ口ホルムによる抽出を 2回繰り返した。 合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を留去した。 得 られた残渣をシリ力ゲル薄層クロマトグラフィーにより精製し、 淡黄色中粘度液状の化合 物 44. 6mg (収率 49%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 33— 2. 30 (15H, m), 2. 64— 3. 10 (4H, m), 3. 62 (2H, t), 3. 80- 3. 87 (4H, m), 6. 68-6. 71 (2H, m), 6. 82 ( 1 H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 3394、 2931、 1723、 1603、 1517、 1453、 1430、 1368、 1270、 1035であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 67. 83%、 水素 8. 39%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 41であることを確認した。
<実施例 26 >
実施例 14で得た化合物 30を水素化アルミニウムリチウムで還元し、 本発明の化合物 42を得た。
•化合物 42
Figure imgf000071_0001
実施例 24の方法に従い、 148mg (0. 33 Ommo 1 ) の化合物 30から、 無色 結晶性の化合物として 97. 4mg (91%) の化合物 42を得た。
化合物 42の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスペクトルのケミカルシフト値 は、 1. 26— 1. 72 (18H, m), 2. 54— 2. 61 (1H, m), 2. 66-2. 70 (1H, m), 3. 54— 3. 73 (3H, m), 3. 85 (3H, s), 6. 66-6. 68 (2H, m), 6. 80 (1H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 3426、 2930、 1607、 1515、 1481、 1468、 1437、 1365、 1268、 1239、 1155、 1124、 1039であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 70. 33%、 水素 9. 94%であった。 <実施例 27 >
実施例 16で得た化合物 32を水素化アルミニウムリチウムで還元し、 本発明の化合物 43を得た。
,化合物 43
Figure imgf000072_0001
159mg (0. 334mmo 1 ) の化合物 32を 6 m 1のテトラヒドロフランに溶解 した溶液に、 氷冷下 50. Omg (1. 33mmo 1) の水素化アルミニウムリチウムを 加えた。 室温にて 1時間攪拌後、 反応混合物に 1 N塩酸を加えて反応を停止させた。 次に 5mlの飽和食塩水を加え、 5m 1の酢酸ェチルエステルによる抽出を 3回繰り返した。 合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を留去した。 得られた残渣をシリ 力ゲル薄層クロマトグラフィーにより精製し、 黄色中粘度液状の化合物 121mg (9 9%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 26 - 1. 55 (10H, m), 1. 96-2. 06 (4H, m), 2. 62— 2. 66 (2 H, m), 3. 62 (2H, t), 3. 86 (3H, s), 3. 91— 3. 99 (4H, m), 5. 38 (1H, d), 5. 61 ( 1 H, s), 5. 81 ( 1 H, d t), 6. 66— 6. 6 9 (2H, m), 6. 82 (1H, d) であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 69. 20%、 水素 8. 85%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 43であることを確認した。
<実施例 28 >
実施例 17で得た化合物 33を水素化アルミニゥムリチウムで還元し、 本発明の化合物 . 44を得た。
•化合物 44
Figure imgf000073_0001
実施例 27の方法に従い、 186mg (0. 378mmo 1) の化合物 33を黄色中粘 度液状の化合物として 137mg (99%) の化合物 44を得た。
化合物 44の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値 は、 1. 24— 1. 70 (16H, m), 1. 88 - 1. 93 (2H, m), 2. 59— 2. 63 (2H, m), 3. 64 (2H, t), 3. 87 (3H, s), 3. 98 (4H, s), 5. 50 (1H, b r), 6. 67 - 6. 70 (2H, m), 6. 82 (1H, d) であつ た。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 69. 20%、 水素 8. 85%であった。 <実施例 29 >
実施例 27で得た化合物 43のケタールを除去し、 本発明の化合物 45を得た。
•化合物 45
Figure imgf000073_0002
122mg (0. 335mmo 1 ) の化合物 43を 2m 1のアセトンおよび 2m 1の蒸 留水に溶解した溶液に、 8. 4mg (0. 0335mmo 1) の p—トルエンスルホン酸 ピリジニゥムを加えた。 この反応溶液を 3時間加熱還流した。 つぎに、 反応溶液を室温ま で放冷した後、 溶媒を留去し、 得られた残渣に 5m 1の飽和食塩水を加え、 5mlの酢酸 ェチルエステルによる抽出を 3回繰り返した。 合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで 乾燥後、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーにより精製し、 淡黄色中粘度液状の化合物 85. 2mg (80%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 30 - 1. 58 (1 OH, m), 2. 17 (2H, d d), 2. 81-2. 86 (4H, m), 3. 63 (2H, t), 3. 86 (3H, s), 5. 73 (1 H, s), 6. 08 ( 1 H, d t), 6. 67— 6. 71 (2H, m), 6. 78- 6. 83 (2H, m) であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 71. 22%, 水素 8. 81%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 45であることを確認した。
<実施例 30 >
実施例 28で得た化合物 44のケタールを除去し、 本発明の化合物 46を得た。
•化合物 46
Figure imgf000074_0001
実施例 29の方法に従い、 137mg (0. 377mmo 1) の化合物 44から、 無色 結晶性の化合物として 12 Omg (99%) の化合物 46を得た。
化合物 46の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値 は、 1. 20— 1. 51 (14H, m), 2. 29 (2H, t), 2. 62 (2H, t), 2. 75 (2H, t), 3. 59 (2H, t), 3. 81 (3H, s), 5. 47 ( 1 H, s), 6. 64- 6. 67 (2H, m), 6. 80 ( 1 H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 3415、 2920、 1705、 1611、 1520、 1463、 1455、 1365、 1278、 1236、 1151、 1122、 1064、 1028であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 70. 77%、 水素 9. 38%であった。
<実施例 31 >
実施例 12で得た化合物 28を還元し、 本発明の化合物 47を得た。
•化合物 47
Figure imgf000075_0001
117mg (0. 26 Ommo 1 ) の化合物 28を 10m 1のテトラヒドロフランに溶 解した溶液に、 氷冷下 59. Img (1. 56mmo 1 ) の水素化リチウムアルミニウム を加えた。 室温にて 1時間攪拌後、 反応混合物に 1N塩酸を加えて反応を停止した。 次に 5mlの飽和食塩水を加え、 1 Omlの酢酸ェチルエステルによる抽出を 3回繰り返した。 合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を留去した。 得られた残渣をシリ 力ゲル薄層クロマトグラフィーにより精製し、無色結晶性の化合物 81.4mg(92%) を得た。
本品の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値は、 1. 24- 1. 78 (16H, m), 3. 63— 3. 70 (3H, m), 3. 88-3. 96 (4 H, m), 5. 49 (1 H, s), 6. 69— 6. 73 (2H, m), 6. 84 ( 1 H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm一1) は、 3416、 2930、 1653、 1609、 1516、 1453、 1429、 1368、 1274、 1239、 1154、 1030であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 67. 03 %、 水素 9. 47%であった。
以上の分析により、 得られた化合物が化合物 47であることを確認した。
<実施例 32>
実施例 20で得た化合物 36を水素化アルミニゥムリチウムで還元し、 本発明の化合物 48を得た。
•化合物 48
Figure imgf000075_0002
実施例 24の方法に従い、 154mg (0. 405mmo 1 ) の化合物 36から、 無色 中粘度液状の化合物として 97. lmg (68%) の化合物 48を得た。
化合物 48の重クロ口ホルム中で測定した1 H— NMRスぺクトルのケミカルシフト値 は、 1. 26— 1. 80 (14H, m), 2. 58-2. 2. 64 (1H, m), 2. 68 -2. 74 (1H, m), 3. 35— 3. 63 (4H, m), 3. 61 (2H, t), 3. 7 9- 3. 89 (4H, m), 5. 78 ( 1 H, s), 6, 67— 6. 73 (2H, m), 6. 81 (1 H, d) であった。
また、 赤外線吸収スペクトル (KB rペレット法) で吸収があった波数 (cm—1) は、 3389、 2932、 2857、 1602、 1516、 1453、 1428、 1371、 1272、 1238、 1084、 1036であった。
更に、 元素分析の結果は、 炭素 68. 15%、 水素 9. 15%であった。
<試験例 1 >
実施例 2で得られた化合物 7、 実施例 5で得られた化合物 13、 実施例 7で得られた化 合物 18と化合物 19の混合物 (存在モル比 45 : 55)、および、 比較対照としてアルブ チン (東京化成工業製) を用いて、 L—ド一パを基質としたチロシナ一ゼ活性阻害試験を 行った。
具体的な試験手順は以下のとおりである。
(1) リン酸二水素ナトリウム 1. 000 gおよびリン酸水素ニナトリウム 1. 186 g を蒸留水 500m 1に溶解したリン酸緩衝液 1. 80ml、 L-DOPA32. 7mgを 蒸留水 20 Omlに溶解した基質液 1. 0 Om 1、 および、 検体をジメチルスルホキシド に溶解した試験液 0. 1 Omlを混合した。
(2) マッシュルームチロシナーゼ 3. Omg (2400ユニット、 シグマ社製) を蒸留 水 7. Omlに溶解した酵素液 0. 10 m 1を ( 1 ) で調製した溶液に加えて、 15秒間 攪拌した。 得られた溶液を 25 で保持し、 1分 45秒後および 2分 45秒間後の 475 nmでの吸光度を測定した。
(3)上記(1) (2) の試験操作をそれぞれの検体およびブランク試験(ジメチルスルホ キシドのみ) について 3回行い、 得られた数値を下記計算式に代入して、 その平均値をチ ロシナーゼ活性阻害率 (%) とした。
チロシナーゼ活性阻害率 (%) = [(T1一 T2) /T1] XI 00 T 1 =検体未添加溶液の 2分 45秒間後と 1分 45秒後の吸光度の差
Τ 2 =検体を加えた溶液の 2分 45秒間後と 1分 45秒後の吸光度の差 本発明の化合物およびアルブチンをそれぞれ、 酵素反応液中に 0. 5mgZml、 およ び 1 m g Zm 1用いた場合の結果を表 1に示した。
<表 1>
Figure imgf000077_0001
試験の結果、 本発明の化合物は、 既存のチロシナーゼ活性阻害剤であるアルブチン以上 の効果を有することがわかった。 く試験例 2 >
実施例 24で得られた化合物 40、および比較対照としてアルブチン(東京化成工業製) を用いて、 L一ドーパを基質としたチロシナーゼ活性阻害試験を行った。 試験方法は試験 例 1に従った。
本発明の化合物およびアルブチンをそれぞれ、酵素反応液中に 0. 125 mg/m 1、 0. 25 Omg/m 1、 および 0. 5 Omg/m 1用いた場合の結果を表 2に示した。
<表 2>
Figure imgf000077_0002
試験の結果、 本発明の化合物 40は、 既存のチロシナーゼ活性阻害剤であるアルブチン 以上の効果を有することがわかった。
<試験例 3 >
実施例 21で得られた化合物 37、 実施例 22で得られた化合物 38、 実施例 23で得 られた化合物 39、 および、 比較対照としてアルブチン (東京化成工業製) を用いて、 L 一ド一パを基質としたチロシナーゼ活性阻害試験を行つた。
具体的な試験手順を以下に示す。
(1) リン酸二水素ナトリウム 1. 000 gおよびリン酸水素ニナトリウム 1. 186g を蒸留水 50 Omlに溶解したリン酸緩衝液 72 1、 L-DOPA32. 7mgを蒸留 水 20 Om 1に溶解した基質液 80 1、 および、 検体をジメチルスルホキシドに溶解し た試験液 8 n 1を混合した。 CS)
(2) マッシュルームチロシナーゼ 3. Omg (2400ユニット、 シグマ社製) を蒸留 水 7. Omlに溶解し、 更に前記リン酸緩衝液で 5倍に希釈した酵素液 80 1を ( 1 ) で調製した溶液に加えて、 15秒間攪拌した。 得られた溶液を 25 °Cで保持し、 1分45
CO
秒後および 2分 45秒間後の 490 nmでの吸光度をマイクロプレートリーダーで測定し
た。
(3)上記(1) (2) の試験操作をそれぞれの検体およびブランク試験(ジメチルスルホ キシドのみ) について 4回行い、 得られた数値を下記計算式に代入して、 その平均値をチ 口シナ一ゼ活性阻害率 (%) とした。
チロシナ一ゼ活性阻害率 (%) = [(T1— T2) /T1] X I 00
T 1 =検体未添加溶液の 2分 45秒間後と 1分 45秒後の吸光度の差
T 2 =検体を加えた溶液の 2分 45秒間後と 1分 45秒後の吸光度の差 本発明の化合物およびアルブチンをそれぞれ、 酵素反応液中に 0. 50mg/ml、 お よび 1. 0 OmgZml用いた場合の結果を表 3に示した。
<表 3>
検体 チロシナー -ゼ活性阻害率 (%)
1 mg/ mし 1 0.5mgZmL
化合物 37 67.7
化合物 38 73· 3 ' 49.9
化合物 39 75.2 ' 51.3
アルブチン 試験の結果、 本発明の化合物 37、 化合物 38および化合物 39は、 既存のチロシナー ゼ活性阻害剤であるアルブチン以上の効果を有することがわかった。 く試験例 4 >
実施例 26で得られた化合物 42、 実施例 29で得られた化合物 45、 実施例 30で得 られた化合物 46、 および比較対照としてアルブチン (東京化成工業製) を用いて、 L一 ド一パを基質としたチロシナ一ゼ活性阻害試験を行った。 試験方法は試験例 3に従った。 本発明の化合物およびアルプチンをそれぞれ、 酵素反応液中に 0. 031 m g 1、 寸
0. 062mgZm 1、 ωおよび 0. 125 m gZm 1用いた場合の結果を表 4に示した。
ぐ表 4> D C
検体 チロシナーゼ活性阻害率(%)
0. 125mg mし · 0. 063mg/mL 10.031 mgZmL 化合物 42 31. 3 ' 20. 1
化合物 45 27.6 ' 18. 2 ■ 10.7
化合物 46 23. 8 14.9
アルブチン 24.7 ' 17.7 ' 10.7 試験の結果、 本発明の化合物 42、 化合物 45、 および化合物 46は、 既存のチロシナ —ゼ活性阻害剤であるアルブチン以上の効果を有することがわかった。
<試験例 5 >
実施例 18で得られた化合物 34、 実施例 31で得られた化合物 47、 および比較対照 としてアルブチン (東京化成工業製) を用いて、 L—ドーパを基質としたチロシナ一ゼ活 性阻害試験を行った。 試験方法は試験例 3に従った。
本発明の化合物およびアルブチンをそれぞれ、 酵素反応液中に 1. O OmgZml用い た場合の結果を表 5に示した。
<表 5>
Figure imgf000079_0001
試験の結果、 本発明の化合物 34、 化合物 47は、 既存のチロシナーゼ活性阻害剤であ るアルブチン以上の効果を有することがわかった。 く試験例 6 >
実施例 32で得られた化合物 48、および比較対照としてアルブチン(東京化成工業製) を用いて、 L—ド一パを基質としたチロシナ一ゼ活性阻害試験を行った。 試験方法は試験 例 3に従った。
本発明の化合物およびアルブチンをそれぞれ、 酵素反応液中に 0. 25mgZml、 お よび 0. 5 Omg/ml用いた場合の結果を表 6に示した。
<表 6>
Figure imgf000080_0001
試験の結果、 本発明の化合物 48は、 既存のチロシナ一ゼ活性阻害剤であるアルブチン 以上の効果を有することがわかった。
<試験例 7 >
実施例 2で得られた化合物 7、 化合物 34、 および、 比較対照としてァスコルピン酸リ ン酸マグネシゥムを用いて、 ヒアル口ン酸分解酵素活性阻害試験を行つた。
具体的な試験手順は以下のとおりである。
はじめに、 下記の Α〜Ηに示した溶液をそれぞれ調製した。
A: 0. 60 gの酢酸を 100mlの蒸留水に溶解することで、 0. 1 M酢酸緩衝液を調 製した。
B: 7. 2mgのヒアルロン酸分解酵素 (シグマ社製の牛睾丸由来、 タイプ IV— S) を 3. Omlの酢酸緩衝液 (上記 Aで調製) に溶解することで、 ヒアルロニダーゼ溶液を調製し た。
C: 1. Omgの c ompound48Z80 (シグマ社製のヒアルロニダーゼ活性化剤) を 10. Omlの酢酸緩衝液 (上記 Aで調製) に溶解することで、 活性化剤溶液を調製し た。
D: 12. 0 m gのヒアル口ン酸カリウム (和光純薬社製) を 15. Omlの酢酸緩衝液 (上記 Aで調製) に溶解することで、 ヒアルロン酸溶液を調製した。 E: 1. 60 gの水酸ィ匕ナトリウムを 100m 1の蒸留水に溶解することで、 0. 4Nの 水酸化ナトリゥム水溶液を調製した。
F: 4. 95 gのホウ酸を 5 Om 1の蒸留水に溶解した後、 pHが 9. 1となるまで 1N の水酸化ナトリウム水溶液を加えた。 引き続いて、 蒸留水を加えて全量を 10 Omlとし た。
G: 1. 0 gの p—ジメチルァミノべンズアルデヒド、 1. 25mlの 1 ON塩酸、 およ び、 8. 75mlの酢酸を混合した。 本溶液は、 使用直前に酢酸を追加し、 全量を 100 m 1としたものを使用した。
H:各検体を最終試験濃度が 0· 5mgZmlおよび 1. Omg/m 1となるように、 そ れぞれ、 酢酸緩衝液 (上記 Aで調製) に溶解した。 つぎに、 下記の (1) ~ (8) に示した手順で実験操作を実施した。
(1) 0. 2 m 1の検体溶液 (上記 Hで調製) と 0. 1mlのヒアルロン酸分解酵素溶 液 (上記 Bで調製) を混合し、 37 °Cで 20分間ィンキュベ一トした。
(2) 上記反応溶液に、 0. 2mlの活性化剤溶液 (上記 Cで調製) を加え、 37でで 20分間ィンキュペートした。
(3)上記反応溶液に、 0. 5mlのヒアルロン酸溶液(上記 Dで調製)を加え、 37°C で 40分間インキュベートした。
(4)上記反応溶液に、 0. 2mlの 0. 4 N水酸化ナトリウム水溶液(上記 Eで調製) を加え、 氷浴にて冷却した。
(5) 上記反応溶液に、 0. 2mlのホウ酸溶液 (上記 Fで調製) を加え、 100でで 3分間加熱した。
( 6 ) 上記反応溶液を氷浴にて冷却した。
(7) 上記反応溶液に、 3. Omlの p—ジメチルァミノべンズアルデヒド溶液 (上記 Gで調製) を加え、 37でで 20分間インキュベートした。
(8) 分光光度計を用いて、 反応溶液の 585 nmにおける吸光度を測定した。
上記の操作を 3回繰り返し、 得られた数値を下記の計算式に代入し、 その平均値を各検 体のヒアルロン酸分解酵素活性の阻害率とした。
ヒアルロン酸分解酵素活性阻害率 (%) = (A-B) /AX 100 A=検体未添加で操作を行った際に得られた吸光度
B =各検体を添加した操作を行つた際に得られた吸光度
本発明の化合物およびァスコルビン酸リン酸マグネシウムをそれぞれ、 酵素反応液中に 0. lmg/m 1 , 0. 2mg/ml、 および 0. 4m gZm 1用いた場合の結果を表 7 に示した。 (化合物 7は 0. 4mgZmlの濃度では溶解しなかったため、試験は行ってい ない。)
ぐ表 7>
Figure imgf000082_0001
試験の結果、 本発明の化合物は、 ヒアルロン酸分解酵素活性の阻害効果を有することが わかった。 ぐ試験例 8 >
実施例 2で得られた化合物 7、 および、 比較対照として d 1—ひ—トコフエロール (東 京化成工業製) およびプチルヒドロキシトルエン (BHT) を用いて、 安定ラジカルであ る DPPH ( 1, l-dip enyl-2-picryl ydrazyl) ラジカルの消去試験を行った。
具体的な試験手順は以下のとおりである。
10 OmMトリス一塩酸緩衝液 (pH=7. 4) 800 1と化合物 7のエタノール溶 液 200 1 (最終濃度 10 g/mL) に 200 Mの D P P Hエタノール溶液 1 m 1 を添加し良く攪拌した。 これを室温、 暗所にて 20分間静置した後、 517nmの吸光度 を測定した (試料溶液の吸光度)。
本発明の化合物 13、 および、 公知のラジカル消去剤である d 1—α—トコフエロール ならびにブチルヒドロキシトルエンについても同様に試験を行つた。
対照として 10 OmMトリスー塩酸緩衝液 (ρΗ=7. 4) 800 1、 エタノール 2 00 1および 200 の DPPHエタノール溶液 lm 1を用いて上記と同様に操作し、 吸光度を測定した (対照溶液の吸光度)。
それぞれィヒ合物について 3回同様の測定を行い、 その平均値を以下の式に代入し、 DP PHラジカル消去率を算出した。 結果を表 8に示した。
DPPHラジカル消去率 (%) =
[1一 (試料溶液の吸光度 Z対照溶液の吸光度)] X 100
<表 8>
Figure imgf000083_0001
本発明の化合物は、 BHTには劣るものの、 d 1— α—トコフエロールと同等以上のラ ジカル消去活性を有することがわかった。 したがって、 本発明の化合物は活性酸素、 特に ヒドロキシラジカルの消去剤として使用できると考えられる。 く試験例 9 >
実施例 20で得られた化合物 36、 実施例 2 1で得られた化合物 37、 実施例 22で得 られた化合物 38、実施例 23で得られた化合物 39、実施例 24で得られた化合物 40、 実施例 26で得られた化合物 42、 実施例 29で得られた化合物 45、 実施例 30で得ら れた化合物 46、 実施例 32で得られた化合物 48および、 比較対照として d l— α—ト コフエロール (東京化成工業製) を用いて、 安定ラジカルである D Ρ Ρ Η (1,1- diphenyl-2-picrylhydxazyl) ラジカルの消去試験を行つた。
具体的な試験手順は以下のとおりである。
10 OmMトリス—塩酸緩衝液 (ρΗ=7. 4) 80 1と化合物 36のエタノール溶 液 20 1 (最終濃度 25 ノ mL) に 800 Mの D P P Hエタノール溶液 100 1を添加し良く攪拌した。 これを室温、 暗所にて 20分間静置した後、 540 nmの吸光 度をマイクロプレートリ一グーで測定した (試料溶液の吸光度)。
本発明の化合物 37、化合物 38、 化合物 39、 化合物 40、 化合物 42、 化合物 45、 化合物 46、 化合物 46、 化合物 48および、 公知のラジカル消去剤である d 1— ο;—ト コフエロールについても同様に試験を行った。
対照として 10 OmMトリス一塩酸緩衝液 (pH= 7. 4) 80 1、 エタノール 20 1および 800 Mの DPPHエタノール溶液 100 1を用いて上記と同様に操作し、 吸光度を測定した (対照溶液の吸光度)。
それぞれ化合物について 4回同様の測定を行い、 その平均値を以下の式に代入し、 DP PHラジカル消去率を算出した。 結果を表 9に示した。
DPPHラジカル消去率 (%) =
{ 1一 (試料溶液の吸光度 対照溶液の吸光度) } X 100 <表 9>
Figure imgf000084_0001
本発明の化合物は、 d 1—ひ—トコフエロール以上のラジカル消去活性を有することが わかった。 したがって、 本発明の化合物は活性酸素、 特にヒドロキシラジカルの消去剤と して使用できると考えられる。
<試験例 10 > .
実施例 2で得られた化合物 7、 実施例 22で得られた化合物 38、 実施例 24で得られ た 40、 実施例 26で得られた化合物 42、 実施例 30で得られた化合物 46、 および d 1一 α—トコフエロール (東京化成工業製) を用いて、 リノール酸における過酸化脂質生 成抑制試験を行った。
具体的な試験手順は以下のとおりである。
(1) 5 Om 1のスクリューバイアルに取ったリノール酸(0. 2 g、東京化成工業製)、 化合物 7 (0. 01 g)、および界面活性剤ニッサン OT— 221 (0. 4 g、日本油脂(株) 製) にエタノール (2. 0 g) を添加して溶解させた後、 蒸留水 (17. 39 g) を加え 攪拌し、 密栓をして 40°Cの恒温槽に放置した。 これを 2個調製した。
化合物 38、 化合物 40、 化合物 42、 化合物 46、 d 1— α—トコフエロールおよび 検体無添加 (ブランク) についても同様に行った。
( 2 ) 試験開始から 1週間後、 2週間後、 3週間後、 および 4週間後のリノ一ル酸残量を HP LCにより定量した。
HP LCの分析条件は、 検出波長: 210nm、 移動相: pH2. 6に調整した Mc I 1 V a i n e緩衝液とメタノールとの混合溶液( 10: 90 )、 流速: 1 m 1 Zm i n、 力 ラム: ODS— 80Ts (4. 6 φπιπιΧ 150mm)、 カラム温度 40度の条件にて実施 した。
(3) HP LCでの定量はそれぞれの試料について 1回ずつ行い、 計 2回の測定値の平均 値からリノール酸残存率を算出した。 この結果を表 10に示した。
<表 10>
Figure imgf000085_0001
試験の結果、 本発明の化合物 7、 化合物 38、 化合物 40、 化合物 42および化合物 4 6は、 既存の過酸化脂質生成抑制剤である d 1一 α—トコフエロール以上の効果を有する ことがわかった。
<産業上の利用可能性 >
本発明品は、 工業的に生産することが可能であり、 しかも優れたチロシナーゼ活性阻害 効果、 ヒアルロン酸分解酵素、 ヒドロキシラジカル消去作用および過酸化脂質生成抑制作 用等の阻害活性を有するという特性がある。 このことから、 本発明の化合物は、 食品、 香 料、 医薬品、 医薬部外品、 および化粧品等の分野への応用が可能である。 具体的な例とし て、 しみ 'そばかす、 皮膚の老化およびアレルギー等を防止する用途に使用できる。

Claims

請求 の 範囲
1. 下記一般式 (1) で表わされる化合物。
Figure imgf000086_0001
(式 (1) 中の R1は水素原子、 低級アルキル基またはフエノール性水酸基の保護基であ り、 R 2は水素原子またはフエノール性水酸基の保護基であり、 Aは炭素数 1〜4のアル キレン基であり、 Bは炭素数 1〜12のアルキレン基であり、 R3は— COOR4 (ここで R4は力ルポキシル基の保護基であり)、 力ルポキシル基または— CH2〇Hであり、 R3が 一 COOR4基のときの Zは一 C〇一CH=CH—、 一CHOH—CH=CH_、
— CHOH—1, 2—エポキシ—、 一 CO— CH2CH2—、 一 CHOH— CH2CH2—、 一 CO— CH2CH〇H—、 一 CHOH— CH2CH〇H—、 一 CO— CH2CH〇R5—、
— CHOH— CH2CH〇R5—、 一 CO— CH=CH—のケタール誘導体、 または 一 CO— CH2CH2—のケタ一ル誘導体であり、 R 5は低級アルキル基であり、 R3がカル ポキシル基のときの Zは一 CO— CH=CH―、 一 CHOH— CH=CH—、 -CHOH 一 1, 2—エポキシ—、 — CHOH— CH2CH2—、 一 CHOH— CH2 CHOH—、 一 CO— CH2CHOR5—、 一 CHOH— CH2CHOR5—、 一 CO— CH=CH—のケ タール誘導体、 または一 CO— CH2CH2—のケタール誘導体であり、 R 5は低級アルキ ル基であり、 R3が一 CH2OHのときの Zは一 CHOH— CH = CH—、 — CHOH— 1, 2—エポキシ一、 一 CHOH— CH2CH〇H—、 一 CO— CH2 CHOR5—、
—CHOH—CH2CH〇R5—、 一 CO— CH=CH—のケタール誘導体、 または
— CO— CH2CH2—のケタール誘導体であり、 R 5は低級アルキル基である。)
2. 請求の範囲第 1項記載の式 (1) で表わされる化合物を含有することを特徴とする チロシナーゼ阻害剤。
3. 請求の範囲第 1項記載の式 (1) で表わされる化合物を含有することを特徴とする ヒアルロン酸分解酵素阻害剤。
4. 請求の範囲第 1項記載の式 (1) で表わされる化合物を含有することを特徴とする 抗酸化剤。
5. 下記一般式 (2) で表わされる化合物を含有することを特徴とするチロシナーゼ阻 害剤。
Figure imgf000087_0001
(式 (2) 中の R6は水素原子、 低級アルキル基またはフエノール性水酸基の保護基であ り、 Aは炭素数 1〜4のアルキレン基であり、 Bは炭素数 1〜12のアルキレン基であり、 R7は— COOR8 (ここで R 8は力ルポキシル基の保護基であり)、 力ルポキシル基または — CH2OHであり、 Zは— CO— CH=CH—、 一 CHOH— CH = CH—、
-CHOH- 1, 2—エポキシ一、 一 CO— CH2CH2—、 一 CHOH— CH2CH2—、 一 CO— CH2CHOH—、 一 CHOH— CH2 CHOH—、 一 CO— CH2CH〇R9—、 一 CHOH— CH2CHOR9—、 一 C〇_CH=CH—のケタ一ル誘導体、 または 一 CO— CH2CH2_のケタール誘導体であり、 R 9は低級アルキル基である。)
6. 上記一般式 (2) で表わされる化合物を含有することを特徴とするヒアルロン酸分 解酵素阻害剤。
7. 上記一般式 (2) で表わされる化合物を含有することを特徴とする抗酸化剤。
PCT/JP2004/004316 2003-03-27 2004-03-26 新規ショウガオール系化合物および当該化合物によるチロシナーゼ活性阻害剤 Ceased WO2004085373A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005504124A JP4329759B2 (ja) 2003-03-27 2004-03-26 新規ショウガオール系化合物および当該化合物によるチロシナーゼ活性阻害剤
US10/549,117 US7355063B2 (en) 2003-03-27 2004-03-26 Shogaol compound and tyrosinase activity inhibitor comprising the compound
EP04723805A EP1612201A4 (en) 2003-03-27 2004-03-26 NEW SHOGAOL COMPOUND AND AN INHIBITOR OF TYROSINASE ACTIVITY CONTAINING THE COMPOUND

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003-86818 2003-03-27
JP2003086818 2003-03-27
JP2003417389 2003-12-16
JP2003-417389 2003-12-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2004085373A1 true WO2004085373A1 (ja) 2004-10-07

Family

ID=33100396

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2004/004316 Ceased WO2004085373A1 (ja) 2003-03-27 2004-03-26 新規ショウガオール系化合物および当該化合物によるチロシナーゼ活性阻害剤

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7355063B2 (ja)
EP (1) EP1612201A4 (ja)
JP (1) JP4329759B2 (ja)
KR (1) KR100778191B1 (ja)
WO (1) WO2004085373A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006073042A1 (ja) * 2005-01-05 2006-07-13 Toagosei Co., Ltd. Nrf2依存遺伝子の活性化剤
JP2010000054A (ja) * 2008-06-23 2010-01-07 Kao Corp ジンジャーオレオレジン精製物の製造方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100158842A1 (en) * 2008-10-09 2010-06-24 Spectrum Dynamics Llc Natural skin whitener: 4-hydroxy-oxindole-3-acetic acid
US8198337B2 (en) * 2010-01-27 2012-06-12 Momentive Performance Materials Inc. Demulsifier compositions and methods for separating emulsions using the same
US11534382B2 (en) 2017-06-19 2022-12-27 Novan, Inc. Topical compositions and methods of using the same
CN114520441B (zh) 2020-11-20 2024-06-25 财团法人工业技术研究院 导电元件、电连接器的端子元件装置以及电连接器装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001131033A (ja) * 1999-11-09 2001-05-15 Shiseido Co Ltd 頭皮頭髪用化粧料

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001131033A (ja) * 1999-11-09 2001-05-15 Shiseido Co Ltd 頭皮頭髪用化粧料

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
NAKAZAWA T, ET AL: "Metabolism of [6]-gingerol in rats", LIFE SCIENCES, vol. 70, no. 18, 2002, pages 2165 - 2175, XP002980564 *
See also references of EP1612201A4 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006073042A1 (ja) * 2005-01-05 2006-07-13 Toagosei Co., Ltd. Nrf2依存遺伝子の活性化剤
JP2010000054A (ja) * 2008-06-23 2010-01-07 Kao Corp ジンジャーオレオレジン精製物の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050115314A (ko) 2005-12-07
US20060173072A1 (en) 2006-08-03
US7355063B2 (en) 2008-04-08
EP1612201A1 (en) 2006-01-04
JP4329759B2 (ja) 2009-09-09
KR100778191B1 (ko) 2007-11-28
EP1612201A4 (en) 2006-07-05
JPWO2004085373A1 (ja) 2006-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2004085373A1 (ja) 新規ショウガオール系化合物および当該化合物によるチロシナーゼ活性阻害剤
KR102068635B1 (ko) 3,4,5-트리메톡시 신남산 에스테르 유도체와 그 제조방법 및 이를 포함하는 피부 미백용 조성물
JP2006052152A (ja) 抗酸化性化合物
EP1506958B1 (en) Process for producing shogaol and intermediates for the synthesis thereof
EP1510511A1 (en) Gingerol analogues and use thereof
CA1136638A (en) N-hydroxylpropylamides of all-e retinic acid and 13-z-retinic acid, their preparation, and pharmaceutical formulations containing these compounds
JP4986110B2 (ja) レゾルシノール誘導体を含有するメラニン生成抑制剤
CN100372829C (zh) 新型的姜烯酚化合物及包括该化合物的酪氨酸酶活性抑制剂
JP4210573B2 (ja) 置換フェノキシプロパノールアミン類
JP4345311B2 (ja) 抗酸化剤
WO2006049184A1 (ja) 4-アルキルレソルシノール誘導体及びこれを有効成分とする美白剤
JPH07188208A (ja) 皮膚外用剤
JP5886121B2 (ja) メラニン生成抑制剤
JP4622310B2 (ja) 低比重リポタンパクの酸化変性防止剤および抗アテローム性動脈硬化剤
JP2003201264A (ja) ヒノキチオール誘導体、これを含有する皮膚外用剤及び毛髪用化粧料
JPH09241128A (ja) チロシナーゼ活性阻害剤
JP3989103B2 (ja) 新規フラバン誘導体、その製造方法および該誘導体を有効成分として配合した化粧料
JP2003342224A (ja) チロシナーゼ活性阻害剤
JPH08231367A (ja) チロシナーゼ活性阻害剤
JP2006052150A (ja) 抗酸化剤
JP2006052186A (ja) 新規ジヒドロフェルラ酸縮合物
JP2013209321A (ja) メラニン生成抑制剤
WO2011126098A1 (ja) 皮膚外用剤
JPS6396149A (ja) 新規テルペン化合物およびこれを含有する抗炎症剤
JP2000007631A (ja) 皮膚外用剤

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): BW GH GM KE LS MW MZ SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LU MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2004723805

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2005504124

Country of ref document: JP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2006173072

Country of ref document: US

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 10549117

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020057018087

Country of ref document: KR

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 20048083189

Country of ref document: CN

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 1020057018087

Country of ref document: KR

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2004723805

Country of ref document: EP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 10549117

Country of ref document: US